KR101855200B1 - 글라스패널 세정시스템 - Google Patents

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KR101855200B1 KR1020160058720A KR20160058720A KR101855200B1 KR 101855200 B1 KR101855200 B1 KR 101855200B1 KR 1020160058720 A KR1020160058720 A KR 1020160058720A KR 20160058720 A KR20160058720 A KR 20160058720A KR 101855200 B1 KR101855200 B1 KR 101855200B1
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이국환
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청진테크 주식회사
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Abstract

본 발명은 글라스패널 세정시스템에 관한 것으로, 본 발명은 베이스 프레임; 상기 베이스 프레임에 설치되어 글라스패널을 이송시키는 컨베이어유닛; 상기 베이스 프레임에 설치되며, 상기 글라스패널의 폭 전체에 걸쳐 다상 유체를 분사하는 막대형 노즐부재; 상기 막대형 노즐부재에 인접하게 위치하며, 상기 다상 유체를 구성하는 단상 유체가 저장되는 복수 개의 리저버들; 상기 복수 개의 리저버들과 상기 막대형 노즐부재를 각각 연결하여 상기 다상 유체를 구성하는 단상 유체들이 상기 막대형 노즐부재로 공급되는 연결관들; 상기 복수 개의 리저버들와 막대형 노즐부재에 각각 단상 유체를 공급하는 단상유체들공급유닛;을 포함한다. 글라스패널의 파티클이나 유기물의 세정 정도를 높일 뿐만 아니라 세정 공정을 빠르게 하고, 또한 글라스패널을 세정하는데 사용되는 케미컬 등의 환경오염 물질을 사용을 배제한다.

Description

글라스패널 세정시스템{SYSTEM FOR CLEANING A GLASS PANNEL}
본 발명은 글라스패널 세정시스템에 관한 것이다.
일반적으로, 평판표시패널에는 LCD(Lipuid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electro luminescent Display), VFD(Vacuum FluorescentDisplay)등이 있다. LCD 패널은 화질이 우수하며 저전력을 사용한다는 점에서 많이 사용되고 있다. 또한, 근래에는 OLED 패널의 사용도 증가하고 있다.
LCD 패널 및 OLED 패널은 많은 공정들을 거쳐 제작된다. LCD 패널 및 OLED 패널 제조 과정에서, 구리 조각이나 글라스 조각 등의 파티클이나 부산물(폴리머) 또는 미생물 등의 유기물을 제거하기 위하여 판넬에 세정 공정을 반복한다.
이러한 세정을 위한 방법은 힘에 의한 물리적인 세정방법과, 반응에 의한 화학적 세정방법이 있다. 물리적인 세정방법은 Brush나 고압 스프레이 또는 Ultra Sonic과 같은 물리적 힘을 이용하는 방법이고, 화학적인 세정방법은 유기용매나 중성세제, 기타 약액 등을 이용하여 방법이다.
그러나, 물리적인 세정방식은 패널 표면에 미세한 스크레치(scratch)가 발생할 소지가 크고 또한, 정기적으로 브러시를 교체해야 하므로 유지 관리가 복잡하고, 화학적인 세정방법은 패널을 세정액에 담가야 하므로 제1 세정액 및 제2 세정액 등이 다량 소모되어 고가인 세정액의 비용이 많아질 뿐만 아니라 사용 후 폐기되는 다량의 세정액을 처리하는데 큰 비용이 발생하며 환경 오염에 대한 부담을 증가시킨다. 또한, 이와 같은 세정방법들은 공정 측면에서 실제 파티클이나 유기물 제거의 세정 효율이 낮아 제품의 품질을 저하시킨다. 최근 들어, 대형 UHD TV나 스마트폰의 OLED 제조 기술에서 Sub Micron Particle(1.0㎛ 이하 Size)이 Device 특성에 30 ~ 40%를 차지하여 Particle 세정 기술의 중요성이 더욱 커지고 있다.
