CN110280443A - 薄膜涂布装置及清洗装置、清洗系统 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及显示技术领域,提出一种薄膜涂布装置,该薄膜涂布装置包括:结构主体、多个管道组件、电磁阀组。结构主体包括位于涂布开口两侧的两涂布侧壁以及容纳清洗液的容纳腔,两涂布侧壁沿涂布开口的延伸方向设置有多个侧壁开口;管道组件包括一个主管道以及与主管道连通的至少一个分支管道,主管道与容纳腔连通,分支管道分别与位于同一位置的侧壁开口连通;电磁阀组包括多个电磁阀,电磁阀一一对应设置于主管道内,电磁阀组用于受控于一控制信号组,通过控制不同的电磁阀以控制不同位置的侧壁开口上清洗液的流量。本公开提供的薄膜涂布装置能够降低该薄膜涂布装置清洗时清洗液渗入涂布开口的风险。

Description

薄膜涂布装置及清洗装置、清洗系统
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种薄膜涂布装置及清洗装置、清洗系统。
背景技术
薄膜涂布装置是用于将薄膜材料形成薄膜的装置,薄膜涂布装置可以应用在各种技术领域中,例如,在显示技术领域中,薄膜涂布装置可以用于将高粘度柔性材料形成柔性衬底。为了降低薄膜涂布装置的涂布不良,薄膜涂布装置需要对涂布开口位置及开口两侧的侧壁进行定期清洗。
相关技术中,通常通过清洗装置对涂布开口及侧壁进行定期清洗,清洗装置在对涂布开口及侧壁进行清洗时,需要向涂布开口和侧壁位置喷射清洗液以提高清洗效率。
然而,清洗液长时间位于涂布开口处会造成清洗液渗入薄膜材料中,从而造成薄膜材料变质,薄膜涂布装置涂布不良。
需要说明的是,在上述背景技术部分发明的信息仅用于加强对本发明的背景的理解,因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
发明内容
本发明的目的在于提供一种薄膜涂布装置及清洗装置、清洗系统。该薄膜涂布装置能够降低薄膜涂布装置清洗时清洗液渗入薄膜材料的风险。
本发明的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然,或部分地通过本发明的实践而习得。
根据本发明的一个方面,提供一种薄膜涂布装置,该薄膜涂布装置包括:结构主体、多个管道组件、电磁阀组。结构主体包括位于涂布开口两侧的两涂布侧壁以及容纳清洗液的容纳腔,两所述涂布侧壁沿所述涂布开口的延伸方向设置有多个侧壁开口;所述管道组件包括一个主管道以及与所述主管道连通的至少一个分支管道,所述主管道与所述容纳腔连通,所述分支管道分别与位于同一位置的所述侧壁开口连通;电磁阀组包括多个电磁阀,所述电磁阀一一对应设置于所述主管道内,所述电磁阀组用于受控于一控制信号组,通过控制不同的所述电磁阀以控制不同位置上所述侧壁开口的清洗液流量。
本发明的一种示例性实施例中,所述容纳腔包括第一容纳腔和第二容纳腔;两所述涂布侧壁包括第一涂布侧壁和第二涂布侧壁;所述第一涂布侧壁上的开口通过所述管道组件与所述第一容纳腔连通,所述第二涂布侧壁上的开口通过所述管道组件与所述第二容纳腔连通。
本发明的一种示例性实施例中,两所述涂布侧壁沿所述涂布开口延伸方向分别设置有一排侧壁开口,且两所述涂布侧壁上的所述侧壁开口相对设置;所述管道组件包括一个主管道和两个分支管道,所述主管道与所述容纳腔连通,两所述分支管道分别与两所述涂布侧壁上相对设置的两侧壁开口连通。
本发明的一种示例性实施例中,所述管道组件与所述结构主体一体成型。
本发明的一种示例性实施例中,所述结构主体还包括与所述容纳腔连通的供液口,所述供液口用于向所述容纳腔提出所述清洗液。
根据本发明的一个方面,提供一种清洗装置,用于清洗上述的薄膜涂布装置,该清洗装置包括:清洗主体、位置传感器、处理单元。清洗主体用于清洗所述涂布侧壁和所述涂布开口;位置传感器设置于所述清洗主体上,用于检测所述清洗主体的位置信息;处理单元与所述位置传感器连接,用于根据所述清洗主体的位置信号生成所述控制信号组;其中,所述控制信号组用于控制所述电磁阀组,以使所述清洗主体所在位置的所述侧壁开口有清洗液流出。
本发明的一种示例性实施例中,所述清洗主体包括用于清洗所述涂布侧壁和所述涂布开口的清洗部以及支撑所述清洗部的基座。
本发明的一种示例性实施例中,所述清洗装置还包括两负压管,其固定于所述基座上,且分别位于所述清洗部沿其清洗方向的两侧。
本发明的一种示例性实施例中,所述清洗部包括用于与所述涂布侧壁、所述涂布开口接触的清洗面,所述清洗面上设置有至少一个负压孔。
