JP2006272579A - 液体吐出ヘッドの吐出面清掃装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 ワイプ部材の汚れ防止効果を高めることで、吐出面からのインクの除去効果を向上させることができる液体吐出ヘッドの吐出面清掃装置を提供する。
【解決手段】 液体吐出ヘッドの吐出面清掃装置１は、ワイプ部材１６、洗浄液吐出ポート５、吸収部材６Ａ，６Ｂ等を備える。ワイプ部材１６は、吐出面清掃処理時に、インクを吐出する液体吐出ヘッド４の吐出面９に接触しながら移動することで吐出面９を清掃する。洗浄液吐出ポート５は、吐出面９を清掃した後のワイプ部材１６に洗浄液を直接塗布してワイプ部材１６に付着したインクを洗い流す。吸収部材６Ａ，６Ｂは、ワイプ部材１６との接触時にワイプ部材１６に付着するインク及び洗浄液を吸収する。
【選択図】 図１

Description

この発明は、インク（画像形成用のインクの他に、半導体及び液晶パネル等の製造用の液体を含む。）を吐出する吐出面を清掃するワイプ部材を備えた液体吐出ヘッドの吐出面清掃装置に関する。

液体吐出ヘッドを備えたプリンタ等の液体吐出装置では、被吐出物へのインクの吐出を繰り返していくにつれて、インクを吐出する吐出面がインクのしぶき等によって汚染されてくる。吐出面が汚染されると、吐出したインクが汚染物に引っ張られ、インクが意図した位置に塗布されない吐出ミスが発生する。このため、定期的に吐出面を清掃する必要がある。

吐出面を清掃する手段として一般的に、ワイプ部材を吐出面に接触させながら移動させることで吐出面を清掃する技術が知られている。しかし、ワイプ部材によって吐出面を繰り返し清掃することで吐出面から除去したインクがワイプ部材に付着し、ワイプ部材自身が汚染される。ワイプ部材が汚染されると、ワイプ部材による吐出面の清掃能力が低下する。このため、ワイプ部材の清掃を行う必要がある。

従来からワイプ部材を清掃する技術として、主として以下の４つの技術が知られている。第１の技術は、ワイプ部材を吸収部材に当接させて、ワイプ部材に付着したインクを吸収する技術である。

第２の技術は、ワイプ部材の直線往復動方向に吐出面の清掃後のワイプ部材が摺接する吸収部材を配置することで、ワイプ部材に付着したインクを除去する技術である（例えば、特許文献１参照。）。

第３の技術は、洗浄液を使用してワイプ部材を洗浄する技術であり（例えば、特許文献２参照。）、例えば、ワイプ部材を回動可能に形成して、ワイプ部材清掃時にワイプ部材を吐出面清掃時とは反対方向に回動させることで、洗浄液を貯蔵した洗浄槽にワイプ部材を漬けて洗浄する技術が知られている。

第４の技術は、ワイプ部材としてインクを吸収可能な部材を用い、ワイプ部材を吐出面に接触させることで吐出面に付着したインクをワイプ部材によって吸収する技術である。
特許第３２５３７１３号公報 特開２００４−２４３６６３公報

しかし、第１の技術は、ワイプ部材と吸収部材とを当接させるだけなので、吸収部材へのインクの吸収効率が悪く、ワイプ部材からのインクの除去効果が低いという問題がある。

第２の技術では、第１の技術よりワイプ部材に付着したインクのワイプ部材からの除去効果は上がると思われるが、ワイプ部材と吸収部材との摩擦によってワイプ部材が磨耗する。ワイプ部材が磨耗すると、吐出面に付着したインクの拭き残りが発生するので、吐出面からのインクの除去効果が低下するという問題が発生する。また、吸収部材に吸収したインクは、吸収部材に保持したままでは吸収部材の吸収力が低下し、乾燥させた場合はインクに含まれる顔料等の成分が吸収部材に残留するので、ワイプ部材の清掃を繰り返していくと吸収部材に顔料等の成分が堆積し、ワイプ部材の清掃を充分に行えなくなるという問題が発生する。

第３の技術では、洗浄槽を設ける必要があることに加えて、洗浄槽内の洗浄液を定期的に交換する必要があるので、構造が複雑化するという問題がある。

第４の技術では、ワイプ部材としてインクを吸収可能な部材を使用するので、ワイプ部材がインクを吸収するとワイプ部材が多少なりとも膨張し、吐出面に対する接触圧が変化するので、吐出面からのインクの除去効果が変化するという問題がある。また、ワイプ部材として膨張率が低い材料を用いた場合、膨張率が低い材料は一般的に高硬度であるので、吐出面との接触時に吐出面を傷付けるという問題がある。

この発明の目的は、ワイプ部材の汚れ防止効果を高めることで、吐出面からのインクの除去効果を向上させることができる液体吐出ヘッドの吐出面清掃装置を提供することにある。

この発明の液体吐出ヘッドの吐出面清掃装置は、上述の課題を解決するために以下のように構成される。

（１）インクを吐出する液体吐出ヘッドの吐出面に接触しながら前記吐出面に対して相対的に移動することで前記吐出面を清掃するワイプ部材と、前記ワイプ部材に洗浄液を直接塗布する洗浄液吐出手段と、前記ワイプ部材に付着するインク及び洗浄液を吸収する吸収部材と、を備えることを特徴とする。

