KR101343906B1

KR101343906B1 - 묘화 장치 및 묘화 방법

Info

Publication number: KR101343906B1
Application number: KR1020087021121A
Authority: KR
Inventors: 미쯔루 무샤노
Original assignee: 후지필름 가부시키가이샤
Priority date: 2006-03-22
Filing date: 2008-08-28
Publication date: 2013-12-20
Also published as: KR20080104285A; WO2007108353A1; TW200744864A; JP2007253380A; JP4348345B2

Abstract

감광 재료(12)에 대한 레이저 광의 빔 궤적 정보를 따라 감광 재료(12)의 각 영역에서의 노광점 수를 동일하게 하거나, 또는, 각 영역간에서의 노광점 수의 차를 작게 하기 위한 마스크 데이터가 마스크 데이터 작성부(82)에 있어서 작성된다. 화상 데이터 기억부(76)로부터 판독된 래스터 화상 데이터는 미러 데이터 작성부(78)에 있어서 미러 데이터로 변환되고, 다음으로, 이 미러 데이터가 프레임 데이터 작성부(80)에 있어서 프레임 데이터로 변환된다. 그리고, 마스크 데이터 작성부(82)에서 작성된 마스크 데이터에 의해 프레임 데이터에 대한 마스킹 처리가 실시되고, 노광 헤드(30)를 구동해서 감광 재료(12)에 화상이 노광 기록된다.

묘화 장치

Description

묘화 장치 및 묘화 방법{PLOTTING DEVICE AND PLOTTING METHOD}

본 발명은 복수개의 묘화 소자를 갖는 묘화 헤드를 묘화면의 주사 방향으로 상대 이동시키며, 상기 묘화 소자를 묘화 데이터에 따라 제어함으로써 묘화를 행하는 묘화 장치 및 묘화 방법에 관한 것이다.

종래부터 묘화 장치의 일례로서 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD) 등의 공간 광변조 소자를 이용하여 화상 데이터에 따라 변조된 광 빔으로 화상 노광을 행하는 노광 장치가 여러가지로 제안되어 있다. DMD는 제어 신호에 따라 반사면의 각도를 변화시키는 다수의 마이크로 미러를 실리콘 등의 반도체 기판 상에 이차원상으로 배열한 미러 디바이스이며, 이 DMD를 구비한 노광 헤드를 노광면을 따른 주사 방향으로 상대 이동시킴으로써 화상을 노광면에 신속하게 기록할 수 있다.

그러나, 단일의 노광 헤드를 이용하여 충분한 크기의 노광 면적을 커버하는 것은 곤란하다.

그래서, 복수개의 노광 헤드를 주사 방향과 직교하는 방향으로 배열해서 구성한 노광 장치가 제안되어 있다(일본 특허 공개 2004-9595호 공보 참조). 그리고, 이 노광 장치에서는 주사 방향과 직교하는 방향에 대한 해상도를 향상시키기 위해 마이크로 미러가 격자상으로 배열된 각 DMD를 주사 방향에 대하여 경사지게 하여 배치하고 있다. 이 때, DMD의 연결 부분이 서로 보완되도록 인접하는 DMD에 의한 노광 범위가 중첩되도록 설정하고 있다.

그러나, 노광 헤드간의 상대 위치나 상대 설치 각도의 미세 조정은 매우 어려워 이상적인 상대 위치 및 상대 설치 각도로부터 약간 어긋나는 일이 많고, 이들에 기인해서 노광 얼룩이 발생될 우려가 있다. 또한, DMD에 광 빔을 인도하는 광학계의 각종 수차, DMD 자체의 왜곡, 개개의 마이크로 미러의 위치 어긋남 등의 영향에 의해서도 노광 얼룩이 발생된다.

이러한 문제는 노광 장치에 한정되는 것은 아니고, 예컨대, 잉크를 묘화면을 향해 토출해서 묘화를 행하는 잉크젯 기록 헤드를 구비한 프린터 등에 있어서도 생길 수 있다.

본 발명의 목적은 묘화 헤드의 설정 상태, 묘화면에 대한 주사 상태 등에 기인하는 묘화 얼룩의 발생을 매우 용이하게 회피할 수 있음과 아울러, 화상을 고정밀도로 묘화할 수 있는 묘화 장치 및 묘화 방법을 제공하는 것에 있다.

본 발명의 묘화 장치 및 묘화 방법에 의하면, 묘화면을 복수개의 영역으로 분할하고, 각 영역에 묘화되는 묘화점의 수의 영역간에서의 차, 또는, 각 영역에 부여되는 묘화 에너지의 영역간에서의 차가 작아지도록 묘화 소자를 선택적으로 비묘화 상태로 하는 마스크 데이터를 설정함으로써 묘화 헤드의 경사 각도, 복수의 묘화 헤드간의 상대 위치 등의 설정 상태, 광학계의 각종 수차, 개개의 묘화 소자의 위치 어긋남, 주사 상태의 변동 등에 기인하는 묘화 얼룩의 발생을 매우 용이하게 회피하여 소망하는 화상을 고정밀도로 묘화할 수 있다.

첨부한 도면과 협동하는 다음의 바람직한 실시형태예의 설명으로부터 상기의 목적 및 다른 목적, 특징 및 이점이 보다 명확해질 것이다.

도 1은 본 발명의 묘화 장치의 일실시형태인 노광 장치의 외관을 나타내는 사시도이다.

도 2는 도 1의 노광 장치의 스캐너의 구성을 나타내는 사시도이다.

도 3A는 감광 재료의 노광면 상에 형성되는 노광 완료 영역을 나타내는 평면도이다. 도 3B는 각 노광 헤드에 의한 노광 영역의 배열을 나타내는 평면도이다.

도 4는 도 1의 노광 장치의 노광 헤드의 개략적인 구성을 나타내는 사시도이다.

도 5A는 도 1의 노광 장치의 노광 헤드의 상세한 구성을 나타내는 상면도이다. 도 5B는 도 1의 노광 장치의 노광 헤드의 상세한 구성을 나타내는 측면도이다.

도 6은 도 1의 노광 장치의 DMD의 구성을 나타내는 부분 확대도이다.

도 7A는 DMD의 온 상태의 동작을 설명하기 위한 사시도이다. 도 7B는 오프 상태의 동작을 설명하기 위한 사시도이다.

도 8은 파이버 어레이 광원의 구성을 나타내는 사시도이다.

도 9는 파이버 어레이 광원의 레이저 출사부에 있어서의 발광점의 배열을 나타내는 정면도이다.

도 10은 도 1에 나타내는 노광 장치의 제어 회로 블록도이다.

도 11은 도 1에 나타내는 노광 장치에 있어서의 처리 플로우차트이다.

도 12는 1개의 DMD에 의한 노광 영역과 대응하는 슬릿의 위치 관계를 나타낸 상면도이다.

