TWI700550B - 圖案描繪裝置以及圖案描繪方法 - Google Patents

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TWI700550B
TWI700550B TW107146798A TW107146798A TWI700550B TW I700550 B TWI700550 B TW I700550B TW 107146798 A TW107146798 A TW 107146798A TW 107146798 A TW107146798 A TW 107146798A TW I700550 B TWI700550 B TW I700550B
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日商斯庫林集團股份有限公司
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Abstract

本發明係提供一種技術，在以複數台攝影機拍攝形成於基板的複數個標記的狀況下減輕裝置的成本上升及控制的複雜化。圖案描繪裝置1係對在表面形成有複數個標記91的基板9照射光而形成圖案。圖案描繪裝置1係具備：攝影機5a、5d，係拍攝已形成於基板9的複數個標記91；連結具52a，係將攝影機5a、5d以已排列在X軸方向(排列方向)之狀態連結；排列方向移動機構54a，係使攝影機5a、5d一體地往X軸方向移動；以及主掃描機構35(掃描方向移動機構)，係使台2在Y軸方向(掃描方向)移動。

Description

圖案描繪裝置以及圖案描繪方法
本發明係關於一種描繪圖案(pattern)於基板的技術，特別關於一種鎖定基板之位置的技術。以作為處理對象的基板而言，含有：半導體基板(semiconductor substrate)、液晶顯示裝置及有機EL(Electroluminescence；電致發光)顯示裝置等FPD(Flat Panel Display；平板顯示器)用基板、光碟用基板、磁碟用基板、光磁碟用基板、光罩(photomask)用基板、陶瓷(ceramics)基板、太陽能電池用基板和印刷(print)基板等。
有使用在被塗布於基板的感光材料上照射光而描繪預定的圖案之圖案描繪裝置的情形。習知的圖案描繪裝置係具備：以水平姿勢保持基板並使基板移動的台(stage)、以及使基板移動並對基板的上表面照射光的複數個光學頭(optical head)。在圖案描繪裝置係使基板移動並從複數個光學頭間歇地照射光，藉此在基板之上表面的預定之位置描繪圖案。
在此種圖案描繪裝置中，為了在基板之上表面的正確位置描繪圖案，進行將被保持在台上之基板的位置予以補正之對齊處理(alignment process)。對齊處理係例如以裝置內的對齊攝影機(alignment camera)拍攝事先形成於基板之上表面的對齊標記(alignment mark)，基於所拍攝的對齊標記之影像來補正基板的位置偏離。
以作為與本發明相關之先前技術而言，例如有專利文獻1所記載的技術。在專利文獻1係記載有針對對齊標記以對齊攝影機來拍攝複數個對齊標記的情形。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
專利文獻1：日本特開2009-192693號公報。
在以複數個對齊攝影機(以下稱為「攝影機」)拍攝複數個對齊標記(以下稱為「標記(mark)」)的情形下，對準標記的位置而使各攝影機在其排列方向移動。接下來，使基板相對於各攝影機往與攝影機之排列方向交叉的掃描(scan)方向相對地移動，藉此能夠有效率地拍攝各標記。
然而，在使用複數台攝影機的情形下，使各攝影機在 排列方向移動的運作軸會變得需要攝影機的台數分的數量等，移動機構會複雜化。因此，裝置的成本上升(cost-up)及控制的複雜化等種種問題會發生。
因此，本發明的目的為提供一種技術，在以複數台攝影機拍攝形成於基板的複數個標記的狀況下減輕裝置的成本上升及控制的複雜化。
為了解決上述課題，第一態樣係一種圖案描繪裝置，將圖案描繪於在表面形成有複數個標記的基板，且具備：基板保持部，係保持前述基板；第一攝影機群，係包含拍攝在前述基板上之前述標記的複數台攝影機；第一連結具，係將前述第一攝影機群的前述複數台攝影機以已排列在排列方向之狀態連結；排列方向移動機構，係使已藉由前述第一連結具所連結的前述第一攝影機群一體地往前述排列方向移動；以及掃描方向移動機構，係使前述第一攝影機群相對於前述基板保持部在與前述排列方向交叉之掃描方向相對移動。
第二態樣係第一態樣之圖案描繪裝置，其中前述基板保持部能夠將複數個前述基板以在前述排列方向上並排的狀態予以保持，前述第一攝影機群係藉由前述第一連結具以能夠拍攝各個前述標記之間隔所連結，前述標記係形成 在被保持在前述基板保持部的複數個基板之各自的相同位置。
