CN111552124B - 光配向设备及方法 - Google Patents

Abstract

本公开提供了一种光配向设备及方法，属于显示技术领域。该光配向设备，包括工作台、至少两个沿第一方向排列的光源模组、至少两个沿第一方向排列的遮光模组和、至少两个沿第一方向排列的偏光模组；偏光模组至少包括偏光方向不同的第一偏光模组和第二偏光模组；遮光模组包括至少两个可移动的遮光板；光源模组、偏光模组和遮光模组能够形成多个工作模块；一个工作模块包括一个偏光模组、一个光源模组和一个遮光模组。该光配向设备能够提高光配向膜的制备效率。

Description

光配向设备及方法

技术领域

本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种光配向设备及方法。

背景技术

液晶面板包括通过封框胶对盒的阵列基板和彩膜基板，以及位于阵列基板和彩膜基板之间的液晶。阵列基板和彩膜基板在靠近液晶的一侧设置有配向膜，配向膜具有各向异性，能够对液晶进行配向，使液晶分子沿固定方向有规律的排列。在制作时，液晶面板作为一个裁切单元，是由整张液晶面板裁切而成的，阵列基板和彩膜基板(以下简称基板)的光配向加工也是针对整张基板进行的。

然而，在光配向加工中，现有的光配向设备无法对基板上不同取向方向的区域同时进行曝光。举例而言，对于排布有两种不同取向方向的区域的基板，需要通过两次曝光处理，即第一次曝光基板上一种取向方向的区域，将基板从设备中取出，按所需方向旋转，再重新进入设备曝光另一种取向方向的区域。不仅如此，如若基板上不同取向方向的区域交错排布，则在曝光过程中还需要利用遮光板遮挡部分基板。这增加了光配向加工时间的节拍时间，降低了生产效率。

所述背景技术部分公开的上述信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此它可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本公开的目的在于提供一种光配向设备及方法，提高光配向膜的制备效率。

为实现上述发明目的，本公开采用如下技术方案：

根据本公开的第一个方面，提供一种光配向设备，包括：

工作台，具有用于承载基板的承载面；

至少两个沿第一方向排列的光源模组；

至少两个沿所述第一方向排列的偏光模组，所述偏光模组至少包括偏光方向为第二方向的第一偏光模组和偏光方向为第三方向的第二偏光模组；所述第二方向与所述第三方向不同；

至少两个沿所述第一方向排列的遮光模组，任意一个所述遮光模组包括至少两个可移动的遮光板；

其中，所述光源模组、所述偏光模组和所述遮光模组能够形成多个工作模块；任意一个所述工作模块包括一个所述偏光模组、一个所述光源模组和一个所述遮光模组，所述光源模组设于所述偏光模组远离所述工作台的一侧，且所述遮光模组能够被配置为遮挡所述光源模组的至多部分出射光线，在所述遮光板不遮挡所述光源模组的光线的状态下，所述光源模组发出的光线能够通过所述偏光模组形成偏振光并照射向所述工作台。

在本公开的一种示例性实施例中，所述光源模组包括：

多个沿第四方向依次紧邻排列的紫外光源，所述第四方向平行于所述承载面所在平面且与所述第一方向不平行。

在本公开的一种示例性实施例中，所述光配向设备包括光源控制电路，所述光源控制电路用于控制各个所述紫外光源的独立发光。

在本公开的一种示例性实施例中，所述遮光板能够沿所述第四方向移动；所述遮光板在所述第四方向上的尺寸，不小于所述紫外光源在所述第四方向上的尺寸。

在本公开的一种示例性实施例中，在所述第四方向上，所述遮光板具有相对设置的两个光线限定边缘，且所述光线限定边缘沿所述第一方向设置；所述光线限定边缘在所述第一方向上的尺寸，不小于所述光源模组在所述第一方向上的尺寸。

