JPH1195452A - 位置決めマーク照明装置 - Google Patents
位置決めマーク照明装置Info
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- JPH1195452A JPH1195452A JP9270523A JP27052397A JPH1195452A JP H1195452 A JPH1195452 A JP H1195452A JP 9270523 A JP9270523 A JP 9270523A JP 27052397 A JP27052397 A JP 27052397A JP H1195452 A JPH1195452 A JP H1195452A
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
CCDカメラ50の焦点を合わせる。被描画体SBとC
CDカメラ50との間に、位置決めマーク照明装置10
0を設ける。位置決めマーク照明装置100はLED1
40を保持する鋼球130を備える。鋼球130は可動
板120の円筒穴内で回転自在である。ボルト132に
より鋼球130を所定の回転角度位置で固定する。可動
板120は支持柱110に沿って上下移動可能である。
LED140の光軸LSはほぼ位置決めマークMを通
る。
Description
用いられる位置決めマーク照明装置に関する。
が、特にプラズマディスプレイパネルは輝度が高く、表
示の色調が良い点等から開発がさかんである。プラズマ
ディスプレイパネルは不活性ガスを封入した気密容器の
中で陽極と陰極との間に電圧を印可し、放電させること
により発光表示する。一般的に、プラズマディスプレイ
パネルは2枚のガラス基板から成る。この2枚のガラス
基板上には例えばそれぞれ一方向に延びた細い金属製の
電極が形成され、この2方向の電極が所定距離を持って
対向し且つ互いに直交する方向にガラス基板が配され
る。ガラス基板上の電極のパターンはミクロンオーダの
精度が要求されるため、フォトリソグラフの手法を用い
て電極が形成される。即ち、ガラス基板上に電極となる
金属薄膜層とフォトレジスト層とが形成され、露光装置
例えばレーザー描画装置を用いて、電極パターンが露光
によりフォトレジスト層に描画される。その後、現像、
エッチング等の処理を経て露光された部分である電極パ
ターンと同じパターンの金属薄膜がガラス基板上に残
り、この残った金属薄膜が電極となる。
対応させるために、予めガラス基板上に透明電極ととも
に位置決めマークを描画し、この位置決めマークを固体
撮像素子、例えばCCD(charge-coupled device )カ
メラ等により撮影する。この位置決めマークの座標デー
タに基づいて描画テーブルに対するガラス基板の相対位
置データが演算され、この相対位置データに基づいて、
主走査方向および副走査方向に沿うレーザビームによる
描画開始位置が制御される。これにより対応する2枚の
ガラス基板に対して描画パターンが所定位置に位置決め
される。
成されているため不透明であり認識が困難なため、例え
ば立体を位置決めマークとし、位置決めマークの境界部
分における金属薄膜層の光反射特性の変化を利用して認
識している。例えば、CCDカメラのレンズ側から位置
決めマークに向かって、この位置決めマークを環状に照
射するリングライトあるいは環状に配置された複数の発
光素子(以下、LEDという)等の照明装置を設けてい
る。
明装置ではLED等の光源の位置は固定されるので、位
置決めマークに対し一定の角度にしか照明できない。こ
のため、位置決めマーク即ち透明電極の形状の多様性に
対応できず、CCDカメラの最も認識しやすい最適な照
明角度が得られないことがある。
であり、位置決めマークに対する光源の照明角度が調節
可能な位置決めマーク照明装置を提供することが目的で
ある。
ーク照明装置は、表面が平坦な載置面上に載置された基
板の上に設けられた立体の位置決めマークを照明する位
置決めマーク照明装置であって、基板に略平行な同一平
面上に環状に配置された複数の光源と、光源を回転可能
に支持する支持手段と、光源を所定の回転角度で固定す
る固定手段と、光源の位置決めマークに対する距離を調
整する調整手段とを備えることを特徴としている。
くは、位置決めマークが立体的である。
くは、載置面における基板の位置が所定の2次元直交座
標系で表わされる。さらに好ましくは、位置決めマーク