본 발명의 목적은 글라스패널의 파티클이나 유기물의 세정 정도를 높일 뿐만 아니라 세정 공정을 빠르게 할 수 있는 글라스패널 세정시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 글라스패널을 세정하는데 사용되는 케미컬 등의 환경오염 물질을 사용을 배제하는 글라스패널 세정시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 베이스 프레임; 상기 베이스 프레임에 설치되어 글라스패널을 이송시키는 컨베이어유닛; 상기 베이스 프레임에 설치되며, 상기 글라스패널의 폭 전체에 걸쳐 다상 유체를 분사하는 막대형 노즐부재; 상기 막대형 노즐부재에 인접하게 위치하며, 상기 다상 유체를 구성하는 단상 유체가 저장되는 복수 개의 리저버들; 상기 복수 개의 리저버들과 상기 막대형 노즐부재를 각각 연결하여 상기 다상 유체를 구성하는 단상 유체들이 상기 막대형 노즐부재로 공급되는 연결관들; 상기 복수 개의 리저버들와 막대형 노즐부재에 각각 단상 유체를 공급하는 단상유체들공급유닛;을 포함하는 글라스패널 세정시스템이 제공된다.
상기 다상 유체는 스팀, 순수, 압축건조공기를 포함하는 것이 바람직하다.
상기 리저버들은 내부에 제1 단상 유체가 저장되는 제1 리저버와; 내부에 제2 단상 유체가 저장되는 제2 리저버를 포함하며, 상기 제1 단상 유체는 스팀이며, 제2 단상 유체는 순수인 것이 바람직하다.
상기 연결관들은 한 개의 리저버와 막대형 노즐부재를 연결하는 다수 개의 제1 연결관들과, 다른 한 개의 리저버와 막대형 노즐부재를 연결하는 다수 개의 제2 연결관들을 포함하는 것이 바람직하다.
상기 제1 연결관들은 각각 막대형 노즐부재에 균일한 간격으로 연결되고, 상기 제2 연결관들은 각각 막대형 노즐부재에 균일한 간격으로 연결되는 것이 바람직하다.
상기 단상유체들공급유닛은 제1 단상유체공급유닛과, 제2 단상유체공급유닛과, 제3 단상유체공급유닛을 포함하며, 제1,2,3 단상유체공급유닛들은 각각 스팀, 순수, 압축건조공기를 공급하는 것이 바람직하다.
상기 스팀을 공급하는 제1 단상유체공급유닛은 각각 스팀을 발생시키는 복수 개의 스팀발생기들과, 상기 스팀발생기들에서 각각 발생되는 스팀이 모이는 스팀버퍼와, 상기 스팀버퍼와 리저버를 연결하는 복수 개의 스팀관들을 포함하는 것이 바람직하다.
상기 스팀을 공급하는 제1 단상유체공급유닛은 스팀저장탱크와, 상기 스팀저장탱크에 연결되는 복수 개의 제1 스팀관들과, 상기 제1 스팀관들에 연결되는 스팀버퍼와, 상기 스팀버퍼와 리저버를 연결하는 복수 개의 제2 스팀관들을 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명은 다상 유체로 글라스패널의 상면에 분포된 파티클 또는 폴리머 또는 미생물을 제거하게 되어 세정이 효과적이고 빠르며, 글라스패널의 상면에 물리적 손상을 방지하게 된다. 특히, 스팀, 순수, 압축건조공기를 포함하는 다상 유체로 글라스패널을 세정하게 되므로 환경오염 물질이며 고가인 화학적 세정액을 사용하지 않고 글라스패널을 세정하게 되어 환경오염을 줄이고 글라스패널의 세정 공정 단가를 감소시키게 된다.
또한, 본 발명은 막대형 노즐부재의 길이가 글라스패널의 폭 전체에 걸쳐 다상 유체를 분사하게 되므로 글라스패널이 대형일 경우에도 글라스패널이 균일하게 세정이 이루어지게 되고, 다상 유체가 스팀, 순수, 압축건조공기를 포함하게 될 경우 세정이 효과적으로 이루어져 글라스패널의 세정 정도를 높이게 될 뿐만 아니라 세정 효율을 높이게 된다.
또한, 본 발명은 복수 개의 리저버들을 포함하게 되므로 단상유체들공급유닛에서 공급되는 단상 유체들이 리저버들에 1차적으로 공급되어 리저버들에서 각각 균일한 압력 분포가 이루어진 다음 막대형 노즐부재를 통해 글라스패널의 폭 전체에 걸쳐 분사되므로 글라스패널의 폭 전체에 걸쳐 다상 유체가 균일한 압력 분포로 분사되어 글라스패널의 세정이 균일하게 이루어지게 된다.
