JP4418428B2 - 基板浮上装置 - Google Patents
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Description
【0001】
本発明は、例えば液晶ディスプレイ(LCD)等のフラットパネルディスプレイ(FPD)などに用いられるガラス基板を浮上させる基板浮上装置に関する。
【背景技術】
【0002】
例えばLCDのガラス基板の検査を行う場合は、ガラス基板を基準位置にアライメントする必要がある。例えば特開平8−313815号公報は、ガラス基板の位置決め装置を開示する。この位置決め装置は、XYステージ上にボールキャスタを介してガラス基板を吸着保持する保持ステージを載置し、この保持ステージを押付シリンダの付勢により移動し、ガラス基板の側縁を各基準ピンに直接押し当ててアライメントする。
【0003】
ガラス基板の大型化に伴ないガラス基板を吸着保持する保持ステージとXYステージも大型化する。特に、XYステージは、ガラス基板をXY方向に移動してガラス基板全面を顕微鏡で観察するためガラス基板の4倍の設置スペースが必要になり、装置全体が大型化する。又、保持ステージの大型化に伴ない重量が重くなり、保持ステージを移動してガラス基板の側縁を各基準ピンに直接押し当てると、その衝撃によりガラス基板が破損するおそれがある。又、特開2000−9661号公報には、ころ搬送部の多数のころ上にガラス基板を載置した状態で、シリンダの動作によりガラス基板を位置決めピンに押し当ててアライメントする技術が開示されている。このようなアライメントでは、ガラス基板の大型化に伴ないガラス基板と多数のころとの間の摩擦抵抗が大きくなり、シリンダを用いてガラス基板を位置決めピンに押し付けることが困難になる。又、ガラス基板が多数のころの回転方向と直交する方向に押されると、ガラス基板は多数のころ上を摺って移動してしまう。このため、ガラス基板の裏面にころの摩擦痕が生じるおそれがある。
【0004】
これらの問題を解決するためにガラス基板をエアーの吹き上げにより浮上させてガラス基板の位置決めを行うことが考えられている。ガラス基板は、僅かな外力が加わるだけで移動して基準ピンに衝突して跳ね返るために、直ぐに停止できないことからアライメントの安定性に欠ける。又、エアー浮上ステージ面とガラス基板面との間の摩擦力が極めて小さいために、ガラス基板の大型化に伴なうガラス基板自体の重量が重くなることにより基準ピンに衝突する衝撃力が大きくなり、ガラス基板が破損するおそれがある。又、ガラス基板をエアーや静電等により浮上させることにより、浮上ステージ面とガラス基板面との間の摩擦力が極めて小さくなるために、アライメント又はガラス基板の受け渡しの際にガラス基板が小さな外力や自体の慣性力により移動してしまう問題が生じる。
【発明の開示】
本発明の主要な観点によれば、ガラス基板と浮上ステージとの間にエアー層を形成してガラス基板を水平に浮上させる基板浮上装置において、浮上ステージ上にエアー層により浮上したガラス基板の裏面に接触部材を接触させ、ガラス基板と接触部材との摩擦力によりガラス基板の移動を規制する基板保持機構を有し、基板保持機構は、更に接触部材をガラス基板の裏面に当て付ける方向に付勢する弾性部材を有し、この弾性部材の弾性力により接触部材をガラス基板の裏面に当て付けて浮上ステージ上に浮上したガラス基板の裏面に摩擦力を与えて移動を規制する基板浮上装置が提供される。
【0005】
以下、本発明の第1の実施の形態について図面を参照して説明する。
図1は第1の基板浮上装置の全体構成図である。浮上ステージ1の表面1aには、例えば一定のエアー圧力でエアーを吹き出す複数のエアー吹き出し孔1hが規則的に設けられている。この浮上ステージ1は、表面1a上にガラス基板2を載置し、各エアー吹き出し孔1hからエアーを吹き出すことにより、浮上ステージ1の表面1aとガラス基板2との間にエアー層を形成し、ガラス基板2を浮上ステージ1の表面1a上に浮上させる。なお、浮上ステージ1は、エアー浮上に限らず、静電浮上又は超音波浮上などのガラス基板2をステージ面から浮上させるものであればよい。
【0006】
