CN207204676U - 清洁装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种清洁装置，用于对基板的待清洁面进行清洁，包括：至少一个滚轮结构，所述滚轮结构的内部具有一容纳空间，所述滚轮结构的至少一端设有与所述容纳空间连通的清洗液注入孔，所述滚轮结构的外周面上设有多个与所述容纳空间连通的清洗液出口，所述滚轮结构的外周面上包裹有能够渗透清洗液的清洗层。通过清洗液对基板的待清洁面进行清洗，但不会影响基板上与待清洁面相对的一面。

Description

清洁装置

技术领域

本实用新型涉及显示产品制作技术领域，尤其涉及一种清洁装置。

背景技术

在薄膜晶体管液晶显示器(thin film transistor-liquid crystal display，TFT-LCD)行业中，彩膜基板作为不可或缺的一部分，对其背面的品质要求也越来越高。彩膜基板的背面品质，对on-cell(将触摸屏嵌入到显示屏的彩膜基板和偏光片之间的技术方法)、sliming(减薄)等工艺的制程良率影响都有决定性的作用。

彩膜制作、组装等工艺中，彩膜基板背面会一直接触滚轮、承载平台等，造成轮印、脏污等异物。然而，针对这类不良并没有好的办法加以解决，通过清水或棉刷的清洁都不足以达到彩膜基板背面高品质要求。利用碱性液体清洁基板的轮印、脏污是比较高效的一种方法，但受限于碱液影响膜面品质的问题，该法未能得以使用。

实用新型内容

为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种清洁装置，通过清洗液对基板的待清洁面进行清洗，且不会影响基板的与待清洁面相对的一面。

为了达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种清洁装置，用于对基板的待清洁面进行清洁，包括：至少一个滚轮结构，所述滚轮结构的内部具有一容纳空间，所述滚轮结构的至少一端设有与所述容纳空间连通的清洗液注入孔，所述滚轮结构的外周面上设有多个与所述容纳空间连通的清洗液出口，所述滚轮结构的外周面上包裹有能够渗透清洗液的清洗层。

进一步的，所述滚轮结构由多个连接板拼接形成，每个所述连接板包括构成所述滚轮结构外周面的曲面结构，所述曲面结构在其弯曲方向上的相对的两侧具有缺口，相邻两个连接板上的缺口合围形成所述清洗液出口。

进一步的，所述清洗液出口为条形结构。

进一步的，所述清洗层为棉布。

进一步的，还包括用于控制所述滚轮结构旋转的旋转结构。

进一步的，所述滚轮结构具有1个时，所述清洁装置还包括：

检测单元，用于检测所述基板的位置，并在所述基板的第一端与所述滚轮结构之间的距离为第一预设距离时发出第一信号，在所述基板的第二端与所述滚轮结构的距离为第二预设距离时发出第二信号；

控制单元，用于根据所述第一信号控制与所述清洗液注入孔连接的供液结构进行供液，根据所述第二信号控制所述供液结构停止供液。

进一步的，所述滚轮结构具有至少2个时，沿着基板的行进方向，所述滚轮结构包括与最先与基板接触的首端滚轮结构和最后与基板接触的末端滚轮结构，所述清洁装置还包括：

检测单元，用于检测所述基板的位置，并在所述基板的第一端与所述首端滚轮结构之间的距离为第一预设距离时发出第一信号，在所述基板的第二端与所述末端滚轮结构的距离为第二预设距离时发出第二信号；

控制单元，用于根据所述第一信号控制与所述清洗液注入孔连接的供液结构进行供液，根据所述第二信号控制所述供液结构停止供液。

进一步的，所述控制单元还用于根据所述信号控制所述旋转结构工作，以控制所述滚轮结构旋转。

进一步的，还包括挡液结构，与所述滚轮结构相对设置，当基板位于所述滚轮结构上进行清洁时，所述挡液结构位于所述基板远离所述待清洁面的一侧。

进一步的，所述挡液结构为帘状结构。

本实用新型的有益效果是：通过清洗液对基板的待清洁面进行清洗，但不会影响基板上与待清洁面相对的一面。

附图说明

图1表示本实用新型实施例中清洁装置结构示意图；

图2表示本实用新型实施例中滚轮结构示意图；

图3表示本实用新型实施例中一实施方式中清洁装置使用状态示意图；

图4表示本实用新型实施例中另一实施方式中清洁装置使用状态示意图。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的特征和原理进行说明，所举实施例仅用于解释本实用新型，并非以此限定本实用新型的保护范围。

