JP4995488B2 - 塗布方法及び塗布装置 - Google Patents
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Description
75 ノズル昇降機構
76 ステージ
78 レジストノズル
78a 吐出口
84 基板搬送部
100 搬送駆動部
170 レジスト液供給機構
200 アライメント機構
202A,202B X方向固定アライメントピン
204A,204B X方向可動アライメントピン
206A,206B,208A,208B Y方向可動アライメントピン
210 ピン駆動部
220 位置(移動距離)センサ
230 コントローラ
Claims (21)
- 被処理基板と長尺形ノズルの吐出口とを微小なギャップを隔ててほぼ水平に対向させ、前記基板に対して前記ノズルより処理液を吐出させながら前記ノズルを相対的に水平方向で移動させる塗布走査を行って、前記基板上に前記処理液の塗布膜を形成する塗布方法であって、
前記塗布走査に先立ち、所定の場所で前記基板をその板面と平行な一次元方向または二次元方向に移動させて前記基板の位置合わせを行う工程と、
前記基板の位置合わせの際に塗布走査方向における前記基板の長さサイズを測定する工程と、
前記基板上に形成される前記処理液の塗布膜のアウトラインに前記基板長さサイズの公差または誤差の影響が現れないように、前記塗布走査において前記アウトラインを規定する所定のパラメータに、前記基板長さサイズの標準値と測定値との誤差に応じた補正をかける工程と
を有する塗布方法。 - 前記パラメータは、前記基板上に設定される前記塗布走査の始点または終点の位置を含む、請求項1に記載の塗布方法。
- 前記パラメータは、前記基板上に設定される前記塗布走査の始点から終点までの距離を含む、請求項1に記載の塗布方法。
- 前記パラメータは、前記塗布走査において前記基板に対する前記ノズルの相対移動速度の時間特性を規定する走査速度制御波形を含む、請求項1に記載の塗布方法。
- 前記パラメータは、前記基板上に対して前記ノズルより前記処理液の吐出を開始または終了するタイミングを含む、請求項1に記載の塗布方法。
- 前記パラメータは、前記基板上に対して前記ノズルより前記処理液の吐出を開始してから終了するまでの吐出持続時間を含む、請求項1に記載の塗布方法。
- 前記パラメータは、前記塗布走査において前記ノズルより処理液を吐出する圧力の時間特性を規定する吐出圧力制御波形を含む、請求項1に記載の塗布方法。
- 前記基板は矩形であり、
前記塗布走査は、前記基板の第1の辺からそれと反対側の第2の辺に向かって行われ、
前記基板長さ測定工程は、少なくとも前記基板の第1の辺から第2の辺までの長さを測定する、
請求項1〜7のいずれか一項に記載の塗布方法。 - 前記基板位置合わせ工程は、前記基板の第1の辺および第2の辺のいずれか一方を既定の基準位置に合わせる、請求項8に記載の塗布方法。
- 被処理基板をほぼ水平に支持するためのステージと、
前記ステージ上で前記基板をその板面と平行な一次元方向または二次元方向に移動させて前記基板の位置合わせを行うアライメント機構と、
前記位置合わせの済んだ前記基板に対して長尺形ノズルの吐出口を微小なギャップを隔ててほぼ水平に対向させ、前記ノズルより処理液を吐出させながら前記ノズルを相対的に水平方向で移動させる塗布走査を行って、前記基板上に前記処理液の塗布膜を形成する塗布処理部と、
前記基板の位置合わせの際に塗布走査方向における前記基板の長さサイズを測定する基板サイズ測定部と、
前記基板上に形成される前記処理液の塗布膜のアウトラインに前記基板長さサイズの公差または誤差の影響が現れないように、前記塗布走査において前記アウトラインを規定する所定のパラメータに、前記基板長さサイズの標準値と測定値との誤差に応じた補正をかけるパラメータ補正部と
を有する塗布装置。 - 前記パラメータ補正部は、前記基板上に設定される前記塗布走査の始点または終点の位置を補正する、請求項10に記載の塗布装置。
- 前記パラメータ補正部は、前記基板上に設定される前記塗布走査の始点から終点までの距離を補正する、請求項10に記載の塗布装置。
- 前記パラメータ補正部は、前記塗布走査において前記基板に対する前記ノズルの相対移動速度の時間特性を規定する走査速度制御波形を補正する、請求項10記載の塗布装置。
- 前記パラメータ補正部は、前記基板上に対して前記ノズルより前記処理液の吐出を開始または終了するタイミングを補正する、請求項10記載の塗布装置。
- 前記パラメータ補正部は、前記基板上に対して前記ノズルより前記処理液の吐出を開始してから終了するまでの持続時間を補正する、請求項10に記載の塗布装置。
- 前記パラメータ補正部は、前記塗布走査において前記ノズルより処理液を吐出する圧力の時間特性を規定する吐出圧力制御波形を補正する、請求項10に記載の塗布装置。
- 前記基板は矩形であり、
前記塗布処理部は、前記基板の第1の辺からそれと反対側の第2の辺に向かって前記塗布処理を行い、
前記基板サイズ測定部は、少なくとも前記基板の第1の辺から第2の辺までの長さを測定する、
請求項10〜16のいずれか一項に記載の塗布装置。 - 前記アライメント機構は、
前記基板を前記一次元方向または二次元方向に移動可能に支持する基板支持部と、
前記基板の第1および第2の辺の側面にそれぞれ当接可能な第1および第2の当接部材と、
前記基板の第1および第2の辺のいずれか一方が既定の基準位置に位置決めされるまで前記第1および第2の当接部材の少なくとも一方を移動させる移動部と
を有する、請求項17に記載の塗布装置。 - 前記基板サイズ測定部は、前記基板の位置合わせが完了した状態における前記第1および第2の当接部材の位置に基づいて前記基板長さサイズの測定値を求める、請求項18に記載の塗布装置。
- 前記基板サイズ測定部は、前記基板の第1および第2の辺のいずれか一方が既定の基準位置に位置決めされた状態で他方の辺の位置を検出する位置センサを有し、その位置センサにより得られる位置情報に基づいて前記基板長さサイズの測定値を求める、請求項19に記載の塗布装置。
- 前記基板サイズ測定部は、前記第1および第2の当接部材の少なくとも一方について前記基板の位置合わせの開始前の原位置から完了時の往動位置までの移動距離を測定する移動距離センサを有し、その移動距離センサにより得られる移動距離測定値に基づいて前記基板長さサイズの測定値を求める、請求項19に記載の塗布装置。
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