JPH10147007A - マルチビーム記録装置 - Google Patents
マルチビーム記録装置Info
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- JPH10147007A JPH10147007A JP32358796A JP32358796A JPH10147007A JP H10147007 A JPH10147007 A JP H10147007A JP 32358796 A JP32358796 A JP 32358796A JP 32358796 A JP32358796 A JP 32358796A JP H10147007 A JPH10147007 A JP H10147007A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 描画密度を高めるために、アパーチャー径と
ピッチとを小さくする場合にはより微細な加工が必要と
なり、投影倍率を小さくする場合には投影光学系にはよ
り収差の少ない高精度な結像性能が要求され、いずれも
製造コストが増大する。 【解決手段】 有効な面積を持つ複数の光源(42,43)が
離散的に２次元配列された光源部と、この複数の光源の
像を被走査面(3)上に形成する投影光学系(44,45)と、露
光期間中に光源の像と被走査面とを第１の方向に沿って
相対的に直線移動させる第１の走査手段とを備え、光源
部及び投影光学系が、被走査面上で第１の方向と直交す
る第２の方向における幾何光学的な光源像の径をａ、第
２の方向における光源像の配列ピッチをｂ、第１の方向
における光源の配列数をＭとしたときに、(ａ×Ｍ)／ｂ
＞ １の条件を満たすことを特徴とする。
ピッチとを小さくする場合にはより微細な加工が必要と
なり、投影倍率を小さくする場合には投影光学系にはよ
り収差の少ない高精度な結像性能が要求され、いずれも
製造コストが増大する。 【解決手段】 有効な面積を持つ複数の光源(42,43)が
離散的に２次元配列された光源部と、この複数の光源の
像を被走査面(3)上に形成する投影光学系(44,45)と、露
光期間中に光源の像と被走査面とを第１の方向に沿って
相対的に直線移動させる第１の走査手段とを備え、光源
部及び投影光学系が、被走査面上で第１の方向と直交す
る第２の方向における幾何光学的な光源像の径をａ、第
２の方向における光源像の配列ピッチをｂ、第１の方向
における光源の配列数をＭとしたときに、(ａ×Ｍ)／ｂ
＞ １の条件を満たすことを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、二次元に配列した複数
の光源を有する光源部からの光束を投影レンズにより描
画面上に投影すると共に、この光源像と描画面とを相対
的に走査させることにより、精密な画像を描画するマル
チビーム記録装置に関する。
の光源を有する光源部からの光束を投影レンズにより描
画面上に投影すると共に、この光源像と描画面とを相対
的に走査させることにより、精密な画像を描画するマル
チビーム記録装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】特開平６−１８６４９０号公報には、二
次元行列として配列された半導体レーザーと対応するア
パーチャーとを備える光源部を有し、このアパーチャー
の像を投影光学系により描画面上に形成するマルチビー
ム記録装置が開示されている。この装置は、描画面とア
パーチャー像とを相対的に走査させつつ半導体レーザー
を制御して、走査方向に対して直交する方向に離散的に
配列した各行のアパーチャー像を所定ピッチづつずらし
ながら複数行分重ねることにより、描画面上に隙間なく
二次元の画像を形成することができる。このようなマル
チビーム記録装置では、各アパーチャー像が、画像の画
素を構成する。したがって、描画密度、すなわち描画装
置の解像力を高めるためには、画素のピッチを小さくす
る必要がある。
次元行列として配列された半導体レーザーと対応するア
パーチャーとを備える光源部を有し、このアパーチャー
の像を投影光学系により描画面上に形成するマルチビー
ム記録装置が開示されている。この装置は、描画面とア
パーチャー像とを相対的に走査させつつ半導体レーザー
を制御して、走査方向に対して直交する方向に離散的に
配列した各行のアパーチャー像を所定ピッチづつずらし
ながら複数行分重ねることにより、描画面上に隙間なく
二次元の画像を形成することができる。このようなマル
チビーム記録装置では、各アパーチャー像が、画像の画
素を構成する。したがって、描画密度、すなわち描画装
置の解像力を高めるためには、画素のピッチを小さくす
る必要がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
マルチビーム記録装置は、描画面上でのアパーチャーの
幾何学的なスポットが、隣接する画素間で互いに重複し
ないよう構成されているため、描画密度を高めるために