如图1-4所示，本实施例提供一种清洁装置，用于对基板10的待清洁面进行清洁，包括：至少一个滚轮结构1，所述滚轮结构1的内部具有一容纳空间，所述滚轮结构1的至少一端设有与所述容纳空间连通的清洗液注入孔13，所述滚轮结构1的外周面上设有多个与所述容纳空间连通的清洗液出口12，所述滚轮结构1的外周面上包裹有能够渗透清洗液的清洗层2。

所述清洗液可以为碱性清洗液(但并不以此为限)，碱性清洗液注入到所述滚轮结构1的容纳空间内，然后从清洗液出口12渗透入所述清洗层2，然后通过渗透了碱性清洗液的所述清洗层2对基板10的待清洁面进行清洁，达到对待清洁面清洁的效果，且不会对基板10上与所述待清洁面相对的一面有影响。

所述滚轮结构1可以是一体结构的筒状结构，也可以是分体结构，本实施例中，所述滚轮结构1由多个连接板11拼接形成，每个所述连接板11包括构成所述滚轮结构1外周面的曲面结构，所述曲面结构在其弯曲方向上的相对的两侧具有缺口，相邻两个连接板11上的缺口合围形成所述清洗液出口12。拼接式的结构便于所述滚轮结构1的清洗，延长清洁装置的使用寿命。

所述滚轮结构1的数量可根据实际需要设定。

本实施例中，所述清洗液出口12为条形结构，优选的，所述清洗液出口12为狭长的缝隙，避免清洗液渗透入所述清洗层2流量太大以致于溢出。

本实施例中，所述清洗层2为棉布，但并不以此为限，只要是可以渗透清洗液，并可对基板10的待清洁面进行清洁即可。

本实施例中，所述清洗层2可拆卸的设置于所述滚轮结构1的外周面，这样便于所述清洗层2的更换，延长清洁装置的使用寿命。

本实施例中，所述清洁装置还包括用于控制所述滚轮结构1旋转的旋转结构，利用所述滚轮结构1旋转过程中产生的离心力，可以降低功耗。

所述旋转结构的具体结构形式可以有多种，只要实现所述滚轮结构1的旋转即可，例如，所述旋转结构包括电机，与所述滚轮结构1传动连接的传动齿轮，在电机的驱动下，传动齿轮带动所述滚轮结构1旋转。

本实施例中，所述清洗液注入孔13通过管道3与供液结构连通，在使用过程中，通过对管道3的施压，使清洗液顺着管道3进入所述滚轮结构1的容纳空间，在管道3压力与所述滚轮结构1旋转产生的离心力的共同作用下，所述容纳空间内的清洗液通过所述清洗液出口12进入所述清洗层2中。

所述清洗液出口12的数量可根据实际需要设定，当所述清洗液出口12足够多时，供给的清洗液会均匀的分布于所述清洗层2上。当基板10流动过程中，接触到所述滚轮结构1时，带有清洗液的所述清洗层2就会擦拭基板10的待清洁面，达到清洁的效果，如图3所示，图3中所示，清洁装置具有2个所述滚轮结构1，但并不以此为限。

可以通过控制所述滚轮旋转产生的离心力的大小，和/或外部供液装置对所述滚轮的容纳空间内注入清洗液的压力(即控制所述容纳空间内的清洗液的注入量)，控制清洗液的渗出量，防止清洗液从所述清洗层2中溢出，例如，控制外部供液装置对所述滚轮的容纳空间内注入清洗液的压力，使得所述滚轮结构1处于静止状态时，及时供液使得所述容纳空间内注入清洗液，但是不可通过所述清洗液出口12渗出，所述滚轮结构1旋转，控制所述滚轮结构1的旋转速度，从而控制清洗液渗透入所述清洗层2的速度，从而防止清洗液从所述清洗层2溢出，这样也大大降低了基板10上与待清洁面相对的一面被腐蚀的可能。

本实施例中，所述滚轮结构1具有1个时，所述清洁装置还包括：

检测单元，用于检测所述基板10的位置，并在所述基板10的第一端与所述滚轮结构1之间的距离为第一预设距离时发出第一信号，在所述基板10的第二端与所述滚轮结构1的距离为第二预设距离时发出第二信号；

控制单元，用于根据所述第一信号控制与所述清洗液注入孔13连接的供液结构进行供液，根据所述第二信号控制所述供液结构停止供液。

进一步的，所述滚轮结构1具有至少2个时，沿着基板10的行进方向，所述滚轮结构1包括与最先与基板10接触的首端滚轮结构1和最后与基板10接触的末端滚轮结构1，所述清洁装置还包括：

检测单元，用于检测所述基板10的位置，并在所述基板10的第一端与所述首端滚轮结构1之间的距离为第一预设距离时发出第一信号，在所述基板10的第二端与所述末端滚轮结构1的距离为第二预设距离时发出第二信号；