도 13은 노광면 상의 광점의 위치를 슬릿을 이용하여 측정하는 방법을 설명하기 위한 상면도이다.

도 14는 DMD에 의한 직선상의 빔 궤적과, 감광 재료에 설정한 집계 영역의 관계 설명도이다.

도 15는 도 14에 나타내는 관계로부터 구한 노광점 수 히스토그램의 설명도이다.

도 16은 도 15에 나타내는 노광점 수 히스토그램을 균일화하기 위해 설정한 마스크 데이터의 설명도이다.

도 17은 도 15에 나타내는 노광점 수 히스토그램을 균일화하기 위해 설정한 마스크 데이터의 설명도이다.

도 18은 DMD에 의한 사행(蛇行) 상태의 빔 궤적과, 감광 재료에 설정한 집계 영역의 관계 설명도이다.

도 19는 도 18에 나타내는 관계로부터 구한 노광점 수 히스토그램의 설명도이다.

도 20은 도 18에 나타내는 관계로부터 구한 노광점 수 히스토그램의 설명도이다.

도 21은 도 18에 나타내는 관계로부터 구한 노광점 수 히스토그램의 설명도 이다.

도 22는 도 18에 나타내는 관계로부터 구한 노광점 수 히스토그램의 설명도이다.

도 23은 도 19~도 22에 나타내는 노광점 수 히스토그램을 균일화하기 위해 설정한 마스크 데이터의 설명도이다.

도 24는 도 19~도 22에 나타내는 노광점 수 히스토그램을 균일화하기 위해 설정한 마스크 데이터의 설명도이다.

도 25는 래스터 화상 데이터와 DMD를 구성하는 마이크로 미러의 관계 설명도이다.

도 26은 미러 데이터의 설명도이다.

도 27은 프레임 데이터의 설명도이다.

도 28은 프레임 데이터에 대한 마스킹 처리의 설명도이다.

본 실시형태에 따른 노광 장치(10)는, 도 1에 나타내는 바와 같이, 시트 형상의 감광 재료(12)가 점착된 기판을 표면에 흡착해서 유지하는 평판 형상의 이동 스테이지(14)를 구비하고 있다. 4개의 다리부(16)에 지지된 두꺼운 판형상의 설치대(18)의 상면에는 스테이지 이동 방향을 따라 연장된 2개의 가이드(20)가 설치되어 있다. 이동 스테이지(14)는 그 길이방향이 스테이지 이동 방향을 향하도록 배치됨과 아울러, 가이드(20)에 의해 왕복 이동할 수 있게 지지되어 있다. 또한, 이 노광 장치(10)에는 이동 스테이지(14)를 가이드(20)를 따라 구동하는 스테이지 구동 장치(도시 생략)가 설치되어 있다.

설치대(18)의 중앙부에는 이동 스테이지(14)의 이동 경로를 걸치도록 문 형상의 게이트(22)가 설치되어 있다. 게이트(22)의 단부 각각은 설치대(18)의 양측면에 고정되어 있다. 이 게이트(22)를 사이에 두고 한쪽측에는 스캐너(24)가 설치되고, 다른쪽측에는 설치대(18)에 대한 감광 재료(12)의 위치를 검출하는 복수개(예컨대, 2개)의 CCD 카메라(26)가 설치되어 있다. 스캐너(24) 및 CCD 카메라(26)는 게이트(22)에 각각 부착되어 이동 스테이지(14)의 이동 경로의 상방에 고정 배치되어 있다. 또한, 스캐너(24) 및 CCD 카메라(26)는 후술하는 제어 회로에 접속되어 있다. 여기서, 설명을 위해 이동 스테이지(14)의 표면과 평행한 평면 내에, 도 1에 나타내는 바와 같이, 서로 직교하는 X방향 및 Y방향을 규정한다.

이동 스테이지(14)의 주사 방향을 따라 상류측(이하, 단지 「상류측」이라고 하는 경우가 있다.)의 끝 가장자리부에는 -X방향을 향해 개방되는 「<」형상으로 형성된 슬릿(28)이 동일한 간격으로 10개 형성되어 있다. 각 슬릿(28)은 상류측에 위치하는 슬릿(28a)과 하류측에 위치하는 슬릿(28b)으로 이루어져 있다. 슬릿(28a)과 슬릿(28b)은 서로 직교함과 아울러, X방향에 대해서 슬릿(28a)은 -45도, 슬릿(28b)은 +45도의 각도를 갖고 있다. 이동 스테이지(14) 내부의 각 슬릿(28)의 하방의 위치에는 각각 단일 셀형의 후술하는 광 검출기가 갖추어져 있다.

스캐너(24)는, 도 2 및 도 3B에 나타내는 바와 같이, 2행 5열의 대략 매트릭스 형상으로 배열된 10개의 노광 헤드(30)를 구비하고 있다. 또한, 이하에 있어서, m행의 n열째에 배열된 개개의 노광 헤드(30)를 나타내는 경우에는 노광 헤드(30_mn)로 표기한다.

각 노광 헤드(30)는 후술하는 내부의 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD)(36)의 소자 열방향이 화살표 X방향과 소정의 설정 경사 각도(θ)를 이루도록 스캐너(24)에 부착되어 있다. 따라서, 각 노광 헤드(30)에 의한 노광 영역(32)은 주사 방향에 대해서 경사진 직사각형상의 영역이 된다. 이동 스테이지(14)의 이동에 따라 감광 재료(12)에는 노광 헤드(30)마다 띠형상의 노광 완료 영역(34)이 형성된다. 또한, 이하에 있어서 m행의 n열째에 배열된 개개의 노광 헤드(30)에 의한 노광 영역(32)을 나타내는 경우에는 노광 영역(32_mn)으로 표기한다.

또한, 도 3A 및 도 3B에 나타내는 바와 같이, 띠형상의 노광 완료 영역(34) 각각이 인접하는 노광 완료 영역(34)과 부분적으로 겹치도록 라인상으로 배열된 각 행의 노광 헤드(30) 각각은 그 배열 방향으로 소정 간격(노광 영역(32)의 긴 변의 자연수배, 본 실시형태에서는 2배) 어긋나게 하여 배치되어 있다. 이 때문에, 1행째의 노광 영역(32₁₁)과 노광 영역(32₁₂) 사이의 노광할 수 없는 부분은 2행째의 노광 영역(32₂₁)에 의해 노광하는 것이 가능하다.

또한, 각 노광 헤드(30)의 중심 위치는 상기의 10개의 슬릿(28) 위치와 대략 일치시켜져 있다. 또한, 각 슬릿(28)의 크기는 대응하는 노광 헤드(30)에 의한 노광 영역(32)의 폭을 충분히 덮을 수 있는 크기로 되어 있다.