この構成においては、液体吐出ヘッドの吐出面がワイプ部材によって清掃される。また、ワイプ部材に洗浄液が直接塗布されることで、ワイプ部材に付着したインクの多くが洗い流された後、ワイプ部材に付着したインク及び洗浄液が吸収部材に吸収される。

（２）前記ワイプ部材は、前記吐出面に対して平行に相対的に直線往復動し、前記洗浄液吐出手段は、前記ワイプ部材の直線往復動の経路上で前記ワイプ部材に洗浄液を塗布することを特徴とする。

この構成においては、吐出面とワイプ部材とワイプ部材に洗浄液を塗布する位置とが単一の直線往復動経路上に位置するので、ワイプ部材と吐出面とを相対的に移動させるための移動機構を、ワイプ部材に洗浄液を塗布するための移動機構としても使用できる。

（３）前記吸収部材に吸収されたインク及び洗浄液を吸引する吸引手段を、さらに備えることを特徴とする。

この構成においては、ワイプ部材の吸収部材への接触時に吸引部材が吸引することで、ワイプ部材からのインク及び洗浄液の除去効果が向上する。また、吸収部材からインク及び洗浄液を吸引することで、ワイプ部材からのインク及び洗浄液の吸収を繰り返した場合でも、吸収部材にインク及び洗浄液が溜まることがなく、吸収部材の吸収能力が低下しない。

（４）インクを吐出する液体吐出ヘッドの吐出面に接触しながら前記吐出面に対して相対的に移動することで前記吐出面を清掃するワイプ部材と、前記ワイプ部材との接触時に前記ワイプ部材に付着するインクを含む液体を吸収する吸収部材と、前記ワイプ部材に前記吸収部材を介して洗浄液を塗布する洗浄液吐出手段と、前記吸収部材に吸収されたインクを含む液体を吸引する吸引手段と、を備えることを特徴とする。

この構成においては、吐出面に付着したインクはワイプ部材によって除去される。ワイプ部材は、吐出面の清掃後に吸収部材に接触し、吸収部材を介して洗浄液が塗布される。吐出面から除去しワイプ部材に付着したインクは、洗浄液で洗浄されるとともに吸収部材に吸収される。吸収部材に吸収されたインク及び洗浄液は、吸引手段によって吸引される。

（５）前記洗浄液吐出手段は、前記ワイプ部材と前記吸収部材との間に前記ワイプ部材に付着するインクを含む液体が流れ落ちる間隙がある状態で前記ワイプ部材に洗浄液を塗布することを特徴とする。

この構成においては、ワイプ部材に付着したインクは、ワイプ部材に塗布された洗浄液とともに、ワイプ部材と吸収部材との間隙から流れ落ちる。

（６）前記ワイプ部材は、前記吐出面に対して平行に相対的に直線往復動し、前記吸収部材は、前記ワイプ部材の直線往復動の経路の両端にそれぞれ配置されることを特徴とする。

この構成においては、吸収部材がワイプ部材の表裏両面に接触して、ワイプ部材の両面からインクが除去される。

（７）前記吸収部材は、柔軟性を有する多孔質体からなることを特徴とする。

この構成においては、吸収部材が柔軟性を有するので、ワイプ部材との接触時に、ワイプ部材が損傷しない。

（８）前記ワイプ部材は、前記吐出面に接触する先端部と所定位置に固定された基端部とを有し、前記吸収部材は、前記ワイプ部材との接触時に、前記ワイプ部材の前記基端部より前記先端部に先に接触する傾斜面又は曲面を有することを特徴とする。

この構成においては、吸収部材とワイプ部材との接触時に、吸収部材の基端部との接触圧より先端部との接触圧の方が強くなる。

（９）前記洗浄液吐出手段が前記ワイプ部材に洗浄液を塗布してからの時間の経過を計測するタイマと、前記タイマの計測結果に基づいて前記洗浄液吐出手段が前記ワイプ部材に洗浄液を塗布してから所定時間が経過したと判定したとき、前記洗浄液吐出手段に前記ワイプ部材に対して洗浄液を塗布させる制御手段と、をさらに備えることを特徴とする。

この構成においては、吐出面からのインクの除去動作の有無にかかわらず、ワイプ部材に洗浄液を塗布してから所定時間が経過したときに、ワイプ部材に洗浄液が塗布され、ワイプ部材に塗布された洗浄液が吸収部材に吸収される。所定時間をインクが固化しない時間に設定することで、ワイプ部材に付着したインク及び吸収部材に吸収されたインクの固化が防止される。

（１０）前記ワイプ部材が前記吐出面を清掃する毎に、前記洗浄液吐出手段が前記ワイプ部材に洗浄液を塗布し、前記吸収部材が前記ワイプ部材に付着するインク及び洗浄液を吸収することを特徴とする。

この構成においては、ワイプ部材にインクが付着する毎にワイプ部材からインクが除去される。

この発明によれば、以下の効果を奏することができる。

（１）ワイプ部材に洗浄液を直接塗布することでワイプ部材に付着したインクを洗い流すので、ワイプ部材の汚れ防止効果を高めることができる。これによって、液体吐出ヘッドの吐出面からのインクの除去効果を向上させることができる。したがって、液体吐出ヘッドのインク吐出精度を向上させることができる。

（２）ワイプ部材と吐出面とを相対的に移動させるための移動機構を、ワイプ部材に洗浄液を塗布するための移動機構としても使用できるので、装置の小型化及び低コスト化を図ることができる。