はアパーチャー板上のアパーチャーの径とピッチとを共
に小さくするか、あるいは、投影光学系の投影倍率をよ
り小さくしなければならず、アパーチャー径とピッチと
を小さくする場合にはより微細な加工が必要となり、投
影倍率を小さくする場合には投影光学系により収差の少
ない高精度な結像性能が要求され、いずれも製造コスト
を増大させる。
マルチビーム記録装置は、描画面上でのアパーチャーの
幾何学的なスポットが、隣接する画素間で互いに重複し
ないよう構成されているため、描画密度を高めるために
はアパーチャー板上のアパーチャーの径とピッチとを共
に小さくするか、あるいは、投影光学系の投影倍率をよ
り小さくしなければならず、アパーチャー径とピッチと
を小さくする場合にはより微細な加工が必要となり、投
影倍率を小さくする場合には投影光学系により収差の少
ない高精度な結像性能が要求され、いずれも製造コスト
を増大させる。
【０００４】この発明は、上記の従来技術の課題に鑑
み、アパーチャー板の微細な加工や投影光学系の結像性
能の高度化を要求することなく、描画密度を高めること
ができるマルチビーム記録装置を提供することを目的と
する。
み、アパーチャー板の微細な加工や投影光学系の結像性
能の高度化を要求することなく、描画密度を高めること
ができるマルチビーム記録装置を提供することを目的と
する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明にかかるマルチ
ビーム記録装置は、上記の目的を達成させるため、有効
な面積を持つ複数の光源が離散的に２次元配列された光
源部と、この複数の光源の像を被走査面上に形成する投
影光学系と、露光期間中に光源の像と被走査面とを第１
の方向に沿って相対的に直線移動させる第１の走査手段
とを備え、光源部及び投影光学系が、被走査面上で第１
の方向と直交する第２の方向における幾何光学的な光源
像の径をａ、第２の方向における光源像の配列ピッチを
ｂ、第１の方向における光源の配列数をＭとしたとき
に、 (ａ×Ｍ)／ｂ ＞ １ の条件を満たすことを特徴とする。
ビーム記録装置は、上記の目的を達成させるため、有効
な面積を持つ複数の光源が離散的に２次元配列された光
源部と、この複数の光源の像を被走査面上に形成する投
影光学系と、露光期間中に光源の像と被走査面とを第１
の方向に沿って相対的に直線移動させる第１の走査手段
とを備え、光源部及び投影光学系が、被走査面上で第１
の方向と直交する第２の方向における幾何光学的な光源
像の径をａ、第２の方向における光源像の配列ピッチを
ｂ、第１の方向における光源の配列数をＭとしたとき
に、 (ａ×Ｍ)／ｂ ＞ １ の条件を満たすことを特徴とする。
【０００６】このような配置により、走査対象面上に形
成される幾何光学的な光源像を隣接する画素間で一部重
複して形成することができ、アパーチャー径や投影光学
系の投影倍率を変えることなく、アパーチャーのピッチ
を変更するのみで、解像度を向上させて高精細な画像を
形成することができるようになる。
成される幾何光学的な光源像を隣接する画素間で一部重
複して形成することができ、アパーチャー径や投影光学
系の投影倍率を変えることなく、アパーチャーのピッチ
を変更するのみで、解像度を向上させて高精細な画像を
形成することができるようになる。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、この発明にかかるマルチビ
ーム記録装置の実施形態について説明する。図１は、実
施形態のマルチビーム記録装置１００の外観を示す斜視
図である。実施形態のマルチビーム記録装置１００は、
プリント基板を作成するための、露光焼き付け用のマス
クに回路パターンを作画する装置である。
ーム記録装置の実施形態について説明する。図１は、実
施形態のマルチビーム記録装置１００の外観を示す斜視
図である。実施形態のマルチビーム記録装置１００は、
プリント基板を作成するための、露光焼き付け用のマス
クに回路パターンを作画する装置である。
【０００８】マルチビーム記録装置１００は、装置本体
ベース１と、回路パターンが作画される被走査面として
の感光フィルム３を載置し、装置本体ベース１に対して
Ｙ方向にスライド可能な感光材搭載テーブル２と、感光
フィルム３上に投影パターンを形成する光照射ユニット
４と、この光照射ユニット４を本体ベース１に対してＹ
方向に垂直なＸ方向にスライド可能に支持する光学ベー
ス５とから概略構成されている。
ベース１と、回路パターンが作画される被走査面として
の感光フィルム３を載置し、装置本体ベース１に対して
Ｙ方向にスライド可能な感光材搭載テーブル２と、感光
フィルム３上に投影パターンを形成する光照射ユニット
４と、この光照射ユニット４を本体ベース１に対してＹ
方向に垂直なＸ方向にスライド可能に支持する光学ベー
ス５とから概略構成されている。
【０００９】テーブル２は、その下面がＹ方向に延びる
一対のレール２Ｒに沿ってガイドされた状態で、ボール