在本公开的一种示例性实施例中，所述第一偏光模组的数量与所述第二偏光模组的数量相同；所述光源模组的数量、所述遮光模组的数量均与所述偏光模组的数量相同；

各个所述偏光模组、各个所述光源模组和各个所述遮光模组一一对应设置以形成各个所述工作模块。

在本公开的一种示例性实施例中，所述光源模组的数量小于所述偏光模组的数量，所述遮光模组的数量不小于所述光源模组的数量；

所述光源模组能够沿所述第一方向平移，以与不同的所述偏光模形成不同的所述工作模块。

在本公开的一种示例性实施例中，所述第一偏光模组的数量至少为两个；所述第二偏光模组的数量与所述第一偏光模组的数量相同；

所述光源模组的数量，与所述第一偏光模组的数量相同。

在本公开的一种示例性实施例中，所述第一偏光模组的数量为所述第二偏光模组的数量的两倍；所述光源模组的数量，与所述第一偏光模组的数量相同。

根据本公开的第二个方面，提供一种光配向方法，所述光配向方法应用于上述的光配向设备；所述光配向方法包括：

获取基板的光配向图案，所述光配向图案包括沿所述第二方向取向的第一图案和沿所述第三方向取向的第二图案中的至少一种；

确定所述第一图案在垂直于所述第一方向上的第一范围，且确定所述第二图案在垂直于所述第一方向上的第二范围；

配置各个所述工作模块以调整各个工作模块的工作区域，所述工作模块的工作区域为所述工作模块照射向所述工作台的偏振光的区域；其中，具有所述第一偏光模组的工作模块的工作区域，在垂直于所述第一方向上的范围与所述第一范围相同；具有所述第二偏光模组的工作模块的工作区域，在垂直于所述第一方向上的范围与所述第二范围相同；

控制所述基板沿所述第一方向移动并通过所述工作台。

本公开提供的光配向设备及方法，可以通过配置出不同的工作模块，例如调整工作模块中的偏光模组的类型、调整工作模块中光源模组的工作与否、调整工作模块中遮光板的位置等，实现在一次曝光过程中在基板的不同区域分别形成不同取向方向的光配向膜，降低光配向膜制备的节拍时间，提高光配向膜的制备效率。不仅如此，通过配置不同的工作模块，该光配向设备还适用于具有单一取向方向的光配向膜的制备，提高了该光配向设备的通用性。

附图说明

通过参照附图详细描述其示例实施方式，本公开的上述和其它特征及优点将变得更加明显。

图1是本公开一种实施方式的光配向设备的侧视结构示意图。

图2是本公开一种实施方式的基板的光配向图案示意图。

图3是本公开一种实施方式的基板的光配向图案示意图。

图4是本公开一种实施方式的基板的光配向图案示意图。

图5是本公开一种实施方式的光配向设备的配置状态的侧视结构示意图。

图6是本公开一种实施方式的第一工作模块的侧视结构示意图。

图7是本公开一种实施方式的第二工作模块的侧视结构示意图。

图8是本公开一种实施方式的光配向设备的配置状态的俯视结构示意图。

图9是本公开一种实施方式的光配向设备的配置状态的俯视结构示意图。

图10是本公开一种实施方式的光配向设备的配置状态的俯视结构示意图。

图11是本公开一种实施方式的紫外光源的结构示意图。

图12是本公开一种实施方式的光配向设备的配置状态的俯视结构示意图。

图13是本公开一种实施方式的光配向设备的配置状态的俯视结构示意图。

图14是本公开一种实施方式的光配向设备的配置状态的俯视结构示意图。

图15是本公开一种实施方式的光配向设备的配置状态的俯视结构示意图。

图16是本公开一种实施方式的光配向方法的流程示意图。

图中主要元件附图标记说明如下：

100、工作台；101、承载面；200、光源模组；201、紫外光源；2011、紫外灯；2012、反光镜；2013、滤波片；300、偏光模组；310、第一偏光模组；320、第二偏光模组；400、遮光模组；410、遮光板；411、光线限定边缘；500、工作模块；510、第一工作模块；520、第二工作模块；600、基板；601、第一图案；602、第二图案；A、第一方向；D、第四方向。

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施例。然而，示例实施例能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的范例；相反，提供这些实施例使得本公开将更加全面和完整，并将示例实施例的构思全面地传达给本领域的技术人员。所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。在下面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本公开的实施例的充分理解。

在图中，为了清晰，可能夸大了区域和层的厚度。在图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。

所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。在下面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本公开的实施例的充分理解。然而，本领域技术人员将意识到，可以实践本公开的技术方案而没有所述特定细节中的一个或更多，或者可以采用其它的方法、组元、材料等。在其它情况下，不详细示出或描述公知结构、材料或者操作以避免模糊本公开的主要技术创意。

当某结构在其它结构“上”时，有可能是指某结构一体形成于其它结构上，或指某结构“直接”设置在其它结构上，或指某结构通过另一结构“间接”设置在其它结构上。

用语“一个”、“一”、“所述”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等；用语“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等。用语“第一”和“第二”等仅作为标记使用，不是对其对象的数量限制。

如图1所示，本公开提供一种光配向设备，用于在基板600上制备光配向膜。该光配向设备包括工作台100、光源模组200、偏光模组300和遮光模组400，其中，

工作台100具有用于承载基板600的承载面101；光源模组200的数量至少为两个，且各个光源模组200沿第一方向A排列；偏光模组300的数量至少为两个，且各个偏光模组300沿第一方向A排列；偏光模组300至少包括偏光方向为第二方向的第一偏光模组310和偏光方向为第三方向的第二偏光模组320；第二方向与第三方向不同；遮光模组400的数量至少为两个且各个遮光模组400沿第一方向A排列，任意一个遮光模组400包括至少两个可移动的遮光板410(图1中未示出)；

