CN110308626B - 图案描画装置及图案描画方法 - Google Patents

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Abstract

提供一种当用多个照相机拍摄形成在基板上的多个标记时,抑制装置成本增加及控制复杂化的技术。图案描画装置(1)是通过在表面形成有多个标记(91)的基板(9)上照射光从而在基板上形成图案的装置。图案描画装置(1)具有:照相机(5a、5d),拍摄形成在基板(9)上的多个标记(91);连结件(52a),将照相机(5a、5d)以在X轴方向(排列方向)上排列的状态连结;排列方向移动机构(54a),使照相机(5a、5d)向X轴方向一体地移动;以及主扫描机构(35)(扫描方向移动机构),使承载台(2)在Y轴方向(扫描方向)上移动。

Description

图案描画装置及图案描画方法
技术领域
本发明涉及一种在基板上描画图案的技术,尤其涉及一种确定基板的位置的技术。构成处理对象的基板包括半导体基板、液晶显示装置及有机EL(Electroluminescence:电致发光)显示装置等FPD(Flat Panel Display:平板显示)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板以及印刷基板等。
背景技术
有时使用如下的图案描画装置,即,通过将光照射到涂布于基板的感光材料上来描画规定的图案。以往的图案描画装置具有:承载台,以水平姿势保持基板并使基板移动;以及多个光学头,使基板移动并将光照射到基板的上表面。在图案描画装置中,通过使基板移动并从多个光学头间歇照射光,来在基板的上表面的规定位置描画图案。
在这样的图案描画装置中,为了在基板的上表面的正确位置描画图案,执行用于校正保持在承载台上的基板的位置的对准处理。在对准处理中,例如,通过装置内的对准照相机拍摄预先形成在基板的上表面的对准标记,并基于拍摄的对准标记的图像校正基板的位置偏差。
作为与本发明相关的现有技术,例如在专利文献1中有记载。在专利文献1中,记载有对对准标记用对准照相机拍摄多个对准标记的技术。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2009-192693号公报
发明内容
发明要解决的问题
但是,当用多个对准照相机(以下称为“照相机”。)拍摄多个对准标记(以下称为“标记”。)时,使各照相机以对齐标记的位置的方式在其排列方向上移动。并且,通过使基板相对于各照相机向与照相机的排列方向交叉的扫描方向相对移动,能够有效地拍摄各标记。
然而,在使用多个照相机的情况下,由于移动机构需要具有与照相机数量相同数量的用于使各照相机在排列方向上移动的动作轴等,因而移动机构会复杂化。因此,会产生装置成本增加以及控制复杂化等各种问题。
因此,本发明的目的在于,提供一种当用多个照相机拍摄形成在基板上的多个标记时,抑制装置成本增加及控制复杂化的技术。
用于解决问题的手段
为了解决上述问题,第一形态为一种图案描画装置,用于在表面形成有多个标记的基板上描画图案,具有:基板保持部,用于保持所述基板;第一照相机组,包括用于拍摄所述基板上的所述标记的多个照相机;第一连结件,将所述第一照相机组的所述多个照相机以在排列方向上排列的状态连结;排列方向移动机构,使由所述第一连结件连结的所述第一照相机组沿所述排列方向一体地移动;以及扫描方向移动机构,使所述基板保持部在与所述排列方向交叉的扫描方向上移动。
第二形态是根据第一形态的图案描画装置,其中,所述基板保持部能够将多个所述基板以在所述排列方向上排列的状态保持;所述第一照相机组,通过所述第一连结件,以能够对保持于所述基板保持部的多个基板中的各基板的相同位置上形成的各所述标记进行拍摄的间隔,来进行连结。
第三形态是根据第一形态或第二形态的图案描画装置,其中,还具有:第二照相机组,包括用于拍摄所述基板上的所述标记的多个照相机,以及第二连结件,将所述第二照相机组的所述多个照相机以在所述排列方向上排列的状态连结;在所述排列方向移动机构使所述第一照相机组相对于所述第二照相机组而在所述排列方向上相对移动的同时,所述扫描方向移动机构使所述基板保持部向所述扫描方向移动。
第四形态是根据第一形态至第三形态中的任一形态所述的图案描画装置,其中,所述第一连结件具有间隔可变机构,该间隔可变机构能够改变所述第一照相机组的所述多个照相机的间隔。
