WO2022215692A1

WO2022215692A1 - 露光装置、デバイス製造方法、フラットパネルディスプレイの製造方法および露光方法

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Publication number: WO2022215692A1
Application number: PCT/JP2022/017099
Authority: WO
Inventors: 正紀加藤; 恭志水野; 仁水野
Original assignee: 株式会社ニコン
Priority date: 2021-04-09
Filing date: 2022-04-05
Publication date: 2022-10-13
Also published as: TW202246910A; CN117377911A; US20240027898A1; KR20230150880A; JPWO2022215692A1

Abstract

画像パターンに応じて複数の素子が制御される光変調器を介して、基板を走査露光する露光装置において、第１基板を支持する第１ステージと、前記第１基板とは異なる第２基板を支持する第２ステージと、前記第２基板の情報を計測する計測部と、前記情報に基づいて、前記第２基板の走査露光時に前記複数の素子を制御する制御データを、前記第１基板の露光処理中に生成する生成部と、を備え、前記計測部は、前記第１基板の露光処理中に、前記第２基板の情報を計測する。

Description

露光装置、デバイス製造方法、フラットパネルディスプレイの製造方法および露光方法

　本発明は、露光装置、デバイス製造方法、フラットパネルディスプレイの製造方法および露光方法に関する。
　本願は、２０２１年４月９日に出願された日本国特願２０２１－０６６８１９号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

　従来、光学系を介して基板に照明光を照射する走査型露光装置として、空間光変調素子を利用して変調した光を投影光学系に通し、この光による像を基板に塗布されているレジスト上に結像させて露光する露光装置が知られている（例えば特許文献１参照）。

特開２００７－１０８５５９号公報

　ここで、キャリブレーションや基板アライメントの計測値を空間光変調素子を駆動するためのデジタル露光データに対して補正を行う場合には、アライメントと補正データの送信に要する動作時間が露光動作時間よりも長くなる。そのため、補正データの算出及び補正データの送信をタクトタイムに影響しない露光装置が求められていた。

　本発明の一態様は、光変調器を有する露光ユニットにより、基板を走査露光する露光装置において、第１基板を支持する第１ステージと、前記第１基板とは異なる第２基板を支持する第２ステージと、前記第２基板の情報を計測する計測部と、前記情報に基づいて、前記第２基板を露光する露光パターンの制御データを生成する生成部と、を備え、前記生成部は、前記第１基板の露光処理中に、前記制御データを生成する。

　本発明の他の一態様は、光変調器を有する露光ユニットにより、基板を走査露光する露光装置において、第１基板を支持する第１ステージと、前記第１基板とは異なる第２基板を支持する第２ステージと、前記第２基板を露光する露光パターンの制御データを生成する生成部と、を備え、前記第１ステージは、前記露光ユニットの光に関する情報を取得する取得部を有し、前記生成部は、前記取得部で取得された情報に基づき、前記制御データを生成する。

　本発明の他の一態様は、画像パターンに応じて複数の素子が制御される光変調器を介して、基板を走査露光する露光装置において、第１基板を支持するステージと、前記露光装置とは異なる装置で計測された、前記第１基板に対する走査露光の後に前記露光装置により走査露光される第２基板の情報を受信する受信部と、前記受信部により受信した前記情報に基づいて、前記第２基板の走査露光時に前記複数の素子を制御する制御データを生成する生成部と、前記制御データを、前記第１基板の露光処理中に格納するメモリと、を備える。

　本発明の一態様は、上述した露光装置を用いて前記基板を露光することと、露光された前記基板を現像することと、を含む。

　本発明の一態様は、上述した露光装置を用いてフラットパネルディスプレイ用の基板を露光することと、露光された前記基板を現像することと、を含む。

　本発明の一態様は、光変調器を有する露光ユニットにより、基板を走査露光する露光方法において、第１ステージに第１基板を支持するステップと、第２ステージに前記第１基板とは異なる第２基板を支持するステップと、前記第２基板の情報を計測するステップと、前記情報に基づいて、前記第１基板の露光処理中に、前記第２基板を露光する露光パターンの制御データを生成するステップと、を有する。

　本発明の一態様は、光変調器を有する露光ユニットにより、基板を走査露光する露光装置において、前記露光ユニットの光に関する情報を取得する取得部を有する第１ステージに、第１基板を支持するステップと、第２ステージに前記第１基板とは異なる第２基板を支持するステップと、前記取得部で取得された情報に基づき、前記第２基板を露光する露光パターンの制御データを生成するステップと、を有する。

　本発明の一態様は、画像パターンに応じて複数の素子が制御される光変調器を介して、基板を走査露光する露光方法において、ステージに第１基板を支持するステップと、前記基板を走査露光する露光装置とは異なる装置で計測された、前記第１基板に対する走査露光の後に前記露光装置により走査露光される第２基板の情報を受信部で受信するステップと、前記受信部により受信した前記情報に基づいて、前記第２基板の走査露光時に前記複数の素子を制御する制御データを生成するステップと、前記制御データを、前記第１基板の露光処理中にメモリに格納するステップと、を有する。

　本発明の一態様は、上述した露光方法により前記基板を露光することと、露光された前記基板を現像することと、を含む。

　本発明の一態様は、上述した露光方法によりフラットパネルディスプレイ用の基板を露光することと、露光された前記基板を現像することと、を含む。

実施形態に係る露光装置の構成を示す斜視図である。露光装置の概略構成を示す側面図である。露光装置の照明・投影モジュールの概略構成を示す側面図である。空間光変調素のＯＮ／ＯＦＦ動作を示す斜視図である。空間光変調素の動作を示す図であって、電源ＯＦＦ状態の図である。空間光変調素の動作を示す図であって、空間光変調素のＯＮ状態の図である。空間光変調素の動作を示す図であって、空間光変調素のＯＦＦ状態の図である。基板ステージに設けられる第１アライメント系の概略構成を示す側面図である。光学定盤に設けられる第２アライメント系の概略構成を示す側面図である。露光装置の露光処理の動作フローの一例を示す図である。露光装置の露光処理の動作フローの変形例を示す図である。

　以下、図面を参照しながら実施形態について詳しく説明する。
　図１は、本実施形態に係る露光装置の一例を示す斜視図である。露光装置１は、光学系を介して基板１０に照明光を照射する装置である。露光装置１は、空間光変調素子７５（図２参照）で変調した光を投影光学系（後述する照明・投影モジュール７）に通し、この光による像を感光材料（レジスト）上に結像させて露光するものである。基板１０は、表面に例えばレジストを塗布したディスプレイ用のガラス基板である。

　図１に示すように、露光装置１は、基板１０を支持する複数（一例として２つ）の基板ステージ４（４Ａ、４Ｂ）と、基板１０に対して所定の露光パターンを露光するために走査露光を行う露光装置本体２と、基板ステージ４へ基板１０を搬送・載置するための基板交換部３と、を備えている。

　ここで、基板１０に対する走査露光時に基板ステージ４が移動される方向を第１方向Ｘ１で示す。第１方向に直交（交差）する方向を第２方向Ｘ２とする。また、第１方向Ｘ１と第２方向Ｘ２とに直交（交差）する方向を第３方向Ｘ３とする。

　基板ステージ４は、平面視で矩形の基板１０を保持する。基板ステージ４は、走査露光時に、後述するように、露光装置本体に対して、第１方向Ｘ１へ移動する。また、基板ステージ４は、基板１０上に複数の露光領域をそれぞれ露光するために、第２方向Ｘ２へ移動する。第２方向Ｘ２は、非走査方向ともいう。

　図１及び図２に示すように、露光装置本体２は、露光ユニット２０と、光学定盤２１と、アライメント系５と、オートフォーカス系２３と、を有している。露光ユニット２０は、上述した空間光変調素子７５を内蔵しており、光源６１から光が供給され、予め設定された露光パターンで光を照射するものである。

　露光ユニット２０は、光学定盤２１に搭載されている。光学定盤２１は、基板ステージ４を載置した第１方向Ｘ１に延びるベースプレート１１を跨ぐように設けられたコラム２２に対して、キネマティックに３点で支持される。光学定盤２１は、概ねベースプレート１１の第１方向Ｘ１の中央部分に重心が位置するように配置されている。

　ベースプレート１１は、床面に複数の防振台１１１を介して設置されている。ベースプレート１１は、第１方向Ｘ１に延びた基盤であり、上面１１ａに後述する一対のステージ４Ａ、４Ｂが搭載されている。ベースプレート１１の上面１１ａには、第１方向Ｘ１に沿って基板ステージ４を案内する案内ガイド（図示省略）が設けられている。

　コラム２２は、第２方向Ｘ２に延びる一対の横架材２２１と、横架材２２１の両端から下方に延びてベースプレート１１に連結される脚部２２２と、を有している。なお、脚部２２２には、光学定盤２１に搭載される荷重がかかることから、ベースプレート１１と脚部２２２との連結部に防振台（図示省略）を配置してもよい。横架材２２１の上面には、３つのＶ溝が適宜な位置に形成されている。光学定盤２１は、一対の横架材２２１上に上面２１ａを水平方向に向けた状態で３点のボールを介して前記Ｖ溝に載置される。

　光学定盤２１には、後述する照明・投影モジュール７、ＡＦ系２３、第２アライメント系５Ｂが搭載されている。そして、光学定盤２１には、露光光を基板１０上に導くために、厚さ方向に貫通する複数の第１貫通孔２１ｂ（図２参照）が設けられている。光学定盤２１のコラム２２に対する固定方法は、剛性を確保できる手法であれば適宜適用可能である。