其中，光源模组200、偏光模组300和遮光模组400能够形成多个工作模块500；任意一个工作模块500包括一个偏光模组300、一个光源模组200和一个遮光模组400，光源模组200设于偏光模组300远离工作台100的一侧，且遮光模组400能够被配置为遮挡光源模组200的至多部分出射光线，在遮光板410不遮挡光源模组200的光线的状态下，光源模组200发出的光线能够通过偏光模组300形成偏振光并照射向工作台100。

本公开提供的光配向设备，可以通过配置出不同的工作模块500，例如调整工作模块500中的偏光模组300的类型、调整工作模块500中光源模组200的工作与否、调整工作模块500中遮光板410的位置等，实现在一次曝光过程中在基板600的不同区域分别形成不同取向方向的光配向膜，降低光配向膜制备的节拍时间，提高光配向膜的制备效率。不仅如此，通过配置不同的工作模块500，该光配向设备还适用于具有单一取向方向的光配向膜的制备，提高了该光配向设备的通用性。

下面，结合附图对本公开提供的光配向设备的结构、原理和效果做进一步地解释和说明。

如图1所示，本公开提供的光配向设备设置有工作台100，工作台100具有用于承载基板600的承载面101。在光配向过程中，基板600可以置于该承载面101上，且基板600远离承载面101的表面具有待形成光配向膜的有机膜层，例如具有含有光敏剂的聚酰亚胺膜。基板600可以沿第一方向A移动并通过工作台100，在基板600移动过程中，光配向设备的工作模块500可以向朝向工作台100的方向照射偏振光，使得基板600上的有机膜层在移动过程中被曝光，进而形成相应的光配向膜。换言之，在光配向过程中，基板600可以沿第一方向A运动并在运动过程中曝光，基板600无需在工作台100上停止并对准后才进行曝光。这可以进一步简化光配向过程，并提高光配向膜的制备效率。

优选地，基板600可以沿第一方向A匀速运动。

可选地，在工作模块500的工作状态不变的情形下，例如工作模块500朝向工作台100的方向的光照强度和沿第一方向A的光照宽度不变的情形下，可以通过调整基板600通过工作台100的速度，进而调整有机膜层被曝光的强度。可以理解的是，当加大基板600的通过速度时，有机膜层的特定位置被曝光的时间越短，曝光强度越低；当减小基板600的通过速度时，有机膜层的特定位置被曝光的时间越长，曝光强度越大。

在光配向过程之前，可以先获取基板600的光配向图案，并根据基板600的光配向图案配置所需的工作模块500。其中，基板600的光配向图案，是指基板600上待形成的光配向膜中，各个取向方向的区域的分布图案。如图2所示，在MMG(面板套切)产品中，光配向膜在不同的区域具有不同的取向方向，例如在一些区域范围内的取向方向为第二方向，在另一些区域范围内的取向方向为第三方向，则取向方向为第二方向的区域的分布图案为基板600的第一图案601，取向方向为第三方向的区域的分布图案为基板600的第二图案602，第一图案601和第二图案602组成基板600的光配向图案。

如图3和图4所示，如果基板600上待形成的光配向膜具有单一的取向方向，例如光配向膜的取向方向为第二方向(图3所示)或者第三方向(图4所示)，则该基板600的光配向图案可以为整个基板600。换言之，如图3所示，如果整个基板上光配向膜的取向方向均为第二方向，则基板600的第一图案601就是基板600的光配向图案。如图4所示，如果整个基板上光配向膜的取向方向均为第三方向，则基板600的第二图案602就是基板600的光配向图案。可以理解的是，如果待形成的光配向膜还存在具有其他取向方向的区域，则基板600的光配向图案同样包括这些其他取向方向的区域的分布图案。

其中，如图2所示，当基板600的光配向图案包括多个不同的图案时，不同的图案之间的取向方向不同，且不同的图案沿第一方向A的垂直方向间隔设置。换言之，沿第一方向A上的直线上，待形成的光配向膜具有单一的取向方向。

根据基板600的光配向图案，可以获得基板600上任意一个取向方向的区域在垂直于第一方向A上的范围。举例而言，如果光配向图案包括沿第二方向取向的第一图案601和沿第三方向取向的第二图案602，则可以确定第一图案601在垂直于第一方向A上的第一范围，且确定第二图案602在垂直于第一方向A上的第二范围。