が直交2次元座標の直交する2軸にそれぞれ略平行な辺
を有する。またさらに好ましくは、光源から出射した光
が、2軸にそれぞれ平行な辺に対して略垂直に照射され
るように、光源の位置決めマークへの入射方向が調整さ
れる。
くは所定位置に撮像手段が設けられ、この撮像手段によ
り位置決めマークが撮影される。
くは、基板および位置決めマークの上面に所定厚さの金
属簿膜が形成され、この金属薄膜の上面が、位置決めマ
ークの上方に位置し且つ基板上面に対して平行な第1の
領域と、位置決めマークの設けられていない基板の上方
に位置し且つ基板上面に対して平行な第2の領域と、第
1の領域と第2の領域との境界であり且つ基板の上面に
対して傾斜した第3の領域とを含み、光源の第3の領域
における反射光が撮像手段に入射することにより、位置
決めマークが認識される。
くは複数の光源が発光素子である。さらに好ましくは、
この複数の光源が位置決めマークに対して撮像手段と同
じ側に設けられる。
くは、支持手段が発光素子を挟持する球状の支持体と、
この球状支持体を回転可能に支持する円筒穴を備えた支
持板とを備え、この円筒穴が、球状支持体の径より小さ
い径であり発光素子からの光が出射する第1の開口部
と、第1の開口部と反対側に設けられ球状支持体とほぼ
同径の第2の開口部とを備える。
くは、露光装置における被描画体の相対位置を微調整す
るための位置決め手段に設けられ、被描画体に設けられ
た位置決めマークを照明する。さらに好ましくは、露光
装置がレーザー描画装置である。
くは、被描画体がプラズマディスプレイパネルに用いら
れる基板であり、金属薄膜がクロムを含む。
ク照明装置の実施形態について添付図面を参照して説明
する。
有するプラズマディスプレイパネルの構成を簡略化して
示す斜視図である。図2(a)および図2(b)は、こ
の2枚のガラス基板のそれぞれ対向する面を示す平面図
である。
は複数組の透明電極204とクロムを含む金属電極(以
下、クロム電極という)206とが一方向、例えばX方
向に平行して設けられる(図2(a)参照)。下方のリ
アガラス基板212の上面212aには複数の電極21
4が平行して設けられ、この電極214は透明電極20
4およびクロム電極206に対して垂直な方向に延びて
いる(図2(b)参照)。隣り合う電極206の間には
仕切りであるリブ216が電極214に対して平行に設
けられる。
イパネルは、隣り合うリブ216内に蛍光体が配され
(図示しない)、真空にされた後、放電のためのガスが
封入される。各電極204、206、214に電圧がか
かると、上下の電位差によって放電が起こりこの空間に
対応するフロントガラス基板202の上面202bが発
色する。ガラス基板202、212およびリブ216に
よって仕切られ、格子状に配列した各空間は例えば1ド
ットに対応する。この様な格子を正確に形成するために
は、上下の電極204、206、214などの精密な位
置関係が要求される。
ム電極206を形成する工程を模式的に示す断面図であ
る。図3(a)は露光時の状態を示す。フロントガラス
基板202上には透明電極204が設けられ、その上か
らスパッタリングによって所定厚さのクロム薄膜205
が形成される。そしてさらにその上にフォトレジスト層
208が形成される。図3(a)において、図示する電
極パターンに基づいて露光される。この露光されたフロ
ントガラス基板202を現像すると、図3(b)に示す
ように感光した部分以外のフォトレジスト層208が除
去される。さらにエッチングによってフォトレジスト層
208のないクロム薄膜205が除去され(図3(c)
参照)、その後フォトレジスト層が除去される(図3
(d)参照)。即ち、露光された部分にのみクロム電極
206が形成される。
レーザー描画装置が概略的に示される。このレーザー描
画装置はプラズマディスプレイパネルを製造するための
基板上のフォトレジスト層に電極パターンを直接描画し
得るように構成される。なお電極パターンを描画する装
置は、他にはEB(Electoron Beam)描画装置があり、
このレーザー描画装置に限定されない。
た基台10を備え、基台10の上面には一対のレール1
2が平行に設置される。このレール12と垂直に延びる
X軸を主走査方向とし、レール12に平行に延びるY軸
を副走査方向とする。
設置されレーザビームが出射される。また描画テーブル
18の上方側には種々の光学要素が設置され、これらの
光学要素によってレーザビームが電極パターンに基づい