도 1은 본 발명에 따른 글라스패널 세정시스템의 실시예를 도시한 측면도,
도 2는 본 발명에 따른 글라스패널 세정시스템의 실시예를 구성하는 막대형 분사노즐과 리저버들과 연결관들의 어셈블리 일부분을 도시한 사시도,
도 3은 본 발명에 따른 글라스패널 세정시스템의 실시예를 구성하는 막대형 분사노즐을 도시한 정면도,
도 4는 본 발명에 따른 글라스패널 세정시스템의 실시예를 구성하는 막대형 분사노즐을 도시한 측면도,
도 5는 본 발명에 따른 글라스패널 세정시스템의 실시예를 구성하는 리저버들을 도시한 정면도,
도 6은 본 발명에 따른 글라스패널 세정시스템의 실시예를 구성하는 제1 단상유체공급유닛의 일예를 도시한 배관도,
도 7은 본 발명에 따른 글라스패널 세정시스템의 실시예를 구성하는 제1 단상유체공급유닛의 다른 일예를 도시한 배관도,
도 8은 본 발명에 따른 글라스패널 세정시스템의 작동 상태를 도시한 정면도.
이하, 본 발명에 따른 글라스패널 세정시스템의 실시예를 첨부도면을 참조하여 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 글라스패널 세정시스템의 실시예를 도시한 측면도이다. 도 2는 본 발명에 따른 글라스패널 세정시스템의 실시예를 구성하는 막대형 분사노즐과 리저버들과 연결관들의 어셈블리 일부분을 도시한 사시도이다.
도 1, 2에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 본 발명에 따른 글라스패널 세정시스템의 실시예는 베이스 프레임(100), 컨베이어유닛(200), 막대형 노즐부재(300), 리저버들(400), 연결관들(500), 단상유체들공급유닛(600)을 포함한다.
베이스 프레임(100)은 다양한 형태로 구현될 수 있다. 베이스 프레임(100)의 일예로, 베이스 프레임(100)은 수평프레임(110)과, 수평프레임(110)을 지지하는 지지프레임(120)과, 수평프레임(110)의 상측에 구비되는 커버프레임(130)을 포함한다.
컨베이어유닛(200)은 베이스 프레임(100)에 설치되어 글라스패널(P)을 이송시킨다. 컨베이어유닛(200)은 베이스 프레임(100)의 수평프레임(110)에 장착됨이 바람직하다. 글라스패널(P)은 일반적으로 균일한 두께를 갖는 사각판 형상이다. 글라스패널(P)은 컨베이어유닛(200)으로 이송되는 방향의 길이를 패널 길이라 하고 글라스패널(P)이 이송되는 방향의 수직 방향의 길이를 패널 폭이라 한다.
막대형 노즐부재(300)는 베이스 프레임(100)에 설치되며, 글라스패널(P)의 패널 폭 전체에 걸쳐 다상 유체를 분사시킨다. 막대형 노즐부재(300)는 다양한 형태로 구현될 수 있다. 막대형 노즐부재(300)의 일예로, 도 3, 4에 도시한 바와 같이, 막대형 노즐부재(300)는 설정된 폭과 길이를 갖는 노즐몸체부(310)와, 노즐몸체부(310)의 내부에 길이 방향으로 형성되어 유체가 유입되는 유체유입공간(320)과, 노즐몸체부(310)의 내부에 구비되며 노즐몸체부(310)의 하면과 유체유입공간(320)을 관통하는 다수 개의 분사유로(330)들을 포함한다. 노즐몸체부(310)의 길이는 글라스패널(P)의 패널 폭보다 큰 것이 바람직하다. 다수 개의 분사유로(330)들은 길이 방향으로 일정 간격을 두고 위치하는 것이 바람직하다.
다상 유체는 스팀(steam), 순수(deionized water), 압축건조공기(CDA; compressed dry air)를 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 다상 유체는 가열된 순수, 상온의 순수, 압축건조공기를 포함할 수 있다. 이하, 다상 유체를 구성하는 순수, 스팀, 압축건조공기를 단상 유체라 한다.