之后，可以配置各个工作模块500以调整各个工作模块500的工作区域，工作模块500的工作区域为工作模块500照射向工作台100的偏振光的区域。其中，具有第一偏光模组310的工作模块500的工作区域，在垂直于第一方向A上的范围与第一范围相同；具有第二偏光模组320的工作模块500的工作区域，在垂直于第一方向A上的范围与第二范围相同。

示例性地，在本公开的一种实施方式中，光配向设备具有两个光源模组200、两个遮光模组400、第一偏光模组310和一个第二偏光模组320。如图2所示，基板600的光配向图案包括沿第二方向取向的第一图案601和沿第三方向取向的第二图案602。则可以按照图5～图8所示的方式，在光配向设备中配置出第一工作模块510和第二工作模块520；第一工作模块510包括一个第一偏光模组310、一个光源模组200和一个遮光模组400，第二工作模块520包括一个第二偏光模组320、一个光源模组200和一个遮光模组400。其中，图5为光配向设备沿第一方向A的侧视图，在图5中未示出遮光模组400；参见图5，基板600沿第一方向通过工作台101，使得基板600依次通过第一工作模块510和第二工作模块520的下方，且在经过第一工作模块510时被第一工作模块510的偏振光曝光，在经过第二工作模块510时被第一工作模块510的偏振光曝光。

图6为在垂直于第一方向A的方向上第一工作模块510的侧视图，其中，带箭头的虚线表示光源模组200照射至基板600上的光线，这些光线经过第一偏光模组310后转变为偏振光；图6中光源模组200的部分区域采用网格线进行填充，表示这些部分需要发光；图6中光源模组200的部分区域未采用网格线进行填充，表示这些部分不发光，因此无需采用遮光板410遮挡这些部分。当然的，也可以使得这部分发光，并采用遮光板410遮挡这些部分。参见图6，可以通过调整遮光模组400的遮光板410的位置和光源模组200的工作状态，使得第一工作模块510向工作台100方向照射偏振光(图6中以带箭头的虚线表示)，且照射有偏振光的区域为第一工作区域。其中，第一工作区域在垂直于第一方向A上的位置，与第一图案601在垂直于第一方向A上的位置相同。

图7为在垂直于第一方向A的方向上第二工作模块520的侧视图，其中，带箭头的虚线表示光源模组200照射至基板600上的光线，这些光线经过第二偏光模组320后转变为偏振光；图7中光源模组200的部分区域采用网格线进行填充，表示这些部分需要发光；图7中光源模组200的部分区域未采用网格线进行填充，表示这些部分不发光，因此无需采用遮光板410遮挡这些部分。当然的，也可以使得这部分发光，并采用遮光板410遮挡这些部分。参见图7，可以通过调整遮光模组400的遮光板410的位置和光源模组200的工作状态，使得第二工作模块520向工作台100方向照射偏振光(图7中以带箭头的虚线表示)，且照射有偏振光的区域为第二工作区域。其中，第二工作区域在垂直于第一方向A上的位置，与第二图案602在垂直于第一方向A上的位置相同。

图8为光配向设备的俯视图。为了展示光源模组200、遮光模组400和偏光模组300之前的层级，图8中示意性地使得偏光模组300的范围大于光源模组200，且示意性地使得遮光模组400的宽度大于光源模组200的宽度，这些均不构成对光源模组200、遮光模组400和偏光模组300的尺寸的限定。参见图8可知，基板600沿第一方向通过工作台101，使得基板600依次通过第一工作模块510和第二工作模块520的下方，且在经过第一工作模块510时被第一工作模块510的偏振光曝光，在经过第二工作模块510时被第一工作模块510的偏振光曝光。

如此，在光配向过程中，第一工作模块510向第一工作区域照射偏振光，第二工作模块520向第二工作区域照射偏振光。基板600沿第一方向A运动并通过工作台100，基板600的一部分区域被第一工作区域的偏振光曝光并形成光配向膜的取向方向为第二方向的部分；基板600的另一部分区域被第二工作区域的偏振光曝光并形成光配向膜的取向方向为第三方向的部分。如此，根据借助本公开的光配向设备，基板600可以沿第一方向A通过工作台100并形成所需的光配向膜。

上述举例，仅为光配向图案包括沿第二方向取向的第一图案601和沿第三方向取向的第二图案602的一种示例。可以理解的是，本公开的光配向设备还可以用于在一次曝光过程中形成其他类型的光配向膜。举例而言，可以形成具有单一取向且取向方向为第二方向的光配向膜(如图3所示)，在形成该光配向膜时，可以无需配置第二工作模块520，或者关闭第二工作模块520的光源模组200(如图9所示，图9中未填充网格线的光源模组200表示未开启的光源模组200)。再举例而言，可以形成具有单一取向且取向方向为第三方向的光配向膜(如图4所示)，在形成该光配向膜时，可以无需配置第一工作模块510，或者关闭第一工作模块510的光源模组200(如图10所示，图10中未填充网格线的光源模组200表示未开启的光源模组200)。

