CN107179654B - Oled面板的显影方法、oled面板以及制造设备 - Google Patents
Oled面板的显影方法、oled面板以及制造设备 Download PDFInfo
- Publication number
- CN107179654B CN107179654B CN201610139686.1A CN201610139686A CN107179654B CN 107179654 B CN107179654 B CN 107179654B CN 201610139686 A CN201610139686 A CN 201610139686A CN 107179654 B CN107179654 B CN 107179654B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- oled panel
- substrate
- developing
- oled
- developing solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/3007—Imagewise removal using liquid means combined with electrical means, e.g. force fields
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/3042—Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations
- G03F7/3057—Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations characterised by the processing units other than the developing unit, e.g. washing units
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
本发明提供了一种OLED面板的显影方法、OLED面板以及制造设备,所述OLED面板具有包括一第一侧和相对所述第一侧的一第二侧的基板,显影方法包括以下步骤:从所述基板的所述第一侧向所述第二侧喷布显影液进行显影,其中所述基板处于水平状态;显影完成后,抬起所述基板的所述第一侧,使所述基板的所述第一侧水平位置高于所述第二侧;以及从所述基板的所述第二侧向所述第一侧进行水洗,以清除所述基板上的所述显影液。本发明通过调节显影液在面板上的停留时间,从而控制面板从第一侧到第二侧之间的光阻图案的线型的粗细,以此补偿OLED面板两侧的电压降,保证OLED面板的亮度均匀。
Description
技术领域
本发明涉及OLED面板制程领域,尤其涉及一种OLED面板的显影方法、OLED面板以及制造设备。
背景技术
现有技术的OLED面板制程中需要在一个玻璃大板上同时制作多块OLED面板,OLED面板呈矩阵排列在玻璃大板上。现有技术的OLED面板的显影方法中包含喷布显影液和水洗两个步骤,会由喷布显影液的设备从玻璃大板的一侧向另一个进行喷布,并且水洗设备也会从玻璃大板的一侧向另一个进行水洗,洗去显影液。
目前的显影方法中喷布显影液的进行方向A与水洗的进行方向B是相同的。图1为现有技术的OLED面板的显影方法的流程图。如图1所示,现有的OLED面板的显影方法的流程包括以下步骤
步骤S10’:从基板的第一侧H向第二侧L喷布显影液进行显影,所述基板处于水平状态。
步骤S20’:显影完成后,抬起所述基板的第一侧H(参见图2,抬高基板的方向为C),使所述基板相对于水平面倾斜。
步骤S30’:从基板的第一侧H向第二侧L进行水洗,清除显影液。
图2为现有技术的OLED面板显影过程中的示意图。图3为现有技术的OLED面板显影过程中的俯视图。如图2和3所示,在这一过程中,所述水洗的进行方向B与所述喷布显影液的进行方向A相同。通过现有技术的制程的OLED面板10’包括:第一侧H和相对的第二侧L,所述第一侧H设有集成电路20’。OLED面板10’的显示效果证明,这种结构下,靠近集成电路20’的电压较高导致相应的亮度升高,远离集成电路20’的电压较低导致相应的亮度也降低,使得OLED面板10’的两侧之间形成电压降,造成亮度不均匀,影响OLED面板10’的质量。
有鉴于此,发明人提供了一种能够补偿OLED面板两侧的电压降的OLED面板的显影方法、OLED面板以及制造设备。
发明内容
针对现有技术中的缺陷,本发明的目的在于提供一种OLED面板的显影方法、OLED面板以及制造设备,克服现有技术的困难,能够补偿OLED面板两侧的电压降,保证OLED面板的亮度均匀。
根据本发明的一个方面,提供一种OLED面板的显影方法,所述OLED面板具有包括一第一侧和相对所述第一侧的一第二侧的基板,包括以下步骤:
步骤(1):从所述基板的所述第一侧向所述第二侧喷布显影液进行显影,其中所述基板处于水平状态;
步骤(2):显影完成后,抬起所述基板的所述第一侧,使所述基板的所述第一侧水平位置高于所述第二侧;以及
步骤(3):从所述基板的所述第二侧向所述第一侧进行水洗,以清除所述基板上的所述显影液。
优选地,所述步骤(1)中,所述基板上具有经过曝光的光阻图案。
优选地,所述步骤(2)中,所述基板与水平面之间夹角范围是10°至30°。
优选地,所述基板与水平面之间夹角是20°。
优选地,所述步骤(3)中,水洗的碰洒方向平行于基板。
根据本发明的另一个方面,还提供一种OLED面板,由如上述的OLED面板的显影方法制得,包括:第一侧和相对的第二侧,所述第一侧设有集成电路,其中,越靠近所述第一侧的光阻图案的线型宽度越细,越靠近所述第二侧的光阻图案的线型宽度越宽。