막대형 노즐부재(300)는 글라스패널(P)의 이송방향에 대하여 수직 방향으로 위치한다. 베이스 프레임(100)의 수평프레임(110)에 두 개의 지지대(700)가 설치되고 두 개의 지지대(700)에 막대형 노즐부재(300)의 양단부가 지지됨이 바람직하다.
복수 개의 리저버들(400)은 막대형 노즐부재(300)에 인접하게 위치하며, 다상 유체를 구성하는 단상 유체가 저장된다. 리저버들(400)의 일예로, 도 5에 도시한 바와 같이, 내부에 제1 단상 유체가 저장되는 제1 리저버(410)와, 내부에 제2 단상 유체가 저장되는 제2 리저버(420)를 포함하며, 제1 단상 유체는 스팀이며, 제2 단상 유체는 순수인 것이 바람직하다. 제1 리저버(410)는 내부가 밀폐된 원통 형상으로 형성됨이 바람직하다. 제1 리저버(410)는 막대형 노즐부재(300)의 길이 보다 크거나 같은 것이 바람직하며, 막대형 노즐부재(300)와 나란하게 위치하는 것이 바람직하다. 제2 리저버(420)는 내부가 밀폐된 원통 형상으로 형성됨이 바람직하다. 제2 리저버(420)는 막대형 노즐부재(300)의 길이 보다 크거나 같은 것이 바람직하며, 막대형 노즐부재(300)와 나란하게 위치하는 것이 바람직하다. 제1 리저버(410)는 제2 리저버(420)보다 아래에 위치하는 것이 바람직하며, 베이스 프레임(100)의 수평프레임(110) 또는 컨베이어유닛(200)의 프레임에 두 개의 브라켓(710)들이 설치되고 두 개의 브라켓(710)들에 제1,2 리저버(410)(420)의 양쪽 단부가 각각 지지됨이 바람직하다. 즉, 제1,2 리저버(410)(420)의 한쪽 단부들이 한 개의 브라켓(710)에 지지되고 제1,2 리저버(410)(420)의 다른 한쪽 단부들이 다른 한 개의 브라켓(710)에 지지된다.
연결관들(500)은 복수 개의 리저버들(400)과 막대형 노즐부재(300)를 각각 연결하여 다상 유체를 구성하는 단상 유체들이 막대형 노즐부재(300)로 공급되게 한다. 연결관들(500)은 한 개의 리저버와 막대형 노즐부재(300)를 연결하는 다수 개의 제1 연결관(510)들과, 다른 한 개의 리저버와 막대형 노즐부재(300)를 연결하는 다수 개의 제2 연결관(520)들을 포함한다. 제1 연결관(510)들은 제1 리저버(410)와 막대형 노즐부재(300)를 연결한다. 즉, 제1 연결관(510)의 한쪽은 제1 리저버(410)에 연결되고 다른 한쪽은 막대형 노즐부재(300)에 연결된다. 제1 연결관(510)들은 각각 제1 리저버(410)와 막대형 노즐부재(300)에 균일한 간격으로 연결되는 것이 바람직하다. 제2 연결관(520)들은 제2 리저버(420)와 막대형 노즐부재(300)를 연결한다. 즉, 제2 연결관(520)의 한쪽은 제2 리저버(420)에 연결되고 다른 한쪽은 막대형 노즐부재(300)에 연결된다. 제2 연결관(520)들은 각각 제2 리저버(420)와 막대형 노즐부재(300)에 균일한 간격으로 연결되는 것이 바람직하다.
단상유체들공급유닛(600)은 복수 개의 리저버들(400)과 막대형 노즐부재(300)에 각각 단상 유체를 공급한다. 단상유체들공급유닛(600)의 일예로, 단상유체들공급유닛(600)은 제1 단상유체공급유닛(610)과, 제2 단상유체공급유닛(620)과, 제3 단상유체공급유닛(630)을 포함하며, 제1,2,3 단상유체공급유닛들(610)(620)(630)은 각각 스팀, 순수, 압축건조공기를 공급하는 것이 바람직하다.
