TW201323099A - 噴嘴維護裝置及使用其之塗佈處理裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明之課題在於消除處理液等化學藥品之無謂消耗，且縮短工站時間，提高生產性。該噴嘴維護裝置包括：擦拭體11，其形成為圓柱狀或圓盤狀，且於其周面上具有沿上述噴嘴前端之長度方向平行地形成的複數個擦拭部11a，利用面朝特定方向之一擦拭部夾持噴嘴前端3a，並且上述擦拭體11設為沿上述噴嘴前端之長度方向可移動；擦拭體移動機構13、14、15，其使上述擦拭體沿上述噴嘴前端之長度方向移動；以及擦拭體旋轉機構17、18，其使移動至上述噴嘴前端之側方之上述擦拭體繞軸旋轉，使其他擦拭部取代上述一擦拭部成為面朝上述特定方向之狀態。

Description

噴嘴維護裝置及使用其之塗佈處理裝置
本發明係關於一種噴嘴維護裝置及使用其之塗佈處理裝置，本發明尤其係關於一種對於長條狀之噴嘴上形成有噴出口，且自上述噴出口噴出之處理液附著之噴嘴前端，實施上述處理液之擦拭處理之噴嘴維護裝置及使用其之塗佈處理裝置。
例如，於FPD(Flat panel display，平板顯示器)之製造中，一直進行一種利用所謂之光微影(photolithography)步驟而形成電路圖案(circuit pattern)之操作。
於該光微影步驟中，於在玻璃基板等被處理基板上成膜特定之膜之後，塗佈作為處理液之光阻劑(photoresist)(以下，稱為光阻)而形成光阻膜(resist film)(感光膜)。然後，與電路圖案對應地曝光上述光阻膜，使其得到顯像處理，而形成圖案。
於此種光微影步驟中，作為於被處理基板上塗佈光阻液而形成光阻膜之方法，有自狹縫狀之噴嘴噴出口呈帶狀地噴出光阻液，並將光阻液塗佈於基板上之方法。
於使用該方法之先前之光阻塗佈裝置中，例如，如圖12所示利用噴嘴移動機構51使噴嘴52相對於載置於工作台50上之基板G相對地移動。此時，自狹縫狀之噴出口52a噴出光阻液R，藉此於基板G上形成光阻膜。
然而，對於上述噴嘴52而言，狹縫狀之噴出口52a係由 微小之間隙所形成，因此若於待機中不實施噴嘴前端之維護處理，則會因光阻液R之乾燥等而產生堵塞。
因此，先前係如圖所示，設置一種加注(priming)處理裝置54，其具有用於將附著於噴嘴前端之光阻液R均一化(稱為加注處理)之旋轉自由的加注輥(priming roller)53。
於該加注處理裝置54之加注處理中，噴嘴52利用噴嘴移動機構51移動至加注輥53之上方，並朝向利用輥旋轉控制機構55而旋轉驅動之加注輥53之表面，自噴出口52a噴出光阻液R。藉此，附著於噴嘴前端之光阻液R之狀態沿噴嘴長度方向而均一化。
又，對於上述加注處理裝置54而言，為了除去附著於加注輥53之輥面上之光阻液R，而具備可利用如圖所示之進退驅動部56而自由進退之刮刷器57、及用於將加注輥53之下部(為了溶解光阻)浸漬於清洗液58(例如稀釋液)中之清洗液58之儲留槽59等。
即，若一次加注處理結束，則會發生如下操作：使加注輥53連續旋轉，使刮刷器57抵接於輥面上而將光阻液R刮落，使加注輥53之下部浸漬於稀釋液58中，從而清洗輥面整體。
再者，關於此種加注處理裝置係公開於專利文獻1中。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2005-252045號公報
然而，對於上述加注處理而言，必須對著旋轉之加注輥53之輥面，噴出大量光阻液R，從而存在光阻液R之(無謂)消耗量過多之問題。