可以理解的是，本公开的光配向设备中，可以根据待制备的光配向膜的具体情形配置相应的工作模块500。在某些情形下，可以使得某些光源模组200、某些偏光模组300或者某些遮光模组400不用于形成工作模块500，以能够满足制备光配向膜对偏振光的需求为准。

可选地，如图6～图10所示，光源模组200可以包括多个沿第四方向D依次紧邻排列的紫外光源201，第四方向平行于承载面101所在平面且与第一方向A不平行。优选地，第四方向D与第一方向A垂直。参见图6～图10，未填充网格线的紫外光源201表示关闭的紫外光源201，填充网格线的紫外光源201表示开启的紫外光源201。当光源模组200被配置入一个工作模块500中后，如果该工作模块500的一些区域无需偏振光，则正投影位于这些区域内的紫外光源201可以关闭以降低能耗。正投影与无需偏振光的区域部分交叠的紫外光源201，则需要打开以保证需要偏振光的区域能够获得所需的偏振光；可以通过该工作模块500中的遮光板410对该紫外光源201的出光范围进行部分遮挡，使得该紫外光源201的光线不能照射至无需偏振光的区域。

在本公开的一种实施方式中，如图11所示，紫外光源201可以包括紫外灯2011、位于紫外灯2011一侧的反光镜2012和位于紫外光源201出光一侧的滤波片2013。其中，紫外灯2011发出的光线可以照射至滤波片2013，或者经过反光镜2012反射后照射至滤波片2013。滤光片用于对特定波长的光线进行过滤，以为工作模块500提供所需的紫外光。

优选地，光配向设备还包括光源控制电路，光源控制电路用于控制各个紫外光源201的独立发光。如此，可以根据待制备的基板600的光配向图案，独立地控制各个紫外光源201的独立开启或者关闭。

可选地，如图8所示，遮光模组400包括至少两个遮光板410，以保证在工作模块500中，遮光板410可以分别位于工作模块500的工作区域沿第四方向D的两侧，达成对工作区域在第四方向D上的尺寸的有效限定。可以理解的是，遮光模组400中，遮光板410的数量越多，则配置有该遮光模组400的工作模块500，所能够提供的工作区域能够被分割的子区域数量的上限越多，则该工作模块500能够制的光配向膜的类型越丰富。

可选地，如图8所示，在第四方向D上，遮光板410具有相对设置的两个光线限定边缘411，且光线限定边缘411沿第一方向A设置；光线限定边缘411在第一方向A上的尺寸，不小于光源模组200在第一方向A上的尺寸。如此，当利用遮光板410限定工作模块500的工作区域时，可以保证工作区域具有沿第一方向A的边缘，有利于保证工作区域在第四方向D上不同位置处具有相同或者类似的沿第一方向A的尺寸，进而保证基板600在通过工作台100时在第四方向D上不同位置处具有相同的曝光时间，保证所形成的光配向膜的均匀性。

可选地，遮光板410能够沿第四方向D移动；遮光板410在第四方向D上的尺寸，不小于紫外光源201在第四方向D上的尺寸。如此，当一个紫外光源201的部分出射光线用于照射至工作模块500的工作区域，另外部分出射光线不允许照射至基板600上时，可以通过遮光板410遮挡需要被屏蔽的光线，进而达成调整该紫外光源201的实际出光区域的目的。

优选地，遮光板410在第四方向D上的尺寸，不大于紫外光源201在第四方向D上的尺寸的2倍。如此，可以使得遮光板410具有较小的尺寸，便于在遮光模组400中设置更多的遮光板410。进一步优选地，遮光板410在第四方向D上的尺寸，等于紫外光源201在第四方向D上的尺寸。

遮光模组400还可以包括有遮光支撑机构(图6和图7中以虚线示意)，遮光板410可以连接于遮光支撑机构并在遮光支撑机构的控制下沿第四方向D移动，且可以在移动至所需位置后实现位置锁定。在本公开的一种实施方式中，遮光支撑机构可以包括遮光导轨、多个遮光滑块和多个遮光锁定件；遮光滑块与遮光导轨配合设置，用于在遮光导轨的引导下沿第四方向D滑动。当遮光滑块滑动至所需的位置后，可以通过遮光锁定件固定于遮光导轨。遮光板410可以固定于遮光滑块上，以便随着遮光滑块的移动而移动，并随着遮光滑块固定与遮光导轨而实现位置固定。