根据本发明的一个方面,提供一种清洗系统,该系统包括上述的薄膜涂布装置以及上述的清洗装置。
本公开提供一种薄膜涂布装置及清洗装置、清洗系统,该薄膜涂布装置包括:结构主体、多个管道组件、电磁阀组。结构主体包括位于涂布开口两侧的两涂布侧壁以及容纳清洗液的容纳腔,两所述涂布侧壁沿所述涂布开口的延伸方向设置有多个侧壁开口;所述管道组件包括一个主管道以及与所述主管道连通的至少一个分支管道,所述主管道与所述容纳腔连通,所述分支管道分别与位于同一位置的所述侧壁开口连通;电磁阀组包括多个电磁阀,所述电磁阀一一对应设置于所述主管道内,所述电磁阀组用于受控于一控制信号组,通过控制不同的所述电磁阀以控制不同位置上所述侧壁开口的清洗液流量。在该薄膜涂布装置进行清洗时,控制信号可以仅仅控制清洗位置处有清洗液流出,从而避免清洗时涂布开口长时间接触清洗液。一方面,该薄膜涂布装置可以降低清洗液渗入涂布开口的风险;另一方面,控制信号还可以精确控制侧壁开口处清洗液的流量,从而调节清洗效率。
应当理解的是,以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的,并不能限制本发明。
附图说明
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分,示出了符合本发明的实施例,并与说明书一起用于解释本发明的原理。显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为相关技术中薄膜涂布装置一种示例性实施例的结构示意图;
图2为相关技术中薄膜涂布装置一种示例性实施例的轴向剖视图;
图3为本公开薄膜涂布装置一种示例性实施例的结构示意图;
图4为本公开薄膜涂布装置一种示例性实施例的轴向剖视图;
图5为本公开薄膜涂布装置另一种示例性实施例的结构示意图;
图6为本公开薄膜涂布装置另一种示例性实施例的轴向剖视图;
图7为本公开清洗装置一种示例性实施例的结构示意图。
具体实施方式
现在将参考附图更全面地描述示例实施例。然而,示例实施例能够以多种形式实施,且不应被理解为限于在此阐述的范例;相反,提供这些实施例使得本发明将更加全面和完整,并将示例实施例的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构,因而将省略它们的详细描述。
虽然本说明书中使用相对性的用语,例如“上”“下”来描述图标的一个组件对于另一组件的相对关系,但是这些术语用于本说明书中仅出于方便,例如根据附图中所述的示例的方向。能理解的是,如果将图标的装置翻转使其上下颠倒,则所叙述在“上”的组件将会成为在“下”的组件。其他相对性的用语,例如“高”“低”“顶”“底”“左”“右”等也作具有类似含义。当某结构在其它结构“上”时,有可能是指某结构一体形成于其它结构上,或指某结构“直接”设置在其它结构上,或指某结构通过另一结构“间接”设置在其它结构上。
用语“一个”、“一”、“所述”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等;用语“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等。
如图1、2所示,图1为相关技术中薄膜涂布装置一种示例性实施例的结构示意图,图2为相关技术中薄膜涂布装置一种示例性实施例的轴向剖视图。该薄膜涂布装置包括结构主体,结构主体包括用于容纳待涂布材料的容纳腔04、与容纳腔04连通的涂布开口01、连通于容纳腔04和涂布开口01之间的通孔05,以及位于涂布开口01两侧的涂布侧壁02和03。相关技术中,该薄膜涂布装置清洗时需要通过清洗装置对侧壁02和03以及涂布开口01进行刮拭。同时,在对涂布开口01进行刮拭时需要向涂布开口和侧壁位置喷射清洗液以提高清洗效率。然而,清洗液长时间位于涂布开口处会造成清洗液渗入薄膜材料中,从而造成薄膜材料变质,薄膜涂布装置涂布不良。
基于此,本示例性实施例提供一种薄膜涂布装置,如图3、4所示,图3为本公开薄膜涂布装置一种示例性实施例的结构示意图,图4为本公开薄膜涂布装置一种示例性实施例的轴向剖视图。该薄膜涂布装置包括:结构主体、多个管道组件、电磁阀组。结构主体包括位于涂布开口11两侧的两涂布侧壁12、13以及容纳清洗液的容纳腔14,两所述涂布侧壁12、13沿所述涂布开口的延伸方向设置有多个侧壁开口121和131;所述管道组件包括一个主管道21以及与所述主管道连通的两个分支管道22、23,所述主管道21与所述容纳腔14连通,两所述分支管道22、23分别与位于同一位置的所述侧壁开口121、131连通;电磁阀组包括多个电磁阀3,所述电磁阀3一一对应设置于所述主管道内21,所述电磁阀组用于受控于一控制信号组,通过控制不同的所述电磁阀以控制不同位置上所述侧壁开口的清洗液流量。
其中,“同一位置”可以指在涂布开口的延伸方向上的任一连续区域。即在该连续区域内,涂布侧壁12、13上的所有侧壁开口位于同一位置。本示例性实施例中,同一位置内包括有一组相对设置的侧壁开口121和131,“相对设置”表示侧壁开口121和131位于同一轴向刨切面上。
本公开提供一种薄膜涂布装置,该薄膜涂布装置包括:结构主体、多个管道组件、电磁阀组。结构主体包括位于涂布开口两侧的两涂布侧壁以及容纳清洗液的容纳腔,两所述涂布侧壁沿所述涂布开口的延伸方向设置有多个侧壁开口;所述管道组件包括一个主管道以及与所述主管道连通的至少一个分支管道,所述主管道与所述容纳腔连通,所述分支管道分别与位于同一位置的所述侧壁开口连通;电磁阀组包括多个电磁阀,所述电磁阀一一对应设置于所述主管道内,所述电磁阀组用于受控于一控制信号组,通过控制不同的所述电磁阀以控制不同位置上所述侧壁开口的清洗液流量。在该薄膜涂布装置进行清洗时,控制信号可以仅仅控制清洗位置处有清洗液流出,从而避免清洗时涂布开口长时间接触清洗液。一方面,该薄膜涂布装置可以降低清洗液渗入涂布开口的风险;另一方面,控制信号还可以精确控制侧壁开口处清洗液的流量,从而调节清洗效率、节约清洗液。
本示例性实施例中,如图3、4所示,两所述涂布侧壁12、13沿所述涂布开口延伸方向分别设置有一排侧壁开口121、131,且两所述涂布侧壁12、13上的所述侧壁开口相对设置;所述管道组件包括一个主管道和两个分支管道,所述主管道与所述容纳腔连通,两所述分支管道分别与两所述涂布侧壁上相对设置的两侧壁开口连通。应该理解的是,在其他示例性实施例中,两所述涂布侧壁12、13沿所述涂布开口延伸方向还可以分别设置有其他排数的侧壁开口;管道组件还可以包括其他数量的分支管道,例如,分支管道可以为一个或多个,一个分支管道可以与任一涂布侧壁上的一个侧壁开口连通,多个分支管道可以分别与同一位置中的侧壁开口连通。
本示例性实施例中,为了降低生产工艺难度以及便于后期维护,薄膜涂布装置可以两部分拼接组成,如图5、6所示,图5为本公开薄膜涂布装置另一种示例性实施例的结构示意图,图6为本公开薄膜涂布装置另一种示例性实施例的轴向剖视图。该薄膜涂布装置可以由A-A截面两侧的两部分拼接组成。所述容纳腔可以包括第一容纳腔141和第二容纳腔142;两所述涂布侧壁包括第一涂布侧壁12和第二涂布侧壁13;所述第一涂布侧壁12上的开口121通过所述管道组件与所述第一容纳腔141连通,所述第二涂布侧壁13上的开口131通过所述管道组件与所述第二容纳腔142连通。其中,管道组件可以包括一个主管道21和一个分支管道22,主管道21与容纳腔连通,分支管道22与侧壁开口连通。应该理解的是,管道组件可以包括多个分支管道,多个分支管路可以与同一涂布侧壁上位于同一位置的多个侧壁开口连通。
本示例性实施例中,如图5、6所示,所述结构主体还可以包括与所述容纳腔连通的供液口31、32,所述供液口31、32用于向所述容纳腔提出所述清洗液。
本示例性实施例中,所述管道组件与所述结构主体可以一体成型,例如所述管道组件与所述结构主体可以通过注塑工艺一体成型。清洗液可以包括N-甲基吡咯烷酮。
本示例性实施例还提供一种清洗装置,如图7所示,为本公开清洗装置一种示例性实施例的结构示意图,该清洗装置用于清洗上述的薄膜涂布装置,该清洗装置包括:清洗主体4、位置传感器5、处理单元6。清洗主体4用于清洗所述涂布侧壁和所述涂布开口;位置传感器5设置于所述清洗主体上,用于检测所述清洗主体的位置信息;处理单元6与所述位置传感器连接,用于根据所述清洗主体的位置信号生成所述控制信号组;其中,所述控制信号组用于控制所述电磁阀组,以使所述清洗主体所在位置的所述侧壁开口有清洗液流出。
本示例性实施例中,所述清洗主体可以包括用于清洗所述涂布侧壁和所述涂布开口的清洗部42以及支撑所述清洗部的基座41。清洗部42和基座41可以可拆卸连接,清洗部42包括与涂布侧壁外形相匹配的“V”型清洗面,清洗部42可以通过“V”型清洗面对涂布侧壁和涂布开口进行挂试。
本示例性实施例提供清洗装置可以配合上述薄膜涂布装置使用,在该薄膜涂布装置进行清洗时,控制信号可以仅仅控制清洗位置处有清洗液流出,从而避免清洗时涂布开口长时间接触清洗液。一方面,该薄膜涂布装置可以降低清洗液渗入涂布开口的风险;另一方面,控制信号还可以精确控制侧壁开口处清洗液的流量,从而调节清洗效率、节约清洗液。
本示例性实施例中,所述清洗装置还可以包括两负压管71、72,其固定于所述基座41上,且分别位于所述清洗部沿其清洗方向的两侧。负压管71、72可以吸收清洗部42前后过量的清洗液以及涂布侧壁和涂布开口处的残污,从而可以进一步降低清洗液渗入涂布开口的风险,以及提高清洗效果。应该理解的是,负压管还可以设置在其他位置,例如,可以在所述清洗部42的“V”型清洗面上设置有至少一个负压孔。该负压孔形成上述的负压管。
本示例性实施例还提供一种清洗系统,该系统包括上述的薄膜涂布装置以及上述的清洗装置。
本公开提供的清洗系统与上述的薄膜涂布装置、清洗装置具有相同的技术特征和工作原理,上述内容已经做出详细说明,此处不再赘述。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后,将容易想到本公开的其他实施例。本申请旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化,这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的,本公开的真正范围和精神由权利要求指出。
应当理解的是,本公开并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构,并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本公开的范围仅由所附的权利要求来限。

Claims (10)

1.一种薄膜涂布装置,其特征在于,包括:
结构主体,包括位于涂布开口两侧的两涂布侧壁以及容纳清洗液的容纳腔,两所述涂布侧壁沿所述涂布开口的延伸方向设置有多个侧壁开口;
多个管道组件,所述管道组件包括一个主管道以及与所述主管道连通的至少一个分支管道,所述主管道与所述容纳腔连通,所述分支管道分别与位于同一位置的所述侧壁开口连通;
电磁阀组,包括多个电磁阀,所述电磁阀一一对应设置于所述主管道内,所述电磁阀组用于受控于一控制信号组,通过控制不同的所述电磁阀以控制不同位置上所述侧壁开口的清洗液流量。
2.根据权利要求1所述的薄膜涂布装置,其特征在于,
所述容纳腔包括第一容纳腔和第二容纳腔;
两所述涂布侧壁包括第一涂布侧壁和第二涂布侧壁;
所述第一涂布侧壁上的开口通过所述管道组件与所述第一容纳腔连通,所述第二涂布侧壁上的开口通过所述管道组件与所述第二容纳腔连通。
3.根据权利要求1所述的薄膜涂布装置,其特征在于,
两所述涂布侧壁沿所述涂布开口延伸方向分别设置有一排侧壁开口,且两所述涂布侧壁上的所述侧壁开口相对设置;
所述管道组件包括一个主管道和两个分支管道,所述主管道与所述容纳腔连通,两所述分支管道分别与两所述涂布侧壁上相对设置的两侧壁开口连通。
4.根据权利要求1所述的薄膜涂布装置,其特征在于,所述管道组件与所述结构主体一体成型。
5.根据权利要求1所述的薄膜涂布装置,其特征在于,所述结构主体还包括与所述容纳腔连通的供液口,所述供液口用于向所述容纳腔提出所述清洗液。
6.一种清洗装置,用于清洗权利要求1-5任一项所述的薄膜涂布装置,其特征在于,包括:
清洗主体,用于清洗所述涂布侧壁和所述涂布开口;
位置传感器,设置于所述清洗主体上,用于检测所述清洗主体的位置信息;
处理单元,与所述位置传感器连接,用于根据所述清洗主体的位置信号生成所述控制信号组;
其中,所述控制信号组用于控制所述电磁阀组,以使所述清洗主体所在位置的所述侧壁开口有清洗液流出。
7.根据权利要求6所述的清洗装置,其特征在于,所述清洗主体包括用于清洗所述涂布侧壁和所述涂布开口的清洗部以及支撑所述清洗部的基座。
8.根据权利要求7所述的清洗装置,其特征在于,所述清洗装置还包括:
两负压管,固定于所述基座上,且分别位于所述清洗部沿其清洗方向的两侧。
9.根据权利要求7所述的清洗装置,其特征在于,所述清洗部包括用于与所述涂布侧壁、所述涂布开口接触的清洗面,所述清洗面上设置有至少一个负压孔。
10.一种清洗系统,其特征在于,包括权利要求1-5任一项所述的薄膜涂布装置以及权利要求6-9任一项所述的清洗装置。
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