CN117377911A - 曝光装置、器件制造方法、平板显示器的制造方法及曝光方法 - Google Patents

Abstract

经由根据图像图案被控制多个元件的光调制器对基板进行扫描曝光的曝光装置包括：支承第1基板的第1工作台；支承与所述第1基板不同的第2基板的第2工作台；测量所述第2基板的信息的测量部；以及生成部，其在所述第1基板的曝光处理中，基于所述信息生成在所述第2基板的扫描曝光时控制所述多个元件的控制数据，所述测量部在所述第1基板的曝光处理中测量所述第2基板的信息。

Description

曝光装置、器件制造方法、平板显示器的制造方法及曝光方法

技术领域

本发明涉及曝光装置、器件制造方法、平板显示器的制造方法及曝光方法。

本申请基于2021年4月9日提出的日本特愿2021-066819号主张优先权，并将其内容援引至此。

背景技术

以往，作为借助光学系统向基板照射照明光的扫描型曝光装置，已知使利用空间光调制元件调制后的光通过投影光学系统并使基于该光的像在涂布于基板的抗蚀剂上成像来进行曝光的曝光装置(例如参见专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007-108559号公报

在此，在相对于用于驱动空间光调制元件的数字曝光数据对校准或基板对准的测量值进行修正的情况下，对准和修正数据的发送所需的动作时间比曝光动作时间长。因此，要求修正数据的算出及修正数据的发送不影响生产节拍的曝光装置。

发明内容

本发明的一个方面提供一种曝光装置，其通过具有光调制器的曝光单元对基板进行扫描曝光，所述曝光装置包括：第1工作台，其支承第1基板；第2工作台，其支承与所述第1基板不同的第2基板；测量部，其测量所述第2基板的信息；以及生成部，其基于所述信息生成对所述第2基板进行曝光的曝光图案的控制数据，所述生成部在所述第1基板的曝光处理中生成所述控制数据。

本发明的另一方面提供一种曝光装置，其通过具有光调制器的曝光单元对基板进行扫描曝光，所述曝光装置包括：第1工作台，其支承第1基板；第2工作台，其支承与所述第1基板不同的第2基板；以及生成部，其生成对所述第2基板进行曝光的曝光图案的控制数据，所述第1工作台具有获取部，该获取部获取与所述曝光单元的光相关的信息，所述生成部基于由所述获取部获取的信息生成所述控制数据。

本发明的另一方面提供一种曝光装置，其经由光调制器对基板进行扫描曝光，光调制器的多个元件根据图像图案来控制，所述曝光装置包括：工作台，其支承第1基板；接收部，其接收通过与所述曝光装置不同的装置测量的第2基板的信息，所述第2基板是在对所述第1基板进行扫描曝光之后通过所述曝光装置来扫描曝光的；生成部，其基于通过所述接收部接收到的所述信息生成在所述第2基板的扫描曝光时控制所述多个元件的控制数据；以及存储器，其在所述第1基板的曝光处理中保存所述控制数据。

本发明的一个方面包括如下步骤：使用上述曝光装置对所述基板进行曝光；以及对曝光后的所述基板进行显影。

本发明的一个方面包括如下步骤：使用上述曝光装置对平板显示器用的基板进行曝光；以及对曝光后的所述基板进行显影。

本发明的一个方面提供一种曝光方法，通过具有光调制器的曝光单元对基板进行扫描曝光，所述曝光方法包括如下步骤：将第1基板支承于第1工作台；将与所述第1基板不同的第2基板支承于第2工作台；测量所述第2基板的信息；在所述第1基板的曝光处理中，基于所述信息生成对所述第2基板进行曝光的曝光图案的控制数据。

本发明的一个方面提供一种曝光方法，通过具有光调制器的曝光单元对基板进行扫描曝光，所述曝光方法包括如下步骤：将第1基板支承于第1工作台，所述第1工作台具有获取与所述曝光单元的光相关的信息的获取部；将与所述第1基板不同的第2基板支承于第2工作台；基于由所述获取部获取的信息生成对所述第2基板进行曝光的曝光图案的控制数据。

本发明的一个方面提供一种曝光方法，经由光调制器对基板进行扫描曝光，光调制器的多个元件根据图像图案来控制，所述曝光方法包括如下步骤：将第1基板支承于工作台；由接收部接收由与对所述基板进行扫描曝光的曝光装置不同的装置测量的第2基板的信息，所述第2基板是在对所述第1基板进行扫描曝光后由所述曝光装置扫描曝光的；基于由所述接收部接收到的所述信息生成在所述第2基板的扫描曝光时控制所述多个元件的控制数据；以及在所述第1基板的曝光处理中将所述控制数据保存于存储器。