노광 헤드(30) 각각은, 도 4, 도 5A, 도 5B에 나타내는 바와 같이, 입사된 광을 화상 데이터에 따라 노광 영역(32)마다 변조하는 공간 광변조 소자로서, 미국 텍사스ㆍ인스트루먼트사제의 DMD(36)를 구비하고 있다. DMD(36)는 입력된 화상 데이터에 기초하여 각 마이크로 미러의 반사면의 각도가 제어된다.

도 4에 나타내는 바와 같이, DMD(36)의 광 입사측에는 광파이버의 출사단부(발광점)가 노광 영역(32)의 장변방향과 일치하는 방향을 따라 일렬로 배열된 레이저 출사부를 구비한 파이버 어레이 광원(38), 파이버 어레이 광원(38)으로부터 출사된 레이저 광을 보정해서 DMD(36) 상에 집광시키는 렌즈계(40), 이 렌즈계(40)를 투과한 레이저 광을 DMD(36)를 향해서 반사하는 미러(42)가 이 순서로 배치되어 있다. 또한, 도 4에서는 렌즈계(40)를 개략적으로 나타내고 있다.

렌즈계(40)는, 도 5A, 도 5B에 상세하게 나타내는 바와 같이, 파이버 어레이 광원(38)으로부터 출사된 레이저 광을 평행 광화하는 1쌍의 조합 렌즈(44), 평행 광화된 레이저 광의 광량 분포가 균일해지도록 보정하는 1쌍의 조합 렌즈(46), 및 광량 분포가 보정된 레이저 광을 DMD(36) 상에 집광하는 집광 렌즈(48)로 구성되어 있다.

또한, DMD(36)의 광반사측에는 DMD(36)에서 반사된 레이저 광을 감광 재료(12)의 노광면 상에 결상하는 렌즈계(50)가 배치되어 있다. 렌즈계(50)는 DMD(36)와 감광 재료(12)의 노광면이 공역의 관계가 되도록 배치된 2장의 렌즈(52 및 54)로 이루어진다.

본 실시형태에서는, 파이버 어레이 광원(38)으로부터 출사된 레이저 광은 실질적으로 5배로 확대된 후, DMD(36) 상의 각 마이크로 미러로부터의 광선이 상기 렌즈계(50)에 의해 약 5㎛로 스로틀되도록 설정되어 있다.

렌즈계(50)와 감광 재료(12) 사이에는 1쌍의 쐐기형 프리즘(53a,53b)이 배치되어 있다. 한쪽의 쐐기형 프리즘(53b)은 피에조 소자(55)에 의해 다른쪽의 쐐기형 프리즘(53a)에 대해서 레이저 광의 광축과 직교하는 방향으로 변위 가능하게 구성되어 있다. 쐐기형 프리즘(53a,53b)의 상대적인 위치 관계를 피에조 소자(55)에 의해 변경함으로써 레이저 광의 감광 재료(12)에 대한 초점 위치를 조정할 수 있다.

DMD(36)는, 도 6에 나타내는 바와 같이, SRAM셀(메모리 셀)(56) 상에 묘화 소자를 구성하는 다수의 마이크로 미러(58)가 격자상으로 배열되어 이루어지는 미러 디바이스이다. 각 마이크로 미러(58)는 지주에 지지되어 있고, 그 표면에는 알루미늄 등의 반사율이 높은 재료가 증착되어 있다. 또한, 본 실시형태에서는, 각 마이크로 미러(58)의 반사율은 90% 이상이며, 그 배열 피치는 세로방향, 가로방향 모두 13.7㎛이다. SRAM 셀(56)은 힌지 및 요크를 포함하는 지주를 통해서 통상의 반도체 메모리의 제조라인에서 제조되는 실리콘 게이트의 CMOS인 것이고, 전체는 모놀리식(일체형)으로 구성되어 있다.

DMD(36)의 SRAM셀(56)에 소망하는 이차원 패턴을 구성하는 각 점의 농도를 2진수로 표현한 화상 신호가 기록되면, 지주에 지지된 각 마이크로 미러(58)가 대각선을 중심으로 해서 DMD(36)가 배치된 기판측에 대하여 ±α도(예컨대, ±10도) 중 어느 하나로 경사진다. 도 7A는 마이크로 미러(58)가 온 상태인 +α도로 경사진 상태를 나타내고, 도 7B는 마이크로 미러(58)가 오프 상태인 -α도로 경사진 상태를 나타낸다. 따라서, 화상 데이터에 따라 DMD(36)의 각 픽셀에 있어서의 마이크로 미 러(58)의 경사를 도 6에 나타내는 바와 같이 제어함으로써 DMD(36)에 입사한 레이저 광(B)은 각각의 마이크로 미러(58)의 경사 방향으로 반사된다. 또한, 도 6에 DMD(36)의 일부를 확대하여 각 마이크로 미러(58)가 +α°또는 -α°로 제어되어 있는 상태의 일례를 나타낸다.

파이버 어레이 광원(38)은, 도 8에 나타내는 바와 같이, 복수개(예컨대, 14개)의 레이저 모듈(60)을 구비하고 있고, 각 레이저 모듈(60)에는 멀티 모드 광 파이버(62)의 일단이 결합되어 있다. 멀티 모드 광 파이버(62)의 타단에는 멀티 모드 광 파이버(62)보다 작은 클래드 지름을 갖는 멀티 모드 광 파이버(64)가 결합되어 있다. 도 9에 상세하게 나타내는 바와 같이, 멀티 모드 광 파이버(64)의 멀티 모드 광 파이버(62)와 반대측의 단부는 주사 방향과 직교하는 방향을 따라 7개 나열되고, 그것이 2열로 배열되어 레이저 출사부(66)가 구성되어 있다.

멀티 모드 광 파이버(64)의 단부로 구성되는 레이저 출사부(66)는, 도 9에 나타내는 바와 같이, 표면이 평탄한 2장의 지지판(68)에 끼워넣어져 고정되어 있다. 또한, 멀티 모드 광 파이버(64)의 광 출사 단부면에는 그 보호를 위해서 유리 등의 투명한 보호판이 배치되는 것이 바람직하다. 멀티 모드 광 파이버(64)의 광 출사 단부면은 광밀도가 높기 때문에 집진되기 쉽고 열화되기 쉽지만, 상술한 바와 같은 보호판을 배치함으로써 끝면으로의 진애의 부착을 방지하고, 또한 열화를 지연시킬 수 있다.

도 10은 노광 장치(10)의 제어 회로(70)를 중심으로 한 요부 구성 블록도이다. CAD 장치(72)는 감광 재료(12)에 노광 기록하기 위한 이차원 화상을 벡터 데이 터로서 작성한다. 래스터 이미지 프로세서 서버(RIP 서버)(74)는 CAD 장치(72)로부터 공급된 벡터 데이터를 비트맵 데이터인 래스터 화상 데이터로 변환하고, 필요에 따라 압축해서 노광 장치(10)에 공급한다.