ねじ２Ｂを図示しないテーブル駆動モータにより回転さ
せることによって、光照射ユニット４により形成される
光源像に対して感光フィルム３をＹ方向に走査させる。
これらのボールねじ２Ｂとテーブル駆動モータとによ
り、露光期間中に被走査面である感光フィルム３を光源
像に対して第１の方向であるＹ方向に相対的に直線移動
させる第１の走査手段が構成される。
一対のレール２Ｒに沿ってガイドされた状態で、ボール
ねじ２Ｂを図示しないテーブル駆動モータにより回転さ
せることによって、光照射ユニット４により形成される
光源像に対して感光フィルム３をＹ方向に走査させる。
これらのボールねじ２Ｂとテーブル駆動モータとによ
り、露光期間中に被走査面である感光フィルム３を光源
像に対して第１の方向であるＹ方向に相対的に直線移動
させる第１の走査手段が構成される。
【００１０】光学ベース５は、Ｘ方向に延びる一対のガ
イドレール５ＲにガイドされてＸ方向に移動可能となっ
ており、光学系駆動モータ５Ｍによってボールねじ５Ｂ
を回転させることにより、光照射ユニット４をＸ方向に
移動させる。これらの光学系駆動モータ５Ｍとボールね
じ５Ｂとにより、光源の像と被走査面とをＹ方向とは異
なる方向に沿って相対的に移動させる第２の走査手段が
構成される。第２の走査手段は、非露光期間中に光照射
ユニット４を第１の方向(Ｙ方向)と直交する第２の方向
(Ｘ方向)に直線移動させることにより、第１の走査手段
による走査領域を切り換える機能を有している。
イドレール５ＲにガイドされてＸ方向に移動可能となっ
ており、光学系駆動モータ５Ｍによってボールねじ５Ｂ
を回転させることにより、光照射ユニット４をＸ方向に
移動させる。これらの光学系駆動モータ５Ｍとボールね
じ５Ｂとにより、光源の像と被走査面とをＹ方向とは異
なる方向に沿って相対的に移動させる第２の走査手段が
構成される。第２の走査手段は、非露光期間中に光照射
ユニット４を第１の方向(Ｙ方向)と直交する第２の方向
(Ｘ方向)に直線移動させることにより、第１の走査手段
による走査領域を切り換える機能を有している。
【００１１】光照射ユニット４には、装置本体ベース１
に設けられた位置検出用リニアスケール５Ｋを検出する
スケール検出ヘッド５Ｄが設けられており、光学系駆動
モータ５Ｍはスケール検出ヘッド５Ｄの検出信号に基づ
いてフィードバック制御される。なお、図示していない
が、感光材搭載テーブル２も同様の検出機構を備え、テ
ーブル駆動モータは検出結果に基づいてフィードバック
制御される。
に設けられた位置検出用リニアスケール５Ｋを検出する
スケール検出ヘッド５Ｄが設けられており、光学系駆動
モータ５Ｍはスケール検出ヘッド５Ｄの検出信号に基づ
いてフィードバック制御される。なお、図示していない
が、感光材搭載テーブル２も同様の検出機構を備え、テ
ーブル駆動モータは検出結果に基づいてフィードバック
制御される。
【００１２】図２は、光照射ユニット４の光学系の概略
を示す側面図である。光照射ユニット４は、有効な面積
を持つ複数の光源が離散的に２次元配列された光源部
と、光源の像を被走査面上に形成する投影光学系とを備
えている。光源部は、プリント基板４１に取り付けられ
た発光素子であるＬＥＤ(発光ダイオード)４２と、各Ｌ
ＥＤ４２に対応してその前面に位置するアパーチャーＡ
Ｐが形成されたアパーチャー板４３とから構成される。
投影光学系は、アパーチャー板４３側から順に配列した
第１レンズ群４４、および第２レンズ群４５からなる縮
小光学系であり、アパーチャー板４３を透過したビーム
によりアパーチャーＡＰの像を光源像として感光フィル
ム３の表面に形成する。この実施形態では、感光フィル
ム３として波長400nm〜520nmにおいて分光感度を有する
いわゆるオルソ系の感光材料を用い、ＬＥＤ４２とし
て、ピーク波長が450nmのいわゆる青色ＬＥＤを用いて
いる。
を示す側面図である。光照射ユニット４は、有効な面積
を持つ複数の光源が離散的に２次元配列された光源部
と、光源の像を被走査面上に形成する投影光学系とを備
えている。光源部は、プリント基板４１に取り付けられ
た発光素子であるＬＥＤ(発光ダイオード)４２と、各Ｌ
ＥＤ４２に対応してその前面に位置するアパーチャーＡ
Ｐが形成されたアパーチャー板４３とから構成される。
投影光学系は、アパーチャー板４３側から順に配列した
第１レンズ群４４、および第２レンズ群４５からなる縮
小光学系であり、アパーチャー板４３を透過したビーム
によりアパーチャーＡＰの像を光源像として感光フィル
ム３の表面に形成する。この実施形態では、感光フィル
ム３として波長400nm〜520nmにおいて分光感度を有する
いわゆるオルソ系の感光材料を用い、ＬＥＤ４２とし
て、ピーク波長が450nmのいわゆる青色ＬＥＤを用いて
いる。
【００１３】ＬＥＤ４２、およびＬＥＤ４２に対応して
アパーチャーパネル４３に形成されたアパーチャーＡＰ
は、Ｙ方向に沿う配列を「列」、Ｘ方向に沿う配列を
「行」とする二次元行列として形成されており、走査方