　基板ステージ４は、後述する投影モジュール７Ｂを介して投影される露光パターンの複数の部分像に対して基板１０を高精度に位置決めするためのものである。基板ステージ４は６自由度（第１方向Ｘ１、第２方向Ｘ２、第３方向Ｘ３と、各軸Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３回りに回転するθＸ１、θＸ２及びθＸ３方向）に駆動する。

　図１及び図２に示すように、基板ステージ４は、ベースプレート１１の一方側に配置される第１基板ステージ４Ａと、他方側に配置される第２基板ステージ４Ｂと、を有している。これら基板ステージ４Ａ、４Ｂは、平板形状に形成され、上面４ａで例えば真空吸着等の方法により基板１０を吸着保持する。
　一対の基板ステージ４Ａ、４Ｂは、ベースプレート１１上の不図示の案内ガイドに案内され、干渉計５３やエンコーダによって基板ステージ４Ａ、４Ｂの位置を計測、制御し、第１方向Ｘ１や第２方向Ｘ２へ移動される。このときの基板ステージ４Ａ、４Ｂの移動機構としては、例えば、エアーにより基板ステージ４を浮上させるとともに磁力によって移動させるリニアモータ方式等を採用することができる。

　第１基板ステージ４Ａの移動可能範囲と、第２基板ステージ４Ｂの移動可能範囲とは重なる。各基板ステージ４の移動可能範囲の一部は、（特に露光に必要なストローク）基板ステージ４Ａ、４Ｂに依存せずに共通であるため重複する。この場合には、第１基板ステージ４Ａと第２基板ステージ４Ｂが互いに衝突、あるいは干渉しないように、各基板ステージ４Ａ、４Ｂが移動可能に設けられていることや、あるいは基板ステージ４Ａ、４Ｂどうしの間の距離を測るセンサを少なくとも一方の基板ステージ４も設けることが必要である。

　基板ステージ４の移動経路は、露光ユニット２０の下方を通過するように設定されている。すなわち、基板ステージ４は、露光ユニット２０による光の照射位置（露光位置とも呼ぶ）に搬送され、その照射位置を通過させるように構成されている。そして、基板ステージ４が露光ユニット２０を通過する過程で、露光ユニット２０によって形成した像の露光パターンが基板１０に露光される。

　図１に示すように、基板ステージ４Ａ、４Ｂの上面４ａには、基板１０を交換する際に使用される複数の交換ピン４１が上下方向（第３方向Ｘ３）に出没可能に設けられている。これら交換ピン４１は、基板ステージ４の上面４ａのうち基板１０が配置される領域において、第１方向Ｘ１と第２方向Ｘ２に所定の間隔をあけて配列されている。交換ピン４１が上方に突出すると、ピン先端に基板１０の下面が支持された状態となる。すなわち、交換ピン４１を出没させることにより基板１０を上昇、下降させることができる。交換ピン４１における上面４ａからの突出長は、少なくとも後述する交換アーム３Ａ、３Ｂの基板支持部３１が上昇した基板１０の下方に進出可能な長さに設定されている。

　図１に示すように、基板交換部３は、基板ステージ４上の露光済み基板１０を基板ステージ４の外方へ搬出し、次に露光する基板１０を露光済み基板１０が搬出された基板ステージ４上へ搬入する。基板交換部３は、第１基板ステージ４Ａ上の基板１０を高速で交換するための第１交換アーム３Ａと、第２基板ステージ４Ｂ上の基板１０を高速で交換するための第２交換アーム３Ｂと、を備えている。第１交換アーム３Ａ及び第２交換アーム３Ｂは、それぞれ基板１０を基板ステージ４に対して搬入させる搬入アームと、基板１０を搬出させる搬出アームとが設けられている。これら交換アーム３Ａ、３Ｂは、アーム先端に基板支持部３１を有している。交換アーム３Ａ、３Ｂは、各基板ステージ４Ａ、４Ｂの第２方向Ｘ２の側方に配置され、第１方向Ｘ１、第２方向Ｘ２、及び第３方向Ｘ３に移動可能に設けられている。交換アーム３Ａ、３Ｂは、第２方向Ｘ２に移動させて基板支持部３１を基板１０の下方に進出させ、さらに上昇させることで基板１０を下方から支持し、さらに第２方向Ｘ２で基板ステージ４Ａ、４Ｂから離れる方向に移動することで、基板１０を基板ステージ４Ａ、４Ｂ上から取り出す動作を行うことができる。基板交換部により基板ステージ４上に基板を搬送する際の、ベースプレート上の基板ステージ４の位置を、基板交換位置と呼ぶ。

　基板１０は、感光性のレジストを塗布されて露光装置１内に搬入され、交換アーム３Ａ、３Ｂによって基板ステージ４Ａ、４Ｂに設けられる複数の交換ピン４１上に載置される。そして、交換ピン４１を降下させ、基板ステージ４Ａ、４Ｂ上の基板ホルダに吸着させて保持される。このように、基板ステージ４Ａ、４Ｂが基板交換位置から露光位置までの駆動が必要となるため、例えば干渉計５３のようなステージ計測系の場合には露光位置側と基板交換位置側とで干渉計５３の計測ビームの切り替えを行うことで対応可能となる。

　図３は、露光ユニット２０の構成を示した図である。
　図３に示すように、露光ユニット２０は、光源ユニット６（図１参照）と、光源ユニット６の光源６１と光源６１からの光とを空間光変調素子７５（後述する）を用いて露光するための照明・投影モジュール７と、を備えている。

　図１に示すように、光源ユニット６は、一対で設けられている。光源ユニット６としては、干渉性の高いレーザを光源６１とする光源ユニット、半導体レーザタイプのＵＶ－ＬＤのような光源６１を用いた光源ユニット、およびレンズリレー式のリターダによる光源ユニットを採用することができる。すなわち、光源６１は、４０５ｎｍや３６５ｎｍといった波長を出射するランプやレーザダイオード、さらには空間変調素子７５の駆動に合わせたパルス発光可能なレーザとされる。

　図３に示すように、照明・投影モジュール７の光学系は、照明モジュール７Ａと、投影モジュール７Ｂと、変調部７Ｃと、を備えている。

　照明モジュール７Ａは、投影モジュール７Ｂと一対一の関係で同数である。照明モジュール７Ａは、光源ユニット６からのレーザ光Ｌを光ファイバ７１にて照明モジュール７Ａ内に取り込み、コリメートレンズ７２１、フライアイレンズ７２３、及びメインコンデンサーレンズ７２４によって空間光変調素子７５に対してレーザ光Ｌをほぼ均一に照明する。

　照明モジュール７Ａには、光ファイバ７１を射出したレーザ光Ｌに対して、照明モジュール７Ａ及び投影モジュール７Ｂ毎に高速にＯＮ／ＯＦＦできるモジュールシャッタ７３が配置されている。

　照明モジュール７Ａは、図１に示す光源ユニット６の光源６１から出力されたレーザ光Ｌを露光用照明光として空間光変調素子７５に入射させるものである。照明モジュール７Ａは、上述したように、光ファイバ７１と、コリメートレンズ７２１と、照明ウェッジ７２２と、フライアイレンズ７２３と、メインコンデンサーレンズ７２４と、を備えている。光ファイバ７１は、例えば石英のファイバが用いられる。光源６１の出力光（レーザ光Ｌ）は、光ファイバ７１で導かれてコリメートレンズ７２１に入射される。コリメートレンズ７２１は、光ファイバ７１から出射して広がる光を平行光に変換して出射する。照明ウェッジ７２２は、光ファイバ７１から射出される光の強度（パワー）を調整する。コリメートレンズ７２１を通過した光は、フライアイレンズ７２３と、メインコンデンサーレンズ７２４を通過してミラー７２５によって反射され、所定の反射角度で空間光変調素子７５に入射する。なお、照明モジュール７Ａと光源ユニット６とは、両者により空間光変調素子７５を照明するものであるとも考えられ、２つを併せて照明系と表現をしてもよい。

　変調部７Ｃは、照明光を変調しパターンを作るものであり、空間光変調素子７５とＯＦＦ光吸収板７４とを備える。空間光変調素子７５は、一例としてデジタルミラーデバイスが採用されている。空間光変調素子７５は、複数の素子（デジタルミラーデバイスではミラー）を備えている。

　図４は、空間光変調素子７５のＯＮ／ＯＦＦにより所定のパターンを表示させている様子を示す。空間光変調素子７５の個々のミラーは、Ｘ１軸周りの回転とＸ２軸周りの回転とが可能である。

　図５Ａは空間光変調素子７５の電源がＯＦＦの状態を示している。図５Ｂに示す空間光変調素子７５は、ｘ２軸回りにミラーを傾斜させることにより照明モジュール７Ａからの基板１０に向けて光を反射させるＯＮ状態を示している。また、図５Ｃに示す空間光変調素子７５は、ｘ１軸回りにミラーを傾斜させることで照明モジュール７Ａからの光をＯＦＦ光Ｌ２とし、基板１０ではなくＯＦＦ光吸収板７４へ光を導くＯＦＦ状態を示している。このように、空間光変調子７５は、個々のミラーのＯＮ状態とＯＦＦ状態とを制御データに基づいてミラー毎に制御し、パターンを形成することができる。

　空間光変調素子７５は、個々のミラーが周期的に駆動され、空間光変調素子７５上のパターンを周期的に更新することができる。光源６１は、パターンの更新周期ごとに空間光変調素子７５を照明する必要があるため、一定周期でパルス発光するものや、所定の間だけパルス発光可能な光源であることが好ましい。なお、光源６１は、連続光を発光するものでもよく、その場合は、シャッタ（不図示）の切り替え、音響光学変調器（不図示）による変調などにより連続光をパルス光に変換することにより、光源６１から出射される光が、実質的なパルス光であるとされてもよい。