（３）吸収部材に吸収されたインク及び洗浄液を吸引する吸引手段を設けたので、ワイプ部材の吸収部材への接触時に吸引手段が吸引することでワイプ部材からインク及び洗浄液を効率よく除去することができる。また、吸収部材の吸収能力の低下を防止することができるので、ワイプ部材の汚れ防止効果を高めることができる。また、吸収部材の交換頻度を減少させることができる。

（４）ワイプ部材に洗浄液を塗布するのでワイプ部材からのインクの除去効果を向上させることができる。また、吸収部材に吸収されたインク及び洗浄液を吸引手段で吸引するので、ワイプ部材からのインク及び洗浄液の吸収を繰り返した場合でも、吸収部材にインク及び洗浄液が溜まることがなく、吸収部材の吸収能力の低下を防止することができる。このため、ワイプ部材の汚れ防止効果を高めることができる。したがって、液体吐出ヘッドの吐出面からのインクの除去効果を向上させることができ、液体吐出ヘッドのインク吐出精度を向上させることができる。また、吸収部材の交換頻度を減少させることができる。

（５）ワイプ部材に付着したインクが、ワイプ部材に塗布した洗浄液とともにワイプ部材と吸収部材との間隙から流れ落ちるので、ワイプ部材からのインクの除去効果をいっそう向上させることができる。

（６）ワイプ部材の両面からインクを除去することができるので、ワイプ部材の汚れ防止効果をいっそう高めることができる。

（７）吸収部材として柔軟性を有する多孔質体を用いたので、ワイプ部材との接触時に、ワイプ部材を損傷することなくワイプ部材からインクを除去することができる。

（８）吸収部材の基端部との接触圧より先端部との接触圧の方が強くなるようにしたことで、吐出面から除去したインクが多く付着している先端部からのインクの除去効果を高めることができる。

（９）ワイプ部材に定期的に洗浄液を塗布することで、ワイプ部材に付着したインク及び吸収部材に吸収されたインクの固化を防止することができる。このため、ワイプ部材に付着したインクの固化を防止することで、液体吐出ヘッドの吐出面の損傷を防止することができる。また、吸収部材に吸収されたインクの固化を防止することで、吸収部材の吸収能力の低下を防止でき、ワイプ部材の汚れ防止効果をいっそう高めることができる。

（１０）ワイプ部材にインクが付着する毎にワイプ部材からインクを除去することで、ワイプ部材の汚れ防止効果をいっそう高めることができる。

以下に、この発明の実施形態について図面に基づいて説明する。図１は、この発明の実施形態に係る液体吐出ヘッド４の吐出面清掃装置１の概略の構成を示す正面図である。図２は、吐出面清掃装置１の概略の構成を示す平面図である。図３は、吐出面清掃装置１の概略の構成を示すブロック図である。なお、この明細書においてインクは、画像形成用のインクの他に、半導体及び液晶パネル等の製造用の液体を含む。

吐出面清掃装置１は、ワイプ部材１６、液体受け皿２、ワイプ部材移動機構３、洗浄液塗布ポート（洗浄液吐出手段）５、吸収部材６Ａ，６Ｂ、吸引ポート（吸引手段）７Ａ，７Ｂ、吸引ポート８、及び、制御部（制御手段）５０などを備えている。

インクを吐出する吐出面９を先端に有する液体吐出ヘッド４は、ワイプ部材１６が吐出面９を清掃する吐出面清掃処理を実施する際、図示していないヘッド移動機構によって図１及び図２に示すように所定の吐出面清掃位置まで移動する。

ワイプ部材１６の基端部１６Ｂは液体受け皿２に支持され、先端部１６Ａは吐出面清掃位置に配置された液体吐出ヘッド４の吐出面９と接触し得る高さに配置されている。そして、液体受け皿２がワイプ部材移動機構３によって吐出面９に対して平行方向（図１において左右方向）に直線往復動することで、ワイプ部材１６も吐出面９に対して平行方向に直線往復動する。

ワイプ部材移動機構３は例えば、液体受け皿２の下面に形成されたラック、ラックに噛み合うピニオン、及び、ピニオンを回転させるモータ５１などを備えている。

ワイプ部材１６は、約１ｍｍの厚さと、吐出面９に設けられている液体吐出ノズル列１３の長さと同等以上の幅と、を有する薄板状に形成されている。また、ワイプ部材１６は、ゴム等の材料で形成され、吐出面９に当接する際に撓みながら所定の圧力で接触する。

洗浄液塗布ポート５は、ワイプ部材１６の直線往復動の経路上で、ワイプ部材１６に洗浄液を直接塗布する。洗浄液塗布ポート５は、電磁バルブ５３を介して洗浄液を貯蔵した洗浄液タンクに連通しており、洗浄液タンクを加圧器５２によって加圧し、電磁バルブ５３をＯＮする（開く）ことで洗浄液を塗布する。

吸収部材６Ａ，６Ｂは、柔軟性を有する多孔質樹脂で形成され、ワイプ部材１６の直線往復動の経路の両端にそれぞれ配置されている。吸収部材６Ａ，６Ｂは、ワイプ部材１６を洗浄するワイプ部材洗浄処理が実施された際に、ワイプ部材１６に付着したインク及び洗浄液を吸収する。

吸引ポート７Ａ，７Ｂの先端は、吸収部材６Ａ，６Ｂのワイプ部材１６との当接面の反対方向から吸収部材６Ａ，６Ｂ内に埋め込まれ、吸引ポート７Ａ，７Ｂは、吸収部材６Ａ，６Ｂに吸収されたインク等の液体を吸引する。吸引ポート７Ａ，７Ｂは、電磁バルブ５６を介して廃液タンクに連通しており、廃液タンクを減圧器５５によって負圧に設定し、電磁バルブ５６をＯＮする（開く）ことで液体を吸引する。