스팀을 공급하는 제1 단상유체공급유닛(610)의 일실시예로, 도 6에 도시한 바와 같이, 제1 단상유체공급유닛(610)은 각각 스팀을 발생시키는 복수 개의 스팀발생기(611)들과, 스팀발생기(611)들에서 각각 발생되는 스팀이 모이는 스팀버퍼(612)와, 스팀버퍼(612)와 리저버(410)를 연결하는 복수 개의 스팀관(L1)들을 포함한다. 스팀발생기(611)들을 각각 가열수단(미도시)이 구비되어 스팀발생기(611)에 순수가 공급되면 그 순수를 가열시켜 수증기, 즉 스팀을 발생시킨다. 스팀발생기(611)들은 각각 스팀관(L1)들에 의해 스팀버퍼(612)와 연결된다. 스팀버퍼(612)는 각 스팀발생기(611)에서 발생되는 스팀이 모여진다. 스팀버퍼(612)와 리저버(410)를 연결하는 다수 개의 스팀관(L1)들은 균일한 간격으로 스팀버퍼(612)와 리저버(410)를 연결하는 것이 바람직하다. 다수 개의 스팀발생기(611)들에서 각각 스팀을 발생시키게 되면 스팀발생기(611)들에서 각각 발생되는 스팀은 스팀버퍼(612)로 공급되어 스팀버퍼(612)에서 모여지게 된다. 스팀버퍼(612)로 모여지는 스팀은 스팀관(L1)들을 통해 리저버(410)로 공급된다. 스팀발생기(611)들에서 각각 발생되는 스팀이 스팀버퍼(612)로 모여짐에 따라 스팀버퍼(612)에서 균일한 스팀압력을 갖게 되어 리저버(400)에 균일한 압력의 스팀을 공급하게 된다.
스팀을 공급하는 제1 단상유체공급유닛(610)의 다른 실시예로, 제1 단상유체공급유닛(610)은 스팀저장탱크(613)와, 스팀저장탱크(613)에 연결되는 복수 개의 제1 스팀관(L2)들과, 제1 스팀관(L2)들에 연결되는 스팀버퍼(614)와, 스팀버퍼(614)와 리저버(410)를 연결하는 복수 개의 제2 스팀관(L3)들을 포함한다. 스팀저장탱크(613)의 스팀이 복수 개의 제1 스팀관(L2)들을 통해 스팀버퍼(614)로 유입되어 스팀 압력 분포가 균일하게 되고 스팀버퍼(614)에서 압력 분포가 균일해진 스팀이 제2 스팀관(L3)들을 통해 리저버(410)로 공급된다.
제2 단상유체공급유닛(620)은 순수저장탱크(621)와, 순수저장탱크(621)와 리저버를 연결하는 다수 개의 순수관(L4)들과, 순수저장탱크(621)의 순수를 펌핑하는 펌핑유닛(미도시)을 포함한다. 다수 개의 순수관(L4)들은 제2 리저버(420)에 연결된다. 순수저장탱크(621)에 저장되는 순수는 펌핑유닛에 의해 펌핑되어 순수관(L4)들을 통해 제2 리저버(420)로 공급된다.
제3 단상유체공급유닛(630)은 압축건조공기를 발생시키는 압축건조공기발생기(631)와, 압축건조공기발생기(631)와 막대형 노즐부재(300)를 연결하는 다수 개의 공기관(L5)들을 포함한다. 압축건조공기발생기(631)에서 발생되는 압축건조공기는 공기관(L5)들을 통해 막대형 노즐부재(300)로 공급된다.
막대형 노즐부재(300)의 상부에 유체유입공간(320)과 연통되는 다수 개의 제1 유입포트(340)들이 구비되고 막대형 노즐부재(300)의 중간부에 분사유로(330)들과 각각 연통되는 다수 개의 제2 유입포트(350)가 구비된다. 제1 리저버(410)에 연결되는 다수 개의 제1 연결관(510)들은 각각 제1 유입포트(340)들에 연결되고, 또한 다수 개의 공기관(L5)들은 각각 제1 유입포트(340)들에 연결된다. 제2 단상유체공급유닛(620)을 구성하는 순수관(L4)들은 막대형 노즐부재(300)의 제2 유입포트(350)들에 연결된다.
이하, 본 발명에 따른 글라스패널 세정시스템의 작용과 효과를 설명한다.
