KR20080047670A - 세정 장치 및 이를 이용한 세정 방법 - Google Patents

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KR20080047670A
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Abstract

본 발명은 세정력 강화 및 세정액의 사용을 절감할 수 있는 세정 장치 및 이를 이용한 세정 방법을 제공하는 것이다.
이러한 과제를 해결하기 위하여 본 발명에서는 이류체 노즐을 사용하고, 세정액 탱크를 두 개 설치하여 세정액이 순환될 수 있는 세정 장치를 제안한다.
이와 같이 이류체 노즐을 사용하면, 세정력이 강화된다. 또한, 세정액 탱크를 두 개 설치하면, 세정액을 순환시켜 사용할 수 있기 때문에 세정액의 사용량이 줄어든다.
세정 장치, 이류체 노즐, 초순수

Description

세정 장치 및 이를 이용한 세정 방법{CLEANING DEVICE AND CLEANING METHOD USING THE SAME}
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 세정 장치를 이용한 세정 단계를 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 물리적 세정 단계를 나타낸 도면이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
30: 브러쉬 세정 40: 캐비테이션 세정
50: 습식(Wet) 세정 60: 초음파 세정
100: 컨베이어 200: 일류체 노즐
300: 브러쉬 400: 이류체 노즐
410: 격벽 500: 캐비테이션 제트
600: 메가소닉 세정기 700: 필터
710, 720, 730, 740: 세정액 탱크
본 발명은 세정 장치 및 이를 이용한 세정 방법에 관한 것이다.
최근, 무겁고 큰 음극선관(cathode ray tube, CRT)을 대신하여 유기 발광 표시 장치(organic light emitting display, OLED), 플라스마 표시 장치(plasma display panel, PDP), 액정 표시 장치(liquid crystal display, LCD)와 같은 평판 표시 장치가 활발히 개발 중이다.
이러한 평판 표시 장치의 여러 제조 과정에서는 여러 가지 이물질 및 기판 파편 등의 고착성 입자나 이물질 등이 기판에 달라붙어 기판을 오염시키는 경우가 종종 발생한다. 이러한 이물질에 의한 불량을 감소시키기 위하여 평판 표시 장치의 제조 공정 중에는 여러 단계의 기판 세정 작업이 사용되고 있다.
하지만, 종래의 일류체 노즐만을 사용하여 세정액을 분사하는 방법은 오염 물질의 제거에 한계가 있으며, 세정액 사용 시 직수 방식으로 사용하여 세정액의 사용량이 증가하는 문제점이 있다.
본 발명의 기술적 과제는 세정력 강화 및 세정액의 사용을 절감할 수 있는 세정 장치 및 이를 이용한 세정 방법을 제공하는 것이다.
이러한 과제를 해결하기 위하여 본 발명에서는 이류체 노즐을 사용하고, 세정액 탱크를 두 개 설치하여 세정액이 순환될 수 있는 세정 장치를 제안한다.
본 발명의 실시예에 따른 세정 장치는 기판을 이송하는 컨베이어, 브러쉬의 마찰과 일류체 노즐을 통한 세정액 분사를 이용하여 세정하는 브러쉬 세정 챔버, 일류체 노즐 및 이류체 노즐을 통한 세정액 분사 및 0.9 내지 1.3 MPa의 고압 펌프 에 의해 공급되는 세정액을 캐비테이션 제트를 통하여 분사함으로써 세정하는 캐비테이션 세정 챔버, 일류체 노즐을 통하여 세정액을 분사함으로써 세정하는 습식 세정 챔버, 일류체 노즐 및 이류체 노즐을 통한 세정액 분사 및 세정액에 초음파를 가하여 기포를 생성하고, 기포가 생성된 세정액을 분사하는 메가소닉 세정을 실시하는 초음파 세정 챔버, 세정액 탱크, 상기 브러쉬 세정 챔버, 상기 캐비테이션 세정 챔버, 상기 습식 세정 챔버, 및 초음파 세정 챔버 중 적어도 하나와 상기 세정액 탱크 사이에 연결되어 있는 유입 배관 및 유출 배관, 상기 유출 배관에 배치되어 있으며, 오염 물질을 걸러내는 필터, 세정에 사용된 세정액 및 세정에서 제거된 오염물질을 배출하는 배출 배관을 포함하고, 상기 유입 배관은 세정에 사용된 세정액 및 세정에서 제거된 오염 물질을 상기 세정액 탱크로 유입하고, 상기 유출 배관은 상기 세정액 탱크의 세정액을 상기 세정 챔버로 유출한다.