제어 회로(70)는 RIP 서버(74)로부터 공급된 래스터 화상 데이터를 기억하는 화상 데이터 기억부(76)와, 화상 데이터 기억부(76)로부터 판독한 래스터 화상 데이터로부터 DMD(36)를 구성하는 마이크로 미러(58)마다의 시계열 데이터인 미러 데이터를 작성하는 미러 데이터 작성부(78)와, 미러 데이터로부터 DMD(36)를 구성하는 마이크로 미러(58)의 배열을 따른 프레임 데이터를 작성하는 프레임 데이터 작성부(80)와, DMD(36)의 설정 상태, 감광 재료(12)의 반송 상태 등에 따라 DMD(36)를 구성하는 마이크로 미러(58)의 일부를 비구동 상태로 하기 위한 마스크 데이터를 작성하는 마스크 데이터 작성부(82)와, 마스크 데이터에 의해 마스킹된 프레임 데이터를 따라 DMD(36)를 구동하고, 감광 재료(12)에 소망하는 이차원 화상을 노광 기록하는 노광 헤드(30)를 구비한다.

또한, 제어 회로(70)는 설치대(18)에 대한 DMD(36)의 각 마이크로 미러(58)의 배치 정보를 취득하는 미러 배치 정보 취득부(84)(묘화점 위치 산출부)와, 이동 스테이지(14)에 설치된 감광 재료(12)의 배치, 화살표 Y방향으로의 반송에 의해 생기는 감광 재료(12)의 사행 상태, 감광 재료(12)의 압축, 신장 등에 의한 변형 등을 얼라인먼트 정보로서 취득하는 얼라인먼트 정보 취득부(86)와, 미러 배치 정보 및 얼라인먼트 정보에 기초하여 감광 재료(12)에 각 노광점을 형성하는 레이저 광(B)에 의한 빔 궤적 정보를 작성하는 빔 궤적 정보 작성부(88)를 구비한다.

또한, 미러 배치 정보는 이동 스테이지(14)에 형성된 슬릿(28)을 통과한 레이저 광(B)을 광 검출기(90)에 의해 검출하고, 그 때의 이동 스테이지(14)의 위치로부터 얻을 수 있다. 또한, 얼라인먼트 정보는 CCD 카메라(26)를 이용하여 감광 재료(12)를 촬상하거나, 또는, 감광 재료(12)가 점착되어 있는 기판에 형성된 얼라인먼트 마크를 촬상하는 것으로 얻어진다.

미러 데이터 작성부(78)는 빔 궤적 정보 작성부(88)에 의해 작성된 빔 궤적 정보를 따라 화상 데이터 기억부(76)에 기억된 화상 데이터로부터 미러 데이터를 작성한다.

마스크 데이터 작성부(82)는 인코더(92)에 의해 검출한 감광 재료(12)의 주사 위치 정보를 주사 위치 정보 취득부(94)에 의해 취득하고, 그 주사 위치 정보와, 빔 궤적 정보 작성부(88)에 의해 작성된 빔 궤적 정보를 따라 마스크 데이터를 작성한다. 또한, 마스크 데이터 작성부(82)는 DMD(36)를 구성하는 각 마이크로 미러(58)로부터의 레이저 광(B)의 광량을 광량 검출기(95)(묘화 에너지 취득부)에 의해 검출하고, 그 광량에 기초하여 마스크 데이터를 작성하는 것도 가능하다.

마스크 데이터 작성부(82)에 의해 작성된 마스크 데이터는 후술하는 영역마다의 마스크 데이터로서 마스크 데이터 기억부(96)에 기억된다. 또한, 마스크 데이터 기억부(96)에 기억된 마스크 데이터는 마스크 데이터 선택부(98)에 의해 주사 위치 정보 취득부(94)로부터의 주사 위치 정보에 따라 선택되고, 마스킹 처리부(99)에 공급된다. 마스킹 처리부(99)는 프레임 데이터 작성부(80)로부터 공급되 는 프레임 데이터에 대해서 마스크 데이터 선택부(98)로부터 공급되는 마스크 데이터에 의해 마스킹 처리를 행하고, 노광 헤드(30)에 공급한다.

본 실시형태의 노광 장치(10)는 기본적으로는 이상과 같이 구성되는 것이며, 이어서, 그 동작 및 작용 효과에 대해 도 11에 나타내는 플로우차트에 기초하여 설명한다.

우선, 감광 재료(12)가 점착된 기판을 이동 스테이지(14)의 소정 위치에 셋팅한다(스텝S1).

다음으로, 이동 스테이지(14)를 도 1의 스캐너(24)측으로 이동시키면서 CCD 카메라(26)에 의해 감광 재료(12)를 촬상하고, 얼라인먼트 정보 취득부(86)에 의해 얼라인먼트 정보를 취득한다(스텝S2). 이 경우, 얼라인먼트 정보는 예컨대 감광 재료(12)의 에지 부분, 또는, 감광 재료(12)가 점착된 기판에 형성되어 있는 얼라인먼트 마크를 CCD 카메라(26)로 판독하고, 인코더(92)를 통해서 주사 위치 정보 취득부(94)에 의해 취득한 감광 재료(12)의 주사 위치에 대한 에지 부분 또는 얼라인먼트 마크의 위치 정보로서 구할 수 있다. 또한, 이 얼라인먼트 정보에는 감광 재료(12)를 반송하는 이동 스테이지(14)가 설치대(18)에 대해서 사행하여 이동하는 것에 의한 사행 정보도 포함된다.

이어서, 이동 스테이지(14)에 형성한 슬릿(28)을 스캐너(24)의 하부로 이동시킨 후, 각 노광 헤드(30)를 구성하는 DMD(36)를 제어하고, 각 DMD(36)의 마이크로 미러(58)를 통해서 레이저 광(B)을 슬릿(28)에 인도함으로써 각 마이크로 미러(58)의 설치대(18)에 대한 미러 배치 정보를 취득한다(스텝S3).

도 12 및 도 13을 이용하여 슬릿(28) 및 광 검출기(90)에 의해 각 마이크로 미러(58)의 미러 배치 정보를 취득하는 방법을 구체적으로 설명한다. 또한, 이하의 설명에 있어서 노광 영역(32)에 있어서의 제 m 행, 제 n 열의 마이크로 미러(58)에 의한 광점을 P(m,n)로 표기하는 것으로 한다.

도 12는 2개의 DMD(36)의 노광 영역(32₁₂ 및 32₂₁)과, 대응하는 슬릿(28)의 위치 관계를 나타낸 상면도이다. 이미 서술한 바와 같이, 슬릿(28)의 크기는 노광 영역(32)의 폭을 충분히 덮을 수 있는 크기로 되어 있다.