在本公开的一种实施方式中，遮光模组400与偏光模组300可以相互固定连接，以保证偏光模组300和遮光模组400之间位置稳定；在该实施方式中，遮光模组400的数量与偏光模组300的数量相同。举例而言，遮光模组400可以固定连接于偏光模组300，在形成新的工作模块500时不调整相互固定连接的遮光模组400和偏光模组300之间的连接关系。如此，可以通过向相互固定连接的遮光模组400和偏光模组300中加入光源模组200，以形成工作模块500。

在本公开的另一种实施方式中，遮光模组400可以固定连接于光源模组200的出光侧，当光源模组200移动时，遮光模组400随之移动。在该实施方式中，遮光模组400的数量与光源模组200的数量相同。

当然的，遮光模组400也可以单独固定或者单独地可移动设置，本公开对此不做限定。

偏光模组300可以包括有偏光片，以使得通过偏光模组300的光线成为偏振光。可选地，偏光模组300可以包括多个沿第四方向D依次紧邻排列的多个偏光片。

偏光模组300还可以包括用于固定偏光片的偏光框架，偏光片固定于偏光框架上以保持位置稳定，避免偏光片位置发生移动而降低偏光模组300的偏光方向不准确。

本公开提供的光配向设备中，至少包括两种不同偏光方向的偏光模组300，例如至少包括偏光方向为第二方向的第一偏光模组310和偏光方向为第三方向的第二偏光模组320。可以理解的是，当待制备的基板600上的光配向膜具有三种或者三种以上不同取向方向时，本公开提供的光配向设备中，偏光模组300可以包括三种或者三种不同的偏光模组300，例如包括偏光方向为第二方向的第一偏光模组310、偏光方向为第三方向的第二偏光模组320、偏光方向为第五方向的第三偏光模组、偏光方向为第六方向的第四偏光模组等。

可选的，第二方向和第三方向中的一个可以与第一方向A相同或者不同。举例而言，在本公开的一种实施方式中，第一方向A与第二方向相同，第三方向垂直于第二方向。

在一些实施方式中，第一偏光模组310的数量与第二偏光模组320的数量相同；光源模组200的数量、遮光模组400的数量均与偏光模组300的数量相同；各个偏光模组300、各个光源模组200和各个遮光模组400一一对应设置以形成各个工作模块500。如此，本公开的偏光模组300、各个光源模组200和各个遮光模组400已经固定地配置入相应的工作模块500中，在应用光配向设备时仅需确定哪些工作模块500开启光源模组200、哪些工作模块500关闭光源模组200、对需要开启光源模组200的遮光板410的位置进行调整，就可以实现对工作模块500的配置。

举例而言，参见图5～图10，在本公开的一种实施方式中，第一偏光模组310和第二偏光模组320的数量均为1个，光源模组200的数量、遮光模组400的数量均为2个。如此，该光配向设备可以预先形成第一工作模块510和第二工作模块520共两个工作模块500，其中，第一工作模块510包括第一偏光模组310、位于第一偏光模组310远离工作台100一侧的一个遮光模组400和位于第一偏光模组310远离工作台100一侧的光源模组200；第二工作模块520包括第二偏光模组320、位于第二偏光模组320远离工作台100一侧的一个遮光模组400和位于遮光模组400远离工作台100一侧的光源模组200。

在第一种应用场景下，如图3所示，基板600上待形成的光配向膜具有单一的取向方向，且取向方向为第二方向，则如图9所示，可以使得第一工作模块510的光源模组200开启，第二工作模块520的光源模组200关闭；第一工作模块510的遮光模组400不遮挡光源模组200的光线，使得第一工作模块510的工作区域沿第一方向A的垂直方向覆盖整个基板600。然后，控制基板600沿第一方向A匀速通过工作台100，则在基板600的表面形成取向方向为第一方向A的光配向膜。

在第二种应用场景下，如图4所示，基板600上待形成的光配向膜具有单一的取向方向，且取向方向为第三方向，则如图10所示，可以使得第二工作模块520的光源模组200开启，第一工作模块510的光源模组200关闭；第二工作模块520的遮光模组400不遮挡光源模组200的光线，使得第二工作模块520的工作区域沿第一方向A的垂直方向覆盖整个基板600。然后，控制基板600沿第一方向A匀速通过工作台100，则在基板600的表面形成取向方向为第二方向的光配向膜。

在第三种应用场景下，如图2所示，基板600的光配向图案包括沿第二方向取向的第一图案601和沿第三方向取向的第二图案602，则如图5～图8所示，需要使得两个光源模组200均开启。调整第一工作模块510的遮光模组400中遮光板410的位置，使得第一工作模块510具有第一工作区域，第一工作区域在第一方向A的垂直方向上的范围，与第一图案601在第一方向A的垂直方向上的范围相同。调整第二工作模块520的遮光模组400中遮光板410的位置，使得第二工作模块520具有第二工作区域，第二工作区域在第一方向A的垂直方向上的范围，与第二图案602在第一方向A的垂直方向上的范围相同。然后，控制基板600沿第一方向A匀速通过工作台100，则在基板600的表面形成光配向膜，光配向膜至少包括两种不同的区域，一种区域的取向方向为第二方向，另一种区域的取向方向为第三方向，两种区域沿第一方向A的垂直方向排列。