第三態樣係第一態樣或第二態樣之圖案描繪裝置，其中更具備：第二攝影機群，係包含拍攝在前述基板上之前述標記的複數台攝影機；以及第二連結具，係將前述第二攝影機群的前述複數台攝影機以已排列在前述排列方向之狀態連結；前述排列方向移動機構係使前述第一攝影機群相對於前述第二攝影機群在前述排列方向相對地移動，並且前述掃描方向移動機構係使前述第一攝影機群及前述第二攝影機群往前述掃描方向一體地移動。
第四態樣係第一態樣至第三態樣中任一態樣之圖案描繪裝置，其中前述第一連結具係具備能夠將前述第一攝影機群之前述複數台攝影機的間隔予以變更之間隔可變機構。
第五態樣係一種圖案描繪方法，係處理在表面形成有複數個標記的基板，且包含：工序a，係保持前述基板；工序b，係在前述工序a後，使含有藉由第一連結具以已排列在排列方向之狀態而連結之複數台攝影機的第一攝影機群對準在前述基板上的前述複數個標記之位置而一體地在前述排列方向移動；以及工序c，係在前述工序b後，使前述第一攝影機群相對於前述基板在與前述排列方向交 叉之掃描方向相對移動。
依據第一態樣之圖案描繪裝置，藉由以第一連結具來連結第一攝影機群，比起使各攝影機個別地往排列方向移動的情形更能將移動機構簡易化。因此，能夠減輕裝置的成本上升及控制的複雜化。
依據第二態樣之圖案描繪裝置，藉由朝向掃描方向的移動，能夠以第一攝影機群來拍攝形成於各基板之相同位置的各個標記。
依據第三態樣之圖案描繪裝置，使藉由第一連結具及第二連結具所連結之第一攝影機群及第二攝影機群在排列方向相對地移動，藉此能夠使各攝影機移動到在基板的排列方向並排之複數個標記的位置。在該狀態下，使第一攝影機群及第二攝影機群在掃描方向移動，藉此能夠拍攝複數行的標記。
依據第四態樣之圖案描繪裝置，第一連結具能夠藉由間隔可變機構來改變複數台攝影機之間隔而將它們予以連結。藉此，能夠配合複數個標記之排列方向的間隔地調整各攝影機的間隔。
依據第五態樣之圖案描繪方法，藉由以第一連結具來連結第一攝影機群，比起使各攝影機個別地往排列方向移動的情形更能將移動機構簡易化。因此，能夠減輕裝置的成本上升及控制的複雜化。
1‧‧‧圖案描繪裝置
2‧‧‧台
3‧‧‧台驅動機構
4‧‧‧台位置測量部
5‧‧‧攝影機
5a、5d‧‧‧攝影機(第一攝影機群)
5b、5e‧‧‧攝影機(第二攝影機群)
5c、5f‧‧‧攝影機(第三攝影機群)
6‧‧‧描繪單元
7‧‧‧控制部
9‧‧‧基板
15‧‧‧基台
16‧‧‧支撐框架
31‧‧‧旋轉機構
32‧‧‧支撐板
33‧‧‧副掃描機構
34‧‧‧底板
35‧‧‧主掃描機構
52a、52a1‧‧‧連結具(第一連結具)
52b‧‧‧連結具(第二連結具)
52c‧‧‧連結具(第三連結具)
54、54a至54c‧‧‧排列方向移動機構
60‧‧‧描繪頭
61‧‧‧光源裝置
62‧‧‧空間光調變裝置
63‧‧‧投影光學系統
71‧‧‧CPU(中央處理單元)
72‧‧‧ROM(唯讀記憶體)
73‧‧‧RAM(隨機存取記憶體)
74‧‧‧儲存裝置
75‧‧‧匯流排線
76‧‧‧輸入部
77‧‧‧顯示部
78‧‧‧通訊部
91‧‧‧標記
92a至92f‧‧‧標記行
311‧‧‧旋轉軸部
312‧‧‧旋轉驅動部
331、351‧‧‧線性馬達
332、352‧‧‧導引構件
500‧‧‧照明單元
521a、521b‧‧‧固定構件
522‧‧‧連結構件
523a、523b‧‧‧固定具
541‧‧‧滾珠螺桿
542‧‧‧旋轉驅動部
543a、543b‧‧‧滑動部
543H‧‧‧插通孔
544‧‧‧導引部
613‧‧‧照明光學系統
614‧‧‧透鏡
615‧‧‧鏡
711‧‧‧基板資料處理部
713‧‧‧排列方向移動控制部
715‧‧‧掃描方向移動控制部
717‧‧‧影像處理部
A‧‧‧旋轉軸
PG‧‧‧程式
X、Y、Z、θ‧‧‧軸
圖1係表示第一實施形態之圖案描繪裝置1的概略側視圖。
圖2係表示第一實施形態之攝影機5a至5f的概略俯視圖。
圖3係表示第一實施形態之攝影機5a、5d及排列方向移動機構54a的概略立體圖。
圖4係表示第一實施形態之攝影機5a、5d及排列方向移動機構54a的概略俯視圖。
圖5係表示第一實施形態之描繪頭60的概略立體圖。
圖6係表示第一實施形態之控制部7的構成之方塊圖(block diagram)。
圖7係表示第一實施形態之標記位置取得處理的流程之圖。
圖8係表示使各攝影機5a至5f在排列方向移動的樣子之概略俯視圖。
圖9係表示第二實施形態之連結具52a1的概略俯視圖。
以下，一邊參照附加的圖式一邊對本發明的實施形態進行說明。另外，在該實施形態所記載之構成元件僅為例示，其用意並非將本發明的範圍限定於此等。在圖式中為了易於理解，有依需要將各部的尺寸或數量誇張化或簡略化而圖示的情形。
<1.第一實施形態>