向である第１の方向(Ｙ方向)については、各列のＬＥＤ
４２が第１の方向に対して角度を持つ直線上に配置さ
れ、第１の方向と直交する第２の方向(Ｘ方向)について
は、各行のＬＥＤ４２が第２の方向と平行な直線上に配
置されている。
アパーチャーパネル４３に形成されたアパーチャーＡＰ
は、Ｙ方向に沿う配列を「列」、Ｘ方向に沿う配列を
「行」とする二次元行列として形成されており、走査方
向である第１の方向(Ｙ方向)については、各列のＬＥＤ
４２が第１の方向に対して角度を持つ直線上に配置さ
れ、第１の方向と直交する第２の方向(Ｘ方向)について
は、各行のＬＥＤ４２が第２の方向と平行な直線上に配
置されている。
【００１４】なお、プリント基板の回路パターンを作画
する装置は、精密な描画性能を有する必要があり、従っ
て高い解像度が要求される。しかし、ＬＥＤを光源とす
る場合、ＬＥＤ自体の物理的な大きさにより、光源の配
置の密度が制限されることになる。これを互いに接触し
ないよう配置するため、上記のような二次元行列の配置
が必要となる。
する装置は、精密な描画性能を有する必要があり、従っ
て高い解像度が要求される。しかし、ＬＥＤを光源とす
る場合、ＬＥＤ自体の物理的な大きさにより、光源の配
置の密度が制限されることになる。これを互いに接触し
ないよう配置するため、上記のような二次元行列の配置
が必要となる。
【００１５】感光フィルム３と光源像であるアパーチャ
ーＡＰの像とを相対的に走査させつつＬＥＤ４２を制御
して、Ｘ方向に離散的に配列した各行のアパーチャー像
を所定ピッチづつずらしながら複数行分重ねることによ
り、描画面上に隙間なく二次元の画像を形成することが
できる。ここで、実施形態の記録装置は、上記のアパー
チャー像を形成する際に、複数の行の重ね合わせの結果
として形成される画像上で、少なくともＸ方向に隣接す
るアパーチャー像が一部重複するよう構成されている。
ーＡＰの像とを相対的に走査させつつＬＥＤ４２を制御
して、Ｘ方向に離散的に配列した各行のアパーチャー像
を所定ピッチづつずらしながら複数行分重ねることによ
り、描画面上に隙間なく二次元の画像を形成することが
できる。ここで、実施形態の記録装置は、上記のアパー
チャー像を形成する際に、複数の行の重ね合わせの結果
として形成される画像上で、少なくともＸ方向に隣接す
るアパーチャー像が一部重複するよう構成されている。
【００１６】すなわち、実施形態のＬＥＤ４２、アパー
チャー板４３及び投影光学系４４,４５は、感光フィル
ム３上で第１の方向と直交する第２の方向における幾何
光学的な光源像の径をａ、第２の方向における光源像の
配列ピッチをｂ、第１の方向における光源の配列数をＭ
としたときに、 (ａ×Ｍ)／ｂ ＞ １ を満たすよう設定されている。ここで、(ａ×Ｍ)／ｂを
重複比ｋと定義する。重複比ｋが１より大きい場合に重
複部分が生じ、幾何光学的な光源像の径ａを基準とし
て、隣接する光源像間で径ａの(ｋ−１)／ｋの重複が生
じる。すなわち、ｋ＝２の場合には隣接する光源像が半
径分重複し、ｋ＝３の場合には隣接する光源像が直径の
２／３分重複する。以下、上記の条件を満たす実施例を
２例説明する。
チャー板４３及び投影光学系４４,４５は、感光フィル
ム３上で第１の方向と直交する第２の方向における幾何
光学的な光源像の径をａ、第２の方向における光源像の
配列ピッチをｂ、第１の方向における光源の配列数をＭ
としたときに、 (ａ×Ｍ)／ｂ ＞ １ を満たすよう設定されている。ここで、(ａ×Ｍ)／ｂを
重複比ｋと定義する。重複比ｋが１より大きい場合に重
複部分が生じ、幾何光学的な光源像の径ａを基準とし
て、隣接する光源像間で径ａの(ｋ−１)／ｋの重複が生
じる。すなわち、ｋ＝２の場合には隣接する光源像が半
径分重複し、ｋ＝３の場合には隣接する光源像が直径の
２／３分重複する。以下、上記の条件を満たす実施例を
２例説明する。
【００１７】
【実施例１】実施例１の記録装置１００の光源部は、Ｘ
方向に１６個一直線上に並べられたＬＥＤ４２がＹ方向
に８行配列し、合計１２８個のＬＥＤ４２が２次元に配
列されて構成されている。アパーチャーパネル４３上の
アパーチャＡＰも同様な配置で形成されている。アパー
チャーＡＰのＹ方向のピッチは５ｍｍ、Ｘ方向のピッチ
は４ｍｍ、径は１ｍｍである。また、投影光学系の縮小
倍率は１／１００である。この場合、アパーチャーＡＰ
の像は感光フィルム３上で図３(Ａ)で示されるように配
列する。実施例１の構成によると、Ｙ方向の列配数Ｍ＝
８、アパーチャー像の径ａ＝０．０１ｍｍ、アパーチャ
ー像のＸ方向のピッチｂ＝０．０４ｍｍとなり、重複比
ｋ＝２となる。アパーチャー像のＹ方向のピッチはｃ＝
０．０５ｍｍである。
方向に１６個一直線上に並べられたＬＥＤ４２がＹ方向
に８行配列し、合計１２８個のＬＥＤ４２が２次元に配
列されて構成されている。アパーチャーパネル４３上の
アパーチャＡＰも同様な配置で形成されている。アパー
チャーＡＰのＹ方向のピッチは５ｍｍ、Ｘ方向のピッチ
は４ｍｍ、径は１ｍｍである。また、投影光学系の縮小