又，如上所述，對於加注處理後之加注輥53之清洗處理而言，必需大量儲留於儲留槽59中之清洗液58，因此存在成本升高之問題。
進而，存在加注處理及加注輥53之清洗所用之時間較長，從而工站時間變長導致生產性下降之問題。
本發明係鑒於如上所述之先前技術之問題點研究而成者，其提供一種噴嘴維護裝置及使用該噴嘴維護裝置之塗佈處理裝置，上述噴嘴維護裝置對於沿被處理基板之寬度方向延伸之長條狀之噴嘴上形成有噴出口，且自上述噴出口噴出之處理液附著之噴嘴前端，實施上述處理液之擦拭處理，可消除處理液等化學藥品之無謂消耗，且可縮短工站時間從而提高生產性。
為了解決上述課題，本發明之噴嘴維護裝置之特徵在於：對於自形成於沿被處理基板之寬度方向延伸之長條狀之噴嘴上之噴出口噴出之處理液所附著之噴嘴前端，實施上述處理液之擦拭處理；且包括：擦拭體，其形成為圓柱狀或圓盤狀，且於其周面上具有沿上述噴嘴前端之長度方向平行地形成之複數個擦拭部，利用面朝特定方向之一擦拭部夾持上述噴嘴前端，並且該擦拭體設為沿上述噴嘴前 端之長度方向可移動；擦拭體移動機構，其使上述擦拭體沿上述噴嘴前端之長度方向移動；以及擦拭體旋轉機構，其使移動至上述噴嘴前端之側方之上述擦拭體繞軸旋轉，使其他擦拭部取代上述一擦拭部成為面朝上述特定方向之狀態。
再者，較理想為，上述擦拭體形成為於圓柱狀體或圓盤狀體之周面上沿上述噴嘴前端之長度方向平行地設置有齒徹之齒輪狀，且上述擦拭部包含形成於相鄰之一對齒之間之溝槽部。
又，較理想為，上述溝槽部之底部相對於上述形成為齒輪狀之擦拭體之軸方向而傾斜。
或者，上述擦拭體亦可由於同一軸上相連而排列之複數個齒輪所構成，且上述複數個齒輪之面朝上述特定方向之各溝槽部藉由擦拭上述噴嘴前端之任一面而擦拭上述噴嘴前端之所有面。
或者，上述擦拭體亦可形成為具有可撓性之圓柱狀或圓盤狀，且上述擦拭部係由其周面所形成。
進而，較理想為，上述噴嘴維護裝置具備對擦拭上述噴嘴前端之上述擦拭部吹附清洗液之清洗機構。
藉由以此方式構成，可無需如先前般之使用加注輥進行之加注處理，從而大幅地降低處理液或清洗液之消耗量。又，可藉由擦拭體擦拭噴嘴前端而完成維護處理，且可利用擦拭體之旋轉將新的擦拭部立即用於下次維護處理中，因此可縮短工站時間，從而提高生產性。
又，為了解決上述課題，本發明之塗佈處理裝置之特徵在於：使用上述噴嘴維護裝置；且包括：工作台，其載置被處理基板；噴嘴維護裝置，其設置於上述工作台之側方；上述噴嘴，其於載置於上述工作台之被處理基板之上方，沿基板面而向特定方向移動，並且自形成於沿上述基板之寬度方向延伸之長條狀之噴嘴上的噴出口向上述基板面噴出處理液；以及噴嘴移動機構，其使上述噴嘴於上述工作台上與上述噴嘴維護裝置之間移動。
再者，上述噴嘴維護裝置亦可沿上述噴嘴之移動方向，分別配置於上述工作台之兩側側方。
藉由以此方式構成，可取得上述噴嘴維護處理相關之效果，且可縮短對被處理基板之塗佈處理之工站時間，從而提高生產性。
根據本發明，可獲得一種噴嘴維護裝置及使用該噴嘴維護裝置之塗佈處理裝置，上述噴嘴維護裝置對於沿被處理基板之寬度方向延伸之長條狀之噴嘴上形成有噴出口，且自上述噴出口噴出之處理液附著之噴嘴前端，實施上述處理液之擦拭處理，可消除處理液等化學藥品之無謂消耗，且可縮短工站時間從而提高生產性。