吸収部材６Ａ，６Ｂは、支持部材１０Ａ，１０Ｂに支持されている。支持部材１０Ａ，１０Ｂは固定部材１１Ａ，１１Ｂに支持され、支持部材１０Ａ，１０Ｂと固定部材１１Ａ，１１Ｂとで門型状を呈している。このため、吸収部材６Ａ，６Ｂから液体が垂れ落ちた場合でもその液体は液体受け皿２で回収される。液体受け皿２は、ワイプ部材移動機構３によって左右方向に移動した場合でも常に吸収部材６Ａ，６Ｂの直下に一部が存在するような大きさに形成されている。このようにすることで、インク等の液体が垂れ落ちることによる装置汚染が防止されている。なお、吸収部材６Ａ，６Ｂの支持部材１０Ａ，１０Ｂによる支持部分は、吸収部材６Ａ，６Ｂが吸収した液体が伝わらないように上部に配置されることが望ましい。

液体受け皿２の吸引ポート８は、先端を液体受け皿２の底面に開口している。吸引ポート８は、電磁バルブ５７を介して上述の廃液タンクに連通しており、廃液タンクを減圧器５５によって負圧に設定し、電磁バルブ５７をＯＮする（開く）ことでインク等の液体を吸引する。液体受け皿２の底面は、液体が吸引ポート８に集まるように、吸引ポート８に向けて若干傾斜している。

また、制御部５０には、モータ５１、加圧器５２、電磁バルブ５３、減圧器５５、電磁バルブ５６，５７の他に、時間の経過を計測するタイマ５４が接続されている。制御部５０は、モータ５１、加圧器５２、電磁バルブ５３、減圧器５５及び電磁バルブ５６，５７等を統括的に制御する。

図４は、吐出面清掃装置１における吐出面清掃処理についての説明図であり、図５及び図６は、吐出面清掃装置１における及びワイプ部材洗浄処理についての説明図である。この実施形態では、吐出面清掃装置１は、吐出面清掃処理を実施する毎にワイプ部材洗浄処理を実施する。

図４（Ａ）に示すように、吐出面清掃処理の実施前に、制御部５０は、液体吐出ヘッド４を吐出面清掃位置に配置し、ワイプ部材１６を吐出面９に対して洗浄液塗布ポート５と反対側の吐出面清掃開始位置に配置する。

そして、図４（Ｂ）に示すように、制御部５０がワイプ部材１６をワイプ部材移動機構３によって吐出面９に対して平行であって図４において左方向に移動させることで、ワイプ部材１６が吐出面９に撓んだ状態で接触しながら移動する。これによって、吐出面９に付着したインクがワイプ部材１６によって払拭され、吐出面９が清掃される。

ここで、吐出面清掃処理の前に、吐出面９とワイプ部材１６との摩擦抵抗を低減させるために、液体吐出ノズル列１３から強制的にインクを流出させることで吐出面９を濡らしておくことが望ましい。この実施形態では、液体吐出ヘッド４に連通しているインク供給口を加圧することで、液体吐出ノズル列１３から強制的にインクを流出させている。なお、吐出面９を負圧にしてインクを吸引することによっても、液体吐出ノズル列１３から強制的にインクを流出させることができる。

図５（Ａ）に示すように、制御部５０は、吐出面９を清掃した後のワイプ部材１６を、洗浄液吐出ポート５の直下で停止させる。そして、制御部５０は、洗浄液塗布ポート５からワイプ部材１６に洗浄液を直接吐出することでワイプ部材１６を洗浄する。これによって、吐出面清掃処理によってワイプ部材に付着したインクの多くが洗浄液によって洗い流される。ここで、制御部５０は、上述のように、洗浄液タンクを加圧し、電磁バルブ５３を開くことで洗浄液塗布ポート５からワイプ部材１６に洗浄液を塗布している。塗布された洗浄液は、液体受け皿２に受けられ、吸引ポート８から排出される。

なお、吐出面清掃処理後に、ワイプ部材１６の図５における左側面に洗浄液が塗布される左側面塗布位置と、図５における右側面に洗浄液が塗布される右側面塗布位置と、にワイプ部材１６を停止させ、それぞれの位置でワイプ部材１６に洗浄液を塗布することで、より効果的にワイプ部材１６を洗浄することができる。また、吐出面清掃処理後にワイプ部材１６を洗浄液吐出ポート５の直下で停止させることなく、ワイプ部材１６の移動とタイミングを計りながら洗浄液吐出ポート５から洗浄液を吐出させることで、ワイプ部材１６を移動させながらワイプ部材１６に洗浄液を塗布してもよい。

図５（Ｂ）に示すように、制御部５０は、洗浄液を直接塗布されたワイプ部材１６をさらに移動させて、ワイプ部材１６の左側面が吸収部材６Ａに所定の圧力で接触する位置でワイプ部材１６を停止させる。ワイプ部材１６を吸収部材６Ａに接触させることで、ワイプ部材１６の左側面に付着したインク及び洗浄液の多くは、吸収部材６Ａに吸収される。