倍率は１／１００である。この場合、アパーチャーＡＰ
の像は感光フィルム３上で図３(Ａ)で示されるように配
列する。実施例１の構成によると、Ｙ方向の列配数Ｍ＝
８、アパーチャー像の径ａ＝０．０１ｍｍ、アパーチャ
ー像のＸ方向のピッチｂ＝０．０４ｍｍとなり、重複比
ｋ＝２となる。アパーチャー像のＹ方向のピッチはｃ＝
０．０５ｍｍである。
【００１８】実施例１においては、テーブルの移動とＬ
ＥＤ４２の発光のタイミングとを制御することにより、
あるライン（Ｘ方向に沿ったライン）に注目した場合
に、アパーチャーＡＰの像がそれぞれ隣接する像と一部
重複した状態で一列に並ぶようになっている。図３(Ｂ)
は、感光フィルム上で隣接する３つのアパーチャー像Ｉ
ap1、Ｉap2、Ｉap3の位置関係を示す拡大図である。こ
の図に示されるとおり、直径の半分に相当する部分が隣
りのアパーチャー像の領域と重複する。また、各アパー
チャー像の中心Ｃ1,Ｃ2,Ｃ3は、アパーチャー像の径の
１／２のピッチで配列している。
ＥＤ４２の発光のタイミングとを制御することにより、
あるライン（Ｘ方向に沿ったライン）に注目した場合
に、アパーチャーＡＰの像がそれぞれ隣接する像と一部
重複した状態で一列に並ぶようになっている。図３(Ｂ)
は、感光フィルム上で隣接する３つのアパーチャー像Ｉ
ap1、Ｉap2、Ｉap3の位置関係を示す拡大図である。こ
の図に示されるとおり、直径の半分に相当する部分が隣
りのアパーチャー像の領域と重複する。また、各アパー
チャー像の中心Ｃ1,Ｃ2,Ｃ3は、アパーチャー像の径の
１／２のピッチで配列している。
【００１９】
【実施例２】実施例２の記録装置１００の光源部は、Ｘ
方向に１０個一直線上に並べられたＬＥＤ４２がＹ方向
に１０列配列し、合計１００個のＬＥＤ４２が２次元に
配列されて構成されている。アパーチャーパネル４３上
のアパーチャＡＰも同様な配置で形成されている。アパ
ーチャーＡＰのＹ方向のピッチは５ｍｍ、Ｘ方向のピッ
チは５ｍｍ、径は１．５ｍｍである。また、投影光学系
の縮小倍率は１／５０である。この場合、アパーチャー
ＡＰの像は感光フィルム３上で図４(Ａ)で示されるよう
に配列する。実施例２の構成によると、Ｙ方向に列配数
Ｍ＝１０、アパーチャー像の径ａ＝０．０３ｍｍ、アパ
ーチャー像のＸ方向のピッチｂ＝０．１ｍｍとなり、重
複比ｋ＝３となる。アパーチャー像のＹ方向のピッチは
ｃ＝０．１ｍｍである。
方向に１０個一直線上に並べられたＬＥＤ４２がＹ方向
に１０列配列し、合計１００個のＬＥＤ４２が２次元に
配列されて構成されている。アパーチャーパネル４３上
のアパーチャＡＰも同様な配置で形成されている。アパ
ーチャーＡＰのＹ方向のピッチは５ｍｍ、Ｘ方向のピッ
チは５ｍｍ、径は１．５ｍｍである。また、投影光学系
の縮小倍率は１／５０である。この場合、アパーチャー
ＡＰの像は感光フィルム３上で図４(Ａ)で示されるよう
に配列する。実施例２の構成によると、Ｙ方向に列配数
Ｍ＝１０、アパーチャー像の径ａ＝０．０３ｍｍ、アパ
ーチャー像のＸ方向のピッチｂ＝０．１ｍｍとなり、重
複比ｋ＝３となる。アパーチャー像のＹ方向のピッチは
ｃ＝０．１ｍｍである。
【００２０】実施例２においても、テーブルの移動とＬ
ＥＤ４２の発光のタイミングとを制御することにより、
あるライン（Ｘ方向に沿ったライン）に注目した場合
に、アパーチャーＡＰの像がそれぞれ隣接する像と一部
重複した状態で一列に並ぶようになっている。図４(Ｂ)
は、感光フィルム上で隣接する３つのアパーチャー像Ｉ
ap1、Ｉap2、Ｉap3の位置関係を示す拡大図である。こ
の図に示されるとおり、直径の２／３分に相当する部分
が隣りのアパーチャー像の領域と重複する。また、各ア
パーチャー像の中心Ｃ1,Ｃ2,Ｃ3は、アパーチャー像の
径の１／３のピッチで配列している。
ＥＤ４２の発光のタイミングとを制御することにより、
あるライン（Ｘ方向に沿ったライン）に注目した場合
に、アパーチャーＡＰの像がそれぞれ隣接する像と一部
重複した状態で一列に並ぶようになっている。図４(Ｂ)
は、感光フィルム上で隣接する３つのアパーチャー像Ｉ
ap1、Ｉap2、Ｉap3の位置関係を示す拡大図である。こ
の図に示されるとおり、直径の２／３分に相当する部分
が隣りのアパーチャー像の領域と重複する。また、各ア
パーチャー像の中心Ｃ1,Ｃ2,Ｃ3は、アパーチャー像の
径の１／３のピッチで配列している。
【００２１】上記の各実施例のように、隣接するアパー
チャー像の一部が重複するよう構成することにより、ア
パーチャー径を小さくすることなく、かつ、投影光学系
の倍率を小さくすることなく感光フィルム３上での画素
密度を向上させることができる。ただし、このようにア
パーチャー径の一部が重複するように設定すると、一つ
の画素の濃度に複数のＬＥＤ４２が影響を与えることと
なる。したがって、各ＬＥＤの発光強度は、当該ＬＥＤ
からの光の強度中心に中心が一致する中心画素の濃度の
みでなく、当該ＬＥＤからの光が届く隣接画素の情報を