단상유체들공급유닛(600)에서 공급되는 단상 유체들은 스팀, 순수, 압축건조공기를 포함하는 경우에 대하여 설명한다.
먼저, 단상유체들공급유닛(600)을 구성하는 제1 단상유체공급유닛(610)에서 스팀을 발생시켜 제1 리저버(410)에 공급하고, 제2 단상유체공급유닛(620)에서 순수를 제2 리저버(420)에 공급하고, 제3 단상유체공급유닛(630)에서 압축건조공기를 막대형 노즐부재(300)에 공급한다.
제1 리저버(410)에 공급되는 스팀은 제1 리저버(410)에서 균일한 압력분포를 유지하면서 제1 연결관(510)들을 통해 막대형 노즐부재(300)의 유체유입공간(320)으로 공급되고, 제3 단상유체공급유닛(630)의 공기관(L5)들을 통해 공급되는 압축건조공기 또한 막대형 노즐부재(300)의 유체유입공간(320)으로 공급된다. 막대형 노즐부재(300)의 유체유입공간(320)으로 공급되는 스팀과 압축건조공기는 유체유입공간(320)에서 혼합되면서 막대형 노즐부재(300)의 분사유로(330)들을 통해 막대형 노즐부재(300)의 하면으로 분사된다. 이와 함께, 제2 리저버(420)에 공급되는 순수는 제2 리저버(420)에서 균일한 수압을 유지하면서 제2 연결관(520)들을 통해 막대형 노즐부재(300)의 분사유로(330)들로 유입되면서 서로 혼합된 스팀과 압축건조공기와 함께 혼합되면서 막대형 노즐부재(300)의 하면으로 분사된다.
글라스패널(P)이 컨베이어유닛(200)을 따라 이동하면서 막대형 노즐부재(300)의 아래를 지나게 되면, 도 8에 도시한 바와 같이, 막대형 노즐부재(300)의 하면에서 분사되는, 순수, 스팀, 압축건조공기가 혼합된 다상 유체가 글라스패널(P)의 상면을 세정하게 된다. 다상 유체가 글라스패널(P)의 상면에 분사되면 물이 묻어있는 글라스패널(P)의 상면 표면에 스팀에 의해 생성된 미세 물방울들이 떨어지면서 미세 물방울이 수면에 닿는 순간 1차 충격이 발생하고 수면에 닿은 후 미세 물방울과 수면과의 밀도 차이에 의해 미세 물방울 내부에 캐버티(cavity)가 발생하고 그 발생된 캐버티가 터지면서 2차 충격을 발생시켜 글라스패널(P)의 상면 표면 깊숙한 영역까지 충격파가 전달되어 글라스패널(P)의 상면 표면의 이물질이 효과적으로 이탈된다. 이로 인하여, 글라스패널(P)의 상면에 잔류하는 구리 조각이나 글라스 조각 등의 파티클이 효율적이고 빠르게 제거된다. 한편, OLED 글라스 패널인 경우 부산물(폴리머) 또는 미생물 등의 유기물들이 효율적이고 빠르게 제거된다.
이와 같이, 본 발명은 다상 유체로 글라스패널(P)의 상면에 분포된 파티클 또는 폴리머 또는 미생물을 제거하게 되어 세정이 효과적이고 빠르며, 글라스패널(P)의 상면에 물리적 손상을 방지하게 된다. 특히, 스팀, 순수, 압축건조공기를 포함하는 다상 유체로 글라스패널(P)을 세정하게 되므로 환경 오염 물질이며 고가인 화학적 세정액을 사용하지 않고 글라스패널(P)을 세정하게 되어 환경 오염을 줄이고 글라스패널(P)의 세정 공정 단가를 감소시키게 된다.
또한, 본 발명은 막대형 노즐부재(300)의 길이가 글라스패널(P)의 폭 전체에 걸쳐 다상 유체를 분사하게 되므로 글라스패널(P)이 대형일 경우에도 글라스패널(P)을 균일하게 세정이 이루어지게 되고, 다상 유체가 스팀, 순수, 압축건조공기를 포함하게 될 경우 세정이 효과적으로 이루어져 글라스패널(P)의 세정 정도를 높이게 될 뿐만 아니라 세정 효율을 높이게 된다.
