JP4348345B2 - 描画装置及び描画方法 - Google Patents
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Description
複数の前記描画ヘッドは、前記走査方向と直交する方向に配列され、描画範囲が相互に重畳して設定され、
前記描画面に対する複数の前記描画ヘッドの全描画素子による描画点の位置を算出する描画点位置算出部と、
前記描画面を前記走査方向と直交する方向に複数の領域に分割し、算出された前記描画点の位置に基づき、前記各領域に含まれる前記描画点の描画点数を算出すると共に、最少の露光点数を得る描画点数算出部と、
前記各領域の描画点数を、前記最少の露光点数と同じにすべく、非描画状態とする前記描画素子を設定するマスクデータを作成するマスクデータ作成部と、
を備え、前記マスクデータにより非描画状態に設定された前記描画素子を除く描画素子を描画データに従って制御することで描画を行うことを特徴とする。
複数の前記描画ヘッドは、前記走査方向と直交する方向に配列され、描画範囲が相互に重畳して設定され、
前記各描画素子によって前記描画面に付与される描画エネルギを取得する描画エネルギ取得部と、
前記描画面に対する複数の前記描画ヘッドの全描画素子による描画点の位置を算出する描画点位置算出部と、
前記描画面を前記走査方向と直交する方向に複数の領域に分割し、算出された前記描画点の位置と、取得した前記描画点の前記描画エネルギとに基づき、前記各領域に含まれる前記描画点により付与される前記描画エネルギの総和を前記各領域毎に算出すると共に、最小の描画エネルギの総和を得る描画エネルギ算出部と、
前記各領域に対応する前記描画エネルギの総和を、前記最小の描画エネルギの総和と同じにすべく、非描画状態とする前記描画素子を設定するマスクデータを作成するマスクデータ作成部と、
を備え、前記マスクデータにより非描画状態に設定された前記描画素子を除く描画素子を描画データに従って制御することで描画を行うことを特徴とする。
複数の前記描画ヘッドは、前記走査方向と直交する方向に配列され、描画範囲が相互に重畳して設定され、
前記描画面に対する複数の前記描画ヘッド全描画素子による描画点の位置を算出するステップと、
前記描画面を前記走査方向と直交する方向に複数の領域に分割し、算出された前記描画点の位置に基づき、前記各領域に含まれる前記描画点の描画点数を算出すると共に、最少の露光点数を得るステップと、
前記各領域の描画点数を、前記最少の露光点数と同じにすべく、非描画状態とする前記描画素子を設定するマスクデータを作成するステップと、
前記マスクデータにより非描画状態に設定された前記描画素子を除く描画素子を描画データに従って制御するステップと、
を有することを特徴とする。
複数の前記描画ヘッドは、前記走査方向と直交する方向に配列され、描画範囲が相互に重畳して設定され、
前記各描画素子によって前記描画面に付与される描画エネルギを取得するステップと、
前記描画面に対する複数の前記描画ヘッドの全描画素子による描画点の位置を算出するステップと、
前記描画面を前記走査方向と直交する方向に複数の領域に分割し、算出された前記描画点の位置と、取得した前記描画点の前記描画エネルギとに基づき、前記各領域に含まれる前記描画点により付与される前記描画エネルギの総和を前記各領域毎に算出すると共に、最小の描画エネルギの総和を得るステップと、
前記各領域に対応する前記描画エネルギの総和を、前記最小の描画エネルギの総和と同じにすべく、非描画状態とする前記描画素子を設定するマスクデータを作成するステップと、
前記マスクデータにより非描画状態に設定された前記描画素子を除く描画素子を描画データに従って制御するステップと、
を有することを特徴とする。
14…移動ステージ 18…設置台
24…スキャナ 26…CCDカメラ
28…スリット 30…露光ヘッド
36…DMD 58…マイクロミラー
70…制御回路 72…CAD装置
74…RIPサーバ 76…画像データ記憶部
78…ミラーデータ作成部 80…フレームデータ作成部
82…マスクデータ作成部 84…ミラー配置情報取得部
86…アラインメント情報取得部 88…ビーム軌跡情報作成部
90…光検出器 92…エンコーダ
94…走査位置情報取得部 96…マスクデータ記憶部
98…マスクデータ選択部 99…マスキング処理部
Claims (8)
- それぞれ複数の描画素子を有する複数の描画ヘッドを描画面の走査方向に相対移動させ、前記描画素子を描画データに従って制御することで描画を行う描画装置において、
複数の前記描画ヘッドは、前記走査方向と直交する方向に配列され、描画範囲が相互に重畳して設定され、
前記描画面に対する複数の前記描画ヘッドの全描画素子による描画点の位置を算出する描画点位置算出部と、
前記描画面を前記走査方向と直交する方向に複数の領域に分割し、算出された前記描画点の位置に基づき、前記各領域に含まれる前記描画点の描画点数を算出すると共に、最少の露光点数を得る描画点数算出部と、
前記各領域の描画点数を、前記最少の露光点数と同じにすべく、非描画状態とする前記描画素子を設定するマスクデータを作成するマスクデータ作成部と、