て変調され、描画テーブル18上の被描画体に導かれ
る。被描画体はレーザビームによって、主走査方向(Y
方向)に走査されるとともに副走査方向に順次移動させ
られることにより、被描画体のフォトレジスト層表面に
は所定の電極パターンが描画される。
搭載され、このXテーブル14は図示しない適当な駆動
モータでもってレール12に沿って副走査方向(X軸)
に沿って移動し得る。Xテーブル14上にはθテーブル
16を介して描画テーブル18が設置され、その間には
図示しない微調整駆動器が設けられ、描画テーブル18
の水平面内での回転位置が微調整される。描画テーブル
18は、Xテーブル14の副走査方向の移動に伴いθテ
ーブル16と共に副走査方向に移動させられる。描画テ
ーブル18上にはフォトレジスト層を持つガラス基板が
被描画体として適当な搬送手段例えばベルトコンベア等
で搬送されて載置され、その基板は描画テーブル18上
で適当なクランプ手段、ここでは2つのエアシリンダ2
0と3つのピン22によって固定される。
手段である2つのCCDカメラ50が基台10に対して
所定位置に、即ちY方向に延びる支持棒60の下側に固
定される。CCDカメラ50はレンズを被描画体に向け
て載置され、被描画体がレーザ描画装置の描画テーブル
18上に載置された際にこの描画テーブル18に対する
被描画体の相対位置を正確に検出するために使用され
る。CCDカメラ50は例えば図示しない中央演算装置
(CPU)等を備えた制御部に接続され、この制御部に
より制御される。なお制御部に所定のインターフェース
を設けて画像表示装置を連結し、CCDカメラ50から
の画像をモニタする構成にしてもよい。
決めマークを映像信号として読み取り、その映像信号は
CPUにより所定の画像処理が施され、位置決めマーク
の座標データが求められる。この位置決めマークの座標
データは、描画テーブル18に対する被描画体の相対位
置を正確に特定するための演算、即ち主走査方向、副走
査方向の移動量、およびXテーブル14に対するθテー
ブル16および描画テーブル18の回転角度等の演算に
用いられ、これらのデータに基づいて主走査方向および
副走査方向の描画開始位置が制御される。このように被
描画体の相対位置が特定された後、レーザビームによる
描画作動が行われる。
装置100の構成を説明する。図5は位置決めマーク照
明装置100をCCDカメラ50の側から見た平面図、
図6はその側面図である。図7は位置決めマーク照明装
置100の分解斜視図である。
の固定板102が設けられ、この固定板102の一端は
支持棒60(図4参照)に取り付けられる。この固定板
102の他端には円形穴102aが形成され、その上面
には円形穴102aより径がやや小さい円形穴104a
を有する略正方形の支持板104が2組のボルト106
とナット108により固定される。固定板102と支持
板104は、それぞれの円形穴102a、104aの中
心がCCDカメラ50の光軸Lを通り、かつ光軸Lに対
し垂直である。ボルト106は支持板104の対向する
二隅に設けられる。ボルト106の設けられていない他
の対向する二隅には、上方に突出した六角柱である支持
柱110が2本設けられる。この支持柱110は2枚の
L字型の可動板120の角に形成された六角穴122に
それぞれ挿入される。
移動可能であり、側面120aから挿入されるボルト1
24により支持柱110に固定される。なお、2枚の可
動板120は同一平面上にあることが望ましい。可動板
120の両端部には円筒穴126がそれぞれ形成され、
この円筒穴126にLED140を備えた鋼球130が
嵌め込まれる。即ち、2枚の可動板120によって4つ
の鋼球130が支持される。
部分拡大断面図である。円筒穴126は上端側126a
では鋼球130の径と略同一であるが、下端側126b
において径が鋼球130の径より小さく、これにより鋼
球130の下方への落下が防止される。
その中央には球心Oを通り径方向に貫通した円筒穴13
4が形成される。鋼球130は円筒穴126の中でその
球心Oを中心に回転自在であり、図5に示すように可動
板120の側方から挿入されるボルト132により固定
される。各鋼球130の円筒穴134にはLED140
が嵌め込まれ、これらのLED140は光の出射方向が
円筒穴104a側(図6)、即ち被描画体側へ向けら
れ、その方向は鋼球130の回転に伴い変更可能となっ
ている。LED140は図示しない電源に接続される。
