JP3758832B2 - 位置決めマーク照明装置 - Google Patents

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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば露光装置に用いられる位置決めマーク照明装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年ディスプレイ装置の発達が著しいが、特にプラズマディスプレイパネルは輝度が高く、表示の色調が良い点等から開発がさかんである。プラズマディスプレイパネルは不活性ガスを封入した気密容器の中で陽極と陰極との間に電圧を印可し、放電させることにより発光表示する。一般的に、プラズマディスプレイパネルは2枚のガラス基板から成る。この2枚のガラス基板上には例えばそれぞれ一方向に延びた細い金属製の電極が形成され、この2方向の電極が所定距離を持って対向し且つ互いに直交する方向にガラス基板が配される。ガラス基板上の電極のパターンはミクロンオーダの精度が要求されるため、フォトリソグラフの手法を用いて電極が形成される。即ち、ガラス基板上に電極となる金属薄膜層とフォトレジスト層とが形成され、露光装置例えばレーザー描画装置を用いて、電極パターンが露光によりフォトレジスト層に描画される。その後、現像、エッチング等の処理を経て露光された部分である電極パターンと同じパターンの金属薄膜がガラス基板上に残り、この残った金属薄膜が電極となる。
【0003】
従来、2枚のガラス基板上の電極を正確に対応させるために、予めガラス基板上に透明電極とともに位置決めマークを描画し、この位置決めマークを固体撮像素子、例えばCCD(charge-coupled device )カメラ等により撮影する。この位置決めマークの座標データに基づいて描画テーブルに対するガラス基板の相対位置データが演算され、この相対位置データに基づいて、主走査方向および副走査方向に沿うレーザビームによる描画開始位置が制御される。これにより対応する2枚のガラス基板に対して描画パターンが所定位置に位置決めされる。
【0004】
位置決めマークは金属薄膜層がその上に形成されているため不透明であり認識が困難なため、例えば立体を位置決めマークとし、位置決めマークの境界部分における金属薄膜層の光反射特性の変化を利用して認識している。例えば、CCDカメラのレンズ側から位置決めマークに向かって、この位置決めマークを環状に照射するリングライトあるいは環状に配置された複数の発光素子(以下、LEDという)等の照明装置を設けている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、このような照明装置ではLED等の光源の位置は固定されるので、位置決めマークに対し一定の角度にしか照明できない。このため、位置決めマーク即ち透明電極の形状の多様性に対応できず、CCDカメラの最も認識しやすい最適な照明角度が得られないことがある。
【0006】
本発明はこの様な点に鑑みてなされたものであり、位置決めマークに対する光源の照明角度が調節可能な位置決めマーク照明装置を提供することが目的である。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明による位置決めマーク照明装置は、表面が平坦な載置面上に載置された基板の上に設けられた立体の位置決めマークを照明する位置決めマーク照明装置であって、基板に略平行な同一平面上に環状に配置された複数の光源と、光源を回転可能に支持する支持手段と、光源を所定の回転角度で固定する固定手段と、光源の位置決めマークに対する距離を調整する調整手段とを備えることを特徴としている。
【0008】
位置決めマーク照明装置において、好ましくは、位置決めマークが立体的である。
【0009】
位置決めマーク照明装置において、好ましくは、載置面における基板の位置が所定の2次元直交座標系で表わされる。さらに好ましくは、位置決めマークが直交2次元座標の直交する2軸にそれぞれ略平行な辺を有する。またさらに好ましくは、光源から出射した光が、2軸にそれぞれ平行な辺に対して略垂直に照射されるように、光源の位置決めマークへの入射方向が調整される。
【0010】
位置決めマーク照明装置において、好ましくは所定位置に撮像手段が設けられ、この撮像手段により位置決めマークが撮影される。
【0011】