또한, 본 발명은 복수 개의 리저버들(400)을 포함하게 되므로 단상유체들공급유닛(600)에서 공급되는 단상 유체들이 리저버들(400)에 1차적으로 공급되어 리저버들(400)에서 각각 균일한 압력분포가 이루어진 다음 막대형 노즐부재(300)를 통해 글라스패널(P)의 폭 전체에 걸쳐 분사되므로 글라스패널(P)의 폭 전체에 걸쳐 다상 유체가 균일한 압력 분포로 분사되어 글라스패널(P)의 세정이 균일하게 이루어지게 된다.
100; 베이스 프레임 200; 컨베이어유닛
300; 막대형 노즐부재 400; 리저버들
500; 연결관들 600; 단상유체들공급유닛

Claims (3)

  1. 베이스 프레임;
    상기 베이스 프레임에 설치되어 글라스패널을 이송시키는 컨베이어유닛;
    상기 글라스패널의 폭보다 큰 길이를 가지며, 상기 베이스 프레임에 설치되 상기 글라스패널의 폭 전체에 걸쳐 다상 유체를 분사하는 막대형 노즐부재;
    상기 다상 유체를 구성하는 스팀이 균일한 압력분포를 갖도록 저장되는 제1 리저버;
    상기 다상 유체를 구성하는 순수가 균일한 압력분포를 갖도록 저장되는 제2 리저버;
    상기 제1 리저버와 막대형 노즐부재를 연결하는 복수 개의 제1 연결관들;
    상기 제2 리저버와 막대형 노즐부재를 연결하는 복수 개의 제2 연결관들;
    상기 제1 리저버에 스팀을 공급하는 제1 단상유체공급유닛;
    상기 제2 리저버에 순수를 공급하는 제2 단상유체공급유닛; 및
    상기 막대형 노즐부재에 압축건조공기를 공급하는 제3 단상유체공급유닛;을 포함하며,
    상기 제1,2 연결관들은 각각 상기 막대형 노즐부재에 길이 방향으로 간격을 두고 연결되며,
    상기 스팀을 공급하는 제1 단상유체공급유닛은 각각 스팀을 발생시키는 복수 개의 스팀발생기들과, 상기 복수 개의 스팀발생기들이 연결되어 상기 스팀발생기들에서 각각 발생되는 스팀이 모이는 스팀버퍼와, 상기 스팀버퍼와 제1 리저버를 연결하는 복수 개의 스팀관들을 포함하는 글라스패널 세정시스템.
  2. 삭제
  3. 베이스 프레임;
    상기 베이스 프레임에 설치되어 글라스패널을 이송시키는 컨베이어유닛;
    상기 글라스패널의 폭보다 큰 길이를 가지며, 상기 베이스 프레임에 설치되어 상기 글라스패널의 폭 전체에 걸쳐 다상 유체를 분사하는 막대형 노즐부재;
    상기 다상 유체를 구성하는 스팀이 균일한 압력분포를 갖도록 저장되는 제1 리저버;
    상기 다상 유체를 구성하는 순수가 균일한 압력분포를 갖도록 저장되는 제2 리저버;
    상기 제1 리저버와 막대형 노즐부재를 연결하는 복수 개의 제1 연결관들;
    상기 제2 리저버와 막대형 노즐부재를 연결하는 복수 개의 제2 연결관들;
    상기 제1 리저버에 스팀을 공급하는 제1 단상유체공급유닛;
    상기 제2 리저버에 순수를 공급하는 제2 단상유체공급유닛; 및
    상기 막대형 노즐부재에 압축건조공기를 공급하는 제3 단상유체공급유닛;을 포함하며,
    상기 제1,2 연결관들은 각각 상기 막대형 노즐부재에 길이 방향으로 간격을 두고 연결되며,
    상기 스팀을 공급하는 제1 단상유체공급유닛은 스팀저장탱크와, 상기 스팀저장탱크에 연결되는 복수 개의 제1 스팀관들과, 상기 제1 스팀관들에 연결되는 스팀버퍼와, 상기 스팀버퍼와 제1 리저버를 연결하는 복수 개의 제2 스팀관들을 포함하는 글라스패널 세정시스템.
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