決めマークMにCCDカメラ50の焦点があった状態
で、位置決めマークMの輪郭などの識別が行えるような
照明角度となるように、可動板120の上下位置、およ
び4つのLED140の回転角度位置が調整され、各々
ボルト124、132により固定される。各LED14
0はその光軸LSがほぼ位置決めマークMを通るよう
に、被描画体SBに向けられる。
02を描画するときのLED140と位置決めマークと
の位置関係を模式的に示す断面図である。なお、位置決
めマークMは被描画体SBの非パターン部の透明電極お
よびその上に積層されたクロム薄膜やフォトレジスト層
の部分を用いる。
140の出射光はクロム薄膜205とフォトレジスト層
208との境界面207によって反射される。境界面2
07は透明電極204の設けられている部分が盛り上が
っており、3つの領域207a、207b、207cに
より形成される。第1の領域207aは透明電極204
の上方にあり且つフロントガラス基板202の上面に対
し平行である。第2の領域207bは透明電極のないフ
ロントガラス基板202の上方にあり且つフロントガラ
ス基板202の上面に平行である。第3の領域207c
はこの第1の領域207aと第2の領域207bとの間
に位置し且つフロントガラス基板202の上面に対して
傾斜している。
を一点鎖線で示す)が、第3の領域207cによって反
射され、ここでは図示しないが図上方にあるCCDカメ
ラ50に入射する。従ってCCDカメラ50は第3の領
域207cの形状即ち透明電極204を容易に識別でき
る。
る。位置決めマークMは、X軸に平行な辺MaとY軸に
平行な辺Mbとを備える。4つのLED140からの照
明光は、基板上即ちX−Y平面上に投影すると、位置決
めマークMの辺Ma、Mbに対して直交する方向(図
中、白抜き矢印で示す)にそれぞれ入射している。従っ
て辺Ma、Mb即ち傾斜した領域のみが明るく照らされ
ることとなり、位置決めマークMの輪郭が明確に識別で
きる。
マークMの他の形状を示す図である。これらも図10に
示す位置決めマークMと同様に、X軸に平行な辺Maと
Y軸に平行な辺Mbとにより形成されている。従ってL
ED140からの光が辺Ma、Mbに対して垂直に照明
されることにより位置決めマークMの輪郭が明確に識別
できる。なお位置決めマークMの形状はこれらに限定さ
れず、X軸及びY軸に平行な辺を有するものであればよ
い。
05に覆われた基板202に対して位置決めを行うと
き、立体的な透明電極204を位置決めマークとし、こ
の境界部分となる斜面(第3の領域207c)がCCD
カメラ50が認識できるようにLED140が調整され
る。これにより位置決めマークの形状によらず、位置決
めマークの識別のためのLED140の最適な照明角度
が得られ、露光のための正確な位置決めが行える。ま
た、個々のLED毎に照明角度調整が行えるので色々な
大きさ・形状の位置決めマークが識別可能になる。
節可能な位置決めマーク照明装置が得られる。
ある。
上の電極を示す図である。
る。
態を示す概略斜視図である。
ある。
ある。
図である。
る。
す模式図である。
る。
Claims (13)
- 【請求項1】 表面が平坦な載置面上に載置された基板
の上に設けられた位置決めマークを照明する照明装置で
あって、前記基板に略平行な同一平面上に環状に配置さ
れた複数の光源と、前記光源を回転可能に支持する支持
手段と、前記光源を所定の回転角度で固定する固定手段
と、前記光源の前記位置決めマークに対する距離を調整
する調整手段とを備えることを特徴とする位置決めマー
ク照明装置。 - 【請求項2】 前記位置決めマークが立体的であること
を特徴とする請求項1に記載の位置決めマーク照明装
置。 - 【請求項3】 前記載置面における前記基板の位置が所
定の2次元直交座標系で表わされることを特徴とする請
求項2に記載の位置決めマーク照明装置。 - 【請求項4】 前記位置決めマークが前記直交2次元座
標の直交する2軸にそれぞれ略平行な辺を有することを
特徴とする請求項3に記載の位置決めマーク照明装置。 - 【請求項5】 前記光源から出射した光が、前記2軸に
それぞれ平行な辺に対して略垂直に照射されるように、
前記光源の前記位置決めマークへの入射方向が調整され
ることを特徴とする請求項4に記載の位置決めマーク照
明装置。 - 【請求項6】 所定位置に撮像手段が設けられ、この撮
像手段により前記位置決めマークが撮影されることを特