位置決めマーク照明装置において、好ましくは、基板および位置決めマークの上面に所定厚さの金属簿膜が形成され、この金属薄膜の上面が、位置決めマークの上方に位置し且つ基板上面に対して平行な第1の領域と、位置決めマークの設けられていない基板の上方に位置し且つ基板上面に対して平行な第2の領域と、第1の領域と第2の領域との境界であり且つ基板の上面に対して傾斜した第3の領域とを含み、光源の第3の領域における反射光が撮像手段に入射することにより、位置決めマークが認識される。
【0012】
位置決めマーク照明装置において、好ましくは複数の光源が発光素子である。さらに好ましくは、この複数の光源が位置決めマークに対して撮像手段と同じ側に設けられる。
【0013】
位置決めマーク照明装置において、好ましくは、支持手段が発光素子を挟持する球状の支持体と、この球状支持体を回転可能に支持する円筒穴を備えた支持板とを備え、この円筒穴が、球状支持体の径より小さい径であり発光素子からの光が出射する第1の開口部と、第1の開口部と反対側に設けられ球状支持体とほぼ同径の第2の開口部とを備える。
【0014】
位置決めマーク照明装置において、好ましくは、露光装置における被描画体の相対位置を微調整するための位置決め手段に設けられ、被描画体に設けられた位置決めマークを照明する。さらに好ましくは、露光装置がレーザー描画装置である。
【0015】
位置決めマーク照明装置において、好ましくは、被描画体がプラズマディスプレイパネルに用いられる基板であり、金属薄膜がクロムを含む。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明による位置決めマーク照明装置の実施形態について添付図面を参照して説明する。
【0017】
図1は、被描画体であるガラス基板を2枚有するプラズマディスプレイパネルの構成を簡略化して示す斜視図である。図2(a)および図2(b)は、この2枚のガラス基板のそれぞれ対向する面を示す平面図である。
【0018】
上方のフロントガラス基板202の下面には複数組の透明電極204とクロムを含む金属電極(以下、クロム電極という)206とが一方向、例えばX方向に平行して設けられる(図2(a)参照)。下方のリアガラス基板212の上面212aには複数の電極214が平行して設けられ、この電極214は透明電極204およびクロム電極206に対して垂直な方向に延びている(図2(b)参照)。隣り合う電極206の間には仕切りであるリブ216が電極214に対して平行に設けられる。
【0019】
このように形成されたプラズマディスプレイパネルは、隣り合うリブ216内に蛍光体が配され(図示しない)、真空にされた後、放電のためのガスが封入される。各電極204、206、214に電圧がかかると、上下の電位差によって放電が起こりこの空間に対応するフロントガラス基板202の上面202bが発色する。ガラス基板202、212およびリブ216によって仕切られ、格子状に配列した各空間は例えば1ドットに対応する。この様な格子を正確に形成するためには、上下の電極204、206、214などの精密な位置関係が要求される。
【0020】
図3は、フロントガラス基板202のクロム電極206を形成する工程を模式的に示す断面図である。図3(a)は露光時の状態を示す。フロントガラス基板202上には透明電極204が設けられ、その上からスパッタリングによって所定厚さのクロム薄膜205が形成される。そしてさらにその上にフォトレジスト層208が形成される。図3(a)において、図示する電極パターンに基づいて露光される。この露光されたフロントガラス基板202を現像すると、図3(b)に示すように感光した部分以外のフォトレジスト層208が除去される。さらにエッチングによってフォトレジスト層208のないクロム薄膜205が除去され(図3(c)参照)、その後フォトレジスト層が除去される(図3(d)参照)。即ち、露光された部分にのみクロム電極206が形成される。
【0021】
図4には位置決めマーク照明装置を備えたレーザー描画装置が概略的に示される。このレーザー描画装置はプラズマディスプレイパネルを製造するための基板上のフォトレジスト層に電極パターンを直接描画し得るように構成される。なお電極パターンを描画する装置は、他にはEB(Electoron Beam)描画装置があり、このレーザー描画装置に限定されない。
【0022】
レーザー描画装置は床面上に据え付けられた基台10を備え、基台10の上面には一対のレール12が平行に設置される。このレール12と垂直に延びるX軸を主走査方向とし、レール12に平行に延びるY軸を副走査方向とする。
【0023】
図示しないが、基台10にはレーザ光源が設置されレーザビームが出射される。また描画テーブル18の上方側には種々の光学要素が設置され、これらの光学要素によってレーザビームが電極パターンに基づいて変調され、描画テーブル18上の被描画体に導かれる。被描画体はレーザビームによって、主走査方向(Y方向)に走査されるとともに副走査方向に順次移動させられることにより、被描画体のフォトレジスト層表面には所定の電極パターンが描画される。
【0024】
一対のレール12上にはXテーブル14が搭載され、このXテーブル14は図示しない適当な駆動モータでもってレール12に沿って副走査方向(X軸)に沿って移動し得る。Xテーブル14上にはθテーブル16を介して描画テーブル18が設置され、その間には図示しない微調整駆動器が設けられ、描画テーブル18の水平面内での回転位置が微調整される。描画テーブル18は、Xテーブル14の副走査方向の移動に伴いθテーブル16と共に副走査方向に移動させられる。描画テーブル18上にはフォトレジスト層を持つガラス基板が被描画体として適当な搬送手段例えばベルトコンベア等で搬送されて載置され、その基板は描画テーブル18上で適当なクランプ手段、ここでは2つのエアシリンダ20と3つのピン22によって固定される。
【0025】
描画テーブル18の上方には、小型の撮像手段である2つのCCDカメラ50が基台10に対して所定位置に、即ちY方向に延びる支持棒60の下側に固定される。CCDカメラ50はレンズを被描画体に向けて載置され、被描画体がレーザ描画装置の描画テーブル18上に載置された際にこの描画テーブル18に対する被描画体の相対位置を正確に検出するために使用される。CCDカメラ50は例えば図示しない中央演算装置(CPU)等を備えた制御部に接続され、この制御部により制御される。なお制御部に所定のインターフェースを設けて画像表示装置を連結し、CCDカメラ50からの画像をモニタする構成にしてもよい。
【0026】
即ち、CCDカメラ50は被描画体の位置決めマークを映像信号として読み取り、その映像信号はCPUにより所定の画像処理が施され、位置決めマークの座標データが求められる。この位置決めマークの座標データは、描画テーブル18に対する被描画体の相対位置を正確に特定するための演算、即ち主走査方向、副走査方向の移動量、およびXテーブル14に対するθテーブル16および描画テーブル18の回転角度等の演算に用いられ、これらのデータに基づいて主走査方向および副走査方向の描画開始位置が制御される。このように被描画体の相対位置が特定された後、レーザビームによる描画作動が行われる。
【0027】
図5〜図7を参照して位置決めマーク照明装置100の構成を説明する。図5は位置決めマーク照明装置100をCCDカメラ50の側から見た平面図、図6はその側面図である。図7は位置決めマーク照明装置100の分解斜視図である。
【0028】
位置決めマーク照明装置100には長方形の固定板102が設けられ、この固定板102の一端は支持棒60(図4参照)に取り付けられる。この固定板102の他端には円形穴102aが形成され、その上面には円形穴102aより径がやや小さい円形穴104aを有する略正方形の支持板104が2組のボルト106とナット108により固定される。固定板102と支持板104は、それぞれの円形穴102a、104aの中心がCCDカメラ50の光軸Lを通り、かつ光軸Lに対し垂直である。ボルト106は支持板104の対向する二隅に設けられる。ボルト106の設けられていない他の対向する二隅には、上方に突出した六角柱である支持柱110が2本設けられる。この支持柱110は2枚のL字型の可動板120の角に形成された六角穴122にそれぞれ挿入される。
【0029】
可動板120は支持柱110に沿って上下移動可能であり、側面120aから挿入されるボルト124により支持柱110に固定される。なお、2枚の可動板120は同一平面上にあることが望ましい。可動板120の両端部には円筒穴126がそれぞれ形成され、この円筒穴126にLED140を備えた鋼球130が嵌め込まれる。即ち、2枚の可動板120によって4つの鋼球130が支持される。
【0030】
図8は可動板120と鋼球130とを示す部分拡大断面図である。円筒穴126は上端側126aでは鋼球130の径と略同一であるが、下端側126bにおいて径が鋼球130の径より小さく、これにより鋼球130の下方への落下が防止される。
【0031】