浮上ステージ1には、第1の基板保持機構3Aが設けられている。この第1の基板保持機構3Aは、浮上ステージ1を上下方向に貫通する円筒状の孔4内に設けられている。この孔4を設けた浮上ステージ1の下面1bには、U字状支持部材5がU字底板5aを下方に配置して設けられている。このU字状支持部材5のU字底板5aの下面には、アクチュエータである例えば空気圧シリンダ6が設けられている。この空気圧シリンダ6の伸縮ロッド7は、U字底板5aに設けられた孔を通してU字底板5aの上方に突出している。この空気圧シリンダ6の伸縮ロッド7の先端部には、ねじ部8及びナット9からなる連結部を介して基板保持部材10が接続されている。この基板保持部材10は、伸縮ロッド7と同軸上に支持台11及び支持棒12を設けてなる。支持台11は、円柱状に形成され、伸縮ロッド7の先端部にねじ部8及びナット9を介して連結されている。支持棒12は、支持台11上に設けられ、支持台11の外径よりも小さい外径を有する円柱状に形成されている。
【0007】
支持棒12の先端部には、耐摩耗性の樹脂により形成された円筒状の接触部材13が取り付けられている。この接触部材13は、下部面15に支持棒12の外径よりも僅かに大きい孔13aが設けられている。この接触部材13の中空部内には、孔13aを通して支持棒12が挿入されている。
【0008】
支持棒12には、円筒状のボール支持体16、ボールベアリング17を介して接触部材13が矢印A方向に回転自在に設けられている。接触部材13の下部面15と支持台11の上部面11aとの問における支持棒12の外周には、弾性部材として例えばコイルばね18が設けられ、接触部材13を上方向に付勢している。このコイルばね18の付勢力(弾性力〉は、浮上しているガラス基板2の裏面に対する接触部材13の当て付け力を最適値、すなわち浮上しているガラス基板2が後述する押付けピン43の押付け圧又は各搬送部32〜35の非吸着時のガラス基板2に対する接触圧よりも小さな外力又は自重による慣性により移動しない程度の小さな摩擦力で、かつガラス基板2に摩擦痕及び変形等の影響を与えない僅かな当て付け力で接触部材13をガラス基板2の裏面に接触させるように設定されている。この接触部材13は、コイルばね18を介して支持棒12の先端部に支持されて矢印B方向に上下移動する。
【0009】
空気圧シリンダ6による伸縮ロッド7の伸縮ストロークは、伸縮ロッド7を縮めたときの接触部材13の上部面14から浮上ステージ1上に浮上したガラス基板2の下面までの距離に、接触部材13を浮上したガラス基板2の下面に接触しガラス基板2を移動させない程度の接触抵抗を生じさせる程度の微小距離を合わせた長さに予め設定されている。
【0010】
図2は第2の基板浮上装置の全体構成図である。なお、図1と同一部分には同一符号を付してその詳しい説明は省略する。浮上ステージ1には、第2の基板保持機構3Bが設けられている。この第2の基板保持機構3Bの空気圧シリンダ6の伸縮ロッド7の先端部には、ねじ部8及びナット9を介して支持筐体20が接続されている。この支持筐体20は、例えば円筒状に形成され、内部に吸着パッド取付け穴21が設けられている。この吸着パッド取付け穴21内には、吸着パッド22の上下動を規制する環状の横溝部23が設けられている。この横溝部23は、吸着パッド取付け穴21の内径よりも大きい内径を有する。
【0011】
吸着パッド取付け穴21の底面には、上下方向に伸縮するゴム、樹脂、金属などの弾性部材からなる吸着パッド支持部材であるベローズ25を介して吸着パッド22が設けられている。
【0012】
吸着パッド22は、耐摩擦性の樹脂を例えば円板状に形成した接触部材を兼ねる。この吸着パッド22は、上部に例えば円形のパット溝26が形成され、下部に上下動を規制する係止環27が形成されている。この係止環27は、横溝部23内に取り付けられている。
【0013】
吸着パッド22とベローズ25と支持筐体20との間には、各エアー流通路28a〜28cが連通して設けられている。エアー流通路28cは、支持筐体20内で屈曲して支持筐体20の外壁面に到達し、この外壁面にエアー吸引口29を形成している。このエアー吸引口29には、吸引チューブ24等を介して吸引ポンプが接続されている。
【0014】
各エアー流通路28a〜28cを通して吸引ポンプによりエアーを吸引することにより、ガラス基板2の裏面が吸着パッド22に吸着固定される。吸引ポンプによる吸引圧力は、浮上しているガラス基板2の裏面に対する吸着パッド22(接触部材)との間の摩擦力がガラス基板2に対する小さな外力又は自重の慣性により移動しない程度の吸引圧力に設定することも可能である。