优选地,所述第一侧与所述第二侧之间的电压降为零。
优选地,所述集成电路连接一移动终端的主板。
根据本发明的另一个方面,还提供一种OLED面板制造设备,其特征在于,包括一显影液喷布装置和一水洗装置;
所述显影液喷布装置从第一方向对所述OLED面板喷布显影液,所述水洗装置从第二方向对所述OLED面板进行水洗,洗去显影液,其中所述第一方向与第二方向的方向相反。
优选地,更包括一抬举装置,所述抬举装置用以抬起所述OLED面板的一侧,使所述OLED面板的平面与水平面呈现一夹角。
优选地,所述夹角为10°至30°。
有鉴于此,本发明的OLED面板的显影方法、OLED面板以及制造设备,通过调节显影液在面板上的停留时间,从而控制面板从第一侧到第二侧之间的光阻图案的线型的粗细,以此补偿OLED面板两侧的电压降,保证OLED面板的亮度均匀。
附图说明
通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述,本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显:
图1为现有技术的OLED面板的显影方法的流程图;
图2为现有技术的OLED面板显影过程中的示意图;
图3为现有技术的OLED面板显影过程中的俯视图;
图4为本发明的OLED面板的显影方法的流程图;
图5为本发明的OLED面板显影过程中的示意图;以及
图6为本发明的OLED面板显影过程中的俯视图。
附图标记
10’ OLED面板
20’ 集成电路
30’ 光阻图案
10 OLED面板
20 集成电路
30 光阻图案
A 喷布显影液的进行方向
B 水洗的进行方向
C 抬高基板的方向
d 基板与水平面之间的夹角
H 第一端
L 第二端
具体实施方式
现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而,示例实施方式能够以多种形式实施,且不应被理解为限于在此阐述的实施方式;相反,提供这些实施方式使得本发明将全面和完整,并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。在图中相同的附图标记表示相同或类似的结构,因而将省略对它们的重复描述。
所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施方式中。在下面的描述中,提供许多具体细节从而给出对本发明的实施方式的充分理解。然而,本领域技术人员应意识到,没有特定细节中的一个或更多,或者采用其它的方法、组元、材料等,也可以实践本发明的技术方案。在某些情况下,不详细示出或描述公知结构、材料或者操作以避免模糊本发明。
图4为本发明的OLED面板的显影方法的流程图。如图4所示,本发明的OLED面板的显影方法,包括以下步骤:
步骤S10:从基板的第一侧H向第二侧L喷布显影液进行显影,基板处于水平状态。基板上具有经过曝光的光阻图案。
步骤S20:显影完成后,抬起基板的第一侧H(参见图5,抬高基板的方向为C),使基板相对于水平面倾斜。基板与水平面之间夹角d范围是10°至30°,但不以此为限。本实施例中基板与水平面之间夹角d优选为20°。基板的第一侧H的水平高度高于基板的第二侧L的水平高度,使得被冲洗的显影液,会向第二侧L流去。
步骤S30:从基板的第二侧L向第一侧H进行水洗,清除显影液,水洗的进行方向B与喷布显影液的进行方向A相反。
图5为本发明的OLED面板显影过程中的示意图。图6为本发明的OLED面板显影过程中的俯视图。如图5和6所示,在本发明中水洗的进行方向B与喷布显影液的进行方向A相反,本发明中的OLED面板10包括:第一侧H和相对的第二侧L,第一侧H设有集成电路20,越靠近第一侧H的光阻图案30的线型宽度越细,越靠近第二侧L的光阻图案30的线型宽度越宽。第一侧H与第二侧L之间的电压降为零。集成电路20连接一移动终端的主板(图中未示出)。
因为在制程过程中,显影液和水洗对于光阻图案的线宽的作用刚好相反:
(1)显影液停留在大板的时间越长,则光阻图案的线宽越细;显影液停留在大板的时间越短,则光阻图案的线宽越宽。
(2)水洗对光阻图案的作用则是:水洗越晚,则光阻图案的线宽越细;水洗越早,则光阻图案的线宽越宽。
所以,本发明的这种水洗的进行方向B与喷布显影液的进行方向A相反的工艺会优先从第二侧L进行清洗。与第一侧H相比,第二侧L的显影液会更早被洗去,第二侧L的显影液对光阻图案的反应时间更短,所以能缩短靠近第二侧L的显影液的停留时间。则越靠近第二侧L的显影液在基板上的停留时间越短,使得越靠近第二侧L的光阻图案30的线型宽度越宽。
相对地,与第二侧L相比,第一侧H的显影液会更晚被洗去,第一侧H的显影液对光阻图案的反应时间更长,所以能相对延长靠近第一侧H显影液的停留时间。则越靠近第一侧H的显影液在基板上的停留时间越长,使得越靠近第一侧H的光阻图案30的线型宽度越细。
优选地,步骤S30中的水洗的碰洒方向可以平行于基板,但不以此为限。
以下表一是现有技术的显影方法制成的OLED面板的亮度均匀度数据,通过现有技术制成的一个玻璃大板上,共有6行9列共计54块OLED面板,他们各自的亮度均匀度的实测值如下:
1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 7 | 8 | 9 | |
1 | <u>74%</u> | <u>77%</u> | 83% | 85% | 89% | 86% | 81% | <u>78%</u> | <u>75%</u> |