も考慮に入れて決定される必要がある。
チャー像の一部が重複するよう構成することにより、ア
パーチャー径を小さくすることなく、かつ、投影光学系
の倍率を小さくすることなく感光フィルム３上での画素
密度を向上させることができる。ただし、このようにア
パーチャー径の一部が重複するように設定すると、一つ
の画素の濃度に複数のＬＥＤ４２が影響を与えることと
なる。したがって、各ＬＥＤの発光強度は、当該ＬＥＤ
からの光の強度中心に中心が一致する中心画素の濃度の
みでなく、当該ＬＥＤからの光が届く隣接画素の情報を
も考慮に入れて決定される必要がある。
【００２２】図５は、実施形態の記録装置１００の作画
処理を行うための制御系を説明するブロック図である。
作画データはメモリ１３にビットマップとして記憶され
ており、所定のクロック信号に同期して、ＬＥＤアレイ
４２Ａの各ＬＥＤ４２の配列に対応したデータが、ＬＥ
Ｄ駆動回路１２に入力され、ＬＥＤ駆動回路１２は各Ｌ
ＥＤ４２を、入力信号に対応した所定の強度のパルス状
の電流により駆動し、発光させる。ＬＥＤアレイ４２Ａ
の駆動と共に、テーブル２および光学ベース５の移動も
ＣＰＵ１０により制御される。実施形態の記録装置１０
０においては、ＣＰＵ１０は光学系駆動モータ５Ｍを駆
動させて光学ベース５に搭載された光照射ユニット４の
Ｘ方向における位置決めを行い、次にテーブル移動モー
タ２Ｍを駆動してテーブル２をＹ方向に移動させながら
ＬＥＤアレイ４２Ａを発光させる。なお、光学系駆動モ
ータ５Ｍおよびテーブル移動モータ２Ｍに駆動中は、ス
ケール検出ヘッド５Ｄおよび２Ｄの出力がＣＰＵ１０に
入力されており、光学系駆動モータ５Ｍおよびテーブル
移動モータ２Ｍはフィードバック制御されている。
処理を行うための制御系を説明するブロック図である。
作画データはメモリ１３にビットマップとして記憶され
ており、所定のクロック信号に同期して、ＬＥＤアレイ
４２Ａの各ＬＥＤ４２の配列に対応したデータが、ＬＥ
Ｄ駆動回路１２に入力され、ＬＥＤ駆動回路１２は各Ｌ
ＥＤ４２を、入力信号に対応した所定の強度のパルス状
の電流により駆動し、発光させる。ＬＥＤアレイ４２Ａ
の駆動と共に、テーブル２および光学ベース５の移動も
ＣＰＵ１０により制御される。実施形態の記録装置１０
０においては、ＣＰＵ１０は光学系駆動モータ５Ｍを駆
動させて光学ベース５に搭載された光照射ユニット４の
Ｘ方向における位置決めを行い、次にテーブル移動モー
タ２Ｍを駆動してテーブル２をＹ方向に移動させながら
ＬＥＤアレイ４２Ａを発光させる。なお、光学系駆動モ
ータ５Ｍおよびテーブル移動モータ２Ｍに駆動中は、ス
ケール検出ヘッド５Ｄおよび２Ｄの出力がＣＰＵ１０に
入力されており、光学系駆動モータ５Ｍおよびテーブル
移動モータ２Ｍはフィードバック制御されている。
【００２３】ここで、テーブル２をＹ方向に移動しつつ
光照射ユニット４からビームを照射させる場合を考え
る。第１行の各ＬＥＤから射出されたビームは、感光フ
ィルム３上で一直線上に離散的に並んだ点像を形成す
る。次に、テーブルが移動し、第２行のＬＥＤから照射
されるビーム位置に対応した位置に達すると、先ほど第
１行のＬＥＤからの射出光により形成された離散的な点
像に隣接して第２行のＬＥＤからの射出光に対応した点
像が形成される。以降同様にして、順次隣接した像が同
一ライン上に形成され、最後に最終行のＬＥＤに対応し
た点像が同一ライン上に形成されると、結果として、Ｌ
ＥＤの個数分の点像が同一ライン上に形成されることに
なる。
光照射ユニット４からビームを照射させる場合を考え
る。第１行の各ＬＥＤから射出されたビームは、感光フ
ィルム３上で一直線上に離散的に並んだ点像を形成す
る。次に、テーブルが移動し、第２行のＬＥＤから照射
されるビーム位置に対応した位置に達すると、先ほど第
１行のＬＥＤからの射出光により形成された離散的な点
像に隣接して第２行のＬＥＤからの射出光に対応した点
像が形成される。以降同様にして、順次隣接した像が同
一ライン上に形成され、最後に最終行のＬＥＤに対応し
た点像が同一ライン上に形成されると、結果として、Ｌ
ＥＤの個数分の点像が同一ライン上に形成されることに
なる。
【００２４】したがって、離散的に２次元配列された像
の、Ｙ方向のピッチ分だけテーブル２（したがって感光
フィルム３）が移動した時点で露光を行うことにより、
感光フィルム３上の各ラインに順次点像が補間されて、
最終的には各ラインがそれぞれ所定のドット数の画素で
構成されるようになる。なお、Ｙ方向のテーブルの送り
量についても、Ｘ方向の１つのラインと隣接するライン
とでアパーチャー像が一部重複するように設定すれば、
Ｘ方向と同様、Ｙ方向についてもアパーチャー径を小さ
くすることなく描画密度を高めることができる。
の、Ｙ方向のピッチ分だけテーブル２（したがって感光
フィルム３）が移動した時点で露光を行うことにより、
感光フィルム３上の各ラインに順次点像が補間されて、
最終的には各ラインがそれぞれ所定のドット数の画素で
