JP7383341B2 - ダイレクト露光装置および基板の露光方法 - Google Patents
ダイレクト露光装置および基板の露光方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7383341B2 JP7383341B2 JP2019213987A JP2019213987A JP7383341B2 JP 7383341 B2 JP7383341 B2 JP 7383341B2 JP 2019213987 A JP2019213987 A JP 2019213987A JP 2019213987 A JP2019213987 A JP 2019213987A JP 7383341 B2 JP7383341 B2 JP 7383341B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- substrate
- scanning direction
- suction
- area
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 118
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000011960 computer-aided design Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
- G03F7/70708—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details being electrostatic; Electrostatically deformable vacuum chucks
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
- G03F7/2032—Simultaneous exposure of the front side and the backside
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
基板を間に対向して配置された一対の吸着部とを備え、
吸着部は、基板の露光領域の反対面をそれぞれ吸着保持する複数の露光領域保持部と、該露光領域保持部に隣接し、露光光が通過する複数の帯状の開口部とをそれぞれ有するダイレクト露光装置である。
W・・・基板、5・・・第1吸着部、15・・・第2吸着部
Claims (7)
- 基板を間に対向して配置された一対の露光ユニットと、
前記基板を間に対向して配置された一対の吸着部とを備え、
前記吸着部は、前記基板の露光領域の反対面をそれぞれ吸着保持する複数の露光領域保持部と、該露光領域保持部に隣接し、露光光が通過する複数の帯状の開口部とをそれぞれ有するダイレクト露光装置。 - 前記一対の露光ユニットのうちの一の露光ユニットの露光領域と他の露光ユニットの露光領域が副走査方向(Y)においてオフセットして配置される請求項1に記載のダイレクト露光装置。
- それぞれの前記露光ユニットは、間隔をあけて副走査方向(Y)に配列された複数の露光領域を有し、前記一の露光ユニットの複数の露光領域と前記他の露光ユニットの複数の露光領域とが互い違いに位置するように配列される請求項2に記載のダイレクト露光装置。
- 前記露光領域に対して前記基板を走査方向(X)に相対移動させ露光するために、前記露光ステージを前記走査方向(X)に移動させる第1移動部を備える請求項1に記載のダイレクト露光装置。
- 前記基板と前記露光領域を副走査方向(Y)に相対移動させる第2移動部を備え、前記吸着部の基板吸着位置をそれぞれ副走査方向(Y)に移動させる第3移動部を備える請求項4に記載のダイレクト露光装置。
- 前記基板吸着位置を移動させる際は、基板の少なくとも一部を吸着した状態を維持する請求項5に記載のダイレクト露光装置。
- 基板を間に対向して配置された一対の露光ユニットと、前記基板を間に対向して配置された一対の吸着部とを備え、前記吸着部は、前記基板の露光領域の反対面をそれぞれ吸着保持する複数の露光領域保持部と、該露光領域保持部に隣接し、露光光が通過する複数の帯状の開口部とをそれぞれ有するダイレクト露光装置による基板の露光方法であって、
前記一対の露光ユニットと前記吸着部に吸着した基板とを、主走査方向(X)に相対移動させて前記基板の両面の一部分を露光するステップと、
前記基板と前記一対の露光ユニットとを副走査方向(Y)に相対的にシフトさせるステップと、
前記吸着部の前記基板を吸着する位置を副走査方向(Y)にシフトさせるステップと、
前記一対の露光ユニットと前記吸着部に吸着した前記基板とを、主走査方向(X)に相対移動させて、前記基板の両面の他の部分を露光するステップとを備えた基板の露光方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019213987A JP7383341B2 (ja) | 2019-11-27 | 2019-11-27 | ダイレクト露光装置および基板の露光方法 |
CN202011296878.6A CN112859532A (zh) | 2019-11-27 | 2020-11-18 | 直接曝光装置和基板的曝光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019213987A JP7383341B2 (ja) | 2019-11-27 | 2019-11-27 | ダイレクト露光装置および基板の露光方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021085960A JP2021085960A (ja) | 2021-06-03 |
JP7383341B2 true JP7383341B2 (ja) | 2023-11-20 |
Family
ID=75996342
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019213987A Active JP7383341B2 (ja) | 2019-11-27 | 2019-11-27 | ダイレクト露光装置および基板の露光方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7383341B2 (ja) |