圖1係表示第一實施形態之圖案描繪裝置1的概略側視圖。圖案描繪裝置1為如下裝置：對形成有阻劑(resist)等層之基板9的上表面照射因應CAD(computer aided design；電腦輔助設計)資料等已空間調變(spatial modulated)的光(描繪光)，而將圖案(例如電路圖案)曝光(描繪)。用圖案描繪裝置1作為處理對象的基板9為例如：印刷基板、半導體基板、液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置等FPD用基板、光碟用基板、磁碟用基板、光磁碟用基板、光罩用基板、陶瓷基板、太陽能電池用基板等。在以下的說明中，將基板9設為形成為矩形板狀的基板。
圖案描繪裝置1係具備：基台15、門形的支撐框架16、台2、台驅動機構3、台位置測量部4、攝影機5、描繪單元6及控制部7。
台2係將基板9予以保持的保持部。台2係被配置於 基台15上。具體而言，台2係例如具有平板狀的外形，且將基板9在台2的上表面載置成水平姿勢而保持。台2能夠同時地保持複數個基板9。例如，在台2的上表面係形成有複數個吸引孔(圖示省略)，且在該吸引孔形成負壓(吸引壓)，藉此將被載置於台2上的基板9固定保持於台2的上表面。另外，用以保持基板9的構成並不限定於此。例如，也可以使用黏著片等使基板9接著於台2上。
<台驅動機構3>
台驅動機構3係使台2相對於基台15相對地移動。台驅動機構3係被配置於基台15上。
具體而言，台驅動機構3係具備：旋轉機構31，係使台2往旋轉方向(繞Z軸的旋轉方向(θ軸方向))旋轉；支撐板(supporting plate)32，係經由旋轉機構31將台2予以支撐；以及副掃描機構33，係使支撐板32在副掃描方向(X軸方向)移動。台驅動機構3係進一步具備：底板(base plate)34，係經由副掃描機構33將支撐板32予以支撐；以及主掃描機構35，係使底板34在主掃描方向(Y軸方向)移動。
旋轉機構31係通過台2之上表面(基板9之載置面)的中心，以與該載置面垂直的旋轉軸A作為中心而使台2旋轉。旋轉機構31係例如能夠設為含有以下構件之構成：旋轉軸部311，係上端被固著在載置面的背面側，且沿鉛直 軸延伸；以及旋轉驅動部(例如旋轉馬達)312，係被設置在旋轉軸部311之下端，且使旋轉軸部311旋轉。在該構成中，旋轉驅動部312使旋轉軸部311旋轉，藉此台2在水平面內將旋轉軸A作為中心而旋轉。
副掃描機構33係具有線性馬達(linear motor)331，該線性馬達331係由被安裝於支撐板32之下表面的移動子(mover)與被鋪設於底板34之上表面的定子(stator)所構成。又，於底板34係鋪設有在副掃描方向延伸的一對導引(guide)構件332，且於各導引構件332與支撐板32之間係設置有能夠在導引構件332滑動並沿著該導引構件332移動的滾珠軸承(ball bearing)。也就是說，支撐板32係經由該滾珠軸承而被支撐於一對導引構件332上。在該構成中使線性馬達331運作時，支撐板32係以被導引構件332所引導的狀態沿著副掃描方向順暢地移動。
主掃描機構35係具有線性馬達351，該線性馬達351係由被安裝於底板34之下表面的移動子與被鋪設於基台15上的定子所構成。又，於基台15係鋪設有在主掃描方向延伸的一對導引構件352，且於各導引構件352與底板34之間係設置有例如空氣軸承(air bearing)。於空氣軸承係恆常自通用設備供給有空氣，且底板34係藉由空氣軸承而以非接觸方式被上浮支撐於導引構件352上。在該構成中使線性馬達351運作時，底板34係以被導引構件352所引 導的狀態沿著主掃描方向以無摩擦方式順暢地移動。
<台位置測量部4>
台位置測量部4係測量台2的位置。具體而言，台位置測量部4係例如從台2外面朝向台2射出雷射光並且接受該反射光。台位置測量部4係根據該反射光與射出光的干擾測量台2的位置(具體而言為沿著主掃描方向的Y位置及沿著旋轉方向的θ位置)，構成干擾式的雷射測長器。
<攝影機5>
攝影機5係拍攝被保持於台2之基板9的上表面之光學機器。攝影機5係被支撐框架16所支撐。攝影機5係例如具備：鏡筒、聚焦透鏡(focusing lens)、CCD(charge-coupled device；電荷耦合裝置)影像感測器(image sensor)以及驅動部。鏡筒係經由照明單元500與光纖電線(fiber cable)等所連接，該照明單元500係供給拍攝用的照明光(不過，選擇不使基板9上的阻劑等感光之波長的光作為照明光)。CCD影像感測器係由區域(area)影像感測器(二次元影像感測器)等所構成。又，驅動部係由馬達等所構成，且驅動聚焦透鏡而變更聚焦透鏡的高度位置。驅動部係藉由調整聚焦透鏡的高度位置來進行自動對焦(auto focusing)。
在具備此種構成的攝影機5中，從照明單元500所射出的光被導入到鏡筒，經由聚焦透鏡而被導至台2上的基 板9之上表面。接下來，以CCD影像感測器接受該反射光。藉此，取得形成於基板9之上表面的標記91(參照圖8)之拍攝資料。該拍攝資料係被送到控制部7而供基板9之對齊(位置對準)之用。
圖案描繪裝置1係具備六台攝影機5。六台攝影機5係以在X軸方向並排的狀態被安裝在支撐框架16。在以下的說明中，從+X側向-X側依序將六台攝影機5稱作攝影機5a、5b、5c、5d、5e、5f。
圖2係表示第一實施形態之攝影機5a至5f的概略俯視圖。圖3係表示第一實施形態之攝影機5a、5d及排列方向移動機構54a的概略立體圖。另外，圖3係表示從-Y側正面向-X側傾斜地觀察到的排列方向移動機構54a的樣子的圖。圖4係表示第一實施形態之攝影機5a、5d及排列方向移動機構54a的概略俯視圖。
首先，如圖2概略性地所示，兩台攝影機5a、5d(第一攝影機群)係由連結具52a(第一連結具)所連結，兩台攝影機5b、5e(第二攝影機群)係由連結具52b(第二連結具)所連結，兩台攝影機5c、5f(第三攝影機群)係由連結具52c(第三連結具)所連結。
各個連結具52a至52c係在X軸方向延伸的構件。連 結具52a係將攝影機5a、5d在X軸方向隔開預定的間隔地連結。同樣地，連結具52b、52c係分別將攝影機5b、5e及攝影機5c、5f在X軸方向隔開預定的間隔而並列的狀態個別連結。在本實施形態中，X軸方向係對應於排列方向。另外，在本實施形態中，雖各連結具52a至52c係分別使兩台攝影機5連結，但也可以連結三台以上的攝影機5。
圖案描繪裝置1係具備排列方向移動機構54(54a、54b、54c)。排列方向移動機構54a係使攝影機5a、5d、排列方向移動機構54b係使攝影機5b、5e、排列方向移動機構54c係使攝影機5c、5f分別一體地在X軸方向移動。排列方向移動機構54a至54c係在上下(Z軸方向)多段地重疊設置。
如圖3及圖4詳細地所示，排列方向移動機構54a係具備：滾珠螺桿(ball screw)541、旋轉驅動部542、滑動(slide)部543a、543b及導引部544。
滾珠螺桿541、導引部544係在X軸方向延伸。滾珠螺桿541係被收容於導引部544之內部。旋轉驅動部542係使滾珠螺桿541繞X軸旋轉。
導引部544係在內部將滑動部543a、543b保持成能夠在X軸方向移動。詳細來說，導引部544係將滑動部543a、543b從上下保持成能夠滑接移動。導引部544係限制移動 方向，俾使滑動部543a、543b只能在X軸方向移動。
滾珠螺桿541係在X軸方向貫通滑動部543a、543b。滑動部543a係具有與滾珠螺桿541螺合的螺桿孔。又，滑動部543b係具有比滾珠螺桿541的外徑(螺紋處的徑)更大的內徑之插通孔543H。滑動部543b係在與滾珠螺桿541處在非接觸的狀態下被保持於導引部544。
於導引部544的-Y側係配備有連結具52a。而且，連結具52a係與被保持在導引部544之內部的滑動部543a、543b連結。如圖3所示，於連結具52a之-Y側的表面安裝有攝影機5a、5d。滑動部543a係被設置於與攝影機5a在Y軸方向重疊的位置，且滑動部543b係被設置於與攝影機5d在Y軸方向重疊的位置。
旋轉驅動部542使滾珠螺桿541正旋轉或逆旋轉，藉此滑動部543a往+X方向或-X方向移動。伴隨著該滑動部543a的移動，連結具52a往+X方向或-X方向移動。此時，被連結於連結具52a之滑動部543b被導引部544所引導而往+X方向或-X方向移動。又，伴隨著連結具52a之朝向+X方向或-X方向的移動，攝影機5a、5d一體地往+X方向或-X方向移動。
排列方向移動機構54b、54c也具有與排列方向移動機 構54a同樣的構成。排列方向移動機構54a至54c係分別以使連結具52a至52c互不接觸的方式使連結具52a至52c在X軸方向移動。
回到圖1，描繪單元6係形成描繪光的光學裝置。圖案描繪裝置1係具備複數個(例如五個)描繪單元6。不過，描繪單元6的裝載數不一定要是複數，也可以是一個。
圖5係表示第一實施形態之描繪頭60的概略立體圖。描繪單元6係具備：描繪頭60、光源裝置61、空間光調變裝置(spatial light modulation device)62以及投影光學系統63。光源裝置61、空間光調變裝置62及投影光學系統63係被支撐框架16(參照圖1)所支撐。具體而言，例如光源裝置61係被收容於被載置在支撐框架16的頂板上之收容盒。又，空間光調變裝置62及投影光學系統63係被收容於被固定在支撐框架16之+Y側的收容盒。
光源裝置61係向描繪頭60射出光。具體而言，光源裝置61係具備例如射出雷射光之雷射振盪器等。光源裝置61係具備照明光學系統613，該照明光學系統613係將從雷射振盪器所射出之光(點束(spot beam))做成強度分布為均勻的線狀之光(亦即，光束剖面為帶狀之光的線束(line beam))。照明光學系統613係將從光源裝置61所輸出的光導至空間光調變裝置62。照明光學系統613係具備例如透 鏡614與鏡615。
空間光調變裝置62係包含例如DMD(digital micromirr or device；數位微鏡裝置)。DMD係具備各自的方向能夠個別地變更的微鏡面群。多數的微鏡面係形成於矽基板上，且多數的微鏡面二次元地排列(亦即，排列成在互相垂直的兩方向上排好的矩陣(array)狀)。