상기 세정액 탱크는 제1 탱크와 제2 탱크를 포함하고, 상기 유입 배관은 상기 제1 탱크 및 상기 제2 탱크와 상기 브러쉬 세정 챔버 사이를 연결하는 제1 유입 배관을 포함하며, 상기 유출 배관은 상기 제1 탱크 및 상기 제2 탱크와 상기 브러쉬 세정 챔버 사이를 연결하는 제1 유출 배관을 포함할 수 있다.
상기 세정액 탱크는 제3 탱크와 제4 탱크를 포함하고, 상기 유입 배관은 상기 제3 탱크와 상기 캐비테이션 세정 챔버 사이를 연결하는 제2 유입 배관과 상기 제4 탱크와 상기 초음파 세정 챔버 사이를 연결하는 제3 유입 배관을 포함하며, 상기 유출 배관은 상기 제3 탱크와 상기 캐비테이션 세정 챔버 사이를 연결하는 제2 유출 배관과 상기 제4 탱크와 상기 초음파 세정 챔버 사이를 연결하는 제3 유출 배 관을 포함할 수 있다.
상기 배출 배관은 상기 브러쉬 세정 챔버에 사용된 세정액 및 상기 브러쉬 세정 챔버에서 제거된 오염 물질은 배출하는 제1 배출 배관, 상기 케비테이션 세정 챔버에 사용된 세정액 및 상기 케비테이션 세정 챔버에서 제거된 오염 물질을 배출하는 제2 배출 배관, 상기 습식 세정 챔버에서 사용된 세정액 및 상기 습식 세정 챔버에서 제거된 오염 물질을 배출하는 제3 배출 배관을 포함할 수 있다.
상기 캐비테이션 세정 챔버는 격벽에 의해 분리될 수 있다.
상기 세정액은 초순수일 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 세정 방법은 브러쉬의 마찰과 일류체 노즐을 통한 세정액 분사를 이용하여 기판의 오염 물질을 제거하는 브러쉬 세정 단계, 일류체 노즐 및 이류체 노즐을 통한 세정액 분사 및 0.9 내지 1.3 MPa의 고압 펌프에 의해 공급되는 세정액을 캐비테이션 제트를 통하여 분사함으로써 상기 기판의 오염 물질을 제거하는 캐비테이션 세정 단계, 일류체 노즐을 통하여 세정액을 분사함으로써 상기 기판의 오염 물질을 제거하는 습식 세정 단계, 일류체 노즐 및 이류체 노즐을 통한 세정액 분사 및 세정액에 초음파를 가하여 기포를 생성하고, 기포가 생성된 세정액을 분사하는 메가소닉 세정을 실시함으로써 상기 기판의 오염 물질을 제거하는 초음파 세정 단계, 상기 브러쉬 세정 단계, 상기 캐비테이션 세정 단계 및 상기 습식 세정 단계 중의 적어도 하나에서 사용된 세정액을 배출하는 단계, 상기 브러쉬 세정 단계, 상기 캐비테이션 세정 단계, 상기 습식 세정 단계 및 상기 초음파 세정 단계 중의 적어도 하나에서 사용된 세정액을 수거하는 단계, 상기 수거된 세 정액을 소정의 필터를 통과시킴으로써 오염 물질을 저감하는 단계, 상기 소정의 필터를 통과한 세정액을 상기 브러쉬 세정 단계, 상기 캐비테이션 세정 단계, 상기 습식 세정 단계 및 상기 초음파 세정 단계 중의 적어도 하나의 단계에서 재사용 하도록 공급하는 단계를 포함한다.