構成されるようになる。なお、Ｙ方向のテーブルの送り
量についても、Ｘ方向の１つのラインと隣接するライン
とでアパーチャー像が一部重複するように設定すれば、
Ｘ方向と同様、Ｙ方向についてもアパーチャー径を小さ
くすることなく描画密度を高めることができる。
【００２５】Ｙ方向にテーブル２を移動しつつ上述の作
画処理を行って、感光フィルム３の表面に、Ｙ方向に延
びた帯状に画像を形成する。感光フィルム３の端部まで
画像形成が行われた後、光学ベース５をＸ方向に移動す
る。光学ベース５の移動後にテーブル２を前回とは逆方
向に移動することにより、同様にして、感光フィルム３
にＹ方向に延びた帯状の画像を形成する。尚、光学ベー
ス５は、互いに隣接する帯状の画像がオーバーラップす
ることなく、また、間に画像が形成されない空白部分が
入ることのないよう、ＬＥＤの配列により定まる所定の
長さ分だけ正確にＸ方向に移動される。
画処理を行って、感光フィルム３の表面に、Ｙ方向に延
びた帯状に画像を形成する。感光フィルム３の端部まで
画像形成が行われた後、光学ベース５をＸ方向に移動す
る。光学ベース５の移動後にテーブル２を前回とは逆方
向に移動することにより、同様にして、感光フィルム３
にＹ方向に延びた帯状の画像を形成する。尚、光学ベー
ス５は、互いに隣接する帯状の画像がオーバーラップす
ることなく、また、間に画像が形成されない空白部分が
入ることのないよう、ＬＥＤの配列により定まる所定の
長さ分だけ正確にＸ方向に移動される。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、(ａ×Ｍ)／ｂ ＞ １の条件を満たすことにより、走
査対象面上に形成される幾何光学的な光源像を隣接する
画素間で一部重複して形成することができ、アパーチャ
ー径や投影光学系の投影倍率を変えることなく、アパー
チャーのピッチを変更するのみで、解像度を向上させて
高精細な画像を形成することができる。
ば、(ａ×Ｍ)／ｂ ＞ １の条件を満たすことにより、走
査対象面上に形成される幾何光学的な光源像を隣接する
画素間で一部重複して形成することができ、アパーチャ
ー径や投影光学系の投影倍率を変えることなく、アパー
チャーのピッチを変更するのみで、解像度を向上させて
高精細な画像を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 実施形態のマルチビーム記録装置の外観を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図２】 光照射ユニットの構成の概略を示す側面図で
ある。
ある。
【図３】 実施例１の構成による感光フィルム上に結像
した点像のパターンを示す図である。
した点像のパターンを示す図である。
【図４】 実施例２の構成による感光フィルム上に結像
した点像のパターンを示す図である。
した点像のパターンを示す図である。
【図５】 作画処理を行うための制御系のブロック図で
ある。
ある。
２ 感光材搭載用テーブル ３ 感光フィルム ４ 光照射ユニット ５ 光学ベース ４２ ＬＥＤ ４３ アパーチャー板 ４４,４５ 第１レンズ群、第２レンズ群(投影光学系)
Claims (6)
- 【請求項１】 有効な面積を持つ複数の光源が離散的に
２次元配列された光源部と、 該光源の像を被走査面上に形成する投影光学系と、 露光期間中に前記光源部と前記被走査面とを第１の方向
に沿って相対的に直線移動させる第１の走査手段とを備
え、 前記光源部及び前記投影光学系は、前記被走査面上で前
記第１の方向と直交する第２の方向における幾何光学的
な前記光源像の径をａ、前記第２の方向における前記光
源像の配列ピッチをｂ、前記第１の方向における光源の
配列数をＭとしたときに、 (ａ×Ｍ)／ｂ ＞ １ の条件を満たすことを特徴とするマルチビーム記録装
置。 - 【請求項２】 非露光期間中に前記光源部と前記被走査
面とを前記第１の方向とは異なる方向に沿って相対的に
移動させることにより、第１の走査手段による走査領域
を切り換える第２の走査手段をさらに備えることを特徴
とする請求項１に記載のマルチビーム記録装置。 - 【請求項３】 前記第２の走査手段は、前記第２の方向
に沿って前記光源の像と前記被走査面とを相対的に直線
移動させることを特徴とする請求項２に記載のマルチビ
ーム記録装置。 - 【請求項４】 前記光源は、前記第１の方向については
前記第１の方向に対して角度を持つ直線上に配置されて
いることを特徴とする請求項２に記載のマルチビーム記
録装置。 - 【請求項５】 前記光源は、前記第２の方向については
前記第２の方向と平行な直線上に配置されていることを
特徴とする請求項３または４のいずれかに記載のマルチ
ビーム記録装置。 - 【請求項６】 前記光源部は、発光素子と、該発光素子
の前面に設けられたアパーチャーとから構成されること