第五形态为一种图案描画方法,用于处理表面形成有多个标记的基板,包括:a工序,基板保持部将多个所述基板在排列方向上排列并保持;b工序,在所述a工序之后,使包括通过第一连结件以在所述排列方向上排列的状态并以能够对保持于所述基板保持部的多个所述基板中的各基板的相同位置上形成的各所述标记进行拍摄的间隔连结的多个照相机的第一照相机组,以与所述基板上的所述多个标记的位置对齐的方式在所述排列方向上一体地移动;以及c工序,在所述b工序之后,使所述基板相对于所述第一照相机组而在与所述排列方向交叉的扫描方向上相对移动。
发明的效果
根据第一形态的图案描画装置,通过使第一照相机组通过第一连结件连结,与使各照相机单独地沿排列方向移动的情况相比,更能够简化移动机构。因此,能够抑制装置成本增加以及控制复杂化。
根据第二形态的图案描画装置,通过沿扫描方向移动,能够用第一照相机组拍摄在各基板的相同位置上形成的各标记。
根据第三形态的图案描画装置,通过使由第一连结件及第二连结件连结的第一照相机组及第二照相机组在排列方向上相对移动,能够使各照相机移动到在基板的排列方向上排列的多个标记的位置。在该状态下,通过使第一照相机组及第二照相机组在扫描方向上移动,能够拍摄多个列的标记。
根据第四形态的图案描画装置,能够通过间隔可变机构使第一连结件以改变多个照相机的间隔的方式连结多个照相机。由此,能够以与多个标记的排列方向的间隔相匹配的方式调整各照相机的间隔。
根据第五形态的图案描画方法,通过将第一照相机组通过第一连结件连结,与使各照相机单独沿排列方向移动的情况相比,更能够简化移动机构。因此,能够抑制装置成本增加以及控制复杂化。
附图说明
图1是示出第一实施方式的图案描画装置1的概要侧视图。
图2是示出第一实施方式的照相机5a~5f的概要俯视图。
图3是示出第一实施方式的照相机5a、5d及排列方向移动机构54a的概要立体图。
图4是示出第一实施方式的照相机5a、5d及排列方向移动机构54a的概要俯视图。
图5是示出第一实施方式的描画头60的概要立体图。
图6是示出第一实施方式的控制部7的结构的框图。
图7是示出第一实施方式的标记位置获取处理的流程的图。
图8是示出使各照相机5a~5f在排列方向上移动的状态的概要俯视图。
图9是示出第二实施方式的连结件52a1的概要俯视图。
附图标记说明
1:图案描画装置
2:承载台
3:承载台驱动机构
35:主扫描机构(扫描方向移动机构)
5a、5d:照相机(第一照相机组)
5b、5e:照相机(第二照相机组)
5c、5f:照相机(第三照相机组)
52a、52a1:连结件(第一连结件)
52b:连结件(第二连结件)
52c:连结件
54a~54c:排列方向移动机构
541:滚珠丝杠
542:旋转驱动部
543H:插通孔
543a、543b:滑动部
544:引导部
6:描画单元
60:描画头
7:控制部
711:基板数据处理部
713:排列方向移动控制部
715:扫描方向移动控制部
9:基板
91:标记
92a~92f:标记列
具体实施方式
以下,参照所附的附图对本发明的实施方式进行说明。此外,该实施方式记载的构成要素仅仅是示例,并非旨在将本发明的范围仅限定于此。在附图中,为了容易理解,存在根据需要将各部分的尺寸或数量夸张或简化地示出的情况。
(1.第一实施方式)
图1是示出第一实施方式的图案描画装置1的概要侧视图。图案描画装置1是通过在形成有抗蚀剂等层的基板9的上表面根据CAD数据等照射经空间调制的光(描画光)来曝光(描画)图案(例如电路图案)的装置。作为图案描画装置1的处理对象的基板9,例如是印刷基板、半导体基板、液晶显示装置或有机EL(Electroluminescence:电致发光)显示装置等FPD(Flat Panel Display:平板显示)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板等。在以下的说明中,基板9形成为矩形板状。
图案描画装置1具有基座15、门形的支撑架16、承载台2、承载台驱动机构3、承载台位置测量部4、照相机5、描画单元6、以及控制部7。
承载台2是用于保持基板9的保持部。承载台2配置在基座15上。具体地,承载台2例如具有平板状的外形,在其上表面以水平姿势载置保持基板9。承载台2能够同时保持多个基板9。例如,在承载台2的上表面形成有多个吸引孔(省略图示),通过在该吸引孔处形成负压(吸引压),将载置于承载台2上的基板9固定保持在承载台2的上表面。此外,保持基板9的结构不限定于此。例如,也可以使用粘合片等将基板9粘合在承载台2上。
(承载台驱动机构3)
承载台驱动机构3使承载台2相对于基座15相对移动。承载台驱动机构3配置在基座15上。
具体地,承载台驱动机构3具有:旋转机构31,使承载台2在旋转方向(围绕Z轴的旋转方向(θ轴方向))上旋转;支撑板32,通过旋转机构31支撑承载台2;以及副扫描机构33,使支撑板32在副扫描方向(X轴方向)上移动。承载台驱动机构3还具有:底板34,通过副扫描机构33支撑支撑板32;以及主扫描机构35,使底板34在主扫描方向(Y轴方向)上移动。
旋转机构31穿过承载台2的上表面(基板9的载置面)的中心,并使承载台2以与该载置面垂直的旋转轴A为中心旋转。旋转机构31可以包括例如:旋转轴部311,上端固定于载置面的里面侧,并且沿铅垂轴延伸;旋转驱动部(例如、旋转马达)312,设置于旋转轴部311的下端,并使旋转轴部311旋转。在该结构中,旋转驱动部312使旋转轴部311旋转,从而使承载台2在水平面内以旋转轴A为中心旋转。
副扫描机构33具有线性马达331,该线性马达331由安装于支撑板32的下表面的动子和安设于底板34的上表面的定子构成。另外,在底板34上安设有在副扫描方向上延伸的一对引导构件332,在各引导构件332与支撑板32之间,设置有在引导构件332上能够一边滑动一边沿该引导构件332移动的滚珠轴承。也就是说,支撑板32通过该滚珠而被轴承支撑于一对引导构件332上。在该结构中,若使线性马达331动作,则支撑板32在被引导构件332引导的状态下沿副扫描方向平滑地移动。
主扫描机构35具有线性马达351,该线性马达351由安装于底板34的下表面的动子和安设于基座15上的定子构成。另外,在基座15上,安设有沿着主扫描方向的一对引导构件352,在各引导构件352与底板34之间,例如设置有空气轴承。空气从功能设备(utilitydevice)不断供给到空气轴承,底板34通过空气轴承以非接触方式悬浮地支撑在引导构件352上。在该结构中,若使线性马达351动作,则底板34在被引导构件352引导的状态下沿主扫描方向而无摩擦地平滑移动。
(承载台位置测量部4)
承载台位置测量部4用于测量承载台2的位置。具体地,承载台位置测量部4例如从承载台2外向承载台2出射激光并接收其反射光。承载台位置测量部4构成干涉式激光长度测量器,该干涉式激光长度测量器用于根据该反射光与出射光的干涉测量承载台2的位置(具体地,沿着主扫描方向的Y位置以及沿着旋转方向的θ位置)进行测量。
(照相机5)
照相机5是用于对保持在承载台2上的基板9的上表面进行拍摄的光学装置。照相机5由支撑架16支撑。照相机5具有例如镜筒、聚焦镜头、CCD图像传感器以及驱动部。镜筒通过光缆等与供给拍摄用的照明光(但是,作为照明光,选择具有不使基板9上的抗蚀剂等感光的波长的光)的照明单元500连接。CCD图像传感器由区域图像传感器(二维图像传感器)等构成。另外,驱动部由马达等构成,通过驱动聚焦镜头(focusing lens)改变其高度位置。驱动部通过调整聚焦镜头的高度位置来执行自动对焦。
在具有这样的结构的照相机5中,从照明单元500出射的光导入镜筒,并通过聚焦镜头导入至承载台2上的基板9的上表面。然后,其反射光被CCD图像传感器接收。由此,可获取在基板9的上表面上形成的标记91(参照图8)的拍摄数据。该拍摄数据被送到控制部7,用于基板9的对准(位置对准)。
图案描画装置1具有6个照相机5。6个照相机5以在X轴方向上排列的状态安装于支撑架16。在以下的说明中,从+X侧向-X侧依次地将6个照相机5称为照相机5a、5b、5c、5d、5e、5f。
图2是示出第一实施方式的照相机5a~5f的概要俯视图。图3是示出第一实施方式的照相机5a、5d以及排列方向移动机构54a的概要立体图。此外,图3是示出从-Y侧正面向-X侧倾斜地观察排列方向移动机构54a的状态的图。图4是示出第一实施方式的照相机5a、5d及排列方向移动机构54a的概要俯视图。
首先,如图2中概要性所示,2个照相机5a、5d(第一照相机组)通过连结件52a(第一连结件)连结,2个照相机5b、5e(第二照相机组)通过连结件52b(第二连结件)连结,2个照相机5c、5f(第三照相机组)通过连结件52c(第三连结件)连结。
连结件52a~52c都是在X轴方向上延伸的构件。连结件52a将照相机5a、5d以在X轴方向上隔开规定间隔的方式连结。同样地,连结件52b、52c分别在将照相机5b、5e以及照相机5c、5f在X轴方向上隔开规定间隔地排列的状态下,将照相机5b、5e以及照相机5c、5f连结。在本实施方式中,X轴方向对应于排列方向。此外,在本实施方式中,各连结件52a~52c分别连结2个照相机5,但是也可以连结3个以上的照相机5。
图案描画装置1具有排列方向移动机构54(54a、54b、54c)。排列方向移动机构54a使照相机5a、5d一体地在X轴方向上移动,排列方向移动机构54b使照相机5b、5e一体地在X轴方向上移动,排列方向移动机构54c使照相机5c、5f一体地在X轴方向上移动。排列方向移动机构54a~54c在上下(Z轴方向)上多级地重叠设置。
如图3及图4中详细所示,排列方向移动机构54a具有滚珠丝杠541、旋转驱动部542、滑动部543a、543b以及引导部544。
滚珠丝杠541、引导部544在X轴方向上延伸。滚珠丝杠541容纳在引导部544的内部。旋转驱动部542使滚珠丝杠541绕X轴旋转。
引导部544将滑动部543a、543b在X轴方向上可移动地保持在该引导部544的内部。详细而言,引导部544从上下以使滑动部543a、543b能够滑动接触地移动的方式保持该滑动部543a、543b。引导部544以使滑动部543a、543b仅在X轴方向上移动的方式限制滑动部543a、543b的移动方向。
滚珠丝杠541在X轴方向上贯通滑动部543a、543b。滑动部543a具有与滚珠丝杠541螺合的螺孔。另外,滑动部543b具有插通孔543H,其内径比滚珠丝杠541的外径(牙顶的直径)大。滑动部543b以不与滚珠丝杠541接触的状态被保持于引导部544。
在引导部544的-Y侧配置有连结件52a。并且,连结件52a与保持在引导部544的内部的滑动部543a、543b连结。如图3所示,在连结件52a的-Y侧的表面安装有照相机5a、5d。滑动部543a设置于在Y轴方向上与照相机5a重叠的位置,滑动部543b设置于在Y轴方向上与照相机5d重叠的位置。
旋转驱动部542使滚珠丝杠541正向旋转或反向旋转,从而使滑动部543a向+X方向或-X方向移动。随着该滑动部543a的移动,连结件52a向+X方向或-X方向移动。此时,与连结件52a连结的滑动部543b由引导部544引导,从而向+X方向或-X方向移动。另外,随着连结件52a向+X方向或-X方向移动,照相机5a、5d一体地向+X方向或-X方向移动。
排列方向移动机构54b、54c也具有与排列方向移动机构54a相同的结构。排列方向移动机构54a~54c分别使连结件52a~52c以互不接触的方式在X轴方向上移动。
返回图1,描画单元6是形成描画光的光学装置。图案描画装置1具有多个(例如5个)描画单元6。然而,描画单元6的搭载数量不必是多个,也可以是1个。
图5是示出第一实施方式的描画头60的概要立体图。描画单元6具有描画头60、光源装置61、空间光调制设备62以及投影光学系统63。光源装置61、空间光调制设备62以及投影光学系统63由支撑架16(参照图1)支撑。具体地,例如,光源装置61容纳在载置于支撑架16的顶板上的收纳箱中。另外,空间光调制设备62及投影光学系统63容纳在固定于支撑架16的+Y侧的收纳箱中。
光源装置61向描画头60出射光。具体地,光源装置61例如具有出射激光的激光振荡器等。光源装置61具有照明光学系统613,该照明光学系统613将从激光振荡器出射的光(点波束:spot beam)作为强度分布均匀的线状光(即,光束截面为带状的光即线光束)。照明光学系统613将从光源装置61输出的光引导至空间光调制设备62。照明光学系统613例如具有透镜614和反射镜615。
空间光调制设备62例如包括DMD(Digital Micromirror Device:数字微镜器件)。DMD具有微镜面组,该微镜面组的微镜面的各自的朝向可以单独改变。大量的微镜面形成在硅基板上,且大量的微镜面以二维方式排列(即,排列成在互相垂直的两个方向上排列的阵列状)。
在空间光调制设备62中,根据写入与各微镜面对应的存储单元的数据,各微镜面因静电作用,相对于硅基板的表面而倾斜规定的角度。并且,仅由来自处于与规定的开(ON)状态对应的姿势的微镜面的反射光形成的光(即,空间调制后的光)被引导到投影光学系统63。此外,也可以采用反射型及衍射光栅型的空间光调制器即GLV(Grating Light Valve)作为空间光调制设备62。
由空间光调制设备62进行空间调制后的光,被投影光学系统63引导到承载台2上的基板9(参照图1)。来自投影光学系统63的光,被照射到与空间光调制设备62的微镜面组光学共轭的基板9上的照射区域。
图6是示出第一实施方式的控制部7的结构的框图。控制部7与图案描画装置1所具有的各部件电连接,并在执行各种计算处理的同时控制图案描画装置1的各部件的动作。
控制部7构成为将CPU71、ROM72、RAM73、存储装置74等通过总线75相互连接而成的通用计算机。ROM72存储有基本程序等。RAM73用作CPU71执行规定处理时的作业区域。存储装置74由闪存或硬盘装置等非易失性的存储装置构成。在存储装置74中安装有程序PG。作为主控制部的CPU71根据已经在该程序PG中描述的过程执行计算处理,使得控制部7作为基板数据处理部711、排列方向移动控制部713、扫描方向移动控制部715、图像处理部717发挥功能。此外,各功能也可以通过由专用的逻辑电路构成的硬件来实现。
基板数据处理部711获取与载置于承载台2的基板9相关的基板数据。基板数据包括基板9的大小、基板9上形成标记91的位置信息等。基板数据例如保存在存储装置74等中。根据基板数据处理部711所获取的基板数据,确定基板9在承载台2上的载置位置等。另外,根据基板数据,能够确定载置于承载台2上的基板9上的标记91在图案描画装置1中的位置(X轴坐标及Y轴坐标)。
排列方向移动控制部713通过控制排列方向移动机构54a~54c,来控制多个照相机5a~5f在排列方向(X轴方向)上的移动。此处,排列方向移动控制部713使各照相机5a~5f以与根据基板数据处理部711所获取的基板数据而确定的多个标记91的X轴方向位置相对齐的方式,在排列方向即X轴方向上移动。
扫描方向移动控制部715通过控制主扫描机构35(扫描方向移动机构)使承载台2在Y轴方向上移动。通过使承载台2在Y轴方向上移动,能够使基板9在Y轴方向上移动。由此。能够使基板9相对于多个照相机5或多个描画头60而在Y轴方向(扫描方向)上相对移动。
图像处理部717通过对由各照相机5a~5f拍摄得到的图像数据进行图像处理来确定标记91的位置。
另外,控制部7具有与总线75连接的输入部76、显示部77以及通信部78。输入部76为例如由键盘及鼠标构成的输入设备,并接收来自操作者的各种操作(诸如命令或各种数据的输入的操作)。此外,输入部76也可以由各种开关、触控面板等构成。显示部77由液晶显示装置、灯等构成的显示装置,在CPU71的控制下,显示各种信息。通信部78具有通过网络与外部装置之间进行命令或数据等的发送与接收的数据通信功能。
图7是示出第一实施方式的标记位置获取处理的流程的图。首先,从外部运送到图案描画装置1的基板9被运送到承载台2上,并且该基板9被保持在承载台2上的固定位置(步骤S10)。此外,保持在承载台2上的基板9的数量可以是1个,也可以是多个。
若基板9的运送结束,则开始标记位置获取处理。具体地,控制部7获取基板数据(步骤S11)。详细而言,基板数据处理部711从存储装置74读取基板数据,该基板数据记录有保持在承载台2上的基板9上的标记91的位置信息以及基板9的大小等。优选地,当与多个种类的基板相关的基板数据被保存在存储装置74中时,基板数据处理部711通过参照记录有处理对象的基板的种类或处理内容等的处理方案,或者接收来自操作者的指定,来确定保持在承载台2上的基板9。
接着,基板数据处理部711基于基板数据将基板9上的坐标系转换为图案描画装置1中的X轴和Y轴坐标系(步骤S12)。详细而言,基板数据处理部711根据从基板数据获得的基板9的大小等,确定基板9在承载台2上被保持的位置(被保持位置)。然后,基板数据处理部711根据该被保持位置求出将基板9上的坐标系转换为图案描画装置1中的X轴和Y轴坐标系的坐标转换式。
接着,基板数据处理部711计算出各照相机5a~5f的移动开始位置(步骤S13)。详细而言,基于记录有标记91的位置信息的基板数据和在步骤S12中求出的坐标转换式,确定形成在基板9上的多个标记91的各X轴坐标。将该各X轴坐标设为各照相机5a~5f的移动开始位置。
在步骤S13之后,排列方向移动控制部713使各照相机5a~5f以与标记91在X轴方向(排列方向)上的位置相对齐的方式在X轴方向上移动(步骤S14)。在本实施方式中,照相机5a、5d、照相机5b、5e、以及照相机5c、5f通过连结件52a~52c连结,因而在X轴方向上一体地移动。在步骤S14中,排列方向移动控制部713使各照相机5a~5f以与多个标记91在X轴方向上的位置对应的方式移动。
图8是示出使各照相机5a~5f在排列方向上的移动的状态的概要俯视图。在图8所示的例子中,在承载台2上将同一尺寸的2个基板9以在X轴方向上隔开规定间隔地排列的方式保持。各基板9为矩形状。并且,在各基板9上分别形成有共8个标记91。具体地,标记91形成在各基板9的各四个角和各基板9的四个侧边的各中央处。即,在保持在承载台2上的各基板9上,在Y轴方向上排列的标记91的列在X轴方向上各有3列,共排列有6列。
此处,从+X侧向-X侧,将+X侧基板9的标记91的3个列依次称为标记列92a、92b、92c。另外,从+X侧向-X侧,将-X侧基板9的标记91的3个列依次称为标记列92d、92e、92f。标记列92a、92c、92d、92f中分别包括在Y轴方向上等间隔排列的3个标记91,标记列92b、92e中包括在Y轴方向上等间隔排列的2个标记91。
由连结件52a连结的照相机5a、5d的间隔,与标记列92a、92d的间隔一致。因此,如图8所示,若排列方向移动控制部713使照相机5a的X轴方向位置与标记列92a对齐,则照相机5d的X轴方向位置与标记列92d对齐。
同样地,由连结件52b连结的照相机5b、5e的间隔,与标记列92b、92e的间隔一致。因此,如图8所示,若排列方向移动控制部713将照相机5b的X轴方向位置与标记列92b对齐,则照相机5e的X轴方向位置与-X侧基板9的标记列92e对齐。
进而,由连结件52c连结的照相机5c、5f的间隔,与标记列92c、92f的间隔一致。因此,如图8所示,若排列方向移动控制部713使照相机5c的X轴方向位置与标记列92c对齐,则照相机5f的X轴方向位置与标记列92f对齐。
返回图7,若排列方向移动控制部713将各照相机5a~5f移动到拍摄开始位置,则扫描方向移动控制部715使承载台2在扫描方向即Y轴方向上移动(步骤S15)。由此,各照相机5a~5f拍摄通过下方的各标记91。
若通过步骤S15完成了照相机5a~5f在Y轴方向上相对于基板9的一次相对移动,则控制部7基于基板数据判定是否拍摄了所有的标记91(步骤S16)。当还有未拍摄的标记91时(步骤S16中的否),控制部7再次执行步骤S13~步骤S15。像这样,重复执行步骤S13~步骤S16直至完成了所有应拍摄的标记91的拍摄。当完成了所有标记91的拍摄时(步骤S16中的是),控制部7结束标记获取处理。
在图8所示的例子中,如上所述,在步骤S14中,照相机5a~5f配置在分别与标记列92a~92f对应的X轴方向上的位置处。通过在步骤S15中使基板9从该状态相对于照相机5a~5f在+Y方向(扫描方向)上相对移动,能够拍摄构成各标记列92a~92f的标记91。另外,在该例子中,可以通过向+Y方向进行一次扫描来拍摄形成在2个基板9上的所有标记91。
如以上所述,在图案描画装置1中,多个照相机5a~5f在X轴方向上排列。因此,通过照相机5a~5f在扫描方向(Y轴方向)上进行一次相对移动,能够拍摄在X轴方向上排列成多个列(在图8所示的例子中为标记列92a~92f)的多个标记91。因此,能够缩短标记91的拍摄时间。
另外,在X轴方向上并行排列的多个照相机5(例如照相机5a、5d)被连结而能够一体地在X轴方向上移动。因此,与设置使各照相机5独立地向X轴方向移动的机构的情况相比,能够更加简化移动机构。因此,通过设置多个照相机5,能够抑制图案描画装置1的成本增加。另外,由于能够简化控制机构,因而能够抑制控制的复杂化。
(2.第二实施方式)
接着,对第二实施方式进行说明。此外,在以下的说明中,存在对具有与已经说明的要素同样功能的要素标注相同附图标记或添加了英文字母的附图标记而省略详细说明的情况。
图9是示出第二实施方式的连结件52a1的概要俯视图。连结件52a~52c也可以具有使该连结件52a~52c能够在X轴方向上伸长或缩短的结构。
如图9所示,第二实施方式的连结件52a1与连结件52a同样地连结照相机5a、5d。连结件52a1具有一对固定构件521a、521b、连结构件522以及固定件523a、523b。
固定构件521a的一侧(-Y侧)固定于照相机5a,另一侧(+Y侧)固定于滑动部543a。另外,固定构件521b的一侧固定于照相机5d,另一侧固定于滑动部543b。
连结构件522是形成为在X轴方向上延伸的长板状的构件。连结构件522的两侧的端部分别通过固定件523a、523b与固定构件521a、521b连结。固定件523a、523b是将连结构件522以能够解除连接的方式连接到固定构件521a、521b的构件。固定件523a、523b是例如螺栓等的紧固元件。
在连结件52a1中,能够可以可装卸的方式更换连结构件522。因此,通过将固定构件521a、521b之间用不同长度的连结构件522连结,能够改变照相机5a、5d之间在X轴方向上的间隔。由此,能够对应于多个标记91在X轴方向上的间隔,改变照相机5a、5d之间的间隔。
在该连结件52a1中,固定构件521a、521b、连结构件522、以及固定件523a、523b是能够改变2个照相机5a、5d的间隔的间隔可变机构的一个例子。此外,间隔可变机构不限定于这样的结构。
例如,在连结件52a1中,例如当固定件523a为螺栓时,可以在连结构件522的+X侧端部(或者固定构件521a),设置在X轴方向上排列的多个螺栓插通孔。此时,通过改变固定件523a穿过的螺栓插通孔,能够改变连结构件522与固定构件521a连结的连结位置。因此,连结件52a1能够伸长或缩短,从而能够改变照相机5a、5d的间隔,并能够将它们连结。此外,在连结构件522(或者固定构件521a)中,也可以取代多个螺栓插通孔,而设置在X轴方向上延伸的长尺寸状的螺栓插通孔。
进已经详细说明了本发明,但是上述的说明在所有方面都是例示性说明,本发明不限定于此。应当理解,在不脱离本发明的范围的情况下,可以设想没有例示出的无数的变形例。在上述各实施方式及各变形例中说明的各结构只要不相互矛盾就能够适当的组合或省略。

Claims (4)

1.一种图案描画装置,用于在表面形成有多个标记的基板上描画图案,其特征在于,具有:
基板保持部,用于保持所述基板,
第一照相机组,包括用于拍摄所述基板上的所述标记的多个照相机,
第一连结件,将所述第一照相机组的所述多个照相机以在排列方向上排列的状态连结,
排列方向移动机构,使由所述第一连结件连结的所述第一照相机组沿所述排列方向一体地移动,以及
扫描方向移动机构,使所述基板保持部在与所述排列方向交叉的扫描方向上移动;
所述基板保持部能够将多个所述基板以在所述排列方向上排列的状态保持,
所述第一照相机组,通过所述第一连结件,以能够对保持于所述基板保持部的多个基板中的各基板的相同位置上形成的各所述标记进行拍摄的间隔,来进行连结。
2.根据权利要求1所述的图案描画装置,其特征在于,
还具有:
第二照相机组,包括用于拍摄所述基板上的所述标记的多个照相机,以及
第二连结件,将所述第二照相机组的所述多个照相机以在所述排列方向上排列的状态连结;
在所述排列方向移动机构使所述第一照相机组相对于所述第二照相机组而在所述排列方向上相对移动的同时,所述扫描方向移动机构使所述基板保持部向所述扫描方向移动。
3.根据权利要求1或2所述的图案描画装置,其特征在于,
所述第一连结件具有间隔可变机构,该间隔可变机构能够改变所述第一照相机组的所述多个照相机的间隔。
4.一种图案描画方法,用于处理表面形成有多个标记的基板,其特征在于,包括:
a工序,基板保持部将多个所述基板在排列方向上排列并保持,
b工序,在所述a工序之后,使包括通过第一连结件以在所述排列方向上排列的状态并以能够对保持于所述基板保持部的多个所述基板中的各基板的相同位置上形成的各所述标记进行拍摄的间隔连结的多个照相机的第一照相机组,以与所述基板上的所述多个标记的位置对齐的方式在所述排列方向上一体地移动,以及
c工序,在所述b工序之后,使所述基板相对于所述第一照相机组而在与所述排列方向交叉的扫描方向上相对移动。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7386742B2 (ja) * 2020-03-24 2023-11-27 株式会社Screenホールディングス 露光装置