도 13은 일례로서, 노광 영역(32₂₁)의 광점(P(256,512))의 위치를 검출할 때의 검출 방법을 설명한 상면도이다. 우선, 광점(P(256,512))을 점등시킨 상태에서 이동 스테이지(14)를 천천히 이동시켜 슬릿(28)을 Y축방향을 따라 상대 이동시키고, 광점(P(256,512))이 상류측의 슬릿(28a)과 하류측의 슬릿(28b) 사이에 오는 임의의 위치에 슬릿(28)을 위치시킨다. 이 때의 슬릿(28a)과 슬릿(28b)의 교점의 좌표를 (X0,Y0)으로 한다. 이 좌표(X0,Y0)의 값은 이동 스테이지(14)에 주어진 구동신호가 나타내는 상기의 위치까지의 이동 스테이지(14)의 이동 거리(예컨대, 인코더(92)를 통해서 주사 위치 정보 취득부(94)에 의해 취득할 수 있다.), 및, 이미 알고 있는 슬릿(28)의 X방향 위치로부터 결정되고, 기록된다.

이어서, 이동 스테이지(14)를 이동시키고, 슬릿(28)을 Y축을 따라 도 13에 있어서의 우측방향으로 상대 이동시킨다. 그리고, 도 13에 있어서 2점 쇄선으로 나타내는 바와 같이, 광점(P(256,512))의 광이 좌측의 슬릿(28b)을 통과하여 광 검출 기(90)에서 검출된 곳에서 이동 스테이지(14)를 정지시킨다. 이 때의 슬릿(28a)과 슬릿(28b)의 교점의 좌표를 (X0,Y1)로서 기록한다.

이번에는 이동 스테이지(14)를 반대방향으로 이동시키고, 슬릿(28)을 Y축을 따라 도 13에 있어서의 좌측방향으로 상대 이동시킨다. 그리고, 도 13에 있어서 2점 쇄선으로 나타내는 바와 같이, 광점(P(256,512))의 광이 우측의 슬릿(28a)을 통과하여 광 검출기(90)에서 검출된 곳에서 이동 스테이지(14)를 정지시킨다. 이 때의 슬릿(28a)과 슬릿(28b)의 교점의 좌표를 (X0,Y2)로서 기록한다.

이상의 측정 결과로부터 광점(P(256,512))의 좌표(X,Y)를 X=X0+(Y1-Y2)/2, Y=(Y1+Y2)/2의 계산에 의해 결정한다. 모든 노광 헤드(30)를 구성하는 DMD(36)의 각 마이크로 미러(58)에 의해 형성되는 광점(P(m,n))의 좌표인 미러 배치 정보가 마찬가지로 해서 취득된다.

이어서, 얼라인먼트 정보 취득부(86)에 의해 취득한 얼라인먼트 정보와, 미러 배치 정보 취득부(84)에 의해 취득한 미러 배치 정보에 기초하여 각 마이크로 미러(58)에 의해 형성되는 각 광점(P(m,n))이 감광 재료(12)를 주사해서 이차원 화상을 노광 기록할 때의 감광 재료(12)에 대한 빔 궤적 정보를 작성한다(스텝S4). 이 경우, 빔 궤적 정보는 얼라인먼트 정보로부터 얻어지는 감광 재료(12)의 이동 스테이지(14)에 대한 설치 위치의 편차, 설치대(18)에 대한 이동 스테이지(14)의 사행 상태, 감광 재료(12)의 신축에 의한 변형, 미러 배치 정보로부터 얻어지는 마이크로 미러(58)의 위치 어긋남 등의 정보가 포함된다.

빔 궤적 정보가 작성된 후, 마스크 데이터의 작성에 앞서서 감광 재료(12)의 노광면을 복수개의 영역으로 분할하고, 노광점 수 히스토그램을 산출하기 위한 집계 영역을 설정한다(스텝S5).

도 14는 빔 궤적 정보가 이동 스테이지(14)의 사행 정보를 포함하고 있지 않고, 감광 재료(12)에 대한 각 마이크로 미러(58)의 빔 궤적(100)이 직선으로 설정된 경우를 나타낸다. 해칭으로 나타내는 각 집계 영역(A1~A10)은 감광 재료(12)의 주사 방향과 직교하는 방향으로 분할된 소정의 면적을 갖은 사각형상의 영역으로서 설정된다.

마스크 데이터 작성부(82)는 빔 궤적 정보 작성부(88)에 의해 작성된 빔 궤적 정보에 기초하여 각 집계 영역(A1~A10)에 대응하는 빔 궤적(100) 상의 광점(P(m,n))의 수를 노광점 수 히스토그램으로서 산출한다(스텝S6). 또한, 각 집계 영역(A1~A10)에 플로팅(plotting)되는 광점(P(m,n))의 수는 빔 궤적(100)과, 마이크로 미러(58)로부터 감광 재료(12)로 인도되는 레이저 광(B)에 의한 화상의 기록속도와, 감광 재료(12)의 주사 방향에 대한 이동 속도에 의존한다.

도 15는 산출된 각 집계 영역(A1~A10)의 노광점 수의 예를 게시한다. DMD-1 및 DMD-2에 의한 노광 영역이 중첩되어 있는 범위에서는 쌍방의 마이크로 미러(58)에 의한 빔 궤적(100)이 동일한 집계 영역(A1~A10)을 통과하기 때문에 노광점 수가 커진다.

그래서, 각 집계 영역(A1~A10)에 있어서의 노광점 수가 동일하게 되도록, 또는, 각 집계 영역(A1~A10) 사이에서의 노광점 수의 차가 작아지도록 DMD-1 및 DMD-2를 구성하는 특정의 마이크로 미러(58)를 비묘화 상태로 설정하는 마스크 데이터 를 작성한다(스텝S7).

예컨대, 노광점 수를 동일하게 할 경우, 도 15에 나타내는 노광점 수 히스토그램에 있어서 노광점 수의 기준값을 3으로 하면, 집계 영역(A4)의 노광점 수를 1, 집계 영역(A5)의 노광점 수를 2, 집계 영역(A6)의 노광점 수를 3, 집계 영역(A7)의 노광점 수를 2만큼 줄이도록 비묘화 상태의 마이크로 미러(58)를 설정하면 좋다. 이 경우, 각 DMD-1 및 DMD-2를 구성하는 마이크로 미러(58)의 미러 번호(m1~m20)의 위치를 도 14에 나타내는 바와 같이 정의하면, 도 16 및 도 17에 나타내는 바와 같이, DMD-1 및 DMD-2의 비묘화 상태로 설정되는 마이크로 미러(58)가 「0」, 묘화 데이터를 따라서 구동되는 마이크로 미러(58)가 「1」이 되는 마스크 데이터(104A 및 106A)가 작성된다. 또한, 이들 마스크 데이터(104A 및 106A)에 의해 비묘화 상태로 설정되는 마이크로 미러(58)의 개념을 도 14에 ●로 예시한다.