　空間光変調素子７５は、不図示のステージに搭載され、ステージに搭載された状態で第１方向Ｘ１および／または第２方向Ｘ２に微小移動される。その結果、空間光変調子７５は、照明光に対して移動され、基板１０上におけるパターンの投影像の位置を変更、例えば投影位置の目標値に対する偏差分の補正を行うことができる。

　図２に示すように、投影モジュール７Ｂは、光学定盤２１に支持され、変調部７Ｃが有する空間光変調素子７５の下方に配置されている。図３に示すように、空間光変調素子７５の１画素を所定の大きさで投影するための倍率を調整する倍率調整部７６と、レンズの第３方向Ｘ３への駆動によるフォーカスを調整するフォーカス調整部７７と、を備えている。
　投影モジュール７Ｂは、空間光変調素子７５に形成されたパターンの像を基板１０上に投影、露光、形成するものである。

　投影モジュール７Ｂは、空間光変調素子７５上のパターンを１／２倍から１／１０倍の投影倍率で基板１０に縮小投影する。投影モジュール７Ｂは、倍率調整部７６の倍率調整レンズ７６１を第３方向Ｘ３に駆動することで投影倍率を若干補正することを可能としている。なお、投影倍率としては、縮小に限らず、拡大もしくは等倍であっても良い。
　フォーカス調整部７７は、空間光変調素子７５の基板１０上へ投影する主にフォーカスを調整するための１枚もしくは複数枚のフォーカス調整レンズ７７１を備えている。

　図２に示すように、投影モジュール７Ｂは、光学定盤２１において第１方向Ｘ１に沿って複数列設けられている。

　図６及び図７に示すように、アライメント系５は、基板ステージ４Ａ、４Ｂに設けられる第１アライメント系５Ａ（図６参照）と、光学定盤２１に設けられる第２アライメント系５Ｂ（図７参照）との少なくとも一方を備えている。

　図６に示すように、第１アライメント系５Ａは、基板ステージ４Ａ、４Ｂの所定の位置に埋設されている。第１アライメント系５Ａは、基板ステージ４Ａ、４Ｂに対する基板１０の位置を計測するものである。第１アライメント系５Ａは、基板ステージ４の例えば四隅に配置されている。基板ステージ４には、第１アライメント系５Ａが設けられる四隅の箇所にステージ厚さ方向に貫通する貫通孔４２が設けられている。

　第１アライメント系５Ａは、基板ステージ４Ａの貫通孔４２内に配置されたレンズ５１１と、レンズ５１１の下方に配置され計測光を基板ステージ４上の所定位置に載置された基板１０のアライメントマーク１２に向けて照射する光源５１３（例えばＬＥＤ）と、アライメントマーク１２に反射する光を検出する測定部５１２と、を有している。

　第１アライメント系５Ａでは、基板ステージ４上に基板１０が載置された場合に、基板１０の例えば四隅の位置を計測して、Ｘ１方向位置，Ｘ２方向位置，回転量（θＸ３），Ｘ１方向の縮小／拡大倍率，Ｘ２方向の縮小／拡大倍率，直交度の６つのパラメータ（位置情報）を計測することにより算出できる。
　なお、基板ステージ４における第１アライメント系５Ａの配置としては、上述したように四隅であることに制限されることはない。例えば、基板１０の非線形形状などのプロセス起因で発生する場合には、４箇所×４列など相当数の第１アライメント系５Ａが配置される。第１アライメント系５Ａは、投影モジュール７Ｂとは異なるユニットであるため、オフアクシスアライメント系であると言える。

　第１アライメント系５Ａは、測定部５１２のカメラの画素を基準に計測する。

　図２に示すように、光学定盤２１には、第１方向Ｘ１に関して、投影モジュール７Ｂを挟んだ両側にＡＦ系２３が配置されている（図７参照）。ＡＦ系２３は、基板１０の走査方向（第１方向Ｘ１）に関わらず、露光処理に先行して基板１０のＸ３方向の位置を計測することができる。フォーカス調整部７７は、ＡＦ系２３の計測結果に基づいて、フォーカスレンズ７７１を駆動し、空間光変調素子７５のパターン像のフォーカスを調整する。

　また、図２に示すように、基板ステージ４には、校正用計測系５２と、基板ステージ４の位置を計測する干渉計５３と、照度計測機５４と、を有している。
　校正用計測系５２は、各種複数のモジュールの位置の計測及び校正のために使用される。校正用計測系５２は、光学定盤２１上に配置された第２アライメント系５Ｂの校正にも用いられる。

　このように本実施形態の露光装置１では、露光を行う空間光変調素子７５で生成されるパターンの結像位置を基板ステージ４内の第１アライメント系５Ａで計測することで、基板ステージ４の位置を計測する干渉計５３とアライメント系５との画像位置により結像系に対する基板ステージ４における第１アライメント系５Ａの位置を計測できる。

　また、図７に示すように、光学定盤２１には、第１基板ステージ４Ａ及び第２基板ステージ４Ｂのそれぞれの上方の位置に第２アライメント系５Ｂが配置するようにしても良い。
　第２アライメント系５Ｂは、基板ステージ４Ａ、４Ｂに対する基板１０の位置を計測するものである。第２アライメント系５Ｂは、光学定盤２１を厚さ方向に貫通して設けられる第２貫通孔２１ｃに配置されている。第２アライメント系５Ｂにより、基板ステージ４Ａ、４Ｂに対する基板１０の位置を計測するような構成であれば、第１アライメント系５Ａを第１基板ステージ４Ａ及び第２基板ステージ４Ｂに設ける構成としなくてよい。

　第２アライメント系５Ｂは、光学定盤２１の第２貫通孔２１ｃの下方に配置されたレンズ５５１と、レンズ５５１の上方に配置されて基板ステージ４上の所定位置に載置された基板１０のアライメントマーク１２に向けて計測光を照射する光センサ５５２と、アライメントマーク１２に反射する光を検出する測定部５５３と、を有している。
　第２アライメント系５Ｂは、第１アライメント系５Ａと同様に、基板ステージ４上に基板１０が載置された場合に、基板１０に関する、第１方向Ｘ１の位置，第２方向Ｘ２の位置，回転量（θＸ３），第１方向Ｘ１の縮小／拡大倍率，第２方向Ｘ２の縮小／拡大倍率，直交度の６つのパラメータ（位置情報）を計測することにより算出することができる。また、第２アライメント系５Ｂは、基板１０全体を計測するたけでなく部分的な領域を計測することで、基板１０の変形の非線形成分であったり、予め指定された露光領域（例えば４分割した露光領域）での６つのパラメータ（位置情報）の算出を行ったりすることができる。

　光学定盤２１は、第１方向Ｘ１に延びて形成されている。第２アライメント５Ｂは、第１方向Ｘ１に関して、照明・投影モジュール７と離れて光学定盤２１に設けられる。基板ステージ４は、基板１０上のアライメントマーク１２を第２アライメント５Ｂが計測できる位置（アライメント計測位置）へ移動する。基板１０に設けられるアライメントマーク１２の配置を計測にある程度の自由度をもたせることができる。
　また、光学定盤２１は、第１方向Ｘ１に関して互いに離れて設けられた投影モジュール７Ｂの間に設けられたアライメント系ＣＥ（第２アライメント系５Ｂ）を支持する。アライメント系ＣＥは、両端にある第２アライメント系５Ｂにより基板１０上のアライメントマークの計測を行う際に基板ステージ４の位置計測を行う干渉計が、露光位置では露光用の干渉計と切り替えを行う必要があるため、露光位置での基板１０、もしくは基板ステージ４の位置を計測するために配置してある。

　露光装置１は、メモリを有するデータ制御部に接続されて制御されている。データ制御部は、露光装置１の各部位（アライメント系５（５Ａ、５Ｂ）、基板ステージ４、光学系（照明モジュール７Ａ、投影モジュール７Ｂおよび変調部７Ｃ））に接続され、測定値の送受信や露光装置１への制御動作の指令等を行う。データ制御部は、計測によって空間光変調素子７５を駆動するための制御データを生成し、補正する機能を有し、制御データの補正データをメモリに格納する。

　次に、基板１０を連続して露光する方法について、図面に基づいて説明する。
　先ず、図１に示すように、露光装置１に露光するためのレシピが投入されると、露光するためのマスクデータ（パターンデータ、画像データ）がマスクパターンサーバーより選択される。そして、データ制御部は、マスクデータを照明・投影モジュール７の数に分割し、分割したマスクデータから制御データを生成し、メモリに格納する。このとき、空間光変調素子７５は、例えば略１０ｋＨｚ程度の更新レートで４Ｍｐｉｘｅｌを更新するため、メモリは大容量の制御データを高速に格納する。データ制御部は、メモリに格納された制御データを、複数の照明・投影モジュール７のそれぞれへ送信する。照明・投影モジュール７は、制御データを受信すると、各種の露光準備を行う。照明・投影モジュール７は、受信したマスクデータを空間光変調素子７５へロードする。

　先ず、露光装置１は、レシピに従って照度（光の情報）の計測、校正を行う。例えば、第１基板ステージ４Ａに配置された照度計測機５４は、空間光変調素子７５上に生成された照度計測用パターンからの光の照度を計測する。露光装置１は、複数の照明モジュール・投影モジュール７のそれぞれを使い計測された照度の計測結果を使用し、照明モジュール７Ａ内に配置された照明ウェッジ７２２により照明・投影モジュール７間の照度差がなくなるよう照度の調整を行う。