を特徴とする請求項１に記載のマルチビーム記録装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32358796A JPH10147007A (ja) | 1996-11-19 | 1996-11-19 | マルチビーム記録装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32358796A JPH10147007A (ja) | 1996-11-19 | 1996-11-19 | マルチビーム記録装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10147007A true JPH10147007A (ja) | 1998-06-02 |
Family
ID=18156382
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32358796A Pending JPH10147007A (ja) | 1996-11-19 | 1996-11-19 | マルチビーム記録装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10147007A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003057836A (ja) * | 2001-08-17 | 2003-02-28 | Pentax Corp | 多重露光描画装置および多重露光描画方法 |
| JP2003084444A (ja) * | 2001-07-05 | 2003-03-19 | Pentax Corp | 多重露光描画方法及び多重露光描画装置 |
| JP2006245556A (ja) * | 2005-02-04 | 2006-09-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 描画装置及び描画方法 |
| JP2007025394A (ja) * | 2005-07-19 | 2007-02-01 | Fujifilm Holdings Corp | パターン形成方法 |
| US7336391B2 (en) | 2001-06-29 | 2008-02-26 | Orc Manufacturing Co., Ltd. | Multi-exposure drawing method and apparatus therefor |
-
1996
- 1996-11-19 JP JP32358796A patent/JPH10147007A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7336391B2 (en) | 2001-06-29 | 2008-02-26 | Orc Manufacturing Co., Ltd. | Multi-exposure drawing method and apparatus therefor |
| JP2003084444A (ja) * | 2001-07-05 | 2003-03-19 | Pentax Corp | 多重露光描画方法及び多重露光描画装置 |
| US7136087B2 (en) | 2001-07-05 | 2006-11-14 | Orc Manufacturing Co., Ltd. | Multi-exposure drawing method and apparatus therefor |
| JP4728536B2 (ja) * | 2001-07-05 | 2011-07-20 | 株式会社オーク製作所 | 多重露光描画方法及び多重露光描画装置 |
| JP2003057836A (ja) * | 2001-08-17 | 2003-02-28 | Pentax Corp | 多重露光描画装置および多重露光描画方法 |
| JP2006245556A (ja) * | 2005-02-04 | 2006-09-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 描画装置及び描画方法 |
| JP4638826B2 (ja) * | 2005-02-04 | 2011-02-23 | 富士フイルム株式会社 | 描画装置及び描画方法 |
| JP2007025394A (ja) * | 2005-07-19 | 2007-02-01 | Fujifilm Holdings Corp | パターン形成方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040128 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040130 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040317 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040909 |