한편, 도 18은 빔 궤적 정보가 이동 스테이지(14)의 사행 정보를 포함하고 있고, 감광 재료(12)에 대한 각 마이크로 미러(58)의 빔 궤적(102)이 사행하여 설정된 경우를 나타낸다. 이 경우, DMD-1과 DMD-2는 감광 재료(12)의 주사 방향에 대한 위치가 다르기 때문에, DMD-1이 감광 재료(12)를 주사하는 위치와 DMD-2가 감광 재료(12)를 주사하는 위치가 주사 방향과 다르게 된다.

그래서, 감광 재료(12)의 노광면을 주사 방향의 복수개의 영역(A~D)으로 분할하고, 각 영역(A~D)에 있어서 주사 방향과 직교하는 방향으로 각각 집계 영역(A1~A10, B1~B10, C1~C10, D1~D10)을 설정하고(스텝S5), 각 집계 영역(A1~A10, B1~B10, C1~C10, D1~D10)에 대응하는 빔 궤적(102) 상의 광점(P(m,n))의 수를 노광 점 수 히스토그램으로서 산출한다(스텝S6).

도 19~도 22는 산출된 각 집계 영역(A1~A10, B1~B10, C1~C10, D1~D10)의 노광점 수의 예를 나타낸다. 이 경우, 노광점 수에는 감광 재료(12)의 반송 속도의 변동에 의한 영향이 포함된다.

그래서, 각 집계 영역(A1~A10, B1~B10, C1~C10, D1~D10)에 있어서의 노광점 수가 동일하게 되도록, 또는, 각 집계 영역(A1~A10, B1~B10, C1~C10, D1~D10) 사이에서의 노광점 수의 차가 작아지도록 DMD-1 및 DMD-2를 구성하는 특정의 마이크로 미러(58)를 비묘화 상태로 설정하는 마스크 데이터를 작성한다(스텝S7). 이 경우, 도 23 및 도 24에 나타내는 바와 같이, 각 영역(A~D)에 대해서 마스크 데이터(108A~108D 및 110A~110D)가 작성된다. 마스크 데이터(108A 및 110A)에 의해 비묘화 상태로 설정되는 마이크로 미러(58)의 개념을 도 18에 ●로 예시한다.

또한, 사행하는 빔 궤적(102)을 벡터 데이터로서 작성하고, 이 벡터 데이터의 방향의 변화가 큰 부분에서는 주사 방향에 대한 영역의 분할 폭을 작게 설정하고, 벡터 데이터의 방향의 변화가 작은 부분에서는 주사 방향에 대한 영역의 분할 폭을 크게 설정함으로써 노광 장치(10)의 설정 상태에 따른 최적의 마스크 데이터를 작성할 수 있다. 또한, 감광 재료(12)의 반송 속도의 변화에 따라 주사 방향에 대한 영역의 분할 폭을 설정하도록 해도 좋다.

이상과 같이 해서 작성된 마스크 데이터는 마스크 데이터 기억부(96)에 기억된다(스텝S8).

이상의 준비작업이 종료한 후, 이동 스테이지(14)를 CCD 카메라(26)측으로 이동시키고, 스캐너(24)에 의한 본 노광이 개시된다.

이 경우, CAD 장치(72)는 감광 재료(12)에 노광 기록하는 이차원 화상을 벡터 데이터로서 작성하고, RIP 서버(74)에 공급한다. RIP 서버(74)는 공급된 벡터 데이터를 비트맵 데이터인 래스터 화상 데이터로 변환한다. 래스터 화상 데이터는 필요에 따라 압축되고, 노광 장치(10)의 제어 회로(70)에 송신되어 화상 데이터 기억부(76)에 기억된다.

또한, 도 25는 화상 데이터 기억부(76)에 기억되는 래스터 화상 데이터의 설명도이다. 동 도면에서는 설명을 이해하기 쉽게 하기 위해서 압축되어 있지 않은 상태의 래스터 화상 데이터를 나타내고 있다. 래스터 화상 데이터의 범위는 해칭을 한 범위이며, 그 범위에 숫자의 「2」의 화상이 포함되어 있다. 동그라미 숫자 1~8은 래스터 화상 데이터에 대한 DMD(36)를 구성하는 8장의 마이크로 미러(58)의 배치를 나타낸다. 화상 데이터 기억부(76)에는 어드레스 연속 방향이 화살표로 나타내는 각 마이크로 미러(58)의 주사 방향과 동일한 방향이 되는 상태에서 래스터 화상 데이터가 기억된다.

그래서, 미러 데이터 작성부(78)는 화상 데이터 기억부(76)로부터 래스터 화상 데이터를 어드레스 연속 방향을 따라 판독하고(스텝S9), 빔 궤적 정보 작성부(88)로부터 공급되는 빔 궤적 정보를 따라서 래스터 화상 데이터를 노광하는 시계열적으로 트레이싱(tracing)해서 얻어지는 묘화 데이터를 미러 데이터로서 작성한다(스텝S10).

도 26은 감광 재료(12)가 사행하고 있지 않고, 각 마이크로 미러(58)에 의한 빔 궤적이 직선인 것으로 가정한 도 25에 나타내는 래스터 화상 데이터로부터 작성된 미러 데이터를 나타낸다. 이 경우, 프레임은 1개의 DMD(36)를 구성하는 각 마이크로 미러(58)에 대략 동시에 공급되는 미러 데이터의 세트를 나타낸다.

실제의 계(系)에서는 감광 재료(12)의 이동 스테이지(14)에 대한 설치 위치의 편차, 이동 스테이지(14)의 이동에 따른 사행의 영향, 이동 스테이지(14)의 반송 속도의 얼룩 등의 영향을 고려해서 산출된 빔 궤적 정보, 예컨대, 도 18에 나타내는 빔 궤적(102)을 따라 해당하는 래스터 화상 데이터를 트레이싱함으로써 미러 데이터가 작성된다.

다음으로, 미러 데이터는 DMD(36)를 구성하는 각 마이크로 미러(58)에 공급되어 대략 동시에 노광 기록되는 프레임 데이터로 변환된다(스텝S11). 이 경우, 프레임 데이터는 예컨대 도 26 및 도 27에 나타내는 바와 같이, 미러 데이터의 행과 열을 전치(前置) 처리함으로써 용이하게 작성할 수 있다.

작성된 프레임 데이터는 마스킹 처리부(99)에 공급되고, 마스크 데이터 선택부(98)에 의해 선택된 마스크 데이터를 따라서 마스킹 처리가 이루어진다(스텝S12).

도 28은 도 15에 나타내는 노광점 수 히스토그램에 기초하여 작성된 도 16에 나타내는 마스크 데이터(104A)를 이용하여, DMD-1의 프레임 데이터의 마스킹 처리를 행하는 경우의 설명도이다. 이 경우, 마스크 데이터(104A)와 프레임 데이터의 논리곱으로서 마스킹된 프레임 데이터가 작성된다. DMD-2의 프레임 데이터도 마찬가지로 하여 작성된다.