　露光装置１は、光学定盤２１に配置された第２アライメント系５Ｂと、照明モジュール７Ａ及び投影モジュール７Ｂとの露光位置を校正用計測系５２により計測する。
　すなわち、校正用計測系５２は、照明モジュール７Ａ及び投影モジュール７Ｂの配置と第２アライメント系５Ｂの位置を計測し、これら照明モジュール７Ａ及び投影モジュール７Ｂと第２アライメント系５Ｂとの相対位置関係を算出する。
　図２に示すように、第１基板ステージ４Ａに設けられている第１アライメント系５Ａの位置は、測定部５１２のカメラの画素を基準に計測する。第１アライメント系５Ａは、投影モジュール７Ｂによって投影された空間光変調素子７５の露光パターンを用いて計測する。露光装置１は、計測結果に基づいて、照明モジュール７Ａ及び投影モジュール７Ｂと第１アライメント系５Ａとの相対位置関係を算出する。露光装置１は、第２基板ステージ４Ｂについても同様に方法により、照明モジュール７Ａ及び投影モジュール７Ｂと第１アライメント系５Ａとの相対位置関係を算出する。露光装置１は、このようにして、照明モジュール７Ａ及び投影モジュール７Ｂとアライメント系５との相対位置関係を算出する。

　次に、図６に示すように、基板交換部３は、基板１０を第１基板ステージ４Ａ上に載置する。このとき、第１アライメント系５Ａは、基板１０のアライメントマーク１２を観察・計測し、基板１０に対する第１アライメント系５Ａの装置に対する相対位置を算出する。もしくは、第１基板ステージ４Ａが第２アライメント系５Ｂの下方へ移動し、第２アライメント系５Ｂは、基板１０のアライメントマーク１２を観察・計測し、基板１０に対する第２アライメント系５Ｂの装置に対する相対位置を算出する。これにより、予め算出した照明モジュール７Ａ及び投影モジュール７Ｂとアライメント系５との相対位置関係と、基板１０に対するアライメント系５に対する相対位置とに基づいて、基板上のどの位置にパターンが露光されるか、つまり投影位置がわかる。

　この動作で、レシピ上で露光すべき位置と、現状の基板１０と投影モジュール７Ｂとの配置関係で基板１０上に露光される位置とのずれ量がわかる。本実施形態では、このずれ量を補正するために、データ制御部は、露光データ（マスクデータ、パターンデータ、制御データ）を補正する。なお、露光装置１は、ずれ量を補正するためにデータ制御部による露光データの補正をするだけでなく、基板ステージ４そのものを移動させ、ずれ量を小さくしたうえで、データ制御部により補正データを生成／補正するようにしても良い。この場合は、データ制御部によるデータ補正の補正量を少なくすることができる。なお、露光装置１は、空間光変調素子７５が搭載されたステージを移動させて、基板１０上の露光位置を変更しても良い。露光装置１は、データ制御部によるデータ補正と基板ステージ４の移動による露光位置の補正とを行うことによってずれ量を補正しても良いし、データ制御部によるデータ補正と空間光変調素子７５の移動による露光位置の補正とを行うことによってずれ量を補正しても良いし、データ制御部によるデータ補正と基板ステージ４の移動による露光位置の補正と空間光変調素子７５の移動による露光位置の補正とによって、ずれ量を補正しても良い。

　なお、露光装置１では、基板１０に液晶テレビ等のパネル単位で補正値を算出し、基板ステージ４の補正値を求めることも可能でなる。このように基板１０を部分的に補正する場合には、照明モジュール７Ａ及び投影モジュール７Ｂ毎で補正値が異なる場合がほとんどであり、照明モジュール７Ａ及び投影モジュール７Ｂ毎に補正値を算出し、露光するデジタル露光データを補正する。

　図８に示すフローチャートは、第１基板ステージ４Ａと第２基板ステージ４Ｂのそれぞれにおいて、露光動作と、補正データを作成する補正データ作成動作の両動作を行う動作フローの一例を示している。
　図８に示すように、第１基板ステージ４Ａは、基板交換部３の第１交換アーム３Ａ（図１参照）を使用して第１基板ステージ４Ａ上に基板１０（これを第１基板という）を載置する。その後、アライメント系５は、第１基板１０上のアライメントマーク１２を計測する（ステップＳ１１）。

　次に、上述したデータ制御部は、ステップＳ１１の後、デジタル露光データの補正値（補正データ）を算出する（ステップＳ１２）。そして、データ制御部は、ステップＳ１２で得られた補正データをメモリに格納し、照明・投影モジュール７へ送信する。その後、露光装置１は、送信された第１基板１０の補正データとレシピの情報とに基づいて第１基板ステージ４Ａ上の第１基板１０に対して重ね露光を行う（ステップＳ１３）。

　露光装置１は、第２基板ステージ４Ｂでは、先行して行われた露光動作（ステップＳ２１）が完了した後、上述した第１基板ステージ４Ａによる第１基板１０に対する露光動作を行う。第１基板ステージ４Ａによる第１基板１０に対する露光動作の間、露光装置１は、ステップＳ２１で露光された基板１０を第２基板ステージ４Ｂ上から搬出し、新たな基板１０（これを第２基板という）を第２基板ステージ４Ｂに搬送する（ステップＳ２２）。露光された基板１０を第１基板ステージ４Ａ上から搬出する動作と、次に露光する基板１０を第１基板ステージ４Ａ上に搬入する動作との少なくとも一方を基板搬送動作と総称して説明をする。そして、第１アライメント系５Ａおよび／または第２アライメント系５Ｂは、第２基板１０上のアライメントマーク１２を計測する（ステップＳ２３）。
　なお、第１アライメント系５Ａと第２アライメント系５Ｂ、さらにアライメント系ＣＥ、干渉計乗り換えによる誤差の校正は、ステージマークもしくは基板マークでの校正で行われる。

　データ制御部では、ステップ２２でのアライメント計測結果に基づいて、次に第２基板ステージ４Ｂで行われる露光、つまり第２基板１０に対する露光に用いる補正データ、すなわち空間光変調素子７５を駆動するためのデジタル露光データの補正値（補正データ）を算出する（ステップＳ２４）。そして、データ制御部は、ステップＳ２４で得られた補正データをメモリに格納し、照明・投影モジュール７へ送信する。その後、露光装置１は、送信された第２基板１０の補正データとレシピの情報とに基づいて第２基板ステージ４Ｂ上の第２基板１０に対して重ね露光を行う（ステップＳ２５）。露光装置１は、第２基板１０に対する重ね露光と並行して、第１基板ステージ４Ａ上に載置されステップ１３で露光された第１基板１０を、第１基板ステージ４Ａ上から搬出する。

　このように、露光装置１は、複数の基板ステージ４を備えることによって、一方の第１基板ステージ４Ａで行われる第１基板１０の露光処理中に、他方の第２基板ステージ４Ｂにおいて第１アライメント系５Ａおよび／または第２アライメント系５Ｂを使用して第２基板１０のアライメント計測から補正データの生成、データ送信までの処理工程を実施することができる。これにより、タクトの遅延の発生を抑制することができる。
　ここで、露光処理中とは、基板ステージ４が交換位置からアライメント計測位置へ移動する動作、基板１０に対する露光動作、基板１０に対する露光動作が終了してから基板ステージ４が交換位置へ移動するまでの動作を含めた処理である。なお、露光動作とは、基板１０に対する走査露光を行う動作と、走査露光を行う露光領域を変更するために基板ステージ４がＸ１方向またはＸ２方向へ移動する動作との何れかの動作である。

　第１基板ステージ４Ａ及び第２基板ステージ４Ｂにおけるデータ補正を行う動作では、データの補正中にキャリブレーション等（たとえば、基板ステージの直交度計測等）を行うことも可能である。

　データ制御部は、例えば、露光処理中の第２基板ステージ４Ｂに設けられる照度計測器５４や校正用計測系５２で計測された照度等の光の情報を使用し、第１基板ステージ４Ａに載置された基板１０を露光する際の補正データを算出してもよい。なお、データ制御部は、光の情報のみを使用し、補正データを算出してもよいし、アライメント系５の計測結果と光の情報とを使用し、補正データを算出してもよい。

　また、露光装置１では、複数の照明モジュール７Ａ及び投影モジュール７Ｂの配列計測と合わせて露光位置とデータ補正に関する計測を先行して行い、その後に照度計測や、基板ステージ４に設けられる移動鏡１３の曲がり（真直度）補正等を行うことで、データによる補正値の算出と補正データの送信を露光動作中に行うことができる。こうして基板１０のアライメントやモジュールの配列を考慮したデータをタクトに影響せずに送信可能である。

　ここで、露光装置が基板ステージを１台のみ備えていた場合と、本実施形態の露光装置１のように基板ステージを複数台備えていた場合とを比較する。露光装置が基板ステージを１台のみ備えていた場合には、露光装置は、アライメント系５によりアライメントを行い、その結果を用いてデータ制御部で補正値を算出して補正データを生成し送信が完了した後、基板の露光が行われる。この場合には、露光装置は、アライメントを行った後、補正データの生成、補正データの送信が完了するまで、基板に対する露光が行えない状態、つまり露光待ちが発生するおそれがある。例えば基板ステージ上の基板に対する露光と露光された基板を基板ステージから搬出されるまでの時間（もしくは基板ステージが露光位置から基板交換位置へ移動するまでの時間）とを併せた時間が例えば１００秒の時間を要し、基板ステージ上の基板を露光する前に行われる基板ステージへの基板搬入、基板に対するアライメント計測、補正データの作成、補正データの送信までに、前記基板搬出までにかかる時間（１００秒）の半分となる５０秒の時間を要した場合、１枚の基板１０を基板ステージ４に搬入してから、露光、搬出するまでには、両者の時間が足し合わせされた１５０秒の時間を要する。つまり、露光装置は、基板ステージ上に基板が搬入されてから５０秒後に露光処理が開始されることとなる。基板１枚の搬入から搬出までの一連のタクトタイム（先述の例では１５０秒）を短くしようとし、基板が基板ステージに搬入されてから送信時間までの時間を短くしたとしても、その時間を０とすることができずタクトタイムに影響することになる。１枚目の基板の露光が完了してから２枚目の露光を開始するまでには、１枚目の基板の露光から搬出されるまでの時間（ｔ１）、２枚目の基板の基板ステージへの搬入時間（ｔ２）、２枚目の基板に対するアライメント動作／補正データの生成／データ伝送に要する時間（ｔ３）を足し合わせた時間（ｔ１＋ｔ２＋ｔ３）がかかる。