JP7458950B2 (ja) * 2020-09-23 2024-04-01 株式会社Screenホールディングス 描画システム

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3537202B2 (ja) * 1994-12-19 2004-06-14 オリンパス株式会社 複数ヘッド顕微鏡装置
JP3758832B2 (ja) * 1997-09-17 2006-03-22 ペンタックス株式会社 位置決めマーク照明装置
JP2000068192A (ja) * 1998-08-18 2000-03-03 Nikon Corp 露光装置、露光方法及び位置検出方法
US6701197B2 (en) 2000-11-08 2004-03-02 Orbotech Ltd. System and method for side to side registration in a printed circuit imager
TWI264532B (en) * 2001-11-05 2006-10-21 Olympus Corp Substrate inspection device
US7388663B2 (en) * 2004-10-28 2008-06-17 Asml Netherlands B.V. Optical position assessment apparatus and method
US7796800B2 (en) * 2005-01-28 2010-09-14 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Determining a dimensional change in a surface using images acquired before and after the dimensional change
JP2006235204A (ja) * 2005-02-24 2006-09-07 Fuji Photo Film Co Ltd 描画装置の校正方法
JP4485381B2 (ja) * 2005-02-25 2010-06-23 富士フイルム株式会社 画像形成装置および画像形成方法
JP2006267191A (ja) * 2005-03-22 2006-10-05 Pentax Industrial Instruments Co Ltd 露光装置
JP2006308996A (ja) * 2005-04-28 2006-11-09 Fuji Photo Film Co Ltd 露光装置
TW200702940A (en) * 2005-04-28 2007-01-16 Fuji Photo Film Co Ltd Exposure apparatus
JP4606990B2 (ja) * 2005-10-07 2011-01-05 富士フイルム株式会社 デジタル露光装置
JP2008203556A (ja) * 2007-02-20 2008-09-04 Fujifilm Corp デジタル露光装置
JP5279207B2 (ja) * 2007-06-11 2013-09-04 Nskテクノロジー株式会社 露光装置用基板搬送機構
JP2009192693A (ja) * 2008-02-13 2009-08-27 Dainippon Screen Mfg Co Ltd パターン描画装置
JP2014006433A (ja) * 2012-06-26 2014-01-16 Dainippon Screen Mfg Co Ltd パターン描画装置
CN203658731U (zh) * 2013-12-27 2014-06-18 东莞市华恒工业自动化集成有限公司 菲林对位机用ccd视觉对位装置
CN204347441U (zh) * 2015-01-13 2015-05-20 苏州微影光电科技有限公司 直写式光刻装置
JP6926596B2 (ja) * 2017-03-31 2021-08-25 ウシオ電機株式会社 露光装置および露光方法

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