【0015】
ベローズ25の付勢力(弾性力)は、浮上しているガラス基板2の裏面に対する吸着パッド22の当て付け力を最適値、すなわち浮上しているガラス基板2が後述する押付けピン43の押付け圧又は各搬送部32〜35の非吸着時のガラス基板2に対する接触圧よりも小さな外力又は自重による慣性により移動しない程度の小さな摩擦力で、かつガラス基板2に摩擦痕及び変形等の影響を与えない僅かな当て付け力で吸着パッド22をガラス基板2の裏面に接触させるように設定されている。
【0016】
空気圧シリンダ6による伸縮ロッド7の伸縮ストロークは、伸縮ロッド7を縮めたときの吸着パッド22の上部面から浮上ステージ1上に浮上したガラス基板2の下面までの距離に、吸着パッド22を浮上したガラス基板2の下面に接触しガラス基板2を移動させない程度の接触抵抗を生じさせる程度の微小距離を合わせた長さに予め設定されている。
【0017】
次に、上記の如く構成された各基板保持機構の動作をLCD製造ラインの基板検査工程に適用した場合について説明する。
図3は第1及び第2の基板保持機構3A、3Bを適用したLCD製造ラインの基板浮上装置を示す構成図である。搬送用の浮上ステージ1の表面1aには、複数のエアー吹き出し孔1hが縦横方向に規則的に設けられている。
浮上ステージ1の両側面には、それぞれ直線状の各ガイドレール30、31が設けられている。これらガイドレール30、31には、例えばリニアモータで駆動する各2組の各搬送部32、33と34、35が移動可能に設けられている。一方の組の各搬送部32、33は、互いに同期して各ガイドレール30、31上を矢印C方向に往復移動し、他方の組の各搬送部34、35も互いに同期して各ガイドレール30、31上を矢印D方向に往復移動する。
【0018】
図4は各搬送部32〜35の構成図である。これら搬送部32〜35は、同一構成を有するので、搬送部32についてのみ構成を説明する。搬送部32上には、各昇降支持部材36、37を介して吸着載置台38が設けられている。各昇降支持部材36、37は、吸着載置台38を同期して上下方向(Z方向)に昇降させる。この吸着載置台38上には、複数、例えば5つ基板吸着装置39がガラス基板2の搬送方向Eと同一方向に設けられている。なお、基板吸着装置39の設置数は、5つに限らず、任意の個数設けてもよい。各基板吸着装置39は、エアーの吸引によりガラス基板2の裏面を吸着保持する。
【0019】
LCD製造ラインの浮上ステージ1には、上流側から搬送されてくるガラス基板2を下流側の検査部S2に受け渡しする基板受け渡し部S1と、この基板受け渡し部S1の下流側に設けられた検査部S2とを有する。基板受け渡し部S1における浮上ステージ1には、複数の円筒状の孔4が設けられ、これら孔4内にそれぞれ基板保持機構として図1に示す第1の基板保持機構3Aが設けられている。これら第1の基板保持機構3Aは、例えばLCD製造ライン方向に長手方向を有する長方形の各コーナ位置に対応する4箇所に設けられている。第1の基板保持機構3Aは、浮上ステージ1上にエアーによりガラス基板2をほぼ水平に浮上させることができるので、例えばガラス基板2のほぼ中央位置に対応する1箇所に設けることも可能である。
【0020】
検査部S2には、固定して設けられた各基準ピン42と、ガラス基板2の縁を押し付ける方向(矢印G方向)に移動可能な各押付けピン43とが設けられている。この検査部S2には、門型アーム44が浮上ステージ1を跨いで設けられている。この門型アーム44は、ガラス基板2の搬送方向Eと同一方向(矢印F方向)に移動可能である。この門型アーム44には、顕微鏡ヘッド45が搬送方向Eに対して垂直方向(矢印J方向〉に移動可能に設けられている。門型アーム44は、ガラス基板2を浮上ステージ1上に浮上させた状態で各搬送部34、35により矢印E方向に所定のピッチで移動するようにすれば、固定設置してもよい。
【0021】
検査部S2における浮上ステージ1にも例えばLCD製造ライン方向に長手方向を有する長方形の各コーナ位置に対応する4箇所にそれぞれ各孔4が設けられ、これら孔4内にそれぞれ基板保持機構として図2に示す第2の基板保持機構3Bが設けられている。
【0022】
次に、上記LCD製造ラインにおけるガラス基板2の受け渡し及び基板検査の動作について説明する。