以下，根據圖式，對本發明之噴嘴維護裝置及使用該噴嘴維護裝置之塗佈處理裝置之一實施形態進行說明。再者，對於該實施形態，以應用於如下裝置上之情形為例進 行說明，即，將被處理基板設定為玻璃基板並自噴嘴向該玻璃基板噴出處理液即光阻液而形成光阻塗佈膜之塗佈處理裝置、及調整附著有光阻液之上述噴嘴之噴出口之狀態的噴嘴維護裝置。
圖1係表示本發明之塗佈處理裝置及噴嘴維護裝置之概略構成之立體圖。圖2係圖1之塗佈處理裝置之局部放大圖，表示有塗佈處理裝置所具備之噴嘴維護裝置之主要部分。
圖1所示之塗佈處理裝置1具備可載置玻璃基板G之工作台2、可於載置於該工作台2上之玻璃基板G之上進行掃描地設置之噴嘴3、及調整噴嘴3之噴出口之狀態之噴嘴維護裝置10。
上述噴嘴3之噴出口設置於向下方突起並沿基板寬度方向形成地較長之噴嘴前端3a，且於基板寬度方向上形成為細長之狹縫狀。噴嘴3於塗佈處理時，使噴嘴前端3a(噴出口)與工作台2上之玻璃基板G之間維持成特定距離，利用噴嘴移動機構5於玻璃基板G上自其一端到另一端進行掃描，並且將自處理液供給機構6供給之光阻液噴至基板G上。
進而，每當對各基板G之塗佈處理結束，噴嘴3均會利用噴嘴移動機構5移動至噴嘴維護裝置10之上方(設定為噴嘴待機位置)，從而使噴嘴前端3a(噴出口)之維護處理得以實施。
噴嘴維護裝置10具有刮刷墊11(擦拭體)，該刮刷墊11(擦 拭體)對配置於上方(噴嘴待機位置)之噴嘴3之噴嘴前端3a，沿基板寬度方向自其一端到另一端進行掃描。利用該刮刷墊11可擦拭掉附著於噴嘴前端3a之光阻液(將該處理稱為維護處理)。
上述刮刷墊11如圖3(a)所示，為於圓柱狀體或圓盤狀體之周面上設置有複數個齒12之齒輪狀之形狀，且沿噴嘴前端3a之長度方向平行地形成有齒徹(複數個溝槽部11a)。
就該刮刷墊11而言，於在以面朝特定方向之方式而配置之一溝槽部11a(擦拭部)中卡嵌有噴嘴前端3a，且噴嘴前端3a夾持於對向之一對齒12之側面12a之狀態下，刮刷墊11於基板寬度方向上移動。藉此，可擦拭掉附著於噴嘴前端3a之光阻液。再者，刮刷墊11之材質並無特別限定，為了易於擦拭掉光阻液，較佳為由硬質橡膠等合成樹脂所形成。
進而，於配置在噴嘴待機位置之噴嘴3之下方，設置有清洗液槽25，沿基板寬度方向延伸設定以便收納噴嘴前端3a，並且可儲留清洗液(例如光阻液之溶劑即稀釋液)。利用該清洗液槽25，可使噴嘴前端3a暴露於光阻液之溶劑環境下，防止噴出口之乾燥，並且使利用刮刷墊11而擦取之光阻液落在槽內，而溶解於清洗液中。
進而，上述刮刷墊11除了用於進行噴嘴噴出口3a之維護處理之動作期間以外，均如圖1、圖2所示配置於噴嘴側方之待機位置。刮刷墊11旋轉自由地支撐於沿噴嘴前後方向延伸之掃描臂13之前端，掃描臂13之後端連接於滑件14 上。進而，滑件14可沿於基板寬度方向上延伸之軌道15，於基板寬度方向上往返移動地設置於工作台2之後方。即，支撐於掃描臂13上之刮刷墊11可利用滑件14沿軌道15之移動而自待機位置沿基板寬度方向往返移動。再者，由上述掃描臂13、滑件14、軌道15構成擦拭體移動機構。
進而，若刮刷墊11終止噴嘴3之維護處理而返回到待機位置，則其齒徹面之一部分形成為卡合於同樣地形成為齒輪狀之旋轉齒輪17上之狀態。旋轉齒輪17由伺服馬達18進行旋轉控制，例如，藉由旋轉齒輪17僅旋轉特定之旋轉角度，而將刮刷墊11之齒徹面僅以上述特定之旋轉角度沿特定方向送出(旋轉)。藉此於刮刷墊11中，由於噴嘴前端3a之擦拭而附著有光阻液之一溝槽部11a移動至特定之位置(例如刮刷墊11之側部)。進而，移動至面朝特定方向之位置(例如刮刷墊11之上部)，以便使未附著光阻液之其他溝槽部11a可用於下次之維護處理。再者，由旋轉齒輪17、伺服馬達18構成擦拭體旋轉機構。
