CN203816979U - 玻璃基板清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于清洗技术领域，提供了一种玻璃基板清洗装置，包括：清洗箱，其内设有隔板，隔板将清洗箱内部分隔为工作槽及排液槽，隔板上设有溢出孔；超声波发生器，其设于清洗箱外；上振板及下振板，其与超声波发生器电气连接，下振板设于工作槽底部，上振板设于下振板上方，上振板与下振板之间形成通道；传送机构，其用于传送待清洗玻璃基板，传送机构设于通道内；循环补液系统，其用于为工作槽提供工作液体，用于回收排液槽内的工作液体，循环补液系统与清洗箱连接。本实用新型借助空化气泡破裂瞬间产生巨大能量的原理，通过设置上振板和下振板，保证玻璃基板两面均能受到空化气泡流的冲击，使得玻璃基板上的异物能够有效地被清除。

Description

玻璃基板清洗装置

技术领域

本实用新型属于清洗技术领域，尤其涉及一种玻璃基板清洗装置。

背景技术

液晶显示器（英语：Liquid Crystal Display，缩写：LCD）为平面薄型的显示设备，由一定数量的彩色或黑白像素组成，放置于光源或者反射面前方。液晶显示器功耗低，因此倍受工程师青睐，适用于使用电池的电子设备。

随着技术的发展，LCD已被广泛使用，因此市场对LCD的生产效率和生产质量的要求也随之提高。玻璃基板是LCD的主要组成部件，其上镀有一层氧化铟锡（ITO）膜，它用于作为LCD的电极，ITO层的洁净度对LCD的良品率和可靠性影响极大，因此，在生产LCD时，需要对玻璃基板进行清洗，清除附于上面的污垢和异物。现有技术对玻璃基板的清洗通常是采用刷洗、超声波和喷淋的方式，这些方式的清洗效果并不佳，而且在清洗过程中还容易擦碰玻璃基板，损坏其ITO层，最终影响LCD的质量。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术之缺陷，提供了一种能够有效清除玻璃基板两面上异物的玻璃基板清洗装置。

本实用新型是这样实现的，一种玻璃基板清洗装置，包括：

清洗箱，其具有空腔，所述空腔内设有隔板，所述隔板将所述空腔分隔为可容纳工作液体的工作槽以及用于容纳从所述工作槽内溢出的工作液体的排液槽，所述隔板上设有用于调节所述工作槽内工作液体液位的溢出孔，所述溢出孔贯通所述工作槽与所述排液槽；

超声波发生器，其设于所述清洗箱外；

上振板及下振板，其用于发射超声波使工作液体产生空化气泡，所述上振板及所述下振板均与所述超声波发生器电气连接，所述下振板设于所述工作槽底部，所述上振板设于所述工作槽内且位于所述下振板上方，所述上振板与所述下振板之间的间隙形成容待清洗玻璃基板通过的通道；

传送机构，其用于传送所述待清洗玻璃基板，所述传送机构设于所述通道内；

循环补液系统，其用于为所述工作槽提供工作液体，用于回收所述排液槽内的工作液体，所述循环补液系统与所述清洗箱连接。

进一步地，所述玻璃基板清洗装置还包括用于为所述工作槽补充工作液体且为所述待清洗玻璃基板提供压力流的补液刀，所述补液刀设于所述工作槽内且位于所述上振板的侧面周围，所述补液刀与所述循环补液系统连接且设有射出工作液体流的喷液口，所述喷液口竖直朝下。

更进一步地，所述工作槽内设有两个所述上振板，两所述上振板成间距并排设置，两所述上振板之间的间隙设有所述补液刀。

优选地，所述工作槽内设有两个所述上振板，两所述上振板并排设置。

具体地，所述传送机构包括多个上滚轴及多个下滚轴，多个所述下滚轴成间距平行排列设置且位于所述下振板之上，多个所述上滚轴成间距平行排列设置且位于所述上振板与所述下滚轴之间。

更具体地，所述玻璃基板清洗装置还包括用于调节所述上振板高度位置的调节件，所述调节件设于所述清洗箱的内壁，所述上振板设于所述调节件上。

进一步地，所述隔板上设有用于调节所述溢出孔大小和高度的调节板，所述调节板设于所述溢出孔下方。

更具体地，所述清洗箱的空腔内设有两个所述隔板，两个所述隔板平行相对设置并将所述空腔分隔为一个所述工作槽及两个所述排液槽，两个所述排液槽分别位于所述工作槽两侧。

具体地，其中一个所述隔板上设有容所述待清洗玻璃基板由所述排液槽进入所述工作槽的入料口，另一个所述隔板上设有容所述待清洗玻璃基板由所述工作槽输出至所述排液槽的出料口，所述入料口与所述出料口相对设置。