浮上ステージ1は、複数のエアー吹き出し孔1hから均一なエアー圧力でエアーを吹き出すと、浮上ステージ1の表面1aとガラス基板2との間にエアー層が形成されて、ガラス基板2は浮上ステージ1の表面1a上に浮上する。各搬送部32、33の各基板吸着装置39は、エアー浮上しているガラス基板2における搬送方向Eの先頭側の両縁を吸着保持する。これら搬送部32、33は、ガラス基板2を吸着保持した状態で、LCD製造ラインの搬送方向Eに向って同期して各ガイドレール30、31上をそれぞれ移動する。これにより、エアーで浮上したガラス基板2は、各搬送部32、33の移動に引っ張られて搬送方向Eに高速で搬送される。
【0023】
ガラス基板2が基板受け渡し部S1に到達すると、各搬送部32、33は、移動を停止する。ガラス基板2をエアー浮上させた状態で、各第1の基板保持機構3Aは、互いに同期して各空気圧シリンダ6の各伸縮ロッド7を予め設定された伸縮ストロークだけ上方に伸ばす。これら伸縮ロッド7の伸びに伴なって各支持棒12に沿って各接触部材13が上昇する。各伸縮ロッド7の伸びによる上昇高さが予め設定された高さに達すると、各空気圧シリンダ6は各伸縮ロッド7の伸びをそれぞれ停止する。
【0024】
この結果、各空気圧シリンダ6の各接触部材13の上部面14は、図5に示すようにエアー浮上しているガラス基板2の裏面に接触する。このときの各接触部材13の上部面14のガラス基板2の裏面に対する接触は、各コイルばね18の付勢力によって、エアー浮上しているガラス基板2が各搬送部32、33の非吸着時のガラス基板2に対する接触圧より小さな外力又は自重による慣性により移動しない程度の小さな摩擦力で、かつガラス基板2に摩擦痕や変形等の影響を与えない僅かな当て付け力で接触する。
【0025】
各接触部材13は、樹脂により形成され、各支持棒12に対してボールベアリング17を介して回転可能で、かつ各コイルばね18の付勢力によって上下方向に移動可能に設けられているので、ガラス基板2の裏面に接触するときのガラス基板2と各接触部材13との互いの傾き等の姿勢に応じて回転したり、上下動してガラス基板2の裏面に接触する。
【0026】
このようにガラス基板2をエアー浮上させた状態でガラス基板2の裏面に各接触部材13を接触させるので、各接触部材13に加わる重量が小さくなる。これによって、ガラス基板2と各接触部材13の上面部14との間の摩擦抵抗は、外力が加わらない限りガラス基板2を移動させない程度に小さくなる。又、各接触部材13は、各空気圧シリンダ6の予め設定された高さへの各伸縮ロッド7の伸びにより同一高さ位置で停止する。これにより、ガラス基板2は、水平状態で移動せずに保持される。
この後、各搬送部32、33は、ガラス基板2に対する吸着保持を停止し、ガラス基板2の搬入側(上流側)に戻る。
【0027】
各搬送部32、33が搬入側に戻ると同時に、各搬送部34、35が基板受け渡し部S1におけるガラス基板2の搬送方向Eの先頭側に移動し、これら搬送部34、35における各基板吸着装置39が吸着動作を開始する。各搬送部32、33がガラス基板2に対して吸着を完了すると、各第1の基板保持機構3Aは、互いに同期して各空気圧シリンダ6の各伸縮ロッド7を縮める。各第1の基板保持機構3Aは、ガラス基板2の裏面から離れ、ガラス基板2が浮上ステージ1上に浮上する。
【0028】
これら搬送部34、35は、ガラス基板2を吸着保持した状態で、LCD製造ラインの下流側に同期して各ガイドレール30、31上をそれぞれ移動し、ガラス基板2を検査部S2まで高速搬送する。
ガラス基板2が検査部S2に到達すると、各搬送部34、35は、移動を停止する。ガラス基板2をエアー浮上させた状態で、検査部S2における図2に示す各第2の基板保持機構3Bは、互いに同期して各空気圧シリンダ6の各伸縮ロッド7を予め設定された伸縮ストロークだけ上方に伸ばす。この伸縮ロッド7の伸びに伴なって支持筐体20に設けられている吸着パッド22が上昇する。伸縮ロッド7の伸びが予め設定された伸縮ストロークに達すると、空気圧シリンダ6は伸縮ロッド7の伸びを停止する。これにより、各吸着パッド22は、エアー浮上しているガラス基板2の裏面に接触する。このときの各吸着パッド22とガラス基板2との接触圧は、ベローズ25の付勢力によってエアー浮上しているガラス基板2が押付けピン43の押付け圧又は自重により移動しない程度の小さな摩擦力でガラス基板2の裏面に接触し、エアー浮上しているガラス基板2の移動を規制する。すなわち、各吸着パッド22は、各押付けピン43の移動に追従してガラス基板2が移動できる程度の摩擦力がガラス基板2の裏面に作用する摩擦力でガラス基板2を仮止めする。