CN (1) | CN112859532A (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009122597A (ja) | 2007-11-19 | 2009-06-04 | Hitachi Via Mechanics Ltd | レーザ直接描画装置 |
JP2009229721A (ja) | 2008-03-21 | 2009-10-08 | Fujifilm Corp | 光デバイスおよび画像露光装置 |
JP2012058446A (ja) | 2010-09-08 | 2012-03-22 | Fuji Xerox Co Ltd | マイクロレンズアレイの製造方法、レンズ付光学素子アレイ、露光装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05265220A (ja) * | 1992-03-19 | 1993-10-15 | Orc Mfg Co Ltd | 基板傾斜式露光装置 |
JP5472616B2 (ja) * | 2010-01-27 | 2014-04-16 | ウシオ電機株式会社 | 光照射装置 |
CN108873621B (zh) * | 2018-07-26 | 2020-06-05 | 中山新诺科技股份有限公司 | 悬臂式双台面的双面曝光机及双面曝光方法 |
-
2019
- 2019-11-27 JP JP2019213987A patent/JP7383341B2/ja active Active
-
2020
- 2020-11-18 CN CN202011296878.6A patent/CN112859532A/zh active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009122597A (ja) | 2007-11-19 | 2009-06-04 | Hitachi Via Mechanics Ltd | レーザ直接描画装置 |
JP2009229721A (ja) | 2008-03-21 | 2009-10-08 | Fujifilm Corp | 光デバイスおよび画像露光装置 |
JP2012058446A (ja) | 2010-09-08 | 2012-03-22 | Fuji Xerox Co Ltd | マイクロレンズアレイの製造方法、レンズ付光学素子アレイ、露光装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021085960A (ja) | 2021-06-03 |
CN112859532A (zh) | 2021-05-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2011022583A (ja) | パターン形成装置及びパターン形成方法、並びにデバイス製造方法 | |
TWI660246B (zh) | 描繪裝置 | |
CN111913363B (zh) | 直描式曝光装置 | |
JP2011022584A (ja) | パターン形成装置及びパターン形成方法、並びにデバイス製造方法 | |
US20080273189A1 (en) | Sheet Body Holding Mechanism and Lithography Apparatus Using Same | |
JP2006054364A (ja) | 基板吸着装置、露光装置 | |
JP2011022585A (ja) | パターン形成装置及びパターン形成方法、並びにデバイス製造方法 | |
JP7383341B2 (ja) | ダイレクト露光装置および基板の露光方法 | |
JP6655753B2 (ja) | 照明源としてのマイクロledアレイ | |
JP2009021498A (ja) | 露光装置、液浸システム、及びデバイス製造方法 | |
JP6347285B2 (ja) | 物体処理装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 | |
JP2020046681A (ja) | 露光装置 | |
KR100728476B1 (ko) | 노광장치 | |
TWI700550B (zh) | 圖案描繪裝置以及圖案描繪方法 | |
JP6036958B2 (ja) | 露光装置 | |
JP5304017B2 (ja) | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 | |
JP2007311374A (ja) | 基板ホルダ、露光装置及びデバイスの製造方法 | |
JP6631655B2 (ja) | 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法及びデバイスの製造方法 | |
JP5831773B2 (ja) | 搬送装置、物体処理装置、搬送方法及び物体処理方法 | |
JP5704535B2 (ja) | マイクロレンズアレイを使用した露光装置 | |
JP6844804B1 (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
US20060215146A1 (en) | Exposure process and apparatus using glass photomasks | |
JP2009300542A (ja) | 露光描画装置 | |
JP2009212345A (ja) | ワークチャック、露光装置及びフラットパネル製造方法 | |
JP5434547B2 (ja) | レチクルを用いた複数パターンの形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20221026 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230726 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230808 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230908 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20231107 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20231107 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7383341 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |