JP6844804B1 - 露光装置及び露光方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(1) マスクを保持するマスクステージと、
基板を保持する基板ステージと、
前記マスクに対して露光光を照射する光源ユニットと、
を備え、前記マスクに前記露光光を照射して、該マスクに形成されたパターンを、該基板に露光転写する露光装置であって、
前記基板ステージは、
上面に開口する複数の吸着孔と、
該複数の吸着孔を囲うように配置されると共に、前記基板ステージの上面と同じ高さ又は低くなる位置で、先端が外側を向いて延出するリップシールを有する略環状のシール部と、
前記リップシールの下方に設けられ、前記リップシールが前記基板ステージの上面から上方に突出するように変形させるための気体を噴出する噴出孔と、
を有する、露光装置。
(2) (1)に記載の露光装置を備えた露光方法であって、
前記噴出孔から気体を噴出して、前記リップシールを前記基板の裏面と接触させる工程と、
前記複数の吸着孔から気体を排出して、前記基板を前記基板ステージの上面に吸着保持させる工程と、
前記マスクに露光光を照射して、該マスクに形成されたパターンを該基板に露光転写する工程と、
を備える、露光方法。
図1に示すように、本発明の露光装置としての投影露光装置1は、光源ユニット10、マスクステージ16、補正光学系17、投影レンズ18、及び、基板ステージ19を備える。
なお、露光光としては、i線(波長365nm)以外にも、h線(波長405nm)、g線(波長436nm)、各線の組み合わせ、またはその間の波長も利用することができる。
なお、本明細書において、外側とは、基板又は基板ステージにおいて、露光領域(吸着領域)から周縁部に向かう側を表し、内側とは、反対に周縁部から露光領域(吸着領域)に向かう側を表す。
次に、本発明の第2実施形態に係る露光装置について、図5及び図6を参照して説明する。なお、第1実施形態と同一又は相当する部分については、同一符号を付して説明を省略或いは簡略化する。
その他の構成及び作用については、第1実施形態のものと同様である。
例えば、シール部40のリップシール43の高さは、上記実施形態のように、基板ステージ19の上面(吸着部30の上面)と同じ高さであることが望ましいが、基板ステージ19の上面よりも低く形成されてもよい。この場合、リップシール43の高さが基板ステージ19の上面と同じ高さとなるように、噴出孔26,36,38から気体を噴出させていてもよい。
(1) マスクを保持するマスクステージと、
基板を保持する基板ステージと、
前記マスクに対して露光光を照射する光源ユニットと、
を備え、前記マスクに前記露光光を照射して、該マスクに形成されたパターンを、該基板に露光転写する露光装置であって、
前記基板ステージは、
上面に開口する複数の吸着孔と、
該複数の吸着孔を囲うように配置されると共に、前記基板ステージの上面と同じ高さ又は低くなる位置で、先端が外側を向いて延出するリップシールを有する略環状のシール部と、
前記リップシールの下方に設けられ、前記リップシールが前記基板ステージの上面から上方に突出するように変形させるための気体を噴出する噴出孔と、
を有する、露光装置。
この構成によれば、基板の周縁部の板厚が薄い場合であっても、平面度良く且つ確実に基板を吸着保持することができ、高精度な露光を実現できる。
この構成によれば、基板が基板ステージに載置された状態での、リップシールによる基板の周縁部の変形を防止することができ、より平坦度良く基板を吸着保持することができる。
この構成によれば、気体が直接外側へ漏れることが抑制され、シール部のリップシールをより確実に持ち上げることができる。
前記噴出孔から気体を噴出して、前記リップシールを前記基板の裏面と接触させる工程と、
前記複数の吸着孔から気体を排出して、前記基板を前記基板ステージの上面に吸着保持させる工程と、
前記マスクに露光光を照射して、該マスクに形成されたパターンを該基板に露光転写する工程と、
を備える、露光方法。
この構成によれば、基板の周縁部の板厚が薄い場合であっても、平面度良く且つ確実に基板を吸着保持することができ、高精度な露光を実現できる。
この構成によれば、リップシールは、取付状態の姿勢となり、より平坦度良く基板を吸着保持することができる。
10 光源ユニット
16 マスクステージ
18 投影レンズ
19 基板ステージ
20 基台
26,36,38 噴出孔
30 吸着部
31 吸着孔
40 シール部
43 リップシール
50 補助シール部
53 補助リップシール
M マスク
W 基板
Claims (5)
- マスクを保持するマスクステージと、
基板を保持する基板ステージと、
前記マスクに対して露光光を照射する光源ユニットと、
を備え、前記マスクに前記露光光を照射して、該マスクに形成されたパターンを、該基板に露光転写する露光装置であって、
前記基板ステージは、
上面に開口する複数の吸着孔と、
該複数の吸着孔を囲うように配置されると共に、前記基板ステージの上面と同じ高さ又は低くなる位置で、先端が外側を向いて延出するリップシールを有する略環状のシール部と、
前記リップシールの下方に設けられ、前記リップシールが前記基板ステージの上面から上方に突出するように変形させるための気体を噴出する噴出孔と、
を有する、露光装置。 - 前記リップシールは、その上面が前記基板ステージの上面と略面一となるように、その根元部から先端まで水平に延出する、請求項1に記載の露光装置。
- 前記基板ステージは、前記噴出孔の外側に配置されると共に、前記シール部のリップシールと前記噴出孔との間で、先端が内側を向いて延出する補助リップシールを有する補助シール部をさらに備える、請求項1又は2に記載の露光装置。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の露光装置を備えた露光方法であって、
前記噴出孔から気体を噴出して、前記リップシールを前記基板の裏面と接触させる工程と、
前記複数の吸着孔から気体を排出して、前記基板を前記基板ステージの上面に吸着保持させる工程と、
前記マスクに露光光を照射して、該マスクに形成されたパターンを該基板に露光転写する工程と、
を備える、露光方法。 - 前記基板を前記基板ステージの上面に吸着保持させる工程において、前記噴出孔からの気体の噴出を停止する、請求項4に記載の露光方法。
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JP2020195282A JP6844804B1 (ja) | 2020-11-25 | 2020-11-25 | 露光装置及び露光方法 |
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JP2020195282A JP6844804B1 (ja) | 2020-11-25 | 2020-11-25 | 露光装置及び露光方法 |
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JP2022083762A JP2022083762A (ja) | 2022-06-06 |
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2020
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