【0029】
この状態で、ガラス基板2の縁に各押し付けピン43が押し付けられると、ガラス基板2は、各押し付けピン43に追従(ガラス基板2が各押し付けピン43から離れない状態)して移動し、ガラス基板2の隣接する2辺が各基準ピン42に当接し、基準位置にアライメントされる。このアライメントが開始される前に各搬送部34、35は、ガラス基板2に対する吸着保持を停止し、基板受け渡し部S1側に移動する。
【0030】
次に、エアー流通路28a〜28cのエアー吸引口29、吸引チューブを介して吸引ポンプによりエアー吸引が行われる。これにより、各吸着パッド22からエアーが吸い込まれ、このエアーがベローズ25、支持部材24、支持筐体20の間に連通するエアー流通路28a〜28c内を通して吸引される。このエアー吸引により各吸着パッド22とガラス基板2の裏面との間が塞がると、吸着パッド22のパット溝26からベローズ25、支持部材24、支持筐体20の間に連通するエアー流通路28a〜28c内は負圧になり、ベローズ25が潰れて各吸着パッド22がガラス基板2の裏面に吸着する。これにより、ガラス基板2は、固定保持される。
吸着パッド22が下降する。吸着パッド22は、環状の横溝部23内の下端に吸着パッド22の係止環27が当接して下降が規制される。
【0031】
このようにガラス基板2が各吸着パッド22により浮上ステージ1上に固定保持された状態で、門型アーム42をガラス基板2の搬送方向Eと同一方向(矢印F方向)に移動すると共に、顕微鏡ヘッド43が門型アーム42上を搬送方向Eに対して垂直方向(矢印J方向)に移動することによりガラス基板2に対する検査が行なわれる。ガラス基板2の検査が終了すると、下流側から別の各搬送部が検査部S2に移動し、ガラス基板2の先頭側を吸着保持して下流側に搬送する。
【0032】
このようにガラス基板2をエアー搬送するLCD製造ラインの基板受け渡し部S1に第1の基板保持機構3Aを設け、検査部S2に第2の基板保持機構3Bを設けた。基板受け渡し部S1においては、ガラス基板2に対する各搬送部32、33の吸着保持が停止されても、ガラス基板2は、第1の基板保持機構3Aにより仮保持されて移動せずに停止できる。エアー浮上だけのフリーな状態であれば、ガラス基板2は、例えば僅かな傾きやダウンフロー等の外力により移動してしまうが、第1の基板保持機構3Aとガラス基板2との摩擦力とによりガラス基板2の移動を規制できる。
【0033】
基板受け渡し部S1において、エアー浮上しているガラス基板2を第1の基板保持機構3Aの接触による摩擦抵抗によって移動を規制した状態で、下流側の各搬送部34、35にガラス基板2を安定して受け渡すことができる。
基板受け渡し部S1において、エアー浮上しているガラス基板2の裏面に第1の基板保持機構3Aが接触したときも、コイルばね18の付勢力が最適値に設定されているので、ガラス基板2が第1の基板保持機構3A上を摺って移動してもガラス基板2の裏面に影響を与えない。
【0034】
検査部S2においては、エアー浮上しているガラス基板2を各吸着パッド22上に載置して第2の基板保持機構3Bとの摩擦力によりガラス基板2を仮止めし、この状態で各押付けピン43の押付けによってガラス基板2を各基準ピン42に押し当てることができるので、ガラス基板2を安定性よく基準位置にアライメントすることができる。又、アライメントしてから各吸着パッド22によりガラス基板2を吸着固定することができるので、ガラス基板2に位置ずれを起こさずに、ガラス基板2の検査ができる。
【0035】
第1の基板保持機構3Aは接触部材13を支持する基板保持部材10を空気圧シリンダ6により昇降させる構成であり、第2の基板保持機構3Bは吸着パッド22を空気圧シリンダ6により昇降させる構成なので、第1及び第2の基板保持機構3A、3B共に小型化が可能で、それぞれLCD製造ラインの基板受け渡し部S1、検査部S2に組み込むことが容易である。
【0036】
LCD製造ラインにエアー搬送されるガラス基板2は、基板受け渡し部S1においてガラス基板2をエアー浮上させた状態で各搬送部32、33と34、35との間で受け渡しを行うので、高速でエアー搬送でき、ガラス基板2の検査工程に要する時間を短縮し、検査タクトタイムを短くできる。