2 | 83% | 81% | 87% | 87% | 88% | 89% | 89% | 87% | 90% |
3 | 86% | 87% | 87% | 85% | 87% | 89% | 86% | 89% | 88% |
4 | 83% | 85% | 86% | 84% | 87% | 83% | 83% | 83% | <u>76%</u> |
5 | 85% | 88% | 86% | 85% | 81% | 84% | 81% | 81% | <u>79%</u> |
6 | 85% | 96% | 92% | 87% | 85% | 87% | 84% | 93% | 80% |
表一
从表一中可知,54块OLED面板中,亮度均匀度<80%的,共有6片,并且,最小值为74%。
以下表二是本发明的显影方法制成的OLED面板的亮度均匀度据,通过本发明的方法制成的一个玻璃大板上,共有6行9列共计54块OLED面板,他们各自的亮度均匀度的实测值如下:
1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 7 | 8 | 9 | |
1 | <u>79%</u> | 80% | 84% | 81% | 84% | 82% | 83% | 80% | <u>78%</u> |
2 | 78% | 86% | 87% | 88% | 85% | 80% | 79% | 81% | 85% |
3 | 83% | 84% | 90% | 90% | 91% | 89% | 89% | 89% | 87% |
4 | 84% | 85% | 83% | 85% | 83% | 82% | 83% | <u>79%</u> | 80% |
5 | 86% | 86% | 83% | 84% | 83% | 86% | 86% | 85% | 80% |
6 | 85% | 92% | 90% | 85% | 85% | 86% | 85% | 91% | 91% |
表二
从表二中可知,54块OLED面板中,亮度均匀度<80%的,共有3片,并且,最小值为78%。可见,通过本发明的OLED面板的显影方法,能够有效控制面板之间的亮度均匀度,保证产品亮度性能的一致性。
继续参考图5,本发明还提供一种OLED面板,可以通过上述的OLED面板的显影方法制得,包括:第一侧H和相对的第二侧L,第一侧H设有集成电路20,越靠近第一侧H的光阻图案30的线型宽度越细,越靠近第二侧L的光阻图案30的线型宽度越宽。第一侧H与第二侧L之间的电压降为零。集成电路20连接一移动终端的主板。
本发明还提供一种OLED面板制造设备,用于实施上述的OLED面板的显影方法,包括一显影液喷布装置和一水洗装置。所述显影液喷布装置从第一方向对OLED面板喷布显影液,所述水洗装置从第二方向对OLED面板进行水洗,洗去显影液,所述第一方向与第二方向的方向相反。
综上可知,本发明的OLED面板的显影方法、OLED面板以及制造设备,通过调节显影液在面板上的停留时间,从而控制面板从第一侧到第二侧之间的光阻图案的线型的粗细,以此补偿OLED面板两侧的电压降,保证OLED面板的亮度均匀。
以上对本发明的具体实施例进行了描述。需要理解的是,本发明并不局限于上述特定实施方式,本领域技术人员可以在权利要求的范围内做出各种变形或修改,这并不影响本发明的实质内容。
Claims (11)
1.一种OLED面板的显影方法,所述OLED面板具有包括一第一侧和相对所述第一侧的一第二侧的基板,其特征在于,包括以下步骤:
步骤(1):从所述基板的所述第一侧向所述第二侧喷布显影液进行显影,其中所述基板处于水平状态;
步骤(2):显影完成后,抬起所述基板的所述第一侧,使所述基板的所述第一侧水平位置高于所述第二侧;以及
步骤(3):从所述基板的所述第二侧向所述第一侧进行水洗,以清除所述基板上的所述显影液。
2.如权利要求1所述的OLED面板的显影方法,其特征在于:所述步骤(1)中,所述基板上具有经过曝光的光阻图案。
3.如权利要求1所述的OLED面板的显影方法,其特征在于:所述步骤(2)中,所述基板与水平面之间夹角范围是10°至30°。
4.如权利要求3所述的OLED面板的显影方法,其特征在于:所述基板与水平面之间夹角是20°。
5.如权利要求1所述的OLED面板的显影方法,其特征在于:所述步骤(3)中,水洗的喷洒方向平行于基板。
6.一种OLED面板,其特征在于,由如权利要求1至5中任意一项所述的OLED面板的显影方法制得,包括:第一侧和相对的第二侧,所述第一侧设有集成电路,其中,越靠近所述第一侧的光阻图案的线型宽度越细,越靠近所述第二侧的光阻图案的线型宽度越宽。
7.如权利要求6所述的OLED面板,其特征在于:所述第一侧与所述第二侧之间的电压降为零。
8.如权利要求6所述的OLED面板,其特征在于:所述集成电路连接一移动终端的主板。
9.一种OLED面板制造设备,其特征在于,包括一显影液喷布装置和一水洗装置;
从基板的第一侧向第二侧喷布显影液进行显影,显影完成后,抬起所述基板的所述第一侧,使所述基板的所述第一侧水平位置高于所述第二侧,从所述基板的所述第二侧向所述第一侧进行水洗。
10.如权利要求9所述的OLED面板制造设备,其特征在于:更包括一抬举装置,所述抬举装置用以抬起所述OLED面板的一侧,使所述OLED面板的平面与水平面呈现一夹角。