徴とする請求項1に記載の位置決めマーク照明装置。 - 【請求項7】 前記複数の光源が前記位置決めマークに
対して前記撮像手段と同じ側に設けられることを特徴と
する請求項6に記載の位置決めマーク照明装置。 - 【請求項8】 前記基板および位置決めマークの上面に
所定厚さの金属簿膜が形成され、この金属薄膜の上面
が、前記位置決めマークの上方に位置し且つ前記基板上
面に対して平行な第1の領域と、前記位置決めマークの
設けられていない基板の上方に位置し且つ前記基板上面
に対して平行な第2の領域と、前記第1の領域と前記第
2の領域との境界であり且つ前記基板の上面に対して傾
斜した第3の領域とを含み、前記光源の前記第3の領域
における反射光が前記撮像手段に入射することにより、
前記位置決めマークが認識されることを特徴とする請求
項6に記載の位置決めマーク照明装置。 - 【請求項9】 前記複数の光源が発光素子であることを
特徴とする請求項1に記載の位置決めマーク照明装置。 - 【請求項10】 前記支持手段が前記発光素子を挟持す
る球状の支持体と、この球状支持体を回転可能に支持す
る円筒穴を備えた支持板とを備え、 この円筒穴が、前記球状支持体の径より小さい径であり
前記発光素子からの光が出射する第1の開口部と、第1
の開口部と反対側に設けられ前記球状支持体とほぼ同径
の第2の開口部とを備えることを特徴とする請求項9に
記載の位置決めマーク照明装置。 - 【請求項11】 露光装置における被描画体の相対位置
を微調整するための位置決め手段に設けられ、前記被描
画体に設けられた前記位置決めマークを照明することを
特徴とする請求項1に記載の位置決めマーク照明装置。 - 【請求項12】 前記露光装置がレーザー描画装置であ
ることを特徴とする請求項11に記載の位置決めマーク
照明装置。 - 【請求項13】 前記被描画体がプラズマディスプレイ
パネルに用いられる基板であり、前記金属薄膜がクロム
を含むことを特徴とする請求項11に記載の位置決めマ
ーク照明装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27052397A JP3758832B2 (ja) | 1997-09-17 | 1997-09-17 | 位置決めマーク照明装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27052397A JP3758832B2 (ja) | 1997-09-17 | 1997-09-17 | 位置決めマーク照明装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1195452A true JPH1195452A (ja) | 1999-04-09 |
JP3758832B2 JP3758832B2 (ja) | 2006-03-22 |
Family
ID=17487416
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27052397A Expired - Fee Related JP3758832B2 (ja) | 1997-09-17 | 1997-09-17 | 位置決めマーク照明装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3758832B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019164264A (ja) * | 2018-03-20 | 2019-09-26 | 株式会社Screenホールディングス | パターン描画装置およびパターン描画方法 |
-
1997
- 1997-09-17 JP JP27052397A patent/JP3758832B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019164264A (ja) * | 2018-03-20 | 2019-09-26 | 株式会社Screenホールディングス | パターン描画装置およびパターン描画方法 |
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---|---|
JP3758832B2 (ja) | 2006-03-22 |
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