可以理解的是，如果光源模组200包括多个紫外光源201，开启光源模组200时可以仅开启部分紫外光源201，以能够使得工作模块500形成所需的工作区域为准。

上述第一偏光模组310和第二偏光模组320的数量均为1个的情形仅为示例，可以理解的是，第一偏光模组310和第二偏光模组320的数量还可以均等于其他数量，例如第一偏光模组310和第二偏光模组320的数量均为2个，且光源模组200和遮光模组400的数量均为4个，本公开对此不做限定。

可选地，当第一偏光模组310和第二偏光模组320的数量均大于1个时，光配向设备所形成的第一工作模块510和第二工作模块520的数量均超过两个。如此，基板600可以以更快的速度通过工作台100且保证曝光强度不会降低，这将进一步提高光配向膜的制备速度。不仅如此，还可以通过调整第一工作模块510和第二工作模块520的开启数量，在基板600移动速度不变的条件下调整基板600上不同位置的曝光强度，进一步提高该光配向设备制备更复杂的光配向膜的能力。

在另一些实施方式中，光源模组200的数量小于偏光模组300的数量，遮光模组400的数量不小于光源模组200的数量；光源模组200能够沿第一方向A平移，以与不同的偏光模组300组成不同的工作模块500。进一步地，光配向设备还可以包括有光源导轨，各个光源模组200可以与光源导轨配合，并在光源导轨的引导下沿第一方向A移动，且在移动至所需的位置后通过紧固件固定于光源导轨。

如此，可以根据待制备的光配向膜的结构特点，通过移动光源模组200至所需的偏光模组300的上方，以形成所需的工作模块500。这使得，光配向设备可以采用较少数量的光源模组200，组合出更多的工作模块500组合，以使得光配向设备能够适用于更多种类的光配向膜的制备。

在本公开的一种实施方式中，第一偏光模组310的数量至少为两个，例如为N个(N为大于1的自然数)；第二偏光模组320的数量与第一偏光模组310的数量相同，为N个；光源模组200的数量与第一偏光模组310的数量相同，为N个。

通过移动光源模组200以与不同的偏光模组300进行组合形成工作模块500，该光配向设备至少可以形成如下工作模块500的组合方式：N个第一工作模块510和0个第二工作模块520，N-1个第一工作模块510和1个第二工作模块520，······，0个第一工作模块510和N个第二工作模块520。其中，第一工作模块510和第二工作模块520的数量的不同，可以调整基板600的第一图案601的曝光强度和第二图案602的曝光强度。

示例性地，第一偏光模组310的数量为2个；第二偏光模组320的数量为2个；光源模组200的数量为2个。则该光配向设备可以配置成如下不同的状态，以供制备不同的光配向膜：

第一种状态：2个第一工作模块510，没有第二工作模块520；

第二种状态：1个第一工作模块510和1个第二工作模块520；

第三种状态：没有第一工作模块510和2个第二工作模块520。

在本公开的另一种实施方式中，第一偏光模组310的数量为2M(M为自然数)，第二偏光模组320的数量为M；光源模组200的数量为2M，与第一偏光模组310的数量相同。

如此，通过移动光源模组200以与不同的偏光模组300进行组合形成不同的工作模块500，该光配向设备至少可以配置成如下工作模块500的任意一种：2M个第一工作模块510和0个第二工作模块520，2M-1个第一工作模块510和1个第二工作模块520，······，M个第一工作模块510和M个第二工作模块520。其中，第一工作模块510和第二工作模块520的数量的不同，可以调整基板600的第一图案601的曝光强度和第二图案602的曝光强度。

示例性地，如图11～图15所示，第一偏光模组310的数量为4个；第二偏光模组320的数量为2个；光源模组200的数量为4个。则该光配向设备可以配置成如下不同的状态，以供制备不同的光配向膜：