在空間光調變裝置62中，各微鏡面遵從被寫入到與各微鏡面對應之記憶胞(memory cell)的資料而藉由靜電作用相對於矽基板的表面以預定的角度傾斜。接下來，以下的光被導引到投影光學系統63：只由來自處在與預定之ON狀態對應的姿勢之微鏡面的反射光所形成的光(亦即，已被空間調變之光)。另外，以作為空間光調變裝置62而言，也可以採用作為反射型及繞射光柵(diffraction grating)型的空間光調變器之GLV(Grating Light Valve；柵狀光閥)。
藉由投影光學系統63，已在空間光調變裝置62被空間調變的光係被導至台2上的基板9(參照圖1)。來自投影光學系統63的光係被向著對於空間光調變裝置62之微鏡面群為光學性地共軛的基板9上之照射區域照射。
圖6係表示第一實施形態之控制部7的構成之方塊圖。控制部7係與圖案描繪裝置1所具備的各部電性連接，且 執行各種運算處理並控制圖案描繪裝置1之各部的運作。
控制部7係構成為CPU(central processing unit；中央處理單元)71、ROM(read only memory；唯讀記憶體)72、RAM(random access memory；隨機存取記憶體)73、儲存裝置74等經由匯流排線(bus line)75來相互連接之一般的電腦。ROM 72係容納基本程式等。RAM 73係供CPU 71在進行預定之處理時作為作業區域之用。儲存裝置74係藉由快閃記憶體(flash memory)或者硬碟裝置等非揮發性之儲存裝置所構成。於儲存裝置74係安裝有程式PG。作為主控制部之CPU 71遵從已在該程式PG所敘述的手續來進行運算處理，藉此控制部7係作為基板資料處理部711、排列方向移動控制部713、掃描方向移動控制部715以及影像處理部717發揮功能。另外，各功能也可藉由以專用的邏輯電路所構成之硬體來實現。
基板資料處理部711係將與被載置於台2之基板9相關的基板資料攝入。基板資料係包含基板9的大小、在基板9上之標記91形成的位置資訊等。基板資料係被保存於例如儲存裝置74等。在基板9的台2上之載置位置等係根據基板資料處理部711攝入的基板資料被鎖定。又，被載置於台2之基板9上的標記91在圖案描繪裝置1中的位置(X軸座標及Y軸座標)能夠根據基板資料鎖定。
排列方向移動控制部713係控制排列方向移動機構54a至54c，藉此控制複數台攝影機5a至5f在排列方向(X軸方向)的移動。在此，排列方向移動控制部713係對準根據基板資料處理部711已攝入的基板資料所鎖定之複數個標記91的X軸方向位置，來使各個攝影機5a至5f在作為排列方向之X軸方向移動。
掃描方向移動控制部715係控制主掃描機構35(掃描方向移動機構)，藉此使台2在Y軸方向移動。藉由台2在Y軸方向移動，能夠使基板9在Y軸方向移動。藉此，能夠使基板9相對於複數台攝影機5或複數個描繪頭60在Y軸方向(掃描方向)相對地移動。
影像處理部717係將藉由各攝影機5a至5f拍攝所得到的影像資料予以影像處理，藉此鎖定標記91的位置。
又，控制部7係具備與匯流排線75連接的輸入部76、顯示部77及通訊部78。輸入部76係藉由例如鍵盤(keyboard)及滑鼠(mouse)所構成的輸入裝置，從操作員接收各種操作(如命令(command)或各種資料的輸入等操作)。另外，輸入部76也可以藉由各種開關(switch)、觸碰面板(touch panel)等所構成。顯示部77係藉由液晶顯示裝置、燈(lamp)等所構成的顯示裝置，在CPU 71所進行的控制之下顯示各種資訊。通訊部78係具有經由網路(network)在與外部裝置之間 進行命令或資料等的傳送接收之資料通訊功能。
圖7係表示第一實施形態之標記位置取得處理的流程之圖。首先，從外部被搬入到圖案描繪裝置1的基板9被搬入到台2上，並且該基板9被保持在台2上的固定位置(步驟(step)S10)。另外，被保持在台2之基板9的數量可以是一個也可以是複數個。
當基板9的搬入完畢時，標記位置取得處理便開始。具體而言，控制部7將基板資料攝入(步驟S11)。詳細來說，基板資料處理部711係從儲存裝置74讀取：被保持在台2之基板9上的標記91之位置資訊、及記錄有基板9之大小等的基板資料。在與複數種類的基板相關之基板資料被保存於儲存裝置74的情形下，基板資料處理部711係參照記錄有處理對象之基板的種類或處理內容等的處理配方(recipe)，或者可以藉由接收來自操作員的指定以鎖定被保持在台2的基板9。
接下來，基板資料處理部711基於基板資料，將基板9上的座標系轉換成圖案描繪裝置1中的X軸/Y軸座標系(步驟S12)。詳細來說，基板資料處理部711根據從基板資料所得到的基板9之大小等鎖定在台2上被保持的位置(被保持位置)。接下來，基板資料處理部711係根據該被保持位置求出用以將基板9上的座標系轉換成圖案描繪裝 置1中的X軸/Y軸座標系之座標轉換式。
接下來，基板資料處理部711算出各攝影機5a至5f的移動開始位置(步驟S13)。詳細來說，基於記錄有標記91之位置資訊的基板資料與在步驟S12所求出的座標轉換式來將形成於基板9之複數個標記91的各X軸座標予以鎖定。該各X軸座標被當成各攝影機5a至5f的移動開始位置。