또한, 도 18에 나타내는 바와 같이, 빔 궤적(102)이 사행하고 있는 경우, 또는, 감광 재료(12)의 반송 속도에 분균일이 있을 경우, 주사 위치 정보 취득부(94)에 의해 취득한 감광 재료(12)의 주사 위치 정보를 따라 각 영역(A~D)에 대응하는 마스크 데이터가 마스크 데이터 선택부(98)에 의해 마스크 데이터 기억부(96)로부터 선택되어 마스킹 처리부(99)에 공급되고, 프레임 데이터에 대한 마스킹 처리가 각 영역(A~D)에 따라 전환되어 행해진다.

마스킹 처리된 프레임 데이터가 노광 헤드(30)에 공급되면, 각 노광 헤드(30)를 구성하는 DMD(36)의 마이크로 미러(58)가 마스킹 처리된 프레임 데이터에 의해 온오프 제어되고, 레이저 광(B)이 감광 재료(12)에 조사되어 화상이 노광 기록된다(스텝S13).

이상과 같이 하여 감광 재료(12)에 대해서 마스킹 처리된 프레임 데이터에 의한 노광 기록이 행해진다. 이 경우, 감광 재료(12)의 분할된 각 집계 영역(A1~A10)(도 14) 또는 각 집계 영역(A1~A10,B1~B10,C1~C10,D1~D10)(도 18)에 있어서의 노광점 수가 동일하게 되도록 설정되거나, 또는, 각 집계 영역(A1~A10) 사이 또는 각 집계 영역(A1~A10,B1~B10,C1~C10,D1~D10) 사이에서의 노광점 수의 차가 작아지도록 설정되어 있기 때문에, DMD(36)의 경사 각도의 편차, DMD(36)를 구성하는 마이크로 미러(58)의 설치 위치의 오차, 인접하는 DMD(36)끼리의 중첩 범위의 설정 오차 등에 기인하는 화상의 농도 얼룩의 발생이 회피된다.

또한, 상술한 실시형태에서는 예컨대 집계 영역(A1~A10)에 있어서의 노광점 수가 동일하게 되도록, 또는, 집계 영역(A1~A10) 사이에서의 노광점 수의 차가 작 아지도록 마스크 데이터를 작성하고 있지만, 노광량이 동일하거나, 또는, 노광량의 차가 작아지도록 마스크 데이터를 작성하도록 해도 좋다.

예컨대, DMD(36)를 구성하는 각 마이크로 미러(58)로부터 감광 재료(12)에 인도되는 레이저 광(B)의 광량을 광량 검출기(95)에 의해 미리 검출해 두고, 각 집계 영역(A1~A10)에 인도되는 레이저 광(B)의 광량의 총합이 각 집계 영역(A1~A10) 사이에서 동일하게 되도록, 또는, 집계 영역(A1~A10) 사이에서의 상기 총합의 차가 작아지도록 비묘화 상태로 하는 마이크로 미러(58)를 설정하는 마스크 데이터를 작성하고, 이 마스크 데이터를 이용하여 프레임 데이터를 처리함으로써 노광 얼룩이 없는 화상을 감광 재료(12)에 기록할 수 있다.

또한, 상기 실시형태에서는 광 빔을 화소마다 변조하는 DMD를 화소 어레이로서 이용했지만, 이것에 한정되지 않고, DMD 이외의 액정 어레이 등의 광변조 소자나, 광원 어레이(예컨대, LD 어레이, 유기 EL 어레이 등)를 사용해도 좋다.

또한, 상기 실시형태의 동작 형태는 노광 헤드를 항상 이동시키면서 연속적으로 노광을 행하는 형태이여도 좋고, 노광 헤드를 단계적으로 이동시키면서 각 이동 목적지의 위치에서 노광 헤드를 정지시켜 노광 동작을 행하는 형태이어도 된다.

또한, 본 발명은 노광 장치 및 노광 방법에 한정되는 것은 아니고, 예컨대, 잉크젯 프린터나 잉크젯 방식의 프린트 방법에도 적용가능하다.

이상, 본 발명의 실시형태에 대해서 상세하게 서술했지만, 이들 실시형태는 예시적인 것에 지나지 않고, 본 발명의 기술적 범위는 특허청구의 범위에 의해서만 정해져야 하는 것은 말할 필요도 없다.

Claims

복수개의 묘화 소자(58)를 갖는 묘화 헤드(36)를 묘화면(12)에 대해 주사 방향으로 상대 이동시키며, 상기 묘화 소자(58)를 묘화 데이터에 따라 제어함으로써 묘화를 행하는 묘화 장치(10)에 있어서:

상기 묘화면(12)에 대한 상기 묘화 소자(58)에 의한 묘화점의 위치를 산출하는 묘화점 위치 산출부(84)와,

상기 묘화면(12)을 복수개의 영역으로 분할하고, 산출된 상기 묘화점의 위치에 기초하여 상기 각 영역에 포함되는 상기 묘화점의 묘화점 수를 산출하는 묘화점 수 산출부와,

상기 각 영역간에서의 상기 묘화점 수의 차를 소정 이하로 하기 위해서 비묘화 상태로 되는 상기 묘화 소자를 설정하는 마스크 데이터를 작성하는 마스크 데이터 작성부(82)를 구비하고;

상기 마스크 데이터에 의해 비묘화 상태로 설정된 상기 묘화 소자(58)를 제외한 묘화 소자를 묘화 데이터에 따라 제어함으로써 묘화를 행하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
제 1 항에 있어서, 상기 마스크 데이터 작성부(82)는 상기 묘화면(12)을 상기 주사 방향 및 상기 주사 방향과 직교하는 방향으로 분할한 상기 각 영역에 대해서 상기 마스크 데이터를 작성하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
제 2 항에 있어서, 상기 주사 방향으로 분할한 상기 각 영역의 상기 마스크 데이터를 기억하는 마스크 데이터 기억부(96)와,

상기 묘화 소자(58)의 상기 주사 방향에 대한 주사 위치의 정보를 취득하는 주사 위치 정보 취득부(94)와,

취득한 상기 주사 위치의 정보에 따른 상기 마스크 데이터를 상기 마스크 데이터 기억부(96)로부터 선택하는 마스크 데이터 선택부(98)를 구비하고;

선택한 상기 마스크 데이터에 의해 상기 묘화 소자(58)의 일부를 비묘화 상태로 설정하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
제 1 항에 있어서, 상기 주사 방향과 직교하는 방향으로 배열되고, 묘화 범위가 서로 중첩해서 설정되는 복수개의 상기 묘화 헤드(36)를 구비하고,

상기 마스크 데이터 작성부(82)는 상기 묘화면을 상기 주사 방향과 직교하는 방향으로 분할한 상기 각 영역에 대해서 상기 마스크 데이터를 작성하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
복수개의 묘화 소자(58)를 갖는 묘화 헤드(36)를 묘화면(12)에 대해 주사 방향으로 상대 이동시키며, 상기 묘화 소자(58)를 묘화 데이터에 따라 제어함으로써 묘화를 행하는 묘화 장치(10)에 있어서:

상기 각 묘화 소자(58)에 의해 상기 묘화면(12)에 부여되는 묘화 에너지를 취득하는 묘화 에너지 취득부(95)와,

상기 묘화면(12)에 대한 상기 묘화 소자(58)에 의한 묘화점의 위치를 산출하는 묘화점 위치 산출부(84)와,

상기 묘화면(12)을 복수개의 영역으로 분할하고, 산출된 상기 묘화점의 위치와 취득한 상기 묘화점의 상기 묘화 에너지에 기초하여 상기 각 영역에 포함되는 상기 묘화점에 의해 부여되는 상기 묘화 에너지의 총합을 상기 각 영역마다 산출하는 묘화 에너지 산출부와,

상기 각 영역간에서의 상기 묘화 에너지의 총합의 차를 작게 하기 위해 비묘화 상태로 되는 상기 묘화 소자(58)를 설정하는 마스크 데이터를 작성하는 마스크 데이터 작성부(82)를 구비하고;

상기 마스크 데이터에 의해 비묘화 상태로 설정된 상기 묘화 소자(58)를 제외한 묘화 소자(58)를 묘화 데이터에 따라 제어함으로써 묘화를 행하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
제 5 항에 있어서, 상기 마스크 데이터 작성부(82)는 상기 묘화면(12)을 상기 주사 방향 및 상기 주사 방향과 직교하는 방향으로 분할한 상기 각 영역에 대해서 상기 마스크 데이터를 작성하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
제 6 항에 있어서, 상기 주사 방향으로 분할한 상기 각 영역의 상기 마스크 데이터를 기억하는 마스크 데이터 기억부(96)와,

상기 묘화 소자(58)의 상기 주사 방향에 대한 주사 위치의 정보를 취득하는 주사 위치 정보 취득부(94)와,

취득한 상기 주사 위치의 정보에 따른 상기 마스크 데이터를 상기 마스크 데이터 기억부(96)로부터 선택하는 마스크 데이터 선택부(98)를 구비하고;

선택한 상기 마스크 데이터에 의해 상기 묘화 소자(58)의 일부를 비묘화 상태로 설정하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
제 5 항에 있어서, 상기 주사 방향과 직교하는 방향으로 배열되고, 묘화 범위가 서로 중첩해서 설정되는 복수개의 상기 묘화 헤드(36)를 구비하고,

상기 마스크 데이터 작성부(82)는 상기 묘화면을 상기 주사 방향과 직교하는 방향으로 분할한 상기 각 영역에 대해서 상기 마스크 데이터를 작성하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
복수개의 묘화 소자(58)를 갖는 묘화 헤드(36)를 묘화면(12)에 대해 주사 방향으로 상대 이동시키며, 상기 묘화 소자(58)를 묘화 데이터에 따라 제어함으로써 묘화를 행하는 묘화 방법에 있어서:

상기 묘화면(12)에 대한 상기 묘화 소자(58)에 의한 묘화점의 위치를 산출하는 스텝;

상기 묘화면(12)을 복수개의 영역으로 분할하고, 산출된 상기 묘화점의 위치에 기초하여 상기 각 영역에 포함되는 상기 묘화점의 묘화점 수를 산출하는 스텝;

상기 각 영역간에서의 상기 묘화점 수의 차를 소정 이하로 하기 위해서 비묘화 상태로 되는 상기 묘화 소자(58)를 설정하는 마스크 데이터를 작성하는 스텝; 및

상기 마스크 데이터에 의해 비묘화 상태로 설정된 상기 묘화 소자(58)를 제외한 묘화 소자를 묘화 데이터에 따라 제어하는 스텝을 갖는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
제 9 항에 있어서, 상기 묘화점의 위치는 상기 묘화 헤드(36)를 상기 주사 방향으로 상대 이동시켰을 때에 얻어지는 상기 각 영역에 있어서의 위치로서 산출하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
제 9 항에 있어서, 상기 묘화면(12)을 상기 주사 방향 및 상기 주사 방향과 직교하는 방향으로 분할한 상기 각 영역에 대한 상기 마스크 데이터를 작성하는 스텝;

상기 묘화 소자(58)의 상기 주사 방향에 대한 주사 위치의 정보를 취득하는 스텝;

취득한 상기 주사 위치의 정보에 따른 상기 마스크 데이터를 선택하는 스텝; 및

선택한 상기 마스크 데이터에 의해 상기 묘화 소자(58)의 일부를 비묘화 상태로 설정하고, 묘화 처리를 행하는 스텝을 갖는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
복수개의 묘화 소자(58)를 갖는 묘화 헤드(36)를 묘화면에 대해 주사 방향으로 상대 이동시키며, 상기 묘화 소자(58)를 묘화 데이터에 따라 제어함으로써 묘화를 행하는 묘화 방법에 있어서:

상기 각 묘화 소자(58)에 의해 상기 묘화면(12)에 부여되는 묘화 에너지를 취득하는 스텝;

상기 묘화면(12)에 대한 상기 묘화 소자(58)에 의한 묘화점의 위치를 산출하는 스텝;

상기 묘화면(12)을 복수개의 영역으로 분할하고, 산출된 상기 묘화점의 위치와 취득한 상기 묘화점의 상기 묘화 에너지에 기초하여 상기 각 영역에 포함되는 상기 묘화점에 의해 부여되는 상기 묘화 에너지의 총합을 상기 각 영역마다 산출하는 스텝;

상기 각 영역간에서의 상기 묘화 에너지의 총합의 차를 소정 이하로 하기 위해서 비묘화 상태로 되는 상기 묘화 소자(58)를 설정하는 마스크 데이터를 작성하는 스텝; 및

상기 마스크 데이터에 의해 비묘화 상태로 설정된 상기 묘화 소자(58)를 제외한 묘화 소자(58)를 묘화 데이터에 따라 제어하는 스텝을 갖는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
제 12 항에 있어서, 상기 묘화점의 위치는 상기 묘화 헤드(36)를 상기 주사 방향으로 상대 이동시켰을 때에 얻어지는 상기 각 영역에 있어서의 위치로서 산출하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
제 12 항에 있어서, 상기 묘화면(12)을 상기 주사 방향 및 상기 주사 방향과 직교하는 방향으로 분할한 상기 각 영역에 대한 상기 마스크 데이터를 작성하는 스텝;

상기 묘화 소자(58)의 상기 주사 방향에 대한 주사 위치의 정보를 취득하는 스텝; 및

취득한 상기 주사 위치의 정보에 따른 상기 마스크 데이터를 선택하는 스텝;

선택한 상기 마스크 데이터에 의해 상기 묘화 소자(58)의 일부를 비묘화 상태로 설정하고, 묘화 처리를 행하는 스텝을 갖는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.