第一种状态：如图12所示，4个第一工作模块510，没有第二工作模块520；

第二种状态：如图13所示，3个第一工作模块510和1个第二工作模块520；

第三种状态：如图14所示，2个第一工作模块510和2个第二工作模块520。

第四种状态：如图15所示，2个第一工作模块510和2个第二工作模块520，且第一工作模块510的光源模组200关闭。

应可理解的是，本公开不将其应用限制到本说明书提出的部件的详细结构和布置方式。本公开能够具有其他实施方式，并且能够以多种方式实现并且执行。前述变形形式和修改形式落在本公开的范围内。应可理解的是，本说明书公开和限定的本公开延伸到文中和/或附图中提到或明显的两个或两个以上单独特征的所有可替代组合。所有这些不同的组合构成本公开的多个可替代方面。本说明书的实施方式说明了已知用于实现本公开的最佳方式，并且将使本领域技术人员能够利用本公开。

本公开还提供一种光配向方法，以便在基板600上形成光配向膜。光配向方法应用于上述光配向设备实施方式中所描述的任意一种光配向设备。如图16所示，光配向方法包括：

步骤S110，获取基板600的光配向图案，光配向图案包括沿第二方向取向的第一图案601和沿第三方向取向的第二图案602中的至少一种；

步骤S120，确定第一图案601在垂直于第一方向A上的第一范围，且确定第二图案602在垂直于第一方向A上的第二范围；

步骤S130，配置各个工作模块500以调整各个工作模块500的工作区域，工作模块500的工作区域为工作模块500照射向工作台100的偏振光的区域；其中，具有第一偏光模组310的工作模块500的工作区域，在垂直于第一方向A上的范围与第一范围相同；具有第二偏光模组320的工作模块500的工作区域，在垂直于第一方向A上的范围与第二范围相同；

步骤S140，控制基板600沿第一方向A移动并通过工作台100。

该光配向方法可以适用于上述光配向设备实施方式中所描述的任意一种光配向设备，该光配向方法的原理、细节和效果在上述光配向设备实施方式中进行了详细的介绍，本公开在此不再赘述。

需要说明的是，尽管在附图中以特定顺序描述了本公开中方法的各个步骤，但是，这并非要求或者暗示必须按照该特定顺序来执行这些步骤，或是必须执行全部所示的步骤才能实现期望的结果。附加的或备选的，可以省略某些步骤，将多个步骤合并为一个步骤执行，以及/或者将一个步骤分解为多个步骤执行等，均应视为本公开的一部分。

Claims (5)

1.一种光配向设备，其特征在于，包括：

工作台，具有用于承载基板的承载面；

光源导轨；

至少两个沿第一方向排列的光源模组；所述光源模组包括多个沿第四方向依次紧邻排列的紫外光源，所述第四方向平行于所述承载面所在平面且与所述第一方向不平行；

至少两个沿所述第一方向排列的偏光模组，所述偏光模组至少包括偏光方向为第二方向的第一偏光模组和偏光方向为第三方向的第二偏光模组；所述第二方向与所述第三方向不同；

至少两个沿所述第一方向排列的遮光模组，任意一个所述遮光模组包括至少两个可移动的遮光板；所述遮光板能够沿所述第四方向移动；所述遮光板在所述第四方向上的尺寸，不小于所述紫外光源在所述第四方向上的尺寸；

其中，所述光源模组、所述偏光模组和所述遮光模组能够形成多个工作模块；任意一个所述工作模块包括一个所述偏光模组、一个所述光源模组和一个所述遮光模组，所述光源模组设于所述偏光模组远离所述工作台的一侧，且所述遮光模组能够被配置为遮挡所述光源模组的至多部分出射光线，在所述遮光板不遮挡所述光源模组的光线的状态下，所述光源模组发出的光线能够通过所述偏光模组形成偏振光并照射向所述工作台；所述遮光板能够分别位于所述工作模块的工作区域沿所述第四方向的两侧；

所述光源模组的数量小于所述偏光模组的数量，所述遮光模组的数量不小于所述光源模组的数量；所述光源模组与所述光源导轨配合，能够在所述光源导轨的引导下沿所述第一方向平移，以与不同的所述偏光模组形成不同的所述工作模块。

2.根据权利要求1所述的光配向设备，其特征在于，所述光配向设备包括光源控制电路，所述光源控制电路用于控制各个所述紫外光源的独立发光。

3.根据权利要求1所述的光配向设备，其特征在于，在所述第四方向上，所述遮光板具有相对设置的两个光线限定边缘，且所述光线限定边缘沿所述第一方向设置；所述光线限定边缘在所述第一方向上的尺寸，不小于所述光源模组在所述第一方向上的尺寸。

4.根据权利要求1所述的光配向设备，其特征在于，所述第一偏光模组的数量至少为两个；所述第二偏光模组的数量与所述第一偏光模组的数量相同；

所述光源模组的数量，与所述第一偏光模组的数量相同。

5.根据权利要求1所述的光配向设备，其特征在于，所述第一偏光模组的数量为所述第二偏光模组的数量的两倍；所述光源模组的数量，与所述第一偏光模组的数量相同。

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