を備え、前記マスクデータにより非描画状態に設定された前記描画素子を除く描画素子を描画データに従って制御することで描画を行うことを特徴とする描画装置。 - それぞれ複数の描画素子を有する複数の描画ヘッドを描画面の走査方向に相対移動させ、前記描画素子を描画データに従って制御することで描画を行う描画装置において、
複数の前記描画ヘッドは、前記走査方向と直交する方向に配列され、描画範囲が相互に重畳して設定され、
前記各描画素子によって前記描画面に付与される描画エネルギを取得する描画エネルギ取得部と、
前記描画面に対する複数の前記描画ヘッドの全描画素子による描画点の位置を算出する描画点位置算出部と、
前記描画面を前記走査方向と直交する方向に複数の領域に分割し、算出された前記描画点の位置と、取得した前記描画点の前記描画エネルギとに基づき、前記各領域に含まれる前記描画点により付与される前記描画エネルギの総和を前記各領域毎に算出すると共に、最小の描画エネルギの総和を得る描画エネルギ算出部と、
前記各領域に対応する前記描画エネルギの総和を、前記最小の描画エネルギの総和と同じにすべく、非描画状態とする前記描画素子を設定するマスクデータを作成するマスクデータ作成部と、
を備え、前記マスクデータにより非描画状態に設定された前記描画素子を除く描画素子を描画データに従って制御することで描画を行うことを特徴とする描画装置。 - 請求項1記載の装置において、
前記マスクデータ作成部は、前記描画面を前記走査方向及び前記走査方向と直交する方向に分割した前記各領域に対して前記マスクデータを作成することを特徴とする描画装置。 - 請求項3記載の装置において、
前記走査方向に分割した前記各領域の前記マスクデータを記憶するマスクデータ記憶部と、
前記描画素子の前記走査方向に対する走査位置の情報を取得する走査位置情報取得部と、
取得した前記走査位置の情報に応じた前記マスクデータを前記マスクデータ記憶部より選択するマスクデータ選択部と、
を備え、選択した前記マスクデータにより前記描画素子の一部を非描画状態に設定することを特徴とする描画装置。 - それぞれ複数の描画素子を有する複数の描画ヘッドを描画面の走査方向に相対移動させ、前記描画素子を描画データに従って制御することで描画を行う描画方法において、
複数の前記描画ヘッドは、前記走査方向と直交する方向に配列され、描画範囲が相互に重畳して設定され、
前記描画面に対する複数の前記描画ヘッド全描画素子による描画点の位置を算出するステップと、
前記描画面を前記走査方向と直交する方向に複数の領域に分割し、算出された前記描画点の位置に基づき、前記各領域に含まれる前記描画点の描画点数を算出すると共に、最少の露光点数を得るステップと、
前記各領域の描画点数を、前記最少の露光点数と同じにすべく、非描画状態とする前記描画素子を設定するマスクデータを作成するステップと、
前記マスクデータにより非描画状態に設定された前記描画素子を除く描画素子を描画データに従って制御するステップと、
を有することを特徴とする描画方法。 - それぞれ複数の描画素子を有する複数の描画ヘッドを描画面の走査方向に相対移動させ、前記描画素子を描画データに従って制御することで描画を行う描画方法において、
複数の前記描画ヘッドは、前記走査方向と直交する方向に配列され、描画範囲が相互に重畳して設定され、
前記各描画素子によって前記描画面に付与される描画エネルギを取得するステップと、
前記描画面に対する複数の前記描画ヘッドの全描画素子による描画点の位置を算出するステップと、
前記描画面を前記走査方向と直交する方向に複数の領域に分割し、算出された前記描画点の位置と、取得した前記描画点の前記描画エネルギとに基づき、前記各領域に含まれる前記描画点により付与される前記描画エネルギの総和を前記各領域毎に算出すると共に、最小の描画エネルギの総和を得るステップと、
前記各領域に対応する前記描画エネルギの総和を、前記最小の描画エネルギの総和と同じにすべく、非描画状態とする前記描画素子を設定するマスクデータを作成するステップと、
前記マスクデータにより非描画状態に設定された前記描画素子を除く描画素子を描画データに従って制御するステップと、
を有することを特徴とする描画方法。 - 請求項5又は6記載の方法において、
前記描画点の位置は、前記描画ヘッドを前記走査方向に相対移動させた際に得られる前記各領域における位置として算出することを特徴とする描画方法。 - 請求項5又は6記載の方法において、
前記描画面を前記走査方向及び前記走査方向と直交する方向に分割した前記各領域に対する前記マスクデータを作成するステップと、
前記描画素子の前記走査方向に対する走査位置の情報を取得するステップと、
取得した前記走査位置の情報に応じた前記マスクデータを選択するステップと、
選択した前記マスクデータにより前記描画素子の一部を非描画状態に設定し、描画処理を行うステップと、
を有することを特徴とする描画方法。
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