　これに対して、本実施形態の露光装置１によれば、複数（本実施形態では２つ）の基板ステージ４Ａ、４Ｂを設けることにより、露光における作業効率を向上することができる。具体的には、基板ステージ４Ａ、４Ｂのうち一方の基板ステージ（例えば第１基板ステージ４Ａ）上の第１基板１０に対して露光を行っている間に、他方のステージ（例えば第２基板ステージ４Ｂ）上で露光済み基板１０の搬出、第２基板１０の搬入、アライメント動作／補正データの生成／データ伝送のすべての動作を行うことで、第１基板１０の露光が完了した直後に第２基板１０の露光を開始することができる。上述したように露光装置が基板ステージを１台のみ備えていた場合には、１枚目の基板の露光が完了してから次の基板の露光開始するまでにかかった時間（上記のｔ１＋ｔ２＋ｔ３の時間）を削減することができる。先述の例では、１５０秒のタクトタイムを、１００秒以下（１００秒のうち露光動作の時間のみ）とすることができる。これにより、本実施形態の露光装置１では、基板ステージ１台のみの露光装置で発生していた露光待ちの時間を無くすことができる。

　また、データ制御部は、露光するためのデータを空間光変調素子７５に送信するためのメモリと、第２基板１０Ｂのアライメントを加味した露光を行うためのデータを記憶しておくメモリと、が必要である。例えば、大容量のメモリは、第１基板ステージ４Ａ用のデータを記憶する領域と第２基板ステージ４Ｂ用のデータを記憶する領域とを備えていいても良い。好ましくは、データのリードとライトの同時処理による遅延を考慮し、データ制御部に個別のメモリを有し、最終的に空間光変調素子７５に送信するメモリを切り替えるためのスイッチャーを用いても良い。

　上記は、第１基板ステージ４Ａと第２基板ステージ４Ｂのそれぞれにおいて、露光作業とデータ補正用のアライメント作業との両方の作業を行う動作フローについて説明したが、図９に示す変形例による動作フローを採用することも可能である。

（変形例）
　図９に示す変形例による露光装置１における露光動作フローでは、第１基板ステージ４Ａが露光動作専用に設けられ、第２基板ステージ４Ｂがアライメント動作及びデータ補正動作の専用に設けられている。そのため、第１アライメント系５Ａは、第２基板ステージ４Ｂにのみ設けられている。変形例によるデータ制御部の構成は、上記の実施形態と同様である。基板ステージ４は、第１基板ステージ４Ａの移動可能範囲と、第２基板ステージ４Ｂの移動可能範囲とが重ならないように配置されていてもよい。
　第１基板ステージ４Ａでは、時系列で、ステップＳ３１で第１基板１０に対して第１露光αが実施され、第１露光αの次にステップＳ３２で第２基板に対して第２露光βが実施され、第２露光βの次にステップＳ３３で第３基板１０に対して第３露光γが実施される。

　図９に示すように、ステップＳ４１では、第２基板ステージ４Ｂにおいて第１基板ステージ４Ａでの第１基板１０に対する第１露光αが実施されている間に、第１露光αの次に実施される第２露光β用の第２基板１０に対して第１アライメント系５Ａによってアライメント動作が行われ、データ制御部で補正データが作成される。
　具体的に第２基板ステージ４Ｂでは、基板交換部３の第１交換アーム３Ａ（図１参照）を使用して第２基板ステージ４Ｂ上に第２基板１０を載置する。その後、第１アライメント系５Ａによって第２基板１０のアライメントマーク１２を計測する。データ制御部では、第１アライメント系５Ａによる計測によって空間光変調素子７５を駆動するためのデジタル露光データの補正値（補正データ）を算出する。そして、データ制御部では、得られた補正データをメモリに格納する。

　次に、第１基板ステージ４Ａにおいて、露光αが完了すると、露光された第１基板１０を第１基板ステージ４Ａ上から図１に示す基板交換部３を使用して搬出する。そして、ステップＳ４１で補正データが作成された第２基板１０を第２基板ステージ４Ｂから第１基板ステージ４Ａに基板交換部３を使用して載せ替える。
　第１基板ステージ４Ａは、第２基板１０を第２基板ステージ４Ｂから第１基板ステージ４Ａに載せ替えた際に、第２アライメント５Ｂにより、アライメントマーク１２を検出するために移動し、第１基板ステージ４Ａに対する第２基板１０の位置を把握する。もしくは、第１アライメント５Ａは、第１基板ステージ４Ａに対する第２基板１０の位置を計測し、その位置を把握する。

　変形例では、第１基板ステージ４Ａと第２基板ステージ４Ｂとの間で基板１０を載せ替えるため、第２基板ステージ４Ｂと（載せ替え前の）第２基板１０の位置関係を基に生成された補正データはそのままでは使えない。これは、第２基板ステージ４Ｂおよび（第１基板ステージ４Ａへの載せ替え前の）第２基板１０の位置関係と、第１基板ステージ４Ａおよび（第１基板ステージ４Ａへの載せ替え後の）第２基板１０の位置関係と、が異なるためである。そのため、第１ステージ４Ａと第２ステージ４Ｂとの位置関係を事前に計測しておき、載せ替え前後の各ステージ４Ａ、４Ｂに対する基板１０の位置（アライメントマーク１２を計測して求まる位置）がわかれば、第２基板ステージ４Ｂおよび（第１基板ステージ４Ａへの載せ替え前の）第２基板１０の位置関係と、第１基板ステージ４Ａおよび（第１基板ステージ４Ａへの載せ替え後の）第２基板１０の位置関係とを相対比較ができる。ここで図７に示すように、第１方向Ｘ１に関して互いに離れて設けられた投影モジュール７Ｂの間に設けられた第２アライメント系５Ｂ（アライメント系ＣＥ）にて基板１０の所定の点数のみ計測を行って、第１基板ステージ４Ａから第２基板ステージ４Ｂへの受け渡しによる基板１０の回転を含む位置ずれを計測し、データ補正を作成した状態とほぼ同じ状態とし、基板ステージ４や空間光変調素子７５を保持するステージにて投影位置の補正を行う。

　その後、第１基板ステージ４Ａでは、ステップＳ３２において、データ制御部から送信された第２基板の補正データとレシピの情報に基づいて第１基板ステージ４Ａ上の第２基板１０に対して第２露光βを行う（ステップＳ３２）。なお、相対比較でわかったずれ量分を、補正データをさらに補正するようにしてもよい。補正データをさらに補正しつつ、ステージの位置を調整及びまたは空間光変調素子７５の位置調整をするようにしてもよい。

　さらに、ステップＳ４２では、第２基板ステージ４Ｂにおいて第１基板ステージ４Ａでの第２基板１０に対する第２露光βが実施されている間に、第２露光βの次に実施される第３露光γ用の第３基板１０に対してアライメント系５によってアライメントが行われ、データ制御部で補正データが作成される。
　具体的に第２基板ステージ４Ｂでは、基板交換部３の第１交換アーム３Ａ（図１参照）を使用して第２基板ステージ４Ｂ上に第３基板１０を載置する。その後、アライメント系５によって第３基板１０のアライメントマーク１２を計測する。データ制御部では、アライメント系５による計測によって空間光変調素子７５を駆動するためのデジタル露光データの補正値（補正データ）を算出する。そして、データ制御部では、得られた補正データをメモリに格納する。
　以下、第１基板ステージ４Ａと第２基板ステージ４Ｂでは、同様の動作が順次繰り返し行われる。

　このように、変形例による露光動作では、複数（ここでは２つ）の基板ステージ４Ａ、４Ｂのうち一方の露光専用の第１基板ステージ４Ａで行われる基板１０の露光処理中に、他方のアライメント及びデータ補正専用の第２基板ステージ４Ｂで第１アライメント系５を使用して基板１０のアライメントからデータ送信までの処理工程を実施し、補正データを送信しておくことができる。これにより、タクトの遅延の発生を抑制することができる。

　本変形例では、露光装置１内の露光専用の第１基板ステージ４Ａとアライメント及びデータ補正専用の第２基板ステージ４Ｂとの間で、基板１０の受け渡しを行っていた。しかしながら、第２基板ステージ４Ｂは、露光装置１内に設けられる必要はなく、露光装置１とは別の装置に設けられてもいてもよい。これは、例えば、アライメント計測で計測するアライメントマーク１２の点数が多く、そこからデータ制御部による補正データの作成が次の基板１０の露光を開始するまでに完了しない場合や、非線形などの補正も行うためにアライメント点数が多い場合などには、第２基板ステージ４Ｂを露光装置１とは別の装置に設けると良い。別の装置は、たとえば、基板１０に感光材（レジスト）を塗るコーターや、コーターよりも前段にあり、基板１０に対して所定の処理を行う装置である。別の装置により、詳細のアライメント計測を行うことで、実際に計測したデータの処理（補正データの作成）と露光までの時間をより稼ぐことが可能となる。露光装置１は、別の装置で計測された結果を受信する受信部を備える。データ制御部は、受信したデータを使い、補正データを作成する。この場合には、データ制御部のメモリは、露光している基板のデータの格納部と別の装置で処理して既に計測が完了した基板１０のデータ格納部、更に今計測を行っているデータの格納部と３つの格納部が必要となる。データ制御部は、基板に合わせて選択的にデータの読み出しを行う。
　つまり露光処理前の重ね合わせるための（露光装置１とは別の装置である）データ計測機を用いて、計測を行い、計測データと基板を突き合わせて管理することで、今露光を行っている基板とは別のデータ処理をメモリに格納すればよいことになる。この時のデータ計測機と露光装置とは、ほぼ同等の環境（ホルダや基板温度）変化にすることで、基板ステージ４側で補正できない倍率をほぼ変化なく計測することが可能となる。
　なお、このデータ計測機と露光機での計測による基板の吸着などによる差は、最終的に重ね合わせ露光した結果から求めてプロセスオフセットとしてデータ補正に入力しておくことも可能である。