制御部５０は、ワイプ部材１６を吸収部材６Ａに接触させた状態で電磁バルブ５６を開くことで、吸収部材６Ａに吸収されたインク等の液体を吸引ポート７Ａから吸引するとともに、ワイプ部材１６の左側面に付着しているインク等の液体を吸収部材６Ａを介して吸引する。

上述のようにしてワイプ部材１６の左側面の洗浄処理が終了した後、制御部５０は、図６に示すように、ワイプ部材１６を図６において右方向に移動させて、ワイプ部材１６の右側面が吸収部材６Ｂに所定の圧力で接触する位置でワイプ部材１６を停止させる。ワイプ部材１６を吸収部材６Ｂに接触させることで、ワイプ部材１６の右側面に付着したインク及び洗浄液の多くは、吸収部材６Ｂに吸収される。

制御部５０は、ワイプ部材１６を吸収部材６Ｂに接触させた状態で電磁バルブ５６を開くことで、吸収部材６Ｂに吸収されたインク等の液体を吸引ポート７Ｂから吸引するとともに、ワイプ部材１６の右側面に付着しているインク等の液体を吸収部材６Ｂを介して吸引する。

なお、吸引ポート７Ａ用と吸引ポート７Ｂ用とに別個に電磁バルブを設けることで、吸引ポート７Ａと吸引ポート７Ｂとを別々に作動させるようにしてもよい。

ここで、ワイプ部材洗浄処理は、吐出面清掃処理の実施時にのみ実施するのではなく、定期的に実施することが望ましい。ワイプ部材１６及び吸収部材６Ａ，６Ｂに付着したインクの大部分は、ワイプ部材洗浄処理によって除去されるが、わずかに残留したインクが長時間放置されることにより固化した場合、次回の吐出面清掃処理の実施時にワイプ部材１６に付着した固化物により吐出面９を擦ってしまい、吐出面９に傷等のダメージを与えてしまうことが懸念される。そこで、上述のように、この発明では、ワイプ部材１６を洗浄するとともにワイプ部材１６に付着したインク及び洗浄液を除去するワイプ部材洗浄処理を定期的に実施することが望ましい。

図７は、制御部５０の処理手順の一部を示すフローチャートである。制御部５０は、ワイプ部材洗浄処理が終了すると（Ｓ１）、タイマ５４をリセットした後（Ｓ２）、タイマ５４を起動させる（Ｓ３）。そして、制御部５０は、タイマ５４から入力された時間計測データに基づいて前回のワイプ部材洗浄処理から所定時間が経過した場合（Ｓ４においてＹＥＳ）、ワイプ部材洗浄処理を実施する（Ｓ５）。

ここで、Ｓ４における所定時間は、インクが固化しない時間に設定する。また、タイマ５４による時間の計測中に吐出面清掃処理を実施した場合は、その吐出面清掃処理に続けて実施されるワイプ部材洗浄処理の終了後にＳ１の処理に進む。これによって、ワイプ部材洗浄処理が正確に定期的に実施される。

上述のように、ワイプ部材洗浄処理を定期的に実施することで、ワイプ部材１６及び吸収部材６Ａ，６Ｂにわずかなインクが残留した場合でも、ワイプ部材１６及び吸収部材６Ａ，６Ｂに付着したインクの固化が防止される。したがって、固化したインクが吐出面９に擦り付けられることによる吐出面９の損傷、及び、吸収部材６Ａ，６Ｂの劣化が防止され、長期にわたって吐出面９が確実に清掃される。

吐出面清掃装置１によれば、ワイプ部材１６に洗浄液を直接塗布することでワイプ部材１６に付着したインクを洗い流すことができるので、ワイプ部材１６の汚れ防止効果を高めることができる。これによって、液体吐出ヘッド４の吐出面９からのインクの除去効果を向上させることができる。したがって、液体吐出ヘッド４のインク吐出精度を向上させることができる。

また、吸収部材６Ａ，６Ｂに吸収されたインク及び洗浄液を吸引する吸引ポート７Ａ，７Ｂを設けたので、ワイプ部材１６の吸収部材６Ａ，６Ｂへの接触時に吸引ポート７Ａ，７Ｂが吸引することでワイプ部材１６からインク及び洗浄液を効率よく除去することができる。さらに、吸収部材６Ａ，６Ｂの吸収能力の低下を防止することができるので、ワイプ部材１６の汚れ防止効果を高めることができる。また、吸収部材の交換頻度を減少させることができる。

さらに、ワイプ部材１６を吐出面９に対して移動させるためのワイプ部材移動機構３を、ワイプ部材１６に洗浄液を塗布するための移動機構としても使用できるので、吐出面清掃装置１の小型化及び低コスト化を図ることができる。

また、吸収部材６Ａ，６Ｂは、ワイプ部材１６の直線往復動の経路の両端にそれぞれ配置され、ワイプ部材１６の両側面からインク及び洗浄液を除去するので、ワイプ部材１６の汚れ防止効果をいっそう高めることができる。

さらに、吸収部材６Ａ，６Ｂとして柔軟性を有する多孔質樹脂を用いたので、ワイプ部材１６との接触時に、ワイプ部材１６を損傷することなくワイプ部材１６からインク等を除去することができる。

また、ワイプ部材１６にインクが付着する吐出面清掃処理を実施する毎に、ワイプ部材からインク等を除去するワイプ部材洗浄処理を実施することで、ワイプ部材１６の汚れ防止効果をいっそう高めることができる。