鋼球130は例えば真鍮製の球体であり、その中央には球心Oを通り径方向に貫通した円筒穴134が形成される。鋼球130は円筒穴126の中でその球心Oを中心に回転自在であり、図5に示すように可動板120の側方から挿入されるボルト132により固定される。各鋼球130の円筒穴134にはLED140が嵌め込まれ、これらのLED140は光の出射方向が円筒穴104a側(図6)、即ち被描画体側へ向けられ、その方向は鋼球130の回転に伴い変更可能となっている。LED140は図示しない電源に接続される。
【0032】
図6に示すように、被描画体SB上の位置決めマークMにCCDカメラ50の焦点があった状態で、位置決めマークMの輪郭などの識別が行えるような照明角度となるように、可動板120の上下位置、および4つのLED140の回転角度位置が調整され、各々ボルト124、132により固定される。各LED140はその光軸LSがほぼ位置決めマークMを通るように、被描画体SBに向けられる。
【0033】
図9は、図1に示すフロントガラス基板202を描画するときのLED140と位置決めマークとの位置関係を模式的に示す断面図である。なお、位置決めマークMは被描画体SBの非パターン部の透明電極およびその上に積層されたクロム薄膜やフォトレジスト層の部分を用いる。
【0034】
LED140が調整された状態で、LED140の出射光はクロム薄膜205とフォトレジスト層208との境界面207によって反射される。境界面207は透明電極204の設けられている部分が盛り上がっており、3つの領域207a、207b、207cにより形成される。第1の領域207aは透明電極204の上方にあり且つフロントガラス基板202の上面に対し平行である。第2の領域207bは透明電極のないフロントガラス基板202の上方にあり且つフロントガラス基板202の上面に平行である。第3の領域207cはこの第1の領域207aと第2の領域207bとの間に位置し且つフロントガラス基板202の上面に対して傾斜している。
【0035】
LED140から出射された光(光軸LSを一点鎖線で示す)が、第3の領域207cによって反射され、ここでは図示しないが図上方にあるCCDカメラ50に入射する。従ってCCDカメラ50は第3の領域207cの形状即ち透明電極204を容易に識別できる。
【0036】
図10は位置決めマークMの平面図である。位置決めマークMは、X軸に平行な辺MaとY軸に平行な辺Mbとを備える。4つのLED140からの照明光は、基板上即ちX−Y平面上に投影すると、位置決めマークMの辺Ma、Mbに対して直交する方向(図中、白抜き矢印で示す)にそれぞれ入射している。従って辺Ma、Mb即ち傾斜した領域のみが明るく照らされることとなり、位置決めマークMの輪郭が明確に識別できる。
【0037】
図11(a)及び図11(b)は位置決めマークMの他の形状を示す図である。これらも図10に示す位置決めマークMと同様に、X軸に平行な辺MaとY軸に平行な辺Mbとにより形成されている。従ってLED140からの光が辺Ma、Mbに対して垂直に照明されることにより位置決めマークMの輪郭が明確に識別できる。なお位置決めマークMの形状はこれらに限定されず、X軸及びY軸に平行な辺を有するものであればよい。
【0038】
このように、光反射率の高いクロム簿膜205に覆われた基板202に対して位置決めを行うとき、立体的な透明電極204を位置決めマークとし、この境界部分となる斜面(第3の領域207c)がCCDカメラ50が認識できるようにLED140が調整される。これにより位置決めマークの形状によらず、位置決めマークの識別のためのLED140の最適な照明角度が得られ、露光のための正確な位置決めが行える。また、個々のLED毎に照明角度調整が行えるので色々な大きさ・形状の位置決めマークが識別可能になる。
【0039】
【発明の効果】
本発明によると、LEDの照明角度が調節可能な位置決めマーク照明装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】プラズマディスプレイパネルの構成を示す図である。
【図2】図1に示すプラズマディスプレイパネルの基板上の電極を示す図である。
【図3】クロム電極が形成される工程を示す模式図である。
【図4】本発明による位置決めマーク照明装置の実施形態を示す概略斜視図である。
【図5】図4に示す位置決めマーク照明装置の平面図である。
【図6】図4に示す位置決めマーク照明装置の側面図である。
【図7】図4に示す位置決めマーク照明装置の分解斜視図である。
【図8】図5に示すLEDの近傍の部分拡大断面図である。
【図9】図4に示すLEDと被描画体との位置関係を示す模式図である。