控制单元，用于根据所述第一信号控制与所述清洗液注入孔13连接的供液结构进行供液，根据所述第二信号控制所述供液结构停止供液。

在基板10向靠近所述滚轮结构1的方向移动至预设位置时，控制单元控制供液结构进行供液，在基板10的待清洁面与所述滚轮结构1接触时，所述清洗层2全部渗透了清洗液，在基板10的待清洁面清洁完成后，基板10离开所述滚轮结构1，控制单元控制供液结构停止供液，提高清洗效率，节省成本，且防止清洗液溢出。

基板10包括有效显示区域101和位于所述有效显示区域101周围的边缘区域102，在本实施例的一个实施方式中，所述基板10向靠近所述滚轮结构1的方向移动至所述检测单元的位置时，控制单元控制供液结构进行供液，利用所述有效显示区域101与所述边缘区域102的间距完成所述清洗层2的供液，进一步的提高清洗效率。

本实施例中，所述检测单元包括距离传感器5。

本实施例中，所述控制单元还用于根据所述信号控制所述旋转结构工作，以控制所述滚轮结构1旋转。

在供液的同时，控制单元控制所述滚轮结构1旋转，离心力的作用下，进入所述容纳空间的清洗液从所述清洗液出口12渗透入所述清洗层2，加快了所述清洗层2整体渗透所述清洗液的速度，节省时间，且避免清洗液在所述清洗层2中存放时间过长而溢出。

本实施例中，所述清洁装置还包括挡液结构4，与所述滚轮结构1相对设置，当基板10位于所述滚轮结构1上进行清洁时，所述挡液结构4位于所述基板10远离所述待清洁面的一侧。

挡液结构4的设置防止所述滚轮结构1在旋转过程中有清洗液被甩出，而污染基板10上与待清洁面相对的一面。

所述挡液结构4的具体结构形式可以有多种，只要实现阻挡清洗液溅射入基板10上与待清洁面相对的一面的作用即可，本实施例中，所述挡液结构4为帘状结构。

本实施例中，通过对碱性清洗液的浓度、温度等的调整，可控制清洁装置的清洗性能。

以上所述为本实用新型较佳实施例，需要说明的是，对于本领域普通技术人员来说，在不脱离本实用新型所述原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型保护范围。

Claims (10)

1.一种清洁装置，用于对基板的待清洁面进行清洁，其特征在于，包括：至少一个滚轮结构，所述滚轮结构的内部具有一容纳空间，所述滚轮结构的至少一端设有与所述容纳空间连通的清洗液注入孔，所述滚轮结构的外周面上设有多个与所述容纳空间连通的清洗液出口，所述滚轮结构的外周面上包裹有能够渗透清洗液的清洗层。

2.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述滚轮结构由多个连接板拼接形成，每个所述连接板包括构成所述滚轮结构外周面的曲面结构，所述曲面结构在其弯曲方向上的相对的两侧具有缺口，相邻两个连接板上的缺口合围形成所述清洗液出口。

3.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述清洗液出口为条形结构。

4.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述清洗层为棉布。

5.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，还包括用于控制所述滚轮结构旋转的旋转结构。

6.根据权利要求5所述的清洁装置，其特征在于，所述滚轮结构具有1个时，所述清洁装置还包括：

检测单元，用于检测所述基板的位置，并在所述基板的第一端与所述滚轮结构之间的距离为第一预设距离时发出第一信号，在所述基板的第二端与所述滚轮结构的距离为第二预设距离时发出第二信号；

控制单元，用于根据所述第一信号控制与所述清洗液注入孔连接的供液结构进行供液，根据所述第二信号控制所述供液结构停止供液。

7.根据权利要求5所述的清洁装置，其特征在于，所述滚轮结构具有至少2个时，沿着基板的行进方向，所述滚轮结构包括与最先与基板接触的首端滚轮结构和最后与基板接触的末端滚轮结构，所述清洁装置还包括：

检测单元，用于检测所述基板的位置，并在所述基板的第一端与所述首端滚轮结构之间的距离为第一预设距离时发出第一信号，在所述基板的第二端与所述末端滚轮结构的距离为第二预设距离时发出第二信号；

控制单元，用于根据所述第一信号控制与所述清洗液注入孔连接的供液结构进行供液，根据所述第二信号控制所述供液结构停止供液。

8.根据权利要求6或7所述的清洁装置，其特征在于，所述控制单元还用于根据所述信号控制所述旋转结构工作，以控制所述滚轮结构旋转。

9.根据权利要求8所述的清洁装置，其特征在于，还包括挡液结构，与所述滚轮结构相对设置，当基板位于所述滚轮结构上进行清洁时，所述挡液结构位于所述基板远离所述待清洁面的一侧。

10.根据权利要求9所述的清洁装置，其特征在于，所述挡液结构为帘状结构。