CN102789141A - 一种彩膜显影机 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种彩膜显影机，用于在液晶面板制造中对基板面内光阻进行均匀显影，包括显影槽，所述显影槽包括分别相对于水平面设置倾斜的第一显影槽和第二显影槽；所述第一显影槽和所述第二显影槽相对于所述水平面倾斜的倾斜方向相反。实施本发明的彩膜显影机，使得基板通过显影槽显影时可以相互抵消因为显影液由上至下的流动对倾斜基板上光阻造成的显影不均；增强了基板显影的均匀性；改善面内制程均匀程度，缩小差异性，提升产品的品质。

Description

一种彩膜显影机
技术领域
本发明涉及液晶面板制造领域，尤其涉及一种彩膜显影机。
背景技术
液晶面板制造领域中，彩膜显影机主要应用在彩色滤光片R、G、B制程中，其可以对基板面内光阻进行显影。
现有技术中彩膜显影机的结构主要由显影槽9组成，如图3所示，相对于水平面T倾斜一定角度的显影槽9可以将显影基板固定在一定角度进行显影，倾斜的基板利于基板表面显影液的显影和下流，防止因为基板的弯曲造成显影液残留，减少因液体流动不畅造成产品不良情况的发生。
上述结构的彩膜显影机因结构设计不合理，存在如下缺陷：
在基板进行显影时，基板上方的显影喷嘴对基板上的光阻喷洒显影液，显影液会沿着倾斜的基板由上至下的向下流。由于下流的显影液仍旧具有较强的显影能力，在下流的过程中会一直与基板上的光阻发生化学反应，造成整个基板面内显影程度的不均匀，致使基板靠上边缘部分与靠下边缘部分面内RGB制程的显影大小呈现较大差异，一定程度上影响产品的品质。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于，提供一种彩膜显影机，可以减少发生基板在通过显影槽显影时因为显影液由上至下的流动对倾斜基板上光阻造成显影不均的情况；增强了基板显影的均匀性；改善面内制程均匀程度，缩小差异性，提升产品的品质。
为了解决上述技术问题，本发明的实施例提供了一种彩膜显影机，用于在液晶面板制造中对基板面内光阻进行均匀显影，包括显影槽，所述显影槽包括分别相对于水平面设置倾斜的第一显影槽和第二显影槽；所述第一显影槽和所述第二显影槽相对于所述水平面倾斜的倾斜方向相反。
优选的，所述第一显影槽相对于所述水平面的倾斜角的角度范围在0°-90°之间；所述第二显影槽相对于所述水平面的倾斜角的角度范围在90°-180°之间。
优选的，所述第一显影槽相对于所述水平面的倾斜角的角度范围在5°-10°之间；所述第二显影槽相对于所述水平面的倾斜角的角度范围在170°-175°之间。
优选的，所述第一显影槽相对于所述水平面的倾斜角与所述第二显影槽相对于所述水平面的倾斜角互补。
优选的，所述彩膜显影机还包括用于在所述第一显影槽和所述第二显影槽间进行传送的传送机构；所述传送机构可相对于水平面设置旋转倾斜。
优选的，所述第一显影槽和所述第二显影槽上分别安装有所述传送机构。
优选的，所述第一显影槽和/或所述第二显影槽连接设置用于去除所述基板表面残留显影液的清洗装置。
优选的，所述基板通过所述第一显影槽经所述清洗装置后，由所述传动装置传送至所述第二显影槽。
本发明所提供的彩膜显影机，由于设置了相对于水平面倾斜的第一显影槽和第二显影槽，两显影槽相对于水平面倾斜的倾斜方向相反。使得基板通过显影槽显影时相互抵消因为显影液由上至下的流动对倾斜基板上光阻造成的差异性。增强了基板显影的均匀性；改善面内制程均匀程度，缩小差异性，提升产品的品质。 
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例的彩膜显影机的显影槽的截面结构示意图；
图2是本发明实施例的彩膜显影机的结构框图；
图3是现有技术中彩膜显影机的显影槽的截面结构示意图。
具体实施方式
下面参考附图对本发明的优选实施例进行描述。
本发明实施例提供了一种彩膜显影机，用于在液晶面板制造中对基板面内光阻进行均匀显影，其包括用于对基板进行固定的显影槽，所述显影槽包括相对于水平面设置倾斜的第一显影槽11和第二显影槽12；
所述第一显影槽11和所述第二显影槽12分别相对于所述水平面倾斜的倾斜方向相反。
参见图1，该结构的彩膜显影机，通过设置两倾斜方向相反的显影槽，可以使显影基板在显影工序中不至于一直处于一端侧被较强显影的状态。该使面内均匀显影的结构是通过如下方式实施的：
显影基板在经过倾斜的第一显影槽11时，位于第一显影槽11上方的显影喷嘴对基板上光阻喷洒显影液，由于喷洒在基板上的显影液会沿着倾斜的基板由上至下的向下流，而下流的显影液仍旧具有较强的显影能力，在下流的过程中不断的与基板上的光阻发生化学反应，造成倾斜基板靠近倾斜顶缘的部分a相比倾斜底缘的部分b的显影程度要差。紧接着，显影基板通过第二显影槽12，由于第二显影槽12的倾斜方向与第一显影槽11的倾斜方向相反，显影液喷洒在上述显影程度较强的b端侧，沿着第二显影槽12倾斜的方向由上至下的向下流，原本显影程度差的部分得到了显影的加强，进而使得面内的显影情况趋于均匀。
上述实施方式中，两显影槽11、12相对于水平面倾斜的倾斜方向相反是指：两显影槽相对于水平面的倾斜角设置在不同的取值范围中，致使两显影槽相对于水平面的倾斜角分别取值在锐角和钝角的两种取值范围中形成相对于水平面相反的倾斜方向。
例如：在一种实施方式中，第一显影槽11相对于水平面L的倾斜角α为取值在0°-90°之间的锐角的角度范围，而第二显影槽12相对于水平面L的倾斜角β为取值在90°-180°之间的钝角的角度范围。
在优选的实施方式中，第一显影槽11相对于所述水平面的倾斜角α与所述第二显影槽12相对于所述水平面的倾斜角β互补。
例如：第一显影槽11相对于水平面L的倾斜角α取值为5°（或在5°-10°之间任意取值），第二显影槽12相对于水平面L的倾斜角β取值为175°（或在170°-175°之间任意取值）。
将两倾斜角设置互补的作用是：由于位于两显影槽上的显影喷嘴喷出显影液的参数和条件相同，设置互补的倾斜角，进而使两显影槽相对于水平面L具有相同的坡度，显影液在两显影槽上的流速近似相同，从而保证两段显影槽的显影效果相近似，进而使基板面内的显影情况趋于均匀。
本发明的彩膜显影机传送显影基板是通过如下方式实施的：
彩膜显影机包括用于在第一显影槽11和第二显影槽12间进行传送的传送机构。如图2所示，传送机构可以将显影基板由第一显影槽11传动至第二显影槽12进行显影工序。
优选的实施方式中，第一显影槽11和第二显影槽12上也分别安装有传送机构，该传送机构可相对于水平面设置旋转倾斜。实施中，传送机构可保持与倾斜角α或倾斜角β相同的倾斜角度，通过其自身的旋转，可将显影基板带入第一显影槽11，之后再将基板传动至第二显影槽12并进入。
本发明的彩膜显影机的另一种实施方式中，可以设置分别与第一显影槽11和/或所述第二显影槽12相接连的清洗装置。清洗装置主要由水洗槽/风刀段组成，通过水洗槽/风刀段的处理可以将基板表面残留的液体除去，为后续的处理工序做好准备。
以下以两显影槽相对于水平面L相反的倾斜方向为例，其中，第一显影槽11相对于水平面L的倾斜角α取值为5°，第二显影槽12相对于水平面L的倾斜角β取值为175°，说明本发明彩膜显影机对基板面内光阻进行均匀显影的过程：
需显影的基板在传送机构的带入下进入第一显影槽11，位于第一显影槽11上方的显影喷嘴对基板上光阻喷洒显影液。喷洒在基板上的显影液会沿着倾斜的基板由上至下的向下流，而下流的显影液仍旧具有较强的显影能力，在下流的过程中不断的与基板上的光阻发生化学反应，使基板靠近显影槽倾斜顶缘的部分a相比倾斜底缘的部分b的显影程度要差或显影稍有不足。