상기 세정액은 초순수일 수 있다.
그러면, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 첨부한 도면을 참고로 하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다.
이하에서는 도면을 통하여 본 발명의 실시예를 설명한다. 이러한 본 발명의 실시예는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 세정 장치를 이용한 세정 단계를 나타낸 도면이다.
도 1에 도시한 바와 같이, 평판 표시 장치의 기판을 컨베이어(conveyor)(100) 위에 올려 놓으면 컨베이어(100)의 움직임에 따라 세정 장치의 각 단계로 이동한다.
먼저, 본격적인 세정을 실시하기 전에 전 처리 공정(10)을 실시한다.
전 처리 공정(10)은 이 후에 이어지는 화학적 및 물리적 세정의 효과를 높이기 위하여 실시하는 공정을 뜻하며, 그 목적은 유기물에 대한 화학적 분해 작용을 통하여 세정이 용이한 상태로 만들고, 기판의 표면 상태를 균일하게 하여 건조 균일성 및 균일한 밀착력을 확보하는 것이다.
대표적인 전 처리 공정(10)의 방법으로는 자외선 조사 방법, 기능수 세정 방법 및 플라즈마 처리 방법 등이 있다.
그리고, 기판에 대한 파티클(paricle) 및 오염원을 제거하는 단계인 본 세정을 실시한다. 본 세정은 화학적 세정(20)과 물리적 세정으로 구분한다.
화학적 세정(20)은 알칼리 화합물, 중성 화합물 또는 플루오르수소(HF) 용액을 사용하여 기판의 오염원 특히, 유기 오염물 또는 무기 요염물을 제거하는 공정이다.
이어서, 물리적 세정을 실시한다. 본 발명의 실시예에 따른 물리적 세정은 여러 단계 즉, 브러쉬(brush) 세정(30), 캐비테이션(cavitation) 세정(40), 습식(Wet) 세정(50) 및 초음파 세정(60)의 단계로 이루어진다.
브러쉬 세정(30)은 브러쉬와 기판 간에 발생하는 마찰력과 세정액(초순수)에 의해 기판 위의 이물질을 제거하는 것이다. 특히, 큰 크기의 이물질을 제거한다.
캐비테이션 세정(40)은 0.9 내지 1.3 MPa의 고압의 펌프에 의해 공급된 세정액(초순수)에서 발생하는 기포가 파열할 때 생기는 충격파를 이용하여 세정하는 방법이다.
고압의 펌프에 의해 공급된 초순수에 기체를 이용하여 기포를 발생시키고 기포를 포함하는 초순수를 기판에 분사하면 초순수 속의 기포가 기판의 표면에 충돌하면서 파열되어 충격파가 발생하게 된다. 이 충격파가 기판의 오염 물질에 충격을 가하여 세정이 이루어 진다.
습식(Wet) 세정(50)은 노즐에서 세정액(초순수)을 분사시켜 세정하는 것이다.
초음파 세정(60)은 흐르는 세정액(초순수)에 초음파를 가하여 초음파에 의해 생성된 미세 기포가 기판에 고루 분포 하면서 오염 입자를 흡입, 박리하여 세정하는 것이다.
이와 같이, 여러 단계를 거쳐 물리적 세정을 실시하는데, 이에 대하여 도 2에서 상세하게 설명한다.
화학적 세정(20) 및 물리적 세정이 끝난 다음, 최종으로 기판에 대한 건조(70)를 실시하여 후속 공정을 진행하기 적합한 상태로 만들어 준다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 물리적 세정 단계를 나타낸 도면이다.
화학적 세정(20)의 단계를 거친 기판은 컨베이어(100)를 따라 브러쉬 세정 챔버로 이동하여 브러쉬 세정(30)을 실시한다. 외부에서 초순수 및 알칼리 세정액(TMAH)을 제1 세정액 탱크(710) 및 제2 세정액 탱크(720)로 공급하고, 그 초순수 및 알칼리 세정액은 일류체 노즐(200)을 통하여 기판의 상하면에 분사되고, 브러쉬(300)가 기판의 상하면에 마찰을 일으켜 기판 상하면의 오염 물질을 제거한다.