進而，於待機位置之刮刷墊11及旋轉齒輪17之側方，設置有清洗噴嘴20，利用維護處理自上述清洗噴嘴20對附著有光阻液之刮刷墊11之溝槽部11a吹附清洗液。稀釋液等光阻液之溶劑自清洗液供給源21供給至清洗噴嘴20中。藉此，附著有光阻液之刮刷墊11之溝槽部11a得到清洗。再者，由清洗噴嘴20、清洗液供給源21構成清洗機構。
其次，使用圖4至圖7，對以此方式構成之塗佈處理裝置1及噴嘴維護裝置10之一系列動作進行說明。再者，圖 4(a)、圖5(a)、圖6(a)、圖7(a)係模式性地表示塗佈處理裝置1及噴嘴維護裝置10之狀態變遷之側視圖。進而，圖4(b)、圖5(b)、圖6(b)、圖7(b)係分別對應於圖4(a)、圖5(a)、圖6(a)、圖7(a)之狀態之模式性之前視圖。
首先，若如圖4(a)、圖4(b)所示於工作台2上載置基板G，則噴嘴3利用噴嘴移動機構5移動至工作台2之一端側，如圖5(a)、圖5(b)所示一面噴出光阻液R一面於基板G上進行掃描。藉此，於基板G上形成光阻液R之塗佈膜。
若塗佈處理結束，則噴嘴3如圖6(a)、圖6(b)所示移動至噴嘴待機位置，藉由於刮刷墊11之一溝槽部11a夾持噴嘴前端3a之狀態下沿基板寬度方向進行掃描而擦拭掉噴嘴前端3a之光阻液R(進行噴嘴3之維護處理)。
若噴嘴3之維護處理結束，則如圖7(a)、圖7(b)所示刮刷墊11以卡合於旋轉齒輪17之下部之方式返回到待機位置，且利用旋轉齒輪17之旋轉僅旋轉特定角度。藉此，附著有光阻液R之溝槽部11a移動至例如刮刷墊11之側部，自清洗噴嘴20對該溝槽部11a吹附清洗液，而進行刮刷墊11之清洗。進而，未附著光阻液R之其他溝槽部11a移動至刮刷墊11之上部以便用於下次之維護處理中。
進而，於自工作台2搬出形成有光阻膜之基板G並搬入新的基板G從而結束對該基板G之塗佈處理後，刮刷墊11利用未附著光阻液之溝槽部11a進行噴嘴前端3a之擦拭處理。
如上所述，根據本發明之實施形態，藉由以齒輪狀之刮 刷墊11夾持具有沿基板寬度方向延伸之狹縫狀之噴出口之噴嘴前端3a並且沿噴出口之長度方向對該刮刷墊11進行掃描，而除去附著於噴嘴前端3a之光阻液。
利用該構成，可無需如先前般之使用起動輥(priming roller)進行之起動處理，從而大幅地降低光阻液或清洗液等化學藥品消耗量。進而，可藉由刮刷墊11擦拭噴嘴前端3a而完成維護處理，且可利用刮刷墊11之旋轉將新的擦拭部(溝槽部11a)立即用於下次之維護處理中，因此可縮短工站時間，從而提高生產性。
再者，於上述實施形態中，如圖3所示刮刷墊11之溝槽部11a設定為其寬度方向之深度尺寸一定，但並不限定於此。
例如，如圖8(a)之立體圖、圖8(b)之剖視圖所示，亦可以使溝槽部11a之底部相對於軸方向具有傾斜，且溝槽部11a之深度於刮刷墊11之軸方向上變化之方式形成。藉由以此方式形成，可於針對噴嘴前端3a之擦拭處理之後，易於沖掉積留於溝槽部11a之光阻液。
或者，如圖9(a)之立體圖所示，亦可形成為於刮刷墊11之周面上未設置有齒12之圓柱形狀或圓盤形狀。於該情形時，只要如圖9(b)所示藉由相對於刮刷墊11之周面11b(擦拭部)按壓噴嘴前端3a而利用面11b夾持噴嘴前端3a即可。
進而，於上述實施形態中，設定成利用1個刮刷墊11擦拭噴嘴前端3a之構成，但亦可由複數個刮刷墊11構成1個擦拭體。
例如，於圖10之立體圖中，表示有由3個刮刷墊11A、11B、11C構成1個擦拭體之例子。