　また、アライメント系５は、第１方向Ｘ１に関して、投影モジュール７Ｂと離れた位置に設けられる一例、つまり投影モジュール７Ｂの光軸とアライメントの軸との位置がずれているオフアクシスアライメントについて説明をした。これに限らず、投影モジュール７Ｂの光軸とアライメント軸とが重なるオンアクシスアライメント、投影モジュール７Ｂを介して計測するＴＴＬ（Through the lens）の構成のアライメントを併設してもよい。

　光変調器（空間光変調素子５７）は、液晶素子、デジタルミラーデバイス（デジタルマイクロミラーデバイス、ＤＭＤ）、磁気光学光変調器（Magneto Optic Spatial Light Modulator、ＭＯＳＬＭ）等を含む。光変調器は、照明光学系である照明モジュール７Ａからの照明光を反射する反射型でも良いし、照明光を透過する透過型でも良いし、照明光を回折する回折型でも良い。光変調器は、照明光を空間的に、且つ、時間的に変調することができる。

　以上、本発明の実施形態について説明したが、ここで本発明と上記実施形態とにおける対応関係について補足して説明する。

（１）上記実施形態において、画像パターンに応じて複数の素子が制御される光変調器（空間光変調素子７５）を介して、基板２０を走査露光する露光装置において、第１基板１０を支持する第１基板ステージ４Ａと、第１基板１０とは異なる第２基板１０を支持する第２基板ステージ４Ｂと、第２基板１０の情報を計測する計測部と、情報に基づいて、第２基板１０の走査露光時に前記複数の素子を制御する制御データを、第１基板１０の露光処理中に生成する生成部と、を備える。

　このような構成の露光装置では、複数の基板ステージ４Ａ、４Ｂを設けることにより、露光における作業効率を向上することができる。すなわち、基板ステージ４Ａ、４Ｂのうち一方の基板ステージ（例えば第１基板ステージ４Ａ）上の第１基板１０に対して露光を行っている間に、他方のステージ（例えば第２基板ステージ４Ｂ）上で露光済み基板１０の搬出、第２基板１０の搬入、計測部によるアライメント動作／生成部による補正データの生成／データ伝送のすべての動作を行うことで、第１基板１０の露光が完了した直後に第２基板１０の露光を開始することができる。このように、露光装置が基板ステージ４を１台のみ備えていた場合には、１枚目の基板の露光が完了してから次の基板１０の露光開始するまでにかかった時間を削減することができる。これにより、本実施形態では、従来のような基板ステージ４が１台のみの露光装置１で発生していた露光待ちの時間を無くすことができる。

（２）また、上記実施形態において、計測部は、第１基板１０の露光処理中に、第２基板１０の情報を計測する。

　このような構成により、複数の基板ステージ４Ａ、４Ｂのうち一方の露光専用の第１基板ステージ４Ａで行われる第１基板１０の露光処理中に、他方のアライメント（計測）及びデータ補正専用の第２基板ステージ４Ｂで基板１０の情報を計測することができるので、タクトの遅延の発生を抑制することができる。

（３）また、上記実施形態において、計測部は、光変調器（空間光変調素子７５）を有する露光ユニット２０により露光される第１基板１０を支持する第１基板ステージ４Ａと、計測部により計測される第２基板１０を支持する第２基板ステージ４Ｂと、が衝突しないように、露光ユニット２０（光変調器（空間光変調素子７５））と離れて設けられる。

　このような構成により、第１基板ステージ４Ａの移動可能範囲と、第２基板ステージ４Ｂの移動可能範囲とが重ならないように配置されるので、一方の基板ステージ４による露光動作中に、他方の基板ステージ４で計測部によって基板１０の情報を計測することができる。双方の作業を並行して行うことが可能となるので、タクトの遅延の発生を抑制することができ、露光待ちの時間を無くすことができる。

（４）また、上記実施形態において、計測部は、第２基板ステージ４Ｂに設置される。

　このような構成により、第１基板ステージ４Ａによる露光動作中に、第２基板ステージ４Ｂで計測部によって第２基板１０の情報を計測することができる。第１基板ステージ４Ａで露光が完了した後に、第２基板ステージ４Ｂで測定した第２基板１０を第１基板ステージ４Ａ上に搬送して載置し、計測した情報に基づいて第１基板ステージ４Ａ上の第２基板１０に対して露光することができる。つまり、第１基板１０の露光直後に待ち時間を最小限にした状態で第２基板１０の露光を行うことができる。このように双方の作業を並行して行うことが可能となるので、タクトの遅延の発生を抑制することができ、露光待ちの時間を無くすことができる。

（５）また、上記実施形態において、第１基板ステージ４Ａは、第１基板１０の露光処理中又は露光処理前に、光変調器（空間光変調素子７５）を有する露光ユニット２０の光に関する情報を取得する取得部を有し、生成部は、情報と、取得部で取得された情報とに基づき、制御データを生成する。

　このような構成により、光に関する情報が第１基板ステージ４Ａにおける第１基板１０の露光処理中又は露光処理前に取得部で取得し、生成部では取得部で取得した情報に基づいて制御データを生成することができる。そのため、生成部で生成した制御データに基づいて第１基板ステージ４Ａ上の第２基板１０に対して露光することができる。

（６）また、上記実施形態において、画像パターンに応じて複数の素子が制御される光変調器を有する露光ユニット２０により、基板１０を走査露光する露光装置において、第１基板１０を支持する第１基板ステージ４Ａと、第１基板１０とは異なる第２基板１０を支持する第２基板ステージ４Ｂと、第２基板１０の走査露光時に複数の素子を制御を露光する露光パターンの制御データを生成する生成部と、を備え、第１基板ステージ４Ａは、露光ユニット２０の光に関する情報を取得する取得部を有し、生成部は、取得部で取得された情報に基づき、制御データを生成する。

　このような構成により、複数の基板ステージ４Ａ、４Ｂを設けることにより、露光における作業効率を向上することができる。すなわち、第２基板ステージ４Ｂにおいて露光ユニット２０の光に関する情報を取得部で取得し、生成部では取得部で取得した情報に基づいて露光パターンの制御データを生成することができる。そのため、生成部で生成した露光パターンに基づいて第１基板ステージ４Ａ上の第２基板１０に対して露光することができる。

（７）また、上記実施形態において、生成部は、第１基板１０の露光処理中に、制御データを生成する。

　このような構成により、複数の基板ステージ４Ａ、４Ｂのうち一方の露光専用の第１基板ステージ４Ａで行われる第１基板１０の露光処理中に、生成部において第１基板１０の次に露光する第２基板１０の光に関する情報に基づいて露光パターンの制御データを生成することができるので、タクトの遅延の発生を抑制することができる。

（８）また、上記実施形態において、取得部は、第１基板１０の露光処理中又は露光処理前に、光に関する情報を取得する。

　このような構成により、第１基板ステージ４Ａ上の第１基板１０に対して露光処理中又は露光処理前に、第２基板ステージ４Ｂにおいて露光ユニット２０の光に関する情報を取得部で取得し、生成部では取得部で取得した情報に基づいて露光パターンの制御データを生成することができる。

（９）また、上記実施形態において、取得部は、光の照度に関する情報と第１基板ステージ４Ａに関する情報との少なくとも一つを取得する。

　このような構成により、取得部で取得した情報に基づき生成部で露光パターンの制御データを生成することができるので、より精度の高い露光を行うことができる。

（１０）また、上記実施形態において、生成部は、第１基板１０の露光処理中に、生成した制御データを格納するメモリを備える。

　このような構成により、生成部で生成した制御データをメモリに格納しておけるため、第１基板１０の露光時、あるいは第２基板１０の露光開始前における適宜なタイミングで、効率よくメモリに格納された制御データを露光ユニット２０に送信することができる。

（１１）また、上記実施形態において、制御データをメモリから露光ユニット２０へ送信する送信部を備え、送信部は、露光ユニット２０による第２基板１０に対する露光の開始前に、露光ユニット２０に制御データを露光ユニット２０へ送信する。

　このような構成により、生成部で生成してメモリに格納された制御データを、第２基板１０の露光開始前に効率よく露光ユニット２０に送信することができる。

（１２）また、上記実施形態において、第２基板ステージ４Ｂを移動させる駆動部を備え、駆動部は、第２基板１０に対する走査露光において、制御データを受信した露光ユニット２０に対して第２基板１０を支持する第２基板ステージ４Ｂを移動させる。

　このような構成により、第１基板ステージ４Ａに代えて第２基板ステージ４Ｂを駆動部によって駆動させて露光ユニット２０で露光可能な位置に移動させることができる。つまり第２基板ステージ４Ｂ上の第２基板１０に対して露光ユニット２０で露光することができる。このように、露光ユニット２０で露光可能な位置に第１基板ステージ４Ａと第２基板ステージ４Ｂとを交互に切り替えて露光することができる。