【図10】図9に示す位置決めマークの平面図である。
【図11】位置決めマークの他の形状を示す平面図である。
【符号の説明】
10 基台
50 CCDカメラ
100 位置決めマーク照明装置
102 固定板
104 支持板
110 支持柱
120 可動板
126 円形穴
130 鋼球
140 LED

Claims (16)

  1. 基板の上に設けられた位置決めマークを照明する照明装置であって、前記基板に略平行な同一平面上に環状に配置された複数の光源と、前記光源から出射される出射光の出射方向が調整可能であるように前記光源を支持する支持手段と、前記出射光が所定の前記出射方向に出射されるように前記光源固定する固定手段と、前記光源の前記位置決めマークに対する距離を調整する調整手段とを備え、前記出射光を前記位置決めマークに対して所定の照明角度で入射させることができることを特徴とする位置決めマーク照明装置。
  2. 前記位置決めマークが立体的であることを特徴とする請求項1に記載の位置決めマーク照明装置。
  3. 前記基板が、表面が平坦な載置面上に載置され、前記載置面における前記基板の位置が所定の2次元直交座標系で表わされることを特徴とする請求項に記載の位置決めマーク照明装置。
  4. 前記位置決めマークが前記直交2次元座標の直交する2軸にそれぞれ略平行な辺を有することを特徴とする請求項3に記載の位置決めマーク照明装置。
  5. 前記出射光が、前記2軸にそれぞれ平行な辺に対して略垂直に照射されるように、前記出射光の前記位置決めマークへの入射方向が調整されることを特徴とする請求項4に記載の位置決めマーク照明装置。
  6. 所定位置に撮像手段が設けられ、この撮像手段により前記位置決めマークが撮影されることを特徴とする請求項1に記載の位置決めマーク照明装置。
  7. 前記複数の光源が前記位置決めマークに対して前記撮像手段と同じ側に設けられることを特徴とする請求項6に記載の位置決めマーク照明装置。
  8. 前記基板が、前記位置決めマークにおいて前記出射光を反射可能であり、前記位置決めマーク照明装置が、前記出射光の反射光が前記撮像手段に入射するように前記照明角度を調整可能であることを特徴とする請求項6に記載の位置決めマーク照明装置。
  9. 前記基板および位置決めマークの上面に所定厚さの金属簿膜が形成され、この金属薄膜の上面が、前記位置決めマークの上方に位置し且つ前記基板上面に対して平行な第1の領域と、前記位置決めマークの設けられていない基板の上方に位置し且つ前記基板上面に対して平行な第2の領域と、前記第1の領域と前記第2の領域との境界であり且つ前記基板の上面に対して傾斜した第3の領域とを含み、前記出射光の前記第3の領域における反射光が前記撮像手段に入射することにより、前記位置決めマークが認識されることを特徴とする請求項に記載の位置決めマーク照明装置。
  10. 前記複数の光源が発光素子であることを特徴とする請求項1に記載の位置決めマーク照明装置。
  11. 前記支持手段が前記発光素子を挟持する球状の支持体と、前記発光素子から出射される前記出射光の出射方向が調整可能であるようにこの球状支持体を回転可能に支持する円筒穴を備えた支持板とを備え、
    この円筒穴が、前記球状支持体の径より小さい径であり前記出射光が出射されるための第1の開口部と、第1の開口部と反対側に設けられ前記球状支持体とほぼ同径の第2の開口部とを備えることを特徴とする請求項10に記載の位置決めマーク照明装置。
  12. 露光装置における被描画体の相対位置を微調整するための位置決め手段に設けられ、前記被描画体に設けられた前記位置決めマークを照明することを特徴とする請求項1に記載の位置決めマーク照明装置。
  13. 前記露光装置がレーザー描画装置であることを特徴とする請求項12に記載の位置決めマーク照明装置。
  14. 前記被描画体がプラズマディスプレイパネルに用いられる基板であり、前記金属薄膜がクロムを含むことを特徴とする請求項12に記載の位置決めマーク照明装置。
  15. 前記基板が、前記位置決めマークにおいて前記出射光を反射可能で あり、前記位置決めマーク照明装置が、前記出射光の反射光が所定の方向に反射されるように前記照明角度を調整可能であることを特徴とする請求項1に記載の位置決めマーク照明装置。
  16. 前記支持手段が、前記光源を回転可能に支持することを特徴とする請求項1に記載の位置決めマーク照明装置。
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