【0037】
次に、基板保持機構を基板検査装置に用いられる浮上ステージに適用した場合について説明する。
図6は基板検査装置に用いられる浮上ステージの外観図である。矩形状の浮上ステージ100上には、例えば4箇所に図1に示す各第1の基板保持機構3Aが設けられている。これら第1の基板保持機構3Aを設ける箇所は、浮上しているガラス基板2を裏面から支持可能な箇所で、例えば長方形の各コーナ位置に対応する4箇所に設けられている。
【0038】
浮上ステージ1の外周部には、位置決め機構を構成する各基準ピン50がXYの各辺上に固定して設けられると共に、これら辺に対向する辺上に各押し付けピン51が移動可能に設けられている。
ガラス基板2を、浮上ステージ1上でエアー浮上させた状態で、各第1の基板保持機構3Aの伸縮ロッド7を予め設定された伸縮ストロークだけ上方に伸ばすと、図5に示すように各空気圧シリンダ6の各接触部材13の上部面14がカラス基板2の裏面に接触する。接触部材13は、各コイルばね18の付勢力によって、エアー浮上しているガラス基板2が押し付けピン51の押付け圧より小さな外力で移動させず、かつガラス基板2の裏面に影響を与えない小さな当て付け力でエアー浮上しているガラス基板2の裏面に接触し、エアー浮上しているガラス基板2を水平状態で移動せずに保持する。
【0039】
このような状態で、各押し付けピン51の押付けによってガラス基板2を各基準ピン50に押し当てると、ガラス基板2は、安定性よく基準位置にアライメントされる。
ガラス基板2のアライメントが完了すると、各空気圧シリンダ6は、伸縮ロッド14を縮める。伸縮ロッド14が縮まると、ガラス基板2は、アライメントされた状態を保って浮上ステージ100上にエアー浮上する。
この状態で、例えば図3に示す顕微鏡ヘッド45等を搭載した門型アーム44がX方向に移動すると共に、顕微鏡ヘッド45がY方向に移動してガラス基板2の検査が行なわれる。
【0040】
このように基板検査装置の浮上ステージ100に適用しても、エアー浮上しているガラス基板2を各接触部材13の接触による摩擦抵抗によって移動を規制し、各押し付けピン51に追従して各基準ピン50に押し当てることができるので、ガラス基板2を安定性よく基準位置に位置決めすることができるなど、LCD製造ラインの基板検査工程に適用した場合と同様の効果を奏することができる。
【0041】
次に、本発明の第2の実施の形態について説明する。なお、図1と同一部分には同一符号を付してその詳しい説明は省略する。図7は基板保持機構の構成図である。
浮上ステージ1に設けられた円筒状の孔4の開口部には、リング状支持部材60が設けられている。このリング状支持部材60は、上下方向に一対のリング状の各挟持片60a、60bを有する。このリング状支持部材60には、各挟持片60a、60bによって接触膜61が張られた状態で挟持されている。この接触膜61は、耐摩耗性の樹脂により均一な膜厚に形成され、伸縮可能である。なお、リング状支持部材60による接触膜61は、図8に示すように異なる外径の2枚のリング挟持片60a、60bを横方向に内外2重に設けて挟持してもよい。
【0042】
孔4の下部には、連結部材62を介して配管63が設けられている。この配管63の他端には、圧搾エアー供給部64が接続されている。この圧搾エアー供給部64は、圧搾エアーを配管63を通して孔4内に供給する。
又、配管63には、エアー圧力調節弁65が設けられている。このエアー圧力調節弁65は、開度の調整により孔4内に供給するエアーの流量を調節したり、開放動作と閉鎖動作とによりエアー供給のオン・オフを行う。このエアー圧力調節弁65は、孔4内への圧搾エアーの供給量を、圧搾エアーの供給により孔4内の圧力が上昇し、接触膜61が上方に膨らんだときの接触膜61と浮上しているガラス基板2の裏面との摩擦抵抗がガラス基板2の移動を規制すると共に、ガラス基板2の裏面に損傷等の影響を与えないエアー供給量に調節する。
【0043】
次に、上記の如く構成された基板保持機構によるガラス基板2の移動の規制の動作について説明する。
ガラス基板2が浮上ステージ1上にエアー浮上している状態で、圧搾エアーが配管33を通して孔4内に供給される。このとき、エアー圧力調節弁65は、弁を開放すると共に、弁の開度の調整により孔4内に供給するエアーの流量を、孔4内の圧力が上昇し、接触膜61が上方に膨らんだときの接触膜61と浮上しているガラス基板2の裏面との摩擦抵抗がガラス基板2の移動を規制すると共に、ガラス基板2の裏面に損傷等の影響を与えないエアー供給量に調節する。