在步驟S13之後，排列方向移動控制部713對準標記91之X軸方向(排列方向)的位置使各攝影機5a至5f在X軸方向移動(步驟S14)。在本實施形態中，由於攝影機5a、5d，攝影機5b、5e及攝影機5c、5f係由連結具52a至52c所連結，故一體地在X軸方向移動。在步驟S14中，排列方向移動控制部713係使各攝影機5a至5f以對應於複數個標記91之X軸方向的位置之方式移動。
圖8係表示使各攝影機5a至5f在排列方向移動的樣子之概略俯視圖。在圖8所示之例中，在台2上，相同尺寸(size)的兩個基板9以於X軸方向隔開預定的間隔地並列的方式被保持著。各基板9為矩形狀。接下來，在各基板9中係分別形成有合計八個標記91。具體來說，標記91係形成於各基板9的各個四角與各基板9的四側邊之各中央。亦即，在被保持在台2的各基板9中，在Y軸方向並列之 標記91的行(column)係在X軸方向各並列三行，合計並列六行。
在此，從+X側向-X側依序將+X側基板9的三個標記91的行稱作標記行92a、92b、92c。又，從+X側向-X側依序將-X側基板9的三個標記91的行稱作標記行92d、92e、92f。於各個標記行92a、92c、92d、92f係含有在Y軸方向以等間隔並列的三個標記91，於標記行92b、92e係含有在Y軸方向以等間隔並列的兩個標記91。
由連結具52a所連結的攝影機5a、5d之間隔係與標記行92a、92d之間隔一致。因此，如圖8所示，當排列方向移動控制部713將攝影機5a之X軸方向位置與標記行92a對準時，攝影機5d之X軸方向位置與標記行92d對準。
同樣地，由連結具52b所連結的攝影機5b、5e之間隔係與標記行92b、92e之間隔一致。因此，如圖8所示般當排列方向移動控制部713將攝影機5b之X軸方向位置與標記行92b對準時，攝影機5e之X軸方向位置與-X側基板9之標記行92e對準。
進一步地，由連結具52c所連結的攝影機5c、5f之間隔係與標記行92c、92f之間隔一致。因此，如圖8所示般當排列方向移動控制部713將攝影機5c之X軸方向位置與 標記行92c對準時，攝影機5f之X軸方向位置與標記行92f對準。
回到圖7，當排列方向移動控制部713使各個攝影機5a至5f往拍攝開始位置移動時，掃描方向移動控制部715使台2在作為掃描方向的Y軸方向移動(步驟S15)。藉此，各個攝影機5a至5f係拍攝通過下方的各標記91。
依據步驟S15，當攝影機5a至5f之相對於基板9向Y軸方向的一次相對性移動完畢時，控制部7係基於基板資料判定是否拍攝了所有的標記91(步驟S16)。於未拍攝的標記91存在的情形下(在步驟S16中的「否」)，控制部7係再次執行步驟S13至步驟S15。如此，到所有應拍攝之標記91的拍攝完畢為止，步驟S13至步驟S16被重複執行。於所有的標記91之拍攝已完畢的情形下(在步驟S16中的「是」)，控制部7係將標記取得處理結束。
在圖8所示之例中，如上述般，於步驟S14中，攝影機5a至5f被配置在對應於各標記行92a至92f之X軸方向的位置。依據該狀態，在步驟S15中使基板9相對於攝影機5a至5f在+Y方向(掃描方向)相對地移動，藉此能夠拍攝構成各標記行92a至92f的標記91。又，在該例中能夠用向著+Y方向之一次的掃描拍攝形成於兩個基板9之所有的標記91。
如以上般，在圖案描繪裝置1中，複數台攝影機5a至5f在X軸方向排列。因此，藉由攝影機5a至5f的向掃描方向(Y軸方向)之一次的相對性移動，能夠拍攝在X軸方向以複數行(在圖8所示之例中為標記行92a至92f)所配置的複數個標記91。因此，能夠縮短標記91的拍攝時間。
又，在X軸方向並列的複數台攝影機5(例如攝影機5a、5d)能夠連結而一體地在X軸方向移動。因此，比起設置使各個攝影機5獨立地向X軸方向移動的機構之情形更能將移動機構簡樸化。因此，能夠減輕因設置複數台攝影機5所致的圖案描繪裝置1的成本上升。又，由於能夠將控制機構簡樸化，故亦能減輕控制的複雜化。
<2.第二實施形態>
接下來對第二實施形態進行說明。另外，在往後的說明中，有對與已說明過的元件具有同樣功能之元件標示相同的符號或追加了字母文字的符號而省略詳細說明的情形。
圖9係表示第二實施形態之連結具52a1的概略俯視圖。連結具52a至52c係可具備能夠將該連結具52a至52c在X軸方向上長條化或短條化的構成。
如圖9所示，與連結具52a同樣地，第二實施形態之連結具52a1係連結攝影機5a、5d。連結具52a1係具備：一對固定構件521a、521b、連結構件522以及固定具523a、523b。
固定構件521a的一方側(-Y側)被固定於攝影機5a，另一方側(+Y側)被固定於滑動部543a。又，固定構件521b的一方側被固定於攝影機5d，另一方側被固定於滑動部543b。