여기서, 세정에 사용한 초순수 및 알칼리 세정액을 배출하지 않고 재사용한다. 브러쉬 세정(30)에서 제거된 오염 물질 및 브러쉬 세정(30)에서 사용한 초순수 및 알칼리 세정액은 제1 세정액 탱크(710) 및 제2 세정액 탱크(720)으로 유입된다. 제1 세정액 탱크(710) 및 제2 세정액 탱크(720)로 유입된 세정액과 오염 물질의 혼합액은 배관을 통하여 다시 브러쉬 세정(30)에 사용되는데, 이 때 배관에 설치된 필터(700)를 통하여 오염 물질을 걸러낸다. 그리고, 정기적으로 필터(700)를 교환하여 오염 물질을 배출한다.
일정 기간 동안 세정액을 순환하여 사용한 후, 브러쉬 세정 챔버에서 직접 순환된 세정액을 배출하거나, 제1 세정액 탱크(710) 및 제2 세정액 탱크(720)에서 배출한다.
브러쉬 세정(30)이 끝난 다음엔 캐비테이션 세정 챔버로 이동하여 캐비테이션 세정(40)을 실시한다.
먼저, 제3 세정액 탱크(730)의 초순수가 노즐을 통하여 기판의 상하에 분사되는 샤워에 의한 세정을 실시한다. 이 때, 일류체 노즐(200)과 이류체 노즐(400)을 같이 사용한다.
이류체 노즐(400)이란 압착 공기 등의 고속 흐름에 의하여 유발되는 기압차을 이용해서 액체를 미립화 하여 분사하는 노즐이다. 펌프를 이용하여 분사액을 직접 가압하여 분사하는 일류체 노즐(200)과 비교해서 다음과 같은 특징이 있다.
첫째, 액체의 미립화 성능이 좋다.
둘째, 입자 지름이나 유량 분포를 일정하게 유지하면서 분사 유량의 조정 범위가 크다.
셋째, 액체의 양이 동일할 때, 액체의 분사 압력이 더 크다.
이와 같이, 일류체 노즐(200)을 이류체 노즐(400)로 대체하여 사용하면 세정력이 강화된다.
일류체 노즐(200) 및 이류체 노즐(400)에 의한 샤워 작업이 끝난 다음, 캐비테이션 제트(cavitation jet)(500)를 사용하여 세정을 실시한다. 제4 세정액 탱크(740)에서 0.9 내지 1.3 MPa의 고압의 펌프에 의해 공급된 초순수에 기체를 이용하여 기포를 발생시키고 기포를 포함하는 초순수를 기판에 분사하면 초순수 속의 기포가 기판의 표면에 충돌하면서 파열되어 충격파가 발생하는데, 이 충격파를 이용하여 기판의 파티클을 제거한다.
캐비테이션 세정 챔버에는 일류체 노즐(200) 및 이류체 노즐(400)에 의한 샤워와 캐비테이션 제트(500)에 의한 세정에 사용된 초순수를 분리하는 격벽(410) 형성되어 있다.
여기서, 일류체 노즐(200) 및 이류체 노즐(400)에 의한 샤워에 사용된 초순수는 배출하고, 캐비테이션 제트(500)에 의한 세정에 사용한 초순수는 배출하지 않고 재사용한다. 캐비테이션 세정(40)에서 제거된 오염 물질 및 캐비테이션 세정(40)에서 사용된 초순수는 제3 세정액 탱크(730)로 유입된다. 제3 세정액 탱크(730)로 유입된 초순수와 오염 물질의 혼합액은 배관을 통하여 일류체 노즐(200) 및 이류체 노즐(400)에 의한 샤워에 사용되는데, 이 때 배관에 설치된 필터(700)를 통하여 오염 물질을 걸러낸다. 그리고, 정기적으로 필터(700)를 교환하여 오염 물질을 배출한다.
이어서, 습식 세정 챔버에서 습식(Wet) 세정(50)을 실시한다. 제4 세정액 탱크(740)에서 공급된 초순수가 복수 개의 일류체 노즐을 통하여 기판에 분사되어 세정을 실시한다.
여기서, 세정에 사용한 초순수를 배출하지 않고 재사용한다. 습식(Wet) 세정(50)에서 제거된 오염 물질 및 습식(Wet) 세정(50)에서 사용된 초순수는 제3 세정액 탱크(730) 및 제4 세정액 탱크(740)로 유입된다. 제4 세정액 탱크(740)로 유입된 초순수와 오염 물질의 혼합액은 배관을 통하여 다시 습식(Wet) 세정(50)에 사용되는데, 이 때 배관에 설치된 필터(700)를 통하여 오염 물질을 걸러낸다. 그리고, 정기적으로 필터(700)를 교환하여 오염 물질을 배출한다.
그 다음, 초음파 세정 챔버에서 초음파 세정(60)을 실시한다.
초음파 세정(60)에서는 제4 세정액 탱크(740)에서 공급된 초순수를 이류체 노즐(400)을 통하여 분사하고, 외부에서 초순수를 공급하여 주파수가 1MHz인 메가소닉(megasonic) 세정기(600)를 사용하는 메가소닉 세정을 실시한다. 메가소닉 세정은 메가소닉 세정기(600)를 사용하여 실시하는데, 흐르는 유체에 초음파를 가하여 초음파에 의해 생성된 기포가 기판에 고루 분포하면서 오염 물질을 제거하는 것으로 3㎛ 이하의 파티클을 제거할 수 있다.
초음파 세정(60)에서 제거된 오염 물질 및 초음파 세정(60)에 사용된 초순수 는 제4 세정액 탱크(740)로 유입된다.
여기서, 세정에 사용한 초순수를 배출하지 않고 재사용한다. 제4 세정액 탱크(740)로 유입된 초순수와 오염 물질의 혼합액은 배관을 통하여 다시 초음파 세정(60)에 사용되는데, 이 때 배관에 설치된 필터(700)를 통하여 오염 물질을 걸러낸다. 그리고, 정기적으로 필터(700)를 교환하여 오염 물질을 배출한다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 권리 범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
본 발명과 같이 이류체 노즐을 사용하면, 세정력이 강화된다.
또한, 세정액 탱크를 두 개 설치하면, 세정액을 순환시켜 사용할 수 있기 때문에 세정액의 사용량이 줄어든다.

Claims (8)

  1. 기판을 이송하는 컨베이어,
    브러쉬의 마찰과 일류체 노즐을 통한 세정액 분사를 이용하여 세정하는 브러쉬 세정 챔버,
    일류체 노즐 및 이류체 노즐을 통한 세정액 분사 및 0.9 내지 1.3 MPa의 고압 펌프에 의해 공급되는 세정액을 캐비테이션 제트를 통하여 분사함으로써 세정하는 캐비테이션 세정 챔버,
    일류체 노즐을 통하여 세정액을 분사함으로써 세정하는 습식 세정 챔버,
    일류체 노즐 및 이류체 노즐을 통한 세정액 분사 및 세정액에 초음파를 가하여 기포를 생성하고, 기포가 생성된 세정액을 분사하는 메가소닉 세정을 실시하는 초음파 세정 챔버,
    세정액 탱크,
    상기 브러쉬 세정 챔버, 상기 캐비테이션 세정 챔버, 상기 습식 세정 챔버, 및 초음파 세정 챔버 중 적어도 하나와 상기 세정액 탱크 사이에 연결되어 있는 유입 배관 및 유출 배관,
    상기 유출 배관에 배치되어 있으며, 오염 물질을 걸러내는 필터,
    세정에 사용된 세정액 및 세정에서 제거된 오염물질을 배출하는 배출 배관을 포함하고,
    상기 유입 배관은 세정에 사용된 세정액 및 세정에서 제거된 오염 물질을 상 기 세정액 탱크로 유입하고, 상기 유출 배관은 상기 세정액 탱크의 세정액을 상기 세정 챔버로 유출하는 세정 장치.