（１３）また、上記実施形態において、第１基板１０を第１基板ステージ４Ａから搬出し、第１基板１０が搬出された第１基板ステージ４Ａへ第３基板１０を搬入する搬送部と、第１基板ステージ４Ａ上の第３基板１０に関する情報を計測する計測装置と、を備え、生成部は、情報に基づいて、第３基板１０を露光する露光パターンの制御データを生成する。

　このような構成により、搬送部で第１基板ステージ４Ａ上の第１基板１０を搬出するとともに第３基板１０を第１基板ステージ４Ａ上に搬入し、この第１基板ステージ４Ａ上の第３基板１０に関する情報を計測装置によって計測し、生成部において計測した情報に基づいて露光パターンの制御データを生成することができる。

（１４）また、上記実施形態において、計測装置は、露光ユニット２０により露光される第２基板１０を支持する第２基板ステージ４Ｂと、計測装置により計測される第３基板１０を支持する第１基板ステージ４Ａと、が衝突しないように、露光ユニット２０と離れて設けられる。

　このような構成により、第２基板ステージ４Ｂ上で第３基板１０に対して露光する動作中に、第１基板ステージ４Ａで計測装置によって第３基板１０の情報を計測することができる。このように双方の作業を並行して行うことが可能となるので、タクトの遅延の発生を抑制することができ、露光待ちの時間を無くすことができる。

（１５）また、上記実施形態において、計測装置は、第１基板ステージ４Ａに設置される。

　このような構成により、第１基板ステージ４Ａと第２基板ステージ４Ｂとの両方に支持される基板１０の情報をそれぞれの基板ステージ４Ａ、４Ｂに設けられる計測装置で計測することができる。そのため、一方の基板ステージ４の基板１０に対して露光する動作中に、他方の基板ステージ４で計測装置によって基板１０の情報を計測することができる。このように双方の作業を並行して行うことが可能となるので、タクトの遅延の発生を抑制することができ、露光待ちの時間を無くすことができる。

（１６）また、上記実施形態において、メモリは、計測装置より計測された第２基板ステージ４Ｂに支持された基板１０の情報を記録する第１メモリと、計測装置で計測された第１基板ステージ４Ａに支持された基板１０の情報を記録する第２メモリと、を有する。

　このような構成により、第１基板ステージ４Ａ及び第２基板ステージ４Ｂのそれぞれの生成部で生成した制御データを、それぞれの基板ステージ４Ａ、４Ｂに対応した第１メモリ及び第２メモリに格納しておけるため、基板１０の露光時、あるいは基板１０の露光開始前における適宜なタイミングで、効率よくメモリに格納された制御データを露光ユニット２０に送信することができる。

（１７）また、上記実施形態において、第２基板１０を第２基板ステージ４Ｂから第１基板ステージ４Ａへ搬送する搬送部と、第１基板ステージ４Ａを移動させる駆動装置と、を備え、搬送部は、制御データが生成部により生成された後に、第１基板１０が搬出された第１基板ステージ４Ａへ第２基板１０を搬入し、駆動装置は、搬入された第２基板１０を支持する第１基板ステージ４Ａを、露光ユニット２０に対して移動させる。

　このような構成により、第１基板ステージ４Ａを駆動装置によって駆動させて露光ユニット２０で露光可能な位置に移動させることができる。つまり第２基板ステージ４Ｂ上の第２基板１０を搬送部によって第１基板ステージ４Ａ上へ搬送し、その第１基板ステージ４Ａ上の第２基板１０に対して露光ユニット２０で露光することができる。このように、露光ユニット２０で露光可能な位置に第１基板ステージ４Ａを配置して露光することができる。

（１８）また、上記実施形態において、搬送部は、第２基板１０が搬出された第２基板ステージ４Ｂへ第３基板１０を搬入し、第２基板ステージ４Ｂ上の第３基板１０の情報を計測する計測部が設けられており、生成部は、第２基板１０の露光処理中に、第３基板１０に関する制御データを生成する。

　このような構成により、第１基板ステージ４Ａ上の第２基板１０の露光処理中において、第２基板ステージ４Ｂに搬入された第３基板１０の情報を計測部で計測し、生成部によって計測部で計測された第３基板１０の情報に基づいて制御データを生成することができる。このように双方の作業を並行して行うことが可能となるので、タクトの遅延の発生を抑制することができ、露光待ちの時間を無くすことができる。

（１９）また、上記実施形態において、生成部は、予め設定された露光データを補正し、制御データを生成する。

　このような構成により、生成部では、測定部で測定した情報に基づいて予め設定された露光データをベースにして、設定された露光データと測定情報とを対比した補正ができるので、より精度の高い補正を行うことができる。

（２０）また、上記実施形態において、露光ユニット２０は複数設けられ、光源６１と光源６１からの光とを複数の空間光変調素子７５を用いて分割露光する。

　このような構成により、複数の露光ユニット２０を使用して、光源６１と光源６１からの光とを複数の空間光変調素子７５によって分割露光することができる。

（２１）また、上記実施形態において、画像パターンに応じて複数の素子が制御される光変調器を介して、基板１０を走査露光する露光装置において、第１基板１０を支持する基板ステージ４と、露光装置とは異なる装置で計測された、第１基板１０に対する走査露光の後に露光装置１により走査露光される第２基板１０の情報を受信する受信部と、受信部により受信した情報に基づいて、第２基板１０の走査露光時に複数の素子を制御する制御データを生成する生成部と、制御データを、第１基板１０の露光処理中に格納するメモリと、を備える。

（２２）また、上記実施形態において、画像パターンの像を第１基板または第２基板に投影する投影部と、第１基板または第２基板の走査露光時に、投影部により像が投影される第１基板または第２基板上の位置を変更する位置変更部と、を備えている。位置変更部は、基板ステージ４、光変調器７５を保持する基板ステージ４、投影系の一部のうち少なくとも１つを制御し、前記位置を変更する。

（２３）また、上記実施形態において、基板ステージ４から第１基板１０を搬出し、第２基板１０を搬入する搬送部と、基板ステージ４に搬送された第２基板の情報を計測する計測部と、を備えている。計測部は、異なる装置で第２基板１０の情報を計測するために計測されたマークを、を計測し、第２基板１０の情報を取得する。

（２４）また、上記実施形態において、基板１０を識別するための識別情報と、別の装置で計測された第２基板１０の情報、もしくは制御データと、を紐付けする制御部を備えることが可能である。

（２５）また、上記実施形態において、（１）～（２０）のいずれか一項に記載の露光装置１を用いて基板１０を露光するステップと、露光された基板１０を現像するステップと、を含む。

　このような構成により、露光装置１を用いて基板１０を露光待ちの時間を無くして露光し、露光された基板１０を現像することにより、効率よくデバイスを製造することができる。

（２６）また、上記実施形態において、（１）～（２０）のいずれか一項に記載の露光装置を用いてフラットパネルディスプレイ用の基板を露光するステップと、露光された前記基板を現像するステップと、を含む。

　このような構成により、露光装置１を用いて基板１０を露光待ちの時間を無くして露光し、露光された基板１０を現像することにより、効率よくフラットパネルディスプレイを製造することができる。

（２７）また、上記実施形態において、光変調器を有する露光ユニットにより、基板を走査露光する露光方法において、第１ステージに第１基板を支持するステップと、第２ステージに前記第１基板とは異なる第２基板を支持するステップと、第２基板の情報を計測するステップと、前記情報に基づいて、前記第１基板の露光処理中に、前記第２基板を露光する露光パターンの制御データを生成するステップと、を有する。

　このような構成により、複数の基板ステージ４Ａ、４Ｂを設けることにより、露光における作業効率を向上することができる。すなわち、基板ステージ４Ａ、４Ｂのうち一方の基板ステージ（例えば第１基板ステージ４Ａ）上の第１基板１０に対して露光を行っている間に、他方のステージ（例えば第２基板ステージ４Ｂ）上で露光済み基板１０の搬出、第２基板１０の搬入、計測部によるアライメント動作／生成部による補正データの生成／データ伝送のすべての動作を行うことで、第１基板１０の露光が完了した直後に第２基板１０の露光を開始することができる。このように、露光装置が基板ステージ４を１台のみ備えていた場合には、１枚目の基板の露光が完了してから次の基板１０の露光開始するまでにかかった時間を削減することができる。これにより、本実施形態では、従来のような基板ステージ４が１台のみの露光装置１で発生していた露光待ちの時間を無くすことができる。

（２８）また、上記実施形態において、光変調器を有する露光ユニット２０により、基板１０を走査露光する露光装置１において、露光ユニット２０の光に関する情報を取得する取得部を有する第１基板ステージ４Ａに、第１基板１０を支持するステップと、第２基板ステージ４Ｂに第１基板１０とは異なる第２基板１０を支持するステップと、取得部で取得された情報に基づき、第２基板１０を露光する露光パターンの制御データを生成するステップと、を有する。

（２９）また、上記実施形態において、画像パターンに応じて複数の素子が制御される光変調器を介して、基板を走査露光する露光方法において、ステージに第１基板を支持するステップと、前記基板を走査露光する露光装置とは異なる装置で計測された、前記第１基板に対する走査露光の後に前記露光装置により走査露光される第２基板の情報を受信部で受信するステップと、前記受信部により受信した前記情報に基づいて、前記第２基板の走査露光時に前記複数の素子を制御する制御データを生成するステップと、前記制御データを、前記第１基板の露光処理中にメモリに格納するステップと、を有する。

（３０）また、上記実施形態において、（２７）から（２９）のいずれか１項に記載の露光方法により基板１０を露光するステップと、露光された基板１０を現像するステップと、を含む。