連結構件522係形成為在X軸方向延伸之長條板狀的構件。連結構件522之兩側的端部係分別藉由固定具523a、523b而與固定構件521a、521b連結。固定具523a、523b係將連結構件522能夠與固定構件521a、521b解除連結地予以連結的構件。固定具523a、523b係例如螺栓(bolt)等的緊固機構。
以連結具52a1來說，能夠將連結構件522裝卸交換。因此，能夠藉由以不同長度的連結構件522連結固定構件521a、521b間來變更攝影機5a、5d間的X軸方向之間隔。藉此，能夠對應複數個標記91之X軸方向的間隔來變更攝影機5a、5d間的間隔。
在該連結具52a1中，固定構件521a、521b、連結構件 522及固定具523a、523b係將兩台攝影機5a、5d之間隔變更化為可能的間隔可變機構的一個例子。另外，間隔可變機構並非限定於此種構成。
例如，在連結具52a1中，在固定具523a例如為螺栓的情形下，可在連結構件522的+X側端部(或固定構件521a)設置在X軸方向並排的複數個螺栓插通孔。在該情形下，藉由將通過固定具523a的螺栓插通孔予以變更，能夠變更與固定構件521a連結之連結構件522的連結位置。因此，連結具52a1可以長條化或短條化，能夠將攝影機5a、5d的間隔設為可變並且連結攝影機5a、5d。另外，在連結構件522(或固定構件521a)中，也可以設置在X軸方向延伸之長條狀的螺栓插通孔來代替設置複數個螺栓插通孔。
雖然已詳細說明本發明，但在所有的局面中上述的說明為例示，並非用以限定本發明。應當理解到，在不脫離本發明之範圍的情形下，可以設想到未例示的無數個變形例。只要不相互矛盾，在上述各實施形態及各變形例中已說明的各構成係能夠適當組合或省略。
2‧‧‧台
5a、5d‧‧‧攝影機(第一攝影機群)
5b、5e‧‧‧攝影機(第二攝影機群)
5c、5f‧‧‧攝影機(第三攝影機群)
9‧‧‧基板
52a‧‧‧連結具(第一連結具)
52b‧‧‧連結具(第二連結具)
52c‧‧‧連結具(第三連結具)
54a、54b、54c‧‧‧排列方向移動機構
91‧‧‧標記
92a至92f‧‧‧標記行

Claims (5)

  1. 一種圖案描繪裝置，係將圖案描繪於在表面形成有複數個標記的基板，且具備：基板保持部，係保持前述基板；第一攝影機群，係包含拍攝在前述基板上之前述標記的複數台攝影機；第一連結具，係將前述第一攝影機群的前述複數台攝影機以已排列在排列方向之狀態連結；排列方向移動機構，係含有導引部以及驅動部，前述導引部係用以於前述排列方向引導前述第一攝影機群，前述驅動部係藉由使前述第一連結具移動而使前述第一連結具以及已藉由前述第一連結具所連結的前述第一攝影機群沿著前述導引部一體地往前述排列方向移動；以及掃描方向移動機構，係使前述第一攝影機群相對於前述基板保持部在與前述排列方向交叉之掃描方向相對移動。
  2. 如請求項1所記載之圖案描繪裝置，其中前述基板保持部能夠將複數個前述基板以在前述排列方向上並排的狀態予以保持；前述第一攝影機群係藉由前述第一連結具以能夠拍攝各個前述標記之間隔所連結，前述標記係形成在被保持在前述基板保持部的複數個基板之各自的相同位置。
  3. 如請求項1或2所記載之圖案描繪裝置，其中更具備：第二攝影機群，係包含拍攝在前述基板上之前述標記的複數台攝影機；以及第二連結具，係將前述第二攝影機群的前述複數台攝影機以已排列在前述排列方向之狀態連結；前述排列方向移動機構係使前述第一攝影機群相對於前述第二攝影機群在前述排列方向相對地移動，並且前述掃描方向移動機構係使前述第一攝影機群及前述第二攝影機群往前述掃描方向一體地移動。
  4. 如請求項1或2所記載之圖案描繪裝置，其中前述第一連結具係具備能夠將前述第一攝影機群之前述複數台攝影機的間隔予以變更之間隔可變機構。
  5. 一種圖案描繪方法，係處理在表面形成有複數個標記的基板，且包含：工序a，係保持前述基板；工序b，係在前述工序a後，沿著用以於排列方向引導含有藉由第一連結具以已排列在前述排列方向之狀態而連結之複數台攝影機的第一攝影機群的導引部使前述第一連結具移動，藉此將前述第一連結具以及已藉由前述第一連結具所連結的前述第一攝影機群對準在前述基板上的前述複數個標記之位置而一體地往前述排列方向移動；以及 工序c，係在前述工序b後，使前述第一攝影機群相對於前述基板在與前述排列方向交叉之掃描方向相對移動。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7386742B2 (ja) * 2020-03-24 2023-11-27 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 露光装置
JP7458950B2 (ja) * 2020-09-23 2024-04-01 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 描画システム