【0044】
孔4内に圧搾エアーが供給されると、孔4内は気密に形成されているので、孔4内部の圧力が次第に高くなり、これに伴なって接触膜61に加わる圧力も次第に高くなる。これにより、接触膜61は、図7の点線により示すように上方に向って膨らむ。この膨らみは、接触膜61が均一な膜厚に形成されているので、接触膜61の中央部の上昇高さが最も高くなり、中央部から離れるに従って順次高さが低くなる。
【0045】
この接触膜61の膨らみよりその中央部がガラス基板2の裏面に接触すると、ガラス基板2と接触膜61との間の小さな摩擦抵抗でガラス基板2が移動せずに接触膜61上に保持される。このとき接触膜61は、圧搾エアーの供給により弾力性を持って膨らんでいるので、ガラス基板2に対して柔軟に当接し、ガラス基板2の裏面に損傷等の影響を与えない。
【0046】
このような基板保持機構は、例えば図3に示すLCD製造ラインの浮上ステージ1における基板受け渡し部S1に設けられた第1の基板保持機構3A、又は図6に示す基板検査装置の浮上ステージ100に設けられた第1の基板保持機構3Aに代って設けることによって、それぞれ上記第1の実施の形態と同様の効果を奏することができる。この基板保持機構によれば、接触膜61を膨らませるだけの簡単な構成で、上記第1の実施の形態と同様の効果を奏することができる。
【0047】
本発明は、上記第1乃至第3の実施の形態に限定されるものではなく、各種変形してもよい。例えば、上記各実施の形態では、LCD製造ラインの浮上ステージ1又は基板検査装置の浮上ステージ100に適用した場合について説明したが、これに限らず、基板検査装置や各種基板製造装置における搬入搬出側の各浮上ステージ100に適用してもよい。
【0048】
例えば、LCD製造ラインにおける搬入側の浮上ステージ1上にリフト機能を備えた第1の基板保持機構3Aを設けた場合について説明する。浮上ステージ1の搬入側には、搬入用ロボットが設けられている。各第1の基板保持機構3Aは、各接触部材13を空気圧シリンダ6の駆動により搬入側ロボットの吸着ハンドからガラス基板2を受け取る高さまで上昇する。この状態で、搬入用ロボットは、吸着ハンドを下降させ、ガラス基板2を浮上ステージ1上の各第1の基板保持機構3Aの各接触部材13上に載置する。
【0049】
次に、浮上ステージ1は、複数のエアー吹き出し孔1hからエアーを吹き出す。この状態で、空気圧シリンダ6は、各第1の基板保持機構3Aを下降させ、ガラス基板2がエアーで浮上する位置よりも若干高い位置で停止する。このとき、ガラス基板2は、エアー浮上した状態で各接触部材13上に載置されるので、エアー浮上している状態でも移動することがない。この後、図3に示すのと同様に基準ピン42と押付けピン43とで構成されるアライメント機構によりアライメントされる。
【0050】
LCD製造ラインの基板受け渡し部S1又は検査部S2における第1、第2の基板保持機構3A、3Bの各設置数は、それぞれ4箇所に限らず、例えば三角形の各頂点となる3箇所、又はガラス基板2を安定に保持し、かつガラス基板2と各接触部材13との間の摩擦抵抗が増大しない複数箇所でもよい。
【0051】
接触部材13を弾性的に支持するのは、コイルばね18に限らず、円筒状に形成されたゴムを用いてもよい。
接触部材13及び吸着パッド22は、ガラス基板2の裏面に対する接触面積の大きさを変化させて、ガラス基板2との間に生じる摩擦抵抗の大きさを調整してもよい。これにより、エアーの吹き上げ力が同一であっても、ガラス基板2のサイズが変更した場合、ガラス基板2の自重がサイズに応じて変わるので、このガラス基板2の自重に応じた対応が可能である。
ガラス基板2を浮上させるのは、エアー浮上に限らず、静電浮上、超音波浮上により浮上させたガラス基板の移動を規制する場合にも適用できる。
【産業上の利用可能性】
【0052】
本発明は、例えば液晶ディスプレイの大型ガラス基板1の搬送に適用した場合について説明したが、半導体ウエハや各種部材の搬送にも適用できる。
【図面の簡単な説明】
【0053】
【図1】本発明に係わる第1の基板浮上装置の第1の実施の形態を示す構成図。
【図2】本発明に係わる第2の基板浮上装置の構成図。