さらに、ワイプ部材洗浄処理を定期的に実施することで、ワイプ部材１６に付着したインク並びに吸収部材６Ａ，６Ｂに吸収されたインクの固化を防止することができる。このため、ワイプ部材１６に付着したインクの固化を防止することで、吐出面９の損傷を防止することができる。また、吸収部材６Ａ，６Ｂに吸収されたインクの固化を防止することで、吸収部材６Ａ，６Ｂの吸収能力の低下を防止でき、ワイプ部材１６の汚れ防止効果をいっそう高めることができる。

図８は、他の実施形態に係る液体吐出ヘッドの吐出面清掃装置１Ａの概略の構成を示す正面図である。吐出面清掃装置１Ａは、洗浄液吐出ポート５に代えて洗浄液吐出ポート１２Ａ，１２Ｂを設けたことを除いて吐出面清掃装置１と同様に構成されている。この実施形態では、洗浄液吐出ポート１２Ａ，１２Ｂがこの発明の洗浄液吐出手段に相当する。

吐出面清掃装置１Ａでは、吸収部材６Ａの内部に、洗浄液吐出ポート１２Ａ及び吸引ポート７Ａのそれぞれの先端が埋め込まれている。同様に、吸収部材６Ｂの内部に、洗浄液吐出ポート１２Ｂ及び吸引ポート７Ｂのそれぞれの先端が埋め込まれている。

洗浄液吐出ポート１２Ａ，１２Ｂは、電磁バルブを介して洗浄液を貯蔵した洗浄液タンクに連通しており、洗浄液タンクを加圧器によって加圧し、電磁バルブをＯＮする（開く）ことで洗浄液を塗布する。この実施形態では、洗浄液吐出ポート１２Ａ，１２Ｂがこの発明の洗浄液吐出手段に相当する。

図９は、吐出面清掃装置１Ａにおける吐出面清掃処理についての説明図であり、図１０は、吐出面清掃装置１Ａにおけるワイプ部材前洗浄処理についての説明図であり、図１１は、吐出面清掃装置１Ａにおけるワイプ部材洗浄処理についての説明図である。

図９（Ａ）に示すように、吐出面清掃処理の実施前に、制御部５０は、液体吐出ヘッド４を吐出面清掃位置に配置する。そして、図９（Ｂ）に示すように、制御部５０がワイプ部材１６をワイプ部材移動機構３によって吐出面９に対して平行方向（ここでは図９における左方向）に移動させることで、ワイプ部材１６が吐出面９に撓んだ状態で接触しながら移動する。これによって、吐出面９に付着したインクがワイプ部材１６によって払拭され、吐出面９が清掃される。

図１０に示すように、制御部５０は、吐出面９を清掃した後のワイプ部材１６をさらに移動させて、ワイプ部材１６の左側面が吸収部材６Ａに当接する直前の位置で停止させる。このように、ワイプ部材１６の左側面と吸収部材６Ａとの間に液体が流れ落ちる間隙を設けた状態で、制御部５０は洗浄液吐出ポート１２Ａから洗浄液を吐出させる。これによって、洗浄液は吸収部材６Ａから染み出てワイプ部材１６の左側面に塗布され、ワイプ部材１６の左側面を洗浄した後、ワイプ部材１６の左側面と吸収部材６Ａとの間隙から流れ落ちる。流れ落ちた洗浄液は、液体受け皿２に受けられ、吸引ポート８から排出される。

洗浄液吐出ポート１２Ａから吐出され吸収部材６Ａに吸収された洗浄液及び流れ落ちる際に吸収部材６Ａに吸収されたインク及び洗浄液は、吸引ポート７Ａから吸引される。

上述のワイプ部材１６と吸収部材６Ａとの間に液体が流れ落ちる間隙を設けた状態でワイプ部材１６に洗浄液を塗布した後、吸収部材６Ａに吸収された洗浄液などの液体を吸引ポート７Ａから吸引するワイプ部材前洗浄処理を実施することによって、ワイプ部材１６に付着したインクをいっそう効率よく除去することができる。

上述のワイプ部材１６と吸収部材６Ａとの間隙は、ワイプ部材１６に付着したインク１４、及び、洗浄液吐出ポート１２Ａから吐出され吸収部材６Ａから染み出た洗浄液１５を介して、ワイプ部材１６と吸収部材６Ａとが接するような寸法である。

ワイプ部材前洗浄処理の後、制御部５０は、図１０（Ａ）に示すように、ワイプ部材１６をさらに左方向に移動させてワイプ部材１６の左側面が吸収部材６Ａに所定の圧力で接触する位置でワイプ部材１６を停止させる。ワイプ部材１６を吸収部材６Ａに接触させることで、ワイプ部材１６の左側面に付着したインク及び洗浄液の多くは、吸収部材６Ａに吸収される。

制御部５０は、ワイプ部材１６を吸収部材６Ａに接触させた状態で洗浄液吐出ポート１２Ａから洗浄液を吐出する。これによって、洗浄液は吸収部材６Ａから染み出してワイプ部材１６の左側面に塗布され、ワイプ部材１６の左側面が洗浄される。洗浄液の塗布の終了後、制御部５０は、吸収部材６Ａに吸収されたインク及び洗浄液を吸引ポート７Ａから吸引するとともに、ワイプ部材１６の左側面に付着しているインク及び洗浄液を吸収部材６Ａを介して吸引する。

上述のようにしてワイプ部材１６の左側面の洗浄処理が終了した後、制御部５０は、ワイプ部材１６を図１１（Ａ）において右方向に移動させて、図１０と同様にワイプ部材１６の右側面に対してワイプ部材前洗浄処理を実施する。