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002039794A2 (en) 2000-11-08 2002-05-16 Orbotech Ltd System and method for fabricating printed circuit boards
WO2006090823A1 (ja) * 2005-02-24 2006-08-31 Fujifilm Corporation 位置合わせ機能の校正方法
WO2006118343A1 (en) * 2005-04-28 2006-11-09 Fujifilm Corporation Exposure apparatus
WO2007043411A1 (ja) * 2005-10-07 2007-04-19 Fujifilm Corporation デジタル露光装置

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3537202B2 (ja) * 1994-12-19 2004-06-14 オリンパス株式会社 複数ヘッド顕微鏡装置
JP3758832B2 (ja) * 1997-09-17 2006-03-22 ペンタックス株式会社 位置決めマーク照明装置
JP2000068192A (ja) 1998-08-18 2000-03-03 Nikon Corp 露光装置、露光方法及び位置検出方法
TWI264532B (en) * 2001-11-05 2006-10-21 Olympus Corp Substrate inspection device
US7388663B2 (en) * 2004-10-28 2008-06-17 Asml Netherlands B.V. Optical position assessment apparatus and method
US7796800B2 (en) 2005-01-28 2010-09-14 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Determining a dimensional change in a surface using images acquired before and after the dimensional change
JP4485381B2 (ja) * 2005-02-25 2010-06-23 富士フイルム株式会社 画像形成装置および画像形成方法
JP2006267191A (ja) 2005-03-22 2006-10-05 Pentax Industrial Instruments Co Ltd 露光装置
JP2006308996A (ja) 2005-04-28 2006-11-09 Fuji Photo Film Co Ltd 露光装置
JP2008203556A (ja) 2007-02-20 2008-09-04 Fujifilm Corp デジタル露光装置
JP5279207B2 (ja) 2007-06-11 2013-09-04 Ｎｓｋテクノロジー株式会社 露光装置用基板搬送機構
JP2009192693A (ja) * 2008-02-13 2009-08-27 Dainippon Screen Mfg Co Ltd パターン描画装置
JP2014006433A (ja) 2012-06-26 2014-01-16 Dainippon Screen Mfg Co Ltd パターン描画装置
CN203658731U (zh) * 2013-12-27 2014-06-18 东莞市华恒工业自动化集成有限公司 菲林对位机用ccd视觉对位装置
CN204347441U (zh) * 2015-01-13 2015-05-20 苏州微影光电科技有限公司 直写式光刻装置
JP6926596B2 (ja) 2017-03-31 2021-08-25 ウシオ電機株式会社 露光装置および露光方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002039794A2 (en) 2000-11-08 2002-05-16 Orbotech Ltd System and method for fabricating printed circuit boards
WO2006090823A1 (ja) * 2005-02-24 2006-08-31 Fujifilm Corporation 位置合わせ機能の校正方法
WO2006118343A1 (en) * 2005-04-28 2006-11-09 Fujifilm Corporation Exposure apparatus
WO2007043411A1 (ja) * 2005-10-07 2007-04-19 Fujifilm Corporation デジタル露光装置

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