11.如权利要求10所述的OLED面板制造设备,其特征在于:所述夹角为10°至30°。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201610139686.1A CN107179654B (zh) | 2016-03-11 | 2016-03-11 | Oled面板的显影方法、oled面板以及制造设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201610139686.1A CN107179654B (zh) | 2016-03-11 | 2016-03-11 | Oled面板的显影方法、oled面板以及制造设备 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN107179654A CN107179654A (zh) | 2017-09-19 |
CN107179654B true CN107179654B (zh) | 2020-12-01 |
Family
ID=59830611
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201610139686.1A Active CN107179654B (zh) | 2016-03-11 | 2016-03-11 | Oled面板的显影方法、oled面板以及制造设备 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN107179654B (zh) |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002324482A (ja) * | 2001-04-24 | 2002-11-08 | Dainippon Printing Co Ltd | ウェット処理装置 |
JP2003017401A (ja) * | 2001-07-05 | 2003-01-17 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置および液処理方法 |
CN1419166A (zh) * | 2001-11-13 | 2003-05-21 | 铼宝科技股份有限公司 | 有机电激发光的图素定义层的显影装置 |
CN1447395A (zh) * | 2002-03-27 | 2003-10-08 | 大日本屏影象制造株式会社 | 基板处理装置 |
JP2005244022A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Sharp Corp | 液処理装置および液処理方法 |
CN101089734A (zh) * | 2006-06-12 | 2007-12-19 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 光刻胶残留物的清洗方法 |
CN201828770U (zh) * | 2010-10-13 | 2011-05-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显影装置 |
CN102645854A (zh) * | 2011-04-20 | 2012-08-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显影液喷淋系统及方法、基板产品 |
CN102789141A (zh) * | 2012-08-13 | 2012-11-21 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种彩膜显影机 |
CN103207543A (zh) * | 2013-04-19 | 2013-07-17 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显影方法 |
-
2016
- 2016-03-11 CN CN201610139686.1A patent/CN107179654B/zh active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002324482A (ja) * | 2001-04-24 | 2002-11-08 | Dainippon Printing Co Ltd | ウェット処理装置 |
JP2003017401A (ja) * | 2001-07-05 | 2003-01-17 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置および液処理方法 |
CN1419166A (zh) * | 2001-11-13 | 2003-05-21 | 铼宝科技股份有限公司 | 有机电激发光的图素定义层的显影装置 |
CN1447395A (zh) * | 2002-03-27 | 2003-10-08 | 大日本屏影象制造株式会社 | 基板处理装置 |
JP2005244022A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Sharp Corp | 液処理装置および液処理方法 |
CN101089734A (zh) * | 2006-06-12 | 2007-12-19 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 光刻胶残留物的清洗方法 |
CN201828770U (zh) * | 2010-10-13 | 2011-05-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显影装置 |
CN102645854A (zh) * | 2011-04-20 | 2012-08-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显影液喷淋系统及方法、基板产品 |