ワイプ部材１６の右側面に対するワイプ部材前洗浄処理が終了した後、制御部５０は、図１１（Ｂ）に示すように、ワイプ部材１６を図１１（Ｂ）においてさらに右方向に移動させて、ワイプ部材１６の右側面が吸収部材６Ｂに所定の圧力で接触する位置でワイプ部材１６を停止させる。ワイプ部材１６を吸収部材６Ｂに接触させることで、ワイプ部材１６の右側面に付着したインク及び洗浄液の多くは、吸収部材６Ｂに吸収される。

制御部５０は、ワイプ部材１６を吸収部材６Ｂに接触させた状態で洗浄液吐出ポート１２Ｂから洗浄液を吐出する。これによって、洗浄液は吸収部材６Ｂから染み出してワイプ部材１６の右側面に塗布され、ワイプ部材１６の左側面が洗浄される。洗浄液の塗布の終了後、制御部５０は、吸収部材６Ｂに吸収されたインク及び洗浄液を吸引ポート７Ｂから吸引するとともに、ワイプ部材１６の左側面に付着しているインク及び洗浄液を吸収部材６Ｂを介して吸引する。

吐出面清掃装置１Ａによれば、吐出面清掃装置１のように洗浄液吐出ポート５の直下でのワイプ部材１６の洗浄作業は必要なくなるとともに、洗浄液吐出ポート５を設けないことによる省スペース化を図ることができる。

また、洗浄液によってワイプ部材１６を洗浄するとともに、吸収部材６Ａ，６Ｂをも洗浄することができる。

さらに、図１０に示すようにワイプ部材前洗浄処理を実施することで、いっそう効率よくワイプ部材を洗浄することができる。

図１２は、さらに他の実施形態に係る液体吐出ヘッドの吐出面清掃装置１Ｂの一部の構成を示す拡大図である。

吐出面清掃装置１Ｂでは、吸収部材６Ａ，６Ｂに代えて吸収部材２６Ａ，２６Ｂ（但し、吸収部材２６Ｂは図示されない。）を設けたことを除いて吐出面清掃装置１Ａと同様に構成されている。

吐出面清掃装置１Ｂでは、吸収部材２６Ａ，２６Ｂのワイプ部材１６と接触する方の側面は、ワイプ部材１６との接触時にワイプ部材１６の基端部１６Ｂより先端部１６Ａに先に接触する方向に傾斜した傾斜面を有する。

吐出面清掃装置１Ｂによれば、吸収部材２６Ａ，２６Ｂの基端部１６Ｂとの接触圧より先端部１６Ａとの接触圧の方が強くなるので、吐出面９から除去したインクが多く付着している先端部１６Ａからのインクの除去効果を高めることができる。

また、ワイプ部材１６が吐出面９に撓みながら接触することによってワイプ部材１６の形状が経時的に変化し、ワイプ部材１６に反りが発生した場合でも、ワイプ部材１６に吸収部材２６Ａ，２６Ｂを沿わせることができる。このため、ワイプ部材１６と吸収部材２６Ａ，２６Ｂとをより密接させることができるので、ワイプ部材１６に付着したインクを吸収部材２６Ａ，２６Ｂによって確実に吸収することができる。

また、図１３に示すさらに他の実施形態に係る液体吐出ヘッドの吐出面清掃装置１Ｃは、吐出面清掃装置１Ａにおける吸収部材６Ａ，６Ｂに代えて吸収部材３６Ａ，３６Ｂ（但し、吸収部材３６Ｂは図示されない。）を備えている。吐出面清掃装置１Ｃでは、吸収部材３６Ａ，３６Ｂのワイプ部材１６と接触する方の側面は、ワイプ部材１６との接触時にワイプ部材１６の基端部１６Ｂより先端部１６Ａに先に接触する方向に湾曲した曲面を有する。吐出面清掃装置１Ｃは、吐出面清掃装置１Ｂと同様の効果を有する。

なお、吐出面清掃装置１に吸収部材２６Ａ，２６Ｂ又は吸収部材３６Ａ，３６Ｂを用いてもよい。

また、上述の各実施形態では、吐出面清掃処理及びワイプ部材洗浄処理の実施時に、液体吐出ヘッド４を停止させ、ワイプ部材１６を移動させたが、これに限定されない。ワイプ部材１６を固定し、液体吐出ヘッド４を直線往復動させてもよい。この場合、吐出面清掃装置１においては、洗浄液吐出ポート５、吸収部材６Ａ，６Ｂ及び吸引ポート７Ａ，７Ｂを液体吐出ヘッド４とともに移動させる。また、吐出面清掃装置１Ａにおいては、吸収部材６Ａ，６Ｂ、吸引ポート７Ａ，７Ｂ及び洗浄液吐出ポート１２Ａ，１２Ｂを液体吐出ヘッド４とともに移動させる。さらに、吐出面清掃装置１Ｂ，１Ｃにおいては、吐出面清掃装置１Ａと同様である。