於該情形時，當擦拭噴嘴前端3a時，例如，如圖11(a)所示利用刮刷墊11A擦拭噴嘴前端3a之一側面，如圖11(b)所示利用刮刷墊11B擦拭噴嘴前端3a之另一側面。其次，最後如圖11(c)所示利用刮刷墊11C擦拭噴嘴前端3a之前端面。藉由以此方式構成，可更有效地擦拭掉附著於噴嘴前端3a之光阻液。
進而，於上述實施形態中，設定成使1個噴嘴3於工作台2之一側方待機且配備有1個噴嘴維護裝置10之構成，但亦可於另一側方亦同樣地配備噴嘴維護裝置10。
於該情形時，可於自工作台2之一端朝向另一端噴出光阻液之後，利用上述另一端側之側方之噴嘴維護裝置10進行噴嘴前端3a之維護處理，其次，當自工作台2之上述另一端側返回到一端側時，進行對下個基板G之塗佈處理。即，可縮短對複數個基板G連續地進行塗佈處理時之工站時間，從而提高生產性。
進而，於上述實施形態中，以於玻璃基板G上塗佈光阻液作為處理液之情形為例進行了說明，但對於本發明而言，並不限定於該形態。即，被處理基板亦可為玻璃基板G以外之基板，且處理液亦可為光阻液以外之處理液。
又，於上述實施形態中，使用具有狹縫狀之噴出口之噴嘴3進行了說明，但本發明並不限定於具有狹縫狀之噴出口之噴嘴3。例如，對於如下所述之噴嘴亦可應用本發 明，該噴嘴為沿玻璃板G之寬度方向延伸之長條狀之噴嘴，噴出口並非狹縫狀，作為噴出口複數個微細孔以特定之間隔排列設置成一行、或多行。
1‧‧‧塗佈處理裝置
2‧‧‧工作台
3‧‧‧噴嘴
3a‧‧‧噴嘴前端
5‧‧‧噴嘴移動機構
6‧‧‧處理液供給源
10‧‧‧噴嘴維護裝置
11‧‧‧刮刷墊(擦拭體)
11a‧‧‧溝槽部(擦拭部)
11b‧‧‧周面(擦拭部)
11A‧‧‧刮刷墊
11B‧‧‧刮刷墊
11C‧‧‧刮刷墊
12‧‧‧齒
12a‧‧‧齒12之側面
13‧‧‧掃描臂(擦拭體移動機構)
14‧‧‧滑件(擦拭體移動機構)
15‧‧‧軌道(擦拭體移動機構)
17‧‧‧旋轉齒輪(擦拭體旋轉機構)
18‧‧‧伺服馬達(擦拭體旋轉機構)
20‧‧‧清洗噴嘴(清洗機構)
21‧‧‧清洗液供給源(清洗機構)
25‧‧‧清洗液槽
50‧‧‧工作台
51‧‧‧噴嘴移動機構
52‧‧‧噴嘴
52a‧‧‧噴出口
53‧‧‧加注輥
54‧‧‧加注處理裝置
55‧‧‧輥旋轉控制機構
56‧‧‧進退驅動部
57‧‧‧自由進退之刮刷器
58‧‧‧清洗液
59‧‧‧儲留槽
G‧‧‧玻璃基板(被處理基板)
R‧‧‧光阻液(處理液)
圖1係表示本發明之塗佈處理裝置及噴嘴維護裝置之概略構成之立體圖。
圖2係圖1之塗佈處理裝置之局部放大圖，且係表示塗佈處理裝置所具備之噴嘴維護裝置之主要部分之立體圖。
圖3(a)係噴嘴維護裝置所具備之刮刷墊之立體圖，圖3(b)係表示利用刮刷墊擦拭噴嘴前端之狀態之刮刷墊及噴嘴前端之局部放大圖。
圖4(a)係模式性地表示塗佈處理裝置及噴嘴維護裝置之狀態變遷之側視圖，圖4(b)係對應於圖4(a)之狀態之模式性之前視圖。
圖5(a)係模式性地表示自圖4之狀態開始之塗佈處理裝置及噴嘴維護裝置之狀態變遷之側視圖，圖5(b)係對應於圖5(a)之狀態之模式性之前視圖。
圖6(a)係模式性地表示自圖5之狀態開始之塗佈處理裝置及噴嘴維護裝置之狀態變遷之側視圖，圖6(b)係對應於圖6(a)之狀態之模式性之前視圖。
圖7(a)係模式性地表示自圖6之狀態開始之塗佈處理裝置及噴嘴維護裝置之狀態變遷之側視圖，圖7(b)係對應於圖7(a)之狀態之模式性之前視圖。