紧接着，基板进入水洗槽/风刀段进行处理，基板表面残留的液体除去后，再由传送机构带入到第二显影槽12上。由于第二显影槽12的倾斜方向与第一显影槽11的倾斜方向相反，基板显影程度较强的b端侧位于第二显影槽12如图所示较高的位置，显影液喷洒在其上沿着第二显影槽12倾斜的方向由上至下的向下流。在下流的过程中显影液不断的与基板上的光阻发生化学反应，原本显影程度差的a端侧部分得到了显影的加强。
由于位于两显影槽上的显影喷嘴喷出显影液的参数和条件相同，设置互补的倾斜角，使得两显影槽相对于水平面L具有相同的坡度，显影液在两显影槽上的流速近似相同，从而保证两段显影槽的显影效果相近似，进而使基板面内的显影情况趋于均匀。
最后，基板在传送机构的带动下进入水洗槽/风刀段进行处理，基板表面残留的液体被除去。
本发明的彩膜显影机的其它实施方式中，两显影槽相对于水平面的倾斜角可以是互补关系的其它取值，只要满足相对于所述水平面倾斜的倾斜方向相反即可；也可不设置清洗装置，通过其它的方式提升产品的品质；在两段显影槽上方的设置的喷嘴喷洒显影液的参数和条件不同时，可以通过改变两显影槽相对于水平面的倾斜角的角度使两段显影槽的显影效果相近。
实施本发明的彩膜显影机，由于设置了相对于水平面倾斜的第一显影槽和第二显影槽，两显影槽相对于水平面倾斜的倾斜方向相反。使得基板通过显影槽显影时减少因为显影液由上至下的流动对倾斜基板上光阻造成的显影差异。增强了基板显影的均匀性；改善面内制程均匀程度，缩小差异性，提升产品的品质。
以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，因此等同变化，仍属本发明所涵盖的范围。

Claims (9)

1.一种彩膜显影机，用于在液晶面板制造中对基板面内光阻进行均匀显影，包括：显影槽，其特征在于，所述显影槽包括分别相对于水平面设置倾斜的第一显影槽（11）和第二显影槽（12）；
所述第一显影槽（11）和所述第二显影槽（12）相对于所述水平面倾斜的倾斜方向相反。
2.如权利要求1所述的彩膜显影机，其特征在于，所述第一显影槽（11）相对于所述水平面的倾斜角（α）的角度范围在0°-90°之间；
所述第二显影槽（12）相对于所述水平面的倾斜角（β）的角度范围在90°-180°之间。
3.如权利要求2所述的彩膜显影机，其特征在于，所述第一显影槽（11）相对于所述水平面的倾斜角（α）的角度范围在5°-10°之间；
所述第二显影槽（12）相对于所述水平面的倾斜角（β）的角度范围在170°-175°之间。
4.如权利要求1- 3任一项所述的彩膜显影机，其特征在于，所述第一显影槽（11）相对于所述水平面的倾斜角（α）与所述第二显影槽（12）相对于所述水平面的倾斜角（β）互补。
5.如权利要求1所述的彩膜显影机，其特征在于，所述彩膜显影机还包括用于在所述第一显影槽（11）和所述第二显影槽（12）间进行传送的传送机构；
所述传送机构可相对于水平面设置旋转倾斜。
6.如权利要求5所述的彩膜显影机，其特征在于，所述第一显影槽（11）和所述第二显影槽（12）上分别安装有所述传送机构。
7.如权利要求5或6所述的彩膜显影机，其特征在于，所述第一显影槽（11）和/或所述第二显影槽（12）连接设置用于去除所述基板表面残留显影液的清洗装置。
8.如权利要求7所述的彩膜显影机，其特征在于，所述基板通过所述第一显影槽（11）经所述清洗装置后，由所述传动装置传送至所述第二显影槽（12）。
9.如权利要求8所述的彩膜显影机，其特征在于，所述第一显影槽（11）相对于所述水平面的倾斜角（α）与所述第二显影槽（12）相对于所述水平面的倾斜角（β）互补。
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