  2. 제1항에서,
    상기 세정액 탱크는 제1 탱크와 제2 탱크를 포함하고,
    상기 유입 배관은 상기 제1 탱크 및 상기 제2 탱크와 상기 브러쉬 세정 챔버 사이를 연결하는 제1 유입 배관을 포함하며,
    상기 유출 배관은 상기 제1 탱크 및 상기 제2 탱크와 상기 브러쉬 세정 챔버 사이를 연결하는 제1 유출 배관을 포함하는 세정 장치.
  3. 제1항에서,
    상기 세정액 탱크는 제3 탱크와 제4 탱크를 포함하고,
    상기 유입 배관은 상기 제3 탱크와 상기 캐비테이션 세정 챔버 사이를 연결하는 제2 유입 배관과 상기 제4 탱크와 상기 초음파 세정 챔버 사이를 연결하는 제3 유입 배관을 포함하며,
    상기 유출 배관은 상기 제3 탱크와 상기 캐비테이션 세정 챔버 사이를 연결하는 제2 유출 배관과 상기 제4 탱크와 상기 초음파 세정 챔버 사이를 연결하는 제3 유출 배관을 포함하는 세정 장치.
  4. 제1항에서,
    상기 배출 배관은 상기 브러쉬 세정 챔버에 사용된 세정액 및 상기 브러쉬 세정 챔버에서 제거된 오염 물질은 배출하는 제1 배출 배관,
    상기 케비테이션 세정 챔버에 사용된 세정액 및 상기 케비테이션 세정 챔버에서 제거된 오염 물질을 배출하는 제2 배출 배관,
    상기 습식 세정 챔버에서 사용된 세정액 및 상기 습식 세정 챔버에서 제거된 오염 물질을 배출하는 제3 배출 배관을 포함하는 세정 장치.
  5. 제1항에서,
    상기 캐비테이션 세정 챔버는 격벽에 의해 분리되는 세정 장치.
  6. 제1항에서,
    상기 세정액은 초순수인 세정 장치.
  7. 브러쉬의 마찰과 일류체 노즐을 통한 세정액 분사를 이용하여 기판의 오염 물질을 제거하는 브러쉬 세정 단계,
    일류체 노즐 및 이류체 노즐을 통한 세정액 분사 및 0.9 내지 1.3 MPa의 고압 펌프에 의해 공급되는 세정액을 캐비테이션 제트를 통하여 분사함으로써 상기 기판의 오염 물질을 제거하는 캐비테이션 세정 단계,
    일류체 노즐을 통하여 세정액을 분사함으로써 상기 기판의 오염 물질을 제거하는 습식 세정 단계,
    일류체 노즐 및 이류체 노즐을 통한 세정액 분사 및 세정액에 초음파를 가하여 기포를 생성하고, 기포가 생성된 세정액을 분사하는 메가소닉 세정을 실시함으로써 상기 기판의 오염 물질을 제거하는 초음파 세정 단계,
    상기 브러쉬 세정 단계, 상기 캐비테이션 세정 단계 및 상기 습식 세정 단계 중의 적어도 하나에서 사용된 세정액을 배출하는 단계,
    상기 브러쉬 세정 단계, 상기 캐비테이션 세정 단계, 상기 습식 세정 단계 및 상기 초음파 세정 단계 중의 적어도 하나에서 사용된 세정액을 수거하는 단계,
    상기 수거된 세정액을 소정의 필터를 통과시킴으로써 오염 물질을 저감하는 단계,
    상기 소정의 필터를 통과한 세정액을 상기 브러쉬 세정 단계, 상기 캐비테이션 세정 단계, 상기 습식 세정 단계 및 상기 초음파 세정 단계 중의 적어도 하나의 단계에서 재사용 하도록 공급하는 단계를 포함하는 세정 방법.
  8. 제7항에서,
    상기 세정액은 초순수인 세정 방법.
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