【図3】同装置を適用したLCD製造ラインの基板浮上装置を示す構成図。
【図4】LCD製造ラインにおける各搬送部の構成図。
【図5】同装置によりガラス基板の移動を規制している状態を示す図。
【図6】同装置を適用した基板検査装置に用いられる浮上ステージの外観図。
【図7】本発明に係わる基板浮上装置の第2の実施の形態を示す構成図。
【図8】同装置における接触膜の別の保持機構を示す図。
Claims (10)
- ガラス基板と浮上ステージとの間にエアー層を形成して前記ガラス基板を水平に浮上させる基板浮上装置において、
前記浮上ステージ上に前記エアー層により浮上した前記ガラス基板の裏面に接触部材を接触させ、前記ガラス基板と前記接触部材との摩擦力により前記ガラス基板の移動を規制する基板保持機構を有し、
前記基板保持機構は、更に前記接触部材を前記ガラス基板の裏面に当て付ける方向に付勢する弾性部材を有し、この弾性部材の弾性力により前記接触部材を前記ガラス基板の裏面に当て付けて前記浮上ステージ上に浮上した前記ガラス基板の裏面に摩擦力を与えて移動を規制する、
ことを特徴とする基板浮上装置。 - 前記接触部材は、支持棒の先端部に前記弾性部材を介して上下方向に移動可能に設けられることを特徴とする請求項1記載の基板浮上装置。
- 前記接触部材は、前記ガラス基板の裏面に接触する吸着パッドからなり、
前記吸着パッドは、上下方向に伸縮する弾性部材に支持される、
ことを特徴とする請求項1記載の基板浮上装置。 - 前記弾性部材は、前記浮上ステージ上に非接触状態で浮上した前記ガラス基板の慣性により移動しない程度の小さな摩擦力で前記接触部材を前記ガラス基板の裏面に接触させる弾性力に設定されることを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項記載の基板浮上装置。
- 前記接触部材は、アクチュエータにより上下方向に移動する伸縮ロッドに取り付けられ、
前記伸縮ロッドの伸縮ストロークは、前記接触部材が前記浮上ステージ上に浮上した前記ガラス基板の裏面に接触する上昇高さに設定される、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の基板浮上装置。 - 前記接触部材は、圧搾エアーの供給により膨出する弾性部材からなる接触膜で形成され、
前記接触膜は、前記浮上ステージ面に形成された開口部に張られて設けられ、前記開口部に配管を介して接続された圧搾エアー供給部よりエアーを供給することにより前記接触膜を膨らませることにより前記ガラス基板の裏面に当て付けられる、
ことを特徴とする請求項1記載の基板浮上装置。 - 前記吸着パッドは、支持筐体内に上下方向に伸縮する前記弾性部材からなる吸着パッド支持部材により支持されると共に、前記吸着パッドの下部に上下動を規制する係止環が形成されることを特徴とする請求項3記載の基板浮上装置。
- 前記浮上ステージは、前記ガラス基板を基準位置に位置決めする複数の基準ピンと、前記ガラス基板を前記基準ピンに押し付ける複数の押付けピンとを有し、前記浮上ステージ上に浮上した前記ガラス基板のアライメントの際に、前記接触部材を前記ガラス基板の裏面に接触させた状態で前記複数の押付けピンにより前記ガラス基板を前記複数の基準ピンに押付けてアライメントすることを特徴とする請求項1記載の基板浮上装置。
- 前記浮上ステージは、前記エアー層により浮上した前記ガラス基板の裏面を吸着保持して搬送する複数の搬送部をそれぞれ移動可能に設け、一方の搬送部により搬送された前記ガラス基板を他方の搬送部に受け渡す際に、前記ガラス基板の受け渡し部において前記接触部材を前記ガラス基板の裏面に接触させて前記ガラス基板の移動を停止させた状態で前記他方の搬送部に受け渡すことを特徴とする請求項1記載の基板浮上装置。
- 前記基板保持機構は、アクチュエータの駆動により前記接触部材を上下方向に移動させて搬送ロボットとの間で前記ガラス基板の受け渡しを行うリフト機能を備え、前記接触部材を前記搬送ロボットの吸着ハンドから前記ガラス基板を受け取る高さに上昇させガラス基板を受け取った後、前記接触部材を前記ガラス基板が前記エアー層により浮上する位置よりも若干高い位置に下降して前記浮上ステージに前記ガラス基板を載置させることを特徴とする請求項1記載の基板浮上装置。
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