CN102789141A (zh) * | 2012-08-13 | 2012-11-21 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种彩膜显影机 |
CN103207543A (zh) * | 2013-04-19 | 2013-07-17 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显影方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
无源OLED显示屏亮度均匀性研究;陈文彬 等;《半导体光电》;20050630;第26卷(第3期);第205-207、211页 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN107179654A (zh) | 2017-09-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN110475434B (zh) | 一种小间距焊盘的pcb丝印阻焊油墨的方法 | |
US9570473B2 (en) | Array substrate, manufacturing method thereof and display device | |
US9869902B2 (en) | Array substrate and method of manufacturing the same, and display device | |
KR101577667B1 (ko) | 액정표시패널 및 그 장치 | |
US20210348037A1 (en) | Conductive adhesive and a bonding method of circuit board | |
US9417536B2 (en) | Exposure apparatus and exposure system | |
JP2009063995A (ja) | グレースケールマスク | |
CN103207543A (zh) | 一种显影方法 | |
CN107708322B (zh) | 一种阻焊桥脱落的返工修复方法 | |
CN107179654B (zh) | Oled面板的显影方法、oled面板以及制造设备 | |
KR20190134730A (ko) | 어레이 기판, 표시 패널 및 표시 장치 | |
US7907770B2 (en) | Method for inspecting photomask and real-time online method for inspecting photomask | |
US20120123574A1 (en) | Plating method of substrate and manufacturing method of circuit board using the same | |
KR102362249B1 (ko) | 프로브 스테이션 | |
CN110930931A (zh) | 一种显示面板及显示装置 | |
US20160341982A1 (en) | Processing Machine of Display Apparatus and Processing Method of Glass Substrate | |
CN105722338A (zh) | 电路板的制备方法 | |
KR20050023083A (ko) | 절연성글라스기판의 습식각 장치 및 이를 이용한 습식식각방법 | |
US20160113124A1 (en) | Method for manufacturing printed circuit board (pcb) | |
KR20090093541A (ko) | 기판지지장치 및 기판지지방법 | |
CN109982517B (zh) | 电路板的制备方法以及电路板 | |
CN100504599C (zh) | 显示器件的制作方法 | |
CN112711174A (zh) | 光罩、阵列基板的制备方法与显示面板 | |
CN108267874B (zh) | 一种玻璃基板顶针分布的优化方法及基板支撑体 | |
CN104810312A (zh) | 栅极层上的对位标记的制作方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
CB02 | Change of applicant information | ||
CB02 | Change of applicant information |
Address after: 201506, No. nine, No. 1568, Jinshan Industrial Zone, Shanghai, Jinshan District Applicant after: Shanghai Hehui optoelectronic Co., Ltd Address before: 201500, building two, building 100, 1, Jinshan Industrial Road, 208, Shanghai, Jinshan District Applicant before: EverDisplay Optronics (Shanghai) Ltd. |
|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |