JP7111568B2 - 基板処理装置、基板処理方法および基板処理のためのコンピュータプログラム - Google Patents
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Description
・定常速度V1
・加速時間T11:停止状態から定常速度V1に加速させる時間
・定常速度時間T12:定常速度V1を継続させる時間
・定常速度V2
・加速時間T21:定常速度V1から定常速度V2に加速させる時間
・定常速度時間T22:定常速度V2を継続させる時間
・定常速度V3
・加速時間T31:定常速度V2から定常速度V3に加速させる時間
・定常速度時間T32:定常速度V3を継続させる時間
・定常速度V4
・加速時間T41:定常速度V3から定常速度V4に加速させる時間
・定常速度時間T42:定常速度V4を継続させる時間
・定常速度V5
・加速時間T51:定常速度V4から定常速度V5に加速させる時間
・定常速度時間T52:定常速度V5を継続させる時間
・減速時間Te:定常速度V5から停止状態に減速させる時間
を本発明の「パラメータ」の一例として設定可能としている(図3参照)。これらのパラメータの調整は、塗布処理の種類に応じてレシピが変更される毎に行う必要がある。また、ユーザによりパラメータの調整が要求される場合もある。そこで、本実施形態では、図6に示す最適化処理を行うことで、パラメータの調整を容易に行うことが可能となっている。
Q=k1・A+k2・B+k3・C
ただし、k1、k2、k3は、各特徴量の重み付け係数である、
に基づいて計測された吐出特性の目標特性からのずれの状態量Qを導出している(ステップS6)。なお、重み付け係数とは、これらの特徴量A~Cのうちどの特徴量をどれだけ重視するかを決定する係数であり、重要な特徴量には大きな値を設定し、あまり重要でない特徴量には小さな値を設定するのが望ましい。
9…制御ユニット
71…ノズル
81…ポンプ
86…圧力計
92…演算処理部
921…吐出制御部
921a…パラメータ調整部
921b…状態量判定部
922…吐出特性計測部
923…状態量導出部
924…学習部
dT…立ち上がり時間差
S…基板
Sf…(基板の)上面
T11、T12、T21、T22、T31、T32、T41、T42、T51、T52、Te、V1~V5…パラメータ
Claims (7)
- 処理液をノズルに送給することで前記ノズルから前記処理液を目標特性で基板に吐出して供給する基板処理装置であって、
前記処理液の送給時のパラメータを調整して前記ノズルからの処理液の吐出を制御する吐出制御部と、
前記処理液が吐出された際の前記処理液の吐出速度の時間変化を示す吐出特性を計測する吐出特性計測部と、
前記吐出特性計測部で計測された吐出特性の前記目標特性からのずれの状態量を導出する状態量導出部と、
前記パラメータの変更に伴う状態量の変化を機械学習して学習モデルを構築する学習部とを備え、
前記吐出制御部は、
前記状態量導出部で導出される前記状態量が所定の許容範囲を超えている間、前記学習部が構築した前記学習モデルに基づいて前記パラメータを変更して前記基板以外に処理液を吐出する疑似吐出を繰り返す一方、
前記状態量導出部で導出される前記状態量が許容範囲に入ると最後に変更された前記パラメータで前記処理液を前記基板に吐出する
ことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記処理液を前記ノズルに送給するポンプと、
前記ポンプにより前記ノズルに送給される前記処理液の圧力を検出する圧力計とを備え、
前記吐出特性計測部は前記圧力計により検出された圧力値に基づいて前記吐出特性を計測し、
前記状態量は、
前記ポンプの作動により前記ノズルからの前記処理液の吐出速度が定常吐出速度に高められる立ち上がり領域における吐出の安定性を示す初動吐出安定度と、
前記吐出特性と前記目標特性との間における、前記処理液の吐出開始から前記処理液の吐出速度が定常吐出速度に達するまでの立ち上げ時間の差分と、
前記処理液の吐出速度が前記定常吐出速度に維持されている定常吐出領域における吐出の安定性を示す定常吐出安定度と
の和である基板処理装置。 - 請求項2に記載の基板処理装置であって、
前記初動吐出安定度は前記立ち上がり領域における前記圧力値の差分の積算値である基板処理装置。 - 請求項2または3に記載の基板処理装置であって、
前記定常吐出安定度は前記定常吐出領域における前記圧力値の変動量である基板処理装置。 - 請求項2ないし4のいずれか一項に記載の基板処理装置であって、
前記パラメータは前記ポンプにより前記処理液を送給する動作を制御する制御量である基板処理装置。 - 処理液をノズルに送給することで前記ノズルから前記処理液を目標特性で基板に吐出して供給する処理液供給工程と、
前記処理液供給工程の前に前記処理液の送給時のパラメータを最適化する最適化工程とを備え、
前記最適化工程は、
前記基板以外に前記処理液を吐出する疑似吐出工程と、
前記疑似吐出工程における前記処理液の吐出速度の時間変化を示す吐出特性を計測する吐出特性計測工程と、
計測された前記吐出特性の前記目標特性からのずれの状態量を導出する状態量導出工程と、
前記パラメータの変更に伴う状態量の変化を機械学習して学習モデルを構築する学習工程とを有し、
前記状態量が所定の許容範囲を超えている間、前記学習モデルに基づいて前記パラメータを変更した上で、前記疑似吐出工程、前記吐出特性計測工程、前記状態量導出工程および前記学習工程を繰り返して実行する一方、
前記状態量が前記許容範囲に入ると、最後に変更された前記パラメータを前記処理液供給工程で前記処理液を吐出する際のパラメータとして設定する
ことを特徴とする基板処理方法。 - 基板処理のためのコンピュータプログラムであって、
処理液をノズルに送給することで前記ノズルから前記処理液を目標特性で基板に吐出して供給する処理液供給機能と、
前記処理液を前記基板に吐出して供給する前に前記処理液の送給時のパラメータを最適化する最適化機能とを備え、
前記最適化機能が、
前記基板以外に前記処理液を吐出する疑似吐出機能と、
前記基板以外に前記処理液を吐出している際の前記処理液の吐出速度の時間変化を示す吐出特性を計測する吐出特性計測機能と、
計測された前記吐出特性の前記目標特性からのずれの状態量を導出する状態量導出機能と、
前記パラメータの変更に伴う状態量の変化を機械学習して学習モデルを構築する学習機能とを有し、
前記状態量が前記目標特性に対する所定の許容範囲を超えている間、前記学習モデルに基づいて前記パラメータを変更した上で、前記疑似吐出機能、前記吐出特性計測機能、前記状態量導出機能および前記学習機能を繰り返して実行する一方、
前記状態量が前記許容範囲に入ると、最後に変更された前記パラメータを前記処理液供給機能で前記処理液を吐出する際のパラメータとして設定する機能を、
コンピュータに実現させる、コンピュータプログラム。
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