进一步地，所述玻璃基板清洗装置还包括机架，所述清洗箱、所述超声波发生器及所述循环补液系统均设于所述机架上；所述循环补液系统包括储液箱、管道组、过滤器及水泵，所述过滤器及所述水泵均设于所述储液箱外，所述储液箱通过所述管道组与所述清洗箱连接。

本实用新型所提供的玻璃基板清洗装置具有以下技术效果：

本实用新型借助空化气泡破裂能够瞬间产生巨大能量的原理，通过设置能够使工作液体产生空化气泡流的上振板和下振板，保证从上振板与下振板之间通过的待清洗玻璃基板两面均能受到空化气泡流的冲击，使得玻璃基板表面上的污垢和异物能够有效地被清除。另外，由于本实用新型采用超声波空化的原理清除污垢和异物，其还具有占用空间小、清除能力强、效率高等优点。上振板和下振板浸泡于工作液体中，其还有利于振板的散热。

附图说明

图1为本实用新型实施例中玻璃基板清洗装置的内部结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

参见图1，本实用新型实施例提供了一种玻璃基板清洗装置，包括：

清洗箱1，其具有空腔，所述空腔内设有隔板11，所述隔板11将所述空腔分隔为可容纳工作液体的工作槽12以及用于容纳从所述工作槽内溢出的工作液体的排液槽13，所述隔板11上设有用于调节所述工作槽12内工作液体液位的溢出孔111，所述溢出孔111贯通所述工作槽12与所述排液槽13；

超声波发生器2，其设于所述清洗箱1外；

上振板3及下振板4，其用于发射超声波使工作液体产生空化气泡，所述上振板3及所述下振板4均与所述超声波发生器2电气连接，所述下振板4设于所述工作槽12底部，所述上振板3设于所述工作槽12内且位于所述下振板4上方，所述上振板3与所述下振板4之间的间隙形成容待清洗玻璃基板5通过的通道15；

传送机构6，其用于传送所述待清洗玻璃基板5，所述传送机构6设于所述通道15内；

循环补液系统7，其用于为所述工作槽12提供工作液体，用于回收所述排液槽13内的工作液体，所述循环补液系统7与所述清洗箱1连接。

清洗玻璃基板时，清洗箱内的工作槽12首先注入工作液体（工作液体可为水或者其他化学液体），工作液体达到一定高度时（在本实用新型实施例中，工作液体淹没上振板3及下振板4），多余的工作液体由溢出孔111流入排液槽13内；上振板3及下振板4发射超声波，使工作液体产生空化气泡；待清洗玻璃基板5镀有氧化铟锡（ITO）膜的一面朝上，通过传送机构6传送通过通道15，待清洗玻璃基板5上下两面均受到空化气泡流的轰击/冲击，空化气泡撞击到待清洗玻璃基板5表面时迅速破裂（急剧崩溃），瞬间释放出巨大的能量，将待清洗玻璃基板5表面的污垢祛除，从而达到清洗玻璃基板的效果。由于清洗时玻璃基板穿过上振板和下振板所形成的通道15，其犹如穿过隧道，因此本实用新型亦可形象地称为“隧道式玻璃基板清洗装置”。

本实用新型借助空化气泡破裂能够瞬间产生巨大能量的原理，通过设置能够使工作液体产生空化气泡流的上振板3和下振板4，保证从上振板3与下振板4之间通过的待清洗玻璃基板5两面均能受到空化气泡流的冲击，使得玻璃基板表面上的污垢和异物能够有效地被清除。另外，由于本实用新型采用超声波空化的原理清除污垢和异物，其还具有占用空间小、清除能力强、效率高等优点。上振板和下振板浸泡于工作液体中，其还有利于振板的散热。

本实用新型实施例所提供的玻璃基板清洗装置还可以包括用于为所述工作槽12补充工作液体且为所述待清洗玻璃基板5提供压力流的补液刀8，所述补液刀8设于所述工作槽12内且位于所述上振板3的侧面周围，所述补液刀8与所述循环补液系统7连接且设有射出工作液体流的喷液口81，所述喷液口81竖直朝下。加设补液刀8，一方面可以为工作槽12补充工作液体，使液位保持在合适的高度，另一方面，补液刀8射出的液体流冲击待清洗玻璃基板5，待清洗玻璃基板5获得紧贴传送机构6的压力，使得它能够更稳定地穿过通道15。

为了便于对清洗箱1内部进行维护，所述工作槽12内设有两个所述上振板3，两所述上振板3成间距并排设置，两所述上振板3之间的间隙设有所述补液刀8。如图1所示，上振板3的体积较下振板4小，两块上振板3并排后的宽度与下振板4的宽度相当，可以理解，上振板3的重量也较小，这样，在保证待清洗玻璃基板5的两面能够受到平衡的空化气泡流的冲击的同时，还便于上振板3的装卸，便于操作人员对清洗箱1内部的维护。两上振板3之间的间隙也加设补液刀8，使得待清洗玻璃基板5受到的压力更均匀。

当然，所述工作槽12内也可仅设有两个所述上振板3，两所述上振板3并排设置，而不在它们之间加设补液刀。

作为本实用新型关于传送机构6的一种实施方式，所述传送机构6包括多个上滚轴61及多个下滚轴62，多个所述下滚轴62成间距平行排列设置且位于所述下振板4之上，多个所述上滚轴61成间距平行排列设置且位于所述上振板3与所述下滚轴62之间。滚轴之间成间距排列，能够保证气泡流能够穿过滚轴之间的间隙，冲击在玻璃基板上。

本实用新型实施例所提供的玻璃基板清洗装置还可以包括用于调节所述上振板3高度位置的调节件14，所述调节件14设于所述清洗箱1的内壁，所述上振板3设于所述调节件14上。本实用新型可以根据需要调节上振板3与下振板4之间的间距，一般地，上振板3距离玻璃基板上表面为3～6mm之间，以免二者发生擦碰，损害玻璃基板上的氧化铟锡（ITO）膜；下滚轴62距离下振板4约为10mm，以不妨碍下滚轴62的转动为限。

具体地，所述隔板11上设有用于调节所述溢出孔111大小和高度的调节板112，所述调节板112设于所述溢出孔111下方。溢出孔111竖直方向的宽度可以做得足够的大，通过设置调节板112遮盖溢出孔111的程度，以调节溢出孔111最终的大小和高度，这样的结构可以加大调节液位的灵活度。

作为本实用新型的一种优选实施方式，所述清洗箱1的空腔内设有两个所述隔板11，两个所述隔板11平行相对设置并将所述空腔分隔为一个所述工作槽12及两个所述排液槽13，两个所述排液槽13分别位于所述工作槽12两侧。

上述两个隔板11中，其中一个所述隔板上设有容所述待清洗玻璃基板5由所述排液槽13进入所述工作槽12的入料口113，另一个所述隔板上设有容所述待清洗玻璃基板5由所述工作槽12输出至所述排液槽13的出料口114，所述入料口113与所述出料口114相对设置。设置入料口113和出料口114，可以让多块玻璃基板依次进入工作槽12内进行流水线清洗，然后依次送出工作槽12。

本实用新型实施例所提供的玻璃基板清洗装置还可以包括机架9，所述清洗箱1、所述超声波发生器2及所述循环补液系统7均设于所述机架9上；所述循环补液系统7包括储液箱71、管道组72、过滤器73及水泵74，所述过滤器73及所述水泵74均设于所述储液箱71外，所述储液箱71通过所述管道组72与所述清洗箱1连接。管道组72分别与工作槽12、排液槽及补液刀8等连接，使得清洗箱1内的工作液体能够通过所述循环补液系统7进行循环净化使用。过滤器73用于过滤工作液体，储液箱71内还可加设用于初步过滤工作液体的初步过滤器或者初步过滤网76。当然，在储液箱71上还设有进水口711，使得外部能够向储液箱71补入工作液体。为能够调节工作液体的流动速度和流动量，在管道组72上可加设阀门75。

需要指出，图1中所示的管道组72的布局和连接方式仅用于示意，并不用以具体表示或者限制它们的布局。

以下结合本实施例的具体结构和附图，对本实用新型实施例所提供的玻璃基板清洗装置的工作过程进行描述：

外部向循环补液系统7的储液箱71注入充足的工作液体；

工作液体通过水泵74提供的压力流动，经过过滤器73进行净化过滤后，注入清洗箱1的工作槽12内；

工作时通过调节阀门75使得工作槽12内的液位达到一定适合的高度时（工作液位高于上振板3厚度1/2以上，且高出溢出孔111），工作液体从溢出孔111溢流至排液槽13内，循环补液系统7内液位与工作槽12液位保持动态平衡；

启动超声波发生器2，上振板3和下振板4发出超声波，使工作液体产生空化气泡流，待清洗玻璃基板5从入料口113进入工作槽12，经传送机构6传送穿过通道15，空化气泡流冲击待清洗玻璃基板5的表面，空化气泡撞击玻璃基板后瞬间破裂，产生巨大能量，将玻璃基板上的污垢和异物祛除，达到清除效果；与此同时，补液刀8不断喷出液体流，补足工作槽12内的工作液体，同时也为玻璃基板提供所需的压力，使其能够平稳穿过通道15；

已清洗干净的玻璃基板从出料口114输出，下一块待清洗玻璃基板从入料口113输入，进行下一块玻璃基板的清洗；

玻璃基板清洗装置工作过程中通过循环补液系统7不断循环过滤更新清洗箱1内的工作液体；

玻璃基板清洗装置不断重复上述步骤，依次清洗玻璃基板，直至工作完毕为止。

本实用新型所提供的玻璃基板清洗装置还可以配合烘干装置等，组成一整套流水线设备，实现全自动化流程。

需要说明的是，本实用新型并不仅限用于LCD玻璃基板的清洗，其还可用于清洗类似的平板状物件。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换或改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种玻璃基板清洗装置，其特征在于，包括：

清洗箱，其具有空腔，所述空腔内设有隔板，所述隔板将所述空腔分隔为可容纳工作液体的工作槽以及用于容纳从所述工作槽内溢出的工作液体的排液槽，所述隔板上设有用于调节所述工作槽内工作液体液位的溢出孔，所述溢出孔贯通所述工作槽与所述排液槽；

超声波发生器，其设于所述清洗箱外；

上振板及下振板，其用于发射超声波使工作液体产生空化气泡，所述上振板及所述下振板均与所述超声波发生器电气连接，所述下振板设于所述工作槽底部，所述上振板设于所述工作槽内且位于所述下振板上方，所述上振板与所述下振板之间的间隙形成容待清洗玻璃基板通过的通道；

传送机构，其用于传送所述待清洗玻璃基板，所述传送机构设于所述通道内；

循环补液系统，其用于为所述工作槽提供工作液体，用于回收所述排液槽内的工作液体，所述循环补液系统与所述清洗箱连接。

2.如权利要求1所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于：还包括用于为所述工作槽补充工作液体且为所述待清洗玻璃基板提供压力流的补液刀，所述补液刀设于所述工作槽内且位于所述上振板的侧面周围，所述补液刀与所述循环补液系统连接且设有射出工作液体流的喷液口，所述喷液口竖直朝下。

3.如权利要求2所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于：所述工作槽内设有两个所述上振板，两所述上振板成间距并排设置，两所述上振板之间的间隙设有所述补液刀。

4.如权利要求1所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于：所述工作槽内设有两个所述上振板，两所述上振板并排设置。

5.如权利要求1所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于：所述传送机构包括多个上滚轴及多个下滚轴，多个所述下滚轴成间距平行排列设置且位于所述下振板之上，多个所述上滚轴成间距平行排列设置且位于所述上振板与所述下滚轴之间。

6.如权利要求1-5任一项所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于：还包括用于调节所述上振板高度位置的调节件，所述调节件设于所述清洗箱的内壁，所述上振板设于所述调节件上。

7.如权利要求1-5任一项所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于：所述隔板上设有用于调节所述溢出孔大小和高度的调节板，所述调节板设于所述溢出孔下方。

8.如权利要求1-5任一项所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于：所述清洗箱的空腔内设有两个所述隔板，两个所述隔板平行相对设置并将所述空腔分隔为一个所述工作槽及两个所述排液槽，两个所述排液槽分别位于所述工作槽两侧。

9.如权利要求8所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于：其中一个所述隔板上设有容所述待清洗玻璃基板由所述排液槽进入所述工作槽的入料口，另一个所述隔板上设有容所述待清洗玻璃基板由所述工作槽输出至所述排液槽的出料口，所述入料口与所述出料口相对设置。

10.如权利要求1所述的玻璃基板清洗装置，其特征在于：还包括机架，所述清洗箱、所述超声波发生器及所述循环补液系统均设于所述机架上；所述循环补液系统包括储液箱、管道组、过滤器及水泵，所述过滤器及所述水泵均设于所述储液箱外，所述储液箱通过所述管道组与所述清洗箱连接。