圖8(a)係表示擦拭體之另一形態之立體圖，圖8(b)係其 局部放大剖視圖。
圖9(a)係表示擦拭體之另一形態之立體圖，圖9(b)係表示利用刮刷墊擦拭噴嘴前端之狀態之刮刷墊及噴嘴前端之局部放大圖。
圖10係表示擦拭體之另一形態之立體圖。
圖11(a)~(c)係表示利用圖10之擦拭體擦拭噴嘴前端之狀態之刮刷墊及噴嘴前端之局部放大圖。
圖12係用於說明先前之光阻塗佈裝置中之噴嘴之加注處理之模式性之側視圖。
1‧‧‧塗佈處理裝置
2‧‧‧工作台
3‧‧‧噴嘴
3a‧‧‧噴嘴前端
5‧‧‧噴嘴移動機構
6‧‧‧處理液供給源
10‧‧‧噴嘴維護裝置
11‧‧‧刮刷墊(擦拭體)
13‧‧‧掃描臂(擦拭體移動機構)
14‧‧‧滑件(擦拭體移動機構)
15‧‧‧軌道(擦拭體移動機構)
17‧‧‧旋轉齒輪(擦拭體旋轉機構)
18‧‧‧伺服馬達(擦拭體旋轉機構)
20‧‧‧清洗噴嘴(清洗機構)
21‧‧‧清洗液供給源(清洗機構)
25‧‧‧清洗液槽
G‧‧‧玻璃基板(被處理基板)

Claims (9)

  1. 一種噴嘴維護裝置，其特徵在於：其係對自形成於沿被處理基板之寬度方向延伸之長條狀之噴嘴上之噴出口噴出之處理液所附著之噴嘴前端，實施上述處理液之擦拭處理者；且包括：擦拭體，其形成為圓柱狀或圓盤狀，於其周面上具有沿上述噴嘴前端之長度方向平行地形成之複數個擦拭部，利用面朝特定方向之一擦拭部夾持上述噴嘴前端，並且上述擦拭體設為沿上述噴嘴前端之長度方向可移動；擦拭體移動機構，其使上述擦拭體沿上述噴嘴前端之長度方向移動；以及擦拭體旋轉機構，其使移動至上述噴嘴前端之側方之上述擦拭體繞軸旋轉，使其他擦拭部取代上述一擦拭部成為面朝上述特定方向之狀態。
  2. 如請求項1之噴嘴維護裝置，其中上述擦拭體係形成為於圓柱狀體或圓盤狀體之周面上沿上述噴嘴前端之長度方向平行地設置有齒徹之齒輪狀；上述擦拭部包含形成於相鄰之一對齒之間之溝槽部。
  3. 如請求項2之噴嘴維護裝置，其中上述溝槽部之底部相對於上述形成為齒輪狀之擦拭體之軸方向而傾斜。
  4. 如請求項2之噴嘴維護裝置，其中 上述擦拭體係由於同一軸上相連而排列之複數個齒輪所構成；上述複數個齒輪之面朝上述特定方向之各溝槽部藉由擦拭上述噴嘴前端之任一面，而擦拭上述噴嘴前端之所有面。
  5. 如請求項3之噴嘴維護裝置，其中上述擦拭體係由於同一軸上相連而排列之複數個齒輪所構成；上述複數個齒輪之面朝上述特定方向之各溝槽部藉由擦拭上述噴嘴前端之任一面，而擦拭上述噴嘴前端之所有面。
  6. 如請求項1之噴嘴維護裝置，其中上述擦拭體形成為具有可撓性之圓柱狀；上述擦拭部係由其周面所形成。
  7. 如請求項1至6中任一項之噴嘴維護裝置，其中具備清洗機構，該清洗機構對擦拭上述噴嘴前端之上述擦拭部吹附清洗液。
  8. 一種塗佈處理裝置，其特徵在於：其係使用如請求項1至7中任一項之噴嘴維護裝置者；且包括：工作台，其載置被處理基板；噴嘴維護裝置，其設置於上述工作台之側方；上述噴嘴，其於載置於上述工作台之被處理基板之上方，沿基板面而向特定方向移動，並且自形成於沿上述基板之寬度方向延伸之長條狀之噴嘴上之噴出口向上述 基板面噴出處理液；以及噴嘴移動機構，其使上述噴嘴於上述工作台上與上述噴嘴維護裝置之間移動。
  9. 如請求項8之塗佈處理裝置，其中上述噴嘴維護裝置係沿上述噴嘴之移動方向，分別配置於上述工作台之兩側側方。
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