この発明は、液体吐出ヘッド４を備えたプリンタ、並びに、液体吐出ヘッド４を備えた半導体及び液晶パネルの製造用の製造装置に適用できる。

この発明の実施形態に係る液体吐出ヘッドの吐出面清掃装置の概略の構成を示す正面図である。 前記吐出面清掃装置の概略の構成を示す平面図である。 前記吐出面清掃装置の概略の構成を示すブロック図である。 前記吐出面清掃装置における吐出面清掃処理についての説明図であり、（Ａ）は、吐出面清掃処理の開始前の各部材の配置を示し、（Ｂ）は、吐出面清掃処理の実施中における各部材の状態を示す。 前記吐出面清掃装置におけるワイプ部材洗浄処理についての説明図であり、（Ａ）は、洗浄液吐出ポートがワイプ部材に洗浄液を吐出する状態を示し、（Ｂ）は、吸収部材がワイプ部材の一方の面に付着するインク等を吸収する状態を示す。 前記吐出面清掃装置におけるワイプ部材洗浄処理についての説明図である。 制御部の処理手順の一部を示すフローチャートである。 他の実施形態に係る液体吐出ヘッドの吐出面清掃装置の概略の構成を示す正面図である。 前記吐出面清掃装置における吐出面清掃処理についての説明図であり、（Ａ）は、吐出面清掃処理の開始前の各部材の配置を示し、（Ｂ）は、吐出面清掃処理の実施中における各部材の状態を示す。 前記吐出面清掃装置におけるワイプ部材洗浄処理についての説明図であり、（Ａ）は、吸収部材がワイプ部材の一方の面に付着するインク等を吸収する状態を示し、（Ｂ）は、吸収部材がワイプ部材の他方の面に付着するインク等を吸収する状態を示す。 前記吐出面清掃装置におけるワイプ部材前洗浄処理についての説明図である。 さらに他の実施形態に係る液体吐出ヘッドの吐出面清掃装置の一部の構成を示す拡大図である。 さらに他の実施形態に係る液体吐出ヘッドの吐出面清掃装置の一部の構成を示す拡大図である。

符号の説明

１，１Ａ，１Ｂ，１Ｃ 吐出面清掃装置
２ 液体受け皿
３ ワイプ部材移動機構
４ 液体吐出ヘッド
５，１２Ａ，１２Ｂ 洗浄液吐出ポート（洗浄液吐出手段）
６Ａ，６Ｂ，２６Ａ，２６Ｂ，３６Ａ，３６Ｂ 吸収部材
７Ａ，７Ｂ 吸引ポート（吸引手段）
９ 吐出面
１６ ワイプ部材

Claims (10)

1. インクを吐出する液体吐出ヘッドの吐出面に接触しながら前記吐出面に対して相対的に移動することで前記吐出面を清掃するワイプ部材と、
   前記ワイプ部材に洗浄液を直接塗布する洗浄液吐出手段と、
   前記ワイプ部材に付着するインク及び洗浄液を吸収する吸収部材と、を備えることを特徴とする液体吐出ヘッドの吐出面清掃装置。
2. 前記ワイプ部材は、前記吐出面に対して平行に相対的に直線往復動し、
   前記洗浄液吐出手段は、前記ワイプ部材の直線往復動の経路上で前記ワイプ部材に洗浄液を塗布することを特徴とする請求項１に記載の液体吐出ヘッドの吐出面清掃装置。
3. 前記吸収部材に吸収されたインク及び洗浄液を吸引する吸引手段を、さらに備えることを特徴とする請求項１または２に記載の液体吐出ヘッドの吐出面清掃装置。
4. インクを吐出する液体吐出ヘッドの吐出面に接触しながら前記吐出面に対して相対的に移動することで前記吐出面を清掃するワイプ部材と、
   前記ワイプ部材との接触時に前記ワイプ部材に付着するインクを含む液体を吸収する吸収部材と、
   前記ワイプ部材に前記吸収部材を介して洗浄液を塗布する洗浄液吐出手段と、
   前記吸収部材に吸収されたインクを含む液体を吸引する吸引手段と、を備えることを特徴とする液体吐出ヘッドの吐出面清掃装置。
5. 前記洗浄液吐出手段は、前記ワイプ部材と前記吸収部材との間に前記ワイプ部材に付着するインクを含む液体が流れ落ちる間隙がある状態で前記ワイプ部材に洗浄液を塗布することを特徴とする請求項４に記載の液体吐出ヘッドの吐出面清掃装置。
6. 前記ワイプ部材は、前記吐出面に対して平行に相対的に直線往復動し、
   前記吸収部材は、前記ワイプ部材の直線往復動の経路の両端にそれぞれ配置されることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの吐出面清掃装置。
7. 前記吸収部材は、柔軟性を有する多孔質体からなることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの吐出面清掃装置。
8. 前記ワイプ部材は、前記吐出面に接触する先端部と所定位置に固定された基端部とを有し、
   前記吸収部材は、前記ワイプ部材との接触時に、前記ワイプ部材の前記基端部より前記先端部に先に接触する傾斜面又は曲面を有することを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの吐出面清掃装置。
9. 前記洗浄液吐出手段が前記ワイプ部材に洗浄液を塗布してからの時間の経過を計測するタイマと、
   前記タイマの計測結果に基づいて前記洗浄液吐出手段が前記ワイプ部材に洗浄液を塗布してから所定時間が経過したと判定したとき、前記洗浄液吐出手段に前記ワイプ部材に対して洗浄液を塗布させる制御手段と、をさらに備えることを特徴とする請求項１から８のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの吐出面清掃装置。
10. 前記ワイプ部材が前記吐出面を清掃する毎に、前記洗浄液吐出手段が前記ワイプ部材に洗浄液を塗布し、前記吸収部材が前記ワイプ部材に付着するインク及び洗浄液を吸収することを特徴とする請求項１から９のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの吐出面清掃装置。

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