　このような構成により、基板１０を露光待ちの時間を無くして露光し、露光された基板１０を現像するステップにより、効率よくデバイスを製造するステップができる。

（３１）また、上記実施形態において、（２７）から（２９）のいずれか１項に記載の露光方法によりフラットパネルディスプレイ用の基板を露光するステップと、露光された前記基板を現像するステップと、を含む。

　以上、図面を参照してこの発明の一実施形態について詳しく説明してきたが、具体的な構成は上述のものに限られることはなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲内において様々な設計変更等をすることが可能である。

　１…露光装置、２…露光装置本体、３…基板交換部、４…基板ステージ、４Ａ…第１基板ステージ、４Ｂ…第２基板ステージ、５…アライメント系、５Ａ…第１アライメント系、５Ｂ…第２アライメント系、６…光源ユニット、７…照明・投影モジュール、７Ａ…照明モジュール、７Ｂ…投影モジュール、１０…基板、１１…ベースプレート、２０…露光ユニット、２１…光学定盤、２２…コラム、２３…ＡＦ系、６１…光源、７５…空間光変調素子、Ｘ１…第１方向、Ｘ２…第２方向、Ｘ３…第３方向

Claims

　画像パターンに応じて複数の素子が制御される光変調器を介して、基板を走査露光する露光装置において、
　第１基板を支持する第１ステージと、
　前記第１基板とは異なる第２基板を支持する第２ステージと、
　前記第２基板の情報を計測する計測部と、
　前記情報に基づいて、前記第２基板の走査露光時に前記複数の素子を制御する制御データを、前記第１基板の露光処理中に生成する生成部と、を備える露光装置。
　前記計測部は、前記第１基板の露光処理中に、前記第２基板の情報を計測する、請求項１に記載の露光装置。
　前記計測部は、前記光変調器を有する露光ユニットにより露光される前記第１基板を支持する前記第１ステージと、前記計測部により計測される前記第２基板を支持する前記第２ステージと、が衝突しないように、前記光変調器と離れて設けられる、請求項１又は２に記載の露光装置。
　前記計測部は、前記第２ステージに設置される、請求項１～３のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記第１ステージは、前記第１基板の露光処理中又は露光処理前に、前記光変調器を有する露光ユニットの光に関する情報を取得する取得部を有し、
　前記生成部は、前記情報と、前記取得部で取得された情報とに基づき、前記制御データを生成する、請求項１～４のいずれか一項に記載の露光装置。
　画像パターンに応じて複数の素子が制御される光変調器を有する露光ユニットにより、基板を走査露光する露光装置において、
　第１基板を支持する第１ステージと、
　前記第１基板とは異なる第２基板を支持する第２ステージと、
　前記第２基板の走査露光時に前記複数の素子を制御する制御データを生成する生成部と、を備え、
　前記第１ステージは、前記露光ユニットの光に関する情報を取得する取得部を有し、　前記生成部は、前記取得部で取得された情報に基づき、前記制御データを生成する、露光装置。
　前記生成部は、前記第１基板の露光処理中に、前記制御データを生成する、請求項６に記載の露光装置。
　前記取得部は、前記第１基板の露光処理中又は露光処理前に、前記光に関する情報を取得する、請求項６又は７に記載の露光装置。
　前記取得部は、前記光の照度に関する情報と前記第１ステージに関する情報との少なくとも一つを取得する、請求項５～８のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記生成部は、前記第１基板の露光処理中に、生成した前記制御データを格納する、メモリを備える、請求項１～９のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記制御データを前記メモリから前記露光ユニットへ送信する送信部を備え、
　前記送信部は、前記露光ユニットによる前記第２基板に対する露光の開始前に、前記露光ユニットに前記制御データを前記露光ユニットへ送信する、請求項１０に記載の露光装置。
　前記第２ステージを移動させる駆動部を備え、
　前記駆動部は、前記第２基板に対する走査露光において、前記制御データを受信した前記露光ユニットに対して前記第２基板を支持する前記第２ステージを移動させる、請求項１０又は１１に記載の露光装置。
　前記第１基板を前記第１ステージから搬出し、前記第１基板が搬出された前記第１ステージへ第３基板を搬入する搬送部と、
　前記第１ステージ上の前記第３基板に関する情報を計測する計測装置と、を備え、
　前記生成部は、前記情報に基づいて、前記第３基板を露光する露光パターンの制御データを生成する、請求項１２に記載の露光装置。
　前記計測装置は、前記露光ユニットにより露光される前記第２基板を支持する前記第２ステージと、前記計測装置により計測される前記第３基板を支持する前記第１ステージと、が衝突しないように、前記露光ユニットと離れて設けられる、請求項１３に記載の露光装置。
　前記計測装置は、前記第１ステージに設置される、請求項１３又は１４に記載の露光装置。
　前記メモリは、前記計測装置のより計測された前記第２ステージに支持された基板の情報を記録する第１メモリと、前記計測装置で計測された前記第１ステージに支持された基板の情報を記録する第２メモリと、を有する、請求項１３～１５のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記第２基板を前記第２ステージから前記第１ステージへ搬送する搬送部と、
　前記第１ステージを移動させる駆動装置と、を備え、
　前記搬送部は、前記制御データが前記生成部により生成された後に、前記第１基板が搬出された前記第１ステージへ前記第２基板を搬入し、
　前記駆動装置は、搬入された前記第２基板を支持する前記第１ステージを、前記露光ユニットに対して移動させる、前記請求項１０又は１１に記載の露光装置。
　前記搬送部は、前記第２基板が搬出された前記第２ステージへ第３基板を搬入し、
　前記第２ステージ上の前記第３基板の情報を計測する計測部が設けられており、
　前記生成部は、前記第２基板の露光処理中に、前記第３基板に関する前記制御データを生成する、請求項１７に記載の露光装置。
　前記生成部は、予め設定された露光データを補正し、前記制御データを生成する、請求項１～１８のいずれか一項に記載の露光装置。
　前記露光ユニットは複数設けられ、
　光源と前記光源からの光とを複数の空間光変調素子を用いて分割露光する、請求項１～１９のいずれか一項に記載の露光装置。
　画像パターンに応じて複数の素子が制御される光変調器を介して、基板を走査露光する露光装置において、
　第１基板を支持するステージと、
　前記露光装置とは異なる装置で計測された、前記第１基板に対する走査露光の後に前記露光装置により走査露光される第２基板の情報を受信する受信部と、
　前記受信部により受信した前記情報に基づいて、前記第２基板の走査露光時に前記複数の素子を制御する制御データを生成する生成部と、
　前記制御データを、前記第１基板の露光処理中に格納するメモリと、を備える露光装置。
　前記画像パターンの像を前記第１基板または前記第２基板に投影する投影部と、
　前記第１基板または前記第２基板の走査露光時に、前記投影部により前記像が投影される前記第１基板または前記第２基板上の位置を変更する位置変更部と、を備え、
　前記位置変更部は、前記ステージ、前記光変調器を保持するステージ、投影系の一部のうち少なくとも１つを制御し、前記位置を変更する、請求項２１に記載の露光装置。
　前記ステージから前記第１基板を搬出し、前記第２基板を搬入する搬送部と、
　前記ステージに搬送された前記第２基板の情報を計測する計測部と、を備え、
　前記計測部は、前記異なる装置で前記第２基板の情報を計測するために計測されたマークを、を計測し、前記第２基板の情報を取得する、請求項２１又は２２に記載の露光装置。
　前記基板を識別するための識別情報と、別の装置で計測された前記第２基板の情報、もしくは前記制御データと、を紐付けする制御部を備える、請求項２１～２３のいずれか１項に記載の露光装置。
　請求項１～２４のいずれか一項に記載の露光装置を用いて前記基板を露光するステップと、
　露光された前記基板を現像するステップと、を含むデバイス製造方法。
　請求項１～２４のいずれか一項に記載の露光装置を用いてフラットパネルディスプレイ用の基板を露光するステップと、
　露光された前記基板を現像するステップと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法。
　画像パターンに応じて複数の素子が制御される光変調器を介して、基板を走査露光する露光方法において、
　第１ステージに第１基板を支持するステップと、
　第２ステージに前記第１基板とは異なる第２基板を支持するステップと、
　前記第２基板の情報を計測するステップと、
　前記情報に基づいて、前記第２基板の走査露光時に前記複数の素子を制御する制御データを、前記第１基板の露光処理中に生成するステップと、
　を有する、露光方法。
　画像パターンに応じて複数の素子が制御される光変調器を介して、基板を走査露光する露光装置において、
　前記光変調器を有する露光ユニットの光に関する情報を取得する取得部を有する第１ステージに、第１基板を支持するステップと、
　第２ステージに前記第１基板とは異なる第２基板を支持するステップと、
　前記取得部で取得された情報に基づき、前記第２基板を露光する露光パターンの制御データを生成するステップと、
　を有する、露光方法。
　画像パターンに応じて複数の素子が制御される光変調器を介して、基板を走査露光する露光方法において、
　ステージに第１基板を支持するステップと、
　前記基板を走査露光する露光装置とは異なる装置で計測された、前記第１基板に対する走査露光の後に前記露光装置により走査露光される第２基板の情報を受信部で受信するステップと、
　前記受信部により受信した前記情報に基づいて、前記第２基板の走査露光時に前記複数の素子を制御する制御データを生成するステップと、
　前記制御データを、前記第１基板の露光処理中にメモリに格納するステップと、
　を有する、露光方法。
　請求項２７から２９のいずれか１項に記載の露光方法により前記基板を露光するステップと、
　露光された前記基板を現像するステップと、を含むデバイス製造方法。
　請求項２７から２９のいずれか１項に記載の露光方法によりフラットパネルディスプレイ用の基板を露光するステップと、
　露光された前記基板を現像するステップと、を含むフラットパネルディスプレイの製造方法。