本发明的一个方面包括如下步骤：通过上述曝光方法对所述基板进行曝光；以及对曝光后的所述基板进行显影。

本发明的一个方面包括如下步骤：通过上述曝光方法对平板显示器用的基板进行曝光；以及对曝光后的所述基板进行显影。

附图说明

图1是示出实施方式的曝光装置的构成的立体图。

图2是示出曝光装置的概略构成的侧视图。

图3是示出曝光装置的照明/投影模块的概略构成的侧视图。

图4是示出空间光调制元件的打开/关闭动作的立体图。

图5A是示出空间光调制元件的动作的图，是电源关闭状态的图。

图5B是示出空间光调制元件的动作的图，是空间光调制元件的打开状态的图。

图5C是示出空间光调制元件的动作的图，是空间光调制元件的关闭状态的图。

图6是示出设置于基板工作台的第1对准系统的概略构成的侧视图。

图7是示出设置于光学平台的第2对准系统的概略构成的侧视图。

图8是示出曝光装置的曝光处理的动作流程的一例的图。

图9是示出曝光装置的曝光处理的动作流程的变形例的图。

具体实施方式

以下，参照附图详细说明实施方式。

图1是示出本实施方式的曝光装置的一例的立体图。曝光装置1是经由光学系统向基板10照射照明光的装置。曝光装置1使由空间光调制元件75(参见图2)调制后的光通过投影光学系统(后述的照明/投影模块7)，使基于该光的像成像在感光材料(抗蚀剂)上并曝光。基板10是在表面上涂布有例如抗蚀剂的显示器用的玻璃基板。

如图1所示，曝光装置1包括：支承基板10的多个(作为一例为两个)基板工作台4(4A、4B)；为了相对于基板10曝光规定的曝光图案而进行扫描曝光的曝光装置主体2；以及用于将基板10向基板工作台4搬送/载置的基板更换部3。

在此，用第1方向X1表示在相对于基板10进行扫描曝光时移动基板工作台4的方向。将与第1方向正交(交叉)的方向设为第2方向X2。另外，将与第1方向X1及第2方向X2正交(交叉)的方向设为第3方向X3。

基板工作台4保持俯视观察时呈矩形的基板10。在扫描曝光时，如在后面说明的那样，基板工作台4相对于曝光装置主体向第1方向X1移动。另外，为了在基板10上对多个曝光区域分别进行曝光，基板工作台4向第2方向X2移动。第2方向X2也称为非扫描方向。

如图1及图2所示，曝光装置主体2具有曝光单元20、光学平台21、对准系统5、自动对焦系统23。曝光单元20内置有上述的空间光调制元件75，从光源61向曝光单元20供给光，该曝光单元20利用预先设定的曝光图案照射光。

曝光单元20搭载于光学平台21。光学平台21在三点处运动地支承于柱22，该柱22以跨过载置有基板工作台4并在第1方向X1上延伸的底座板11的方式设置。光学平台21配置为重心大致位于底座板11的第1方向X1上的中央部分。

底座板11借助多个防振台111设置于地面。底座板11是在第1方向X1上延伸的底板，在上表面11a上搭载后述的一对工作台4A、4B。在底座板11的上表面11a设有沿着第1方向X1引导基板工作台4的引导部(省略图示)。

柱22具有在第2方向X2上延伸的一对横架件221、和从横架件221的两端向下方延伸并与底座板11连结的腿部222。需要说明的是，由于搭载于光学平台21的载荷作用于腿部222，所以也可以在底座板11与腿部222的连结部配置防振台(省略图示)。在横架件221的上表面的适当位置形成有三个V形槽。光学平台21在一对横架件221上以使上表面21a朝向水平方向的状态借助三点的滚珠载置于上述V形槽。

在光学平台21上搭载有后述的照明/投影模块7、AF系统23、第2对准系统5B。并且，为了将曝光用光向基板10上引导，在光学平台21设有在厚度方向上贯穿的多个第1贯穿孔21b(参见图2)。光学平台21相对于柱22的固定方法只要为能够确保刚性的方法即可，能够适当应用。

基板工作台4用于将基板10相对于借助后述的投影模块7B投影的曝光图案的多个局部像高精度地定位。基板工作台4以6个自由度(第1方向X1、第2方向X2、第3方向X3、绕各轴X1、X2、X3旋转的θX1、θX2及θX3方向)进行驱动。

如图1及图2所示，基板工作台4具有配置在底座板11的一侧的第1基板工作台4A和配置在另一侧的第2基板工作台4B。这些基板工作台4A、4B形成为平板形状，利用上表面4a通过例如真空吸附等方法吸附保持基板10。

一对基板工作台4A、4B由底座板11上的未图示的引导部进行引导，通过干涉仪53或编码器对基板工作台4A、4B的位置进行测量、控制，而使它们向第1方向X1、第2方向X2移动。作为此时的基板工作台4A、4B的移动机构，例如能够采用通过空气使基板工作台4浮起并通过磁力使其移动的线性马达方式等。

第1基板工作台4A的可移动范围与第2基板工作台4B的可移动范围重叠。各基板工作台4的可移动范围的一部分(特别是曝光所需的行程)是共同的而不取决于基板工作台4A、4B，因此可以重叠。在该情况下，各基板工作台4A、4B需要设置为能够移动，或者还需要在至少一个基板工作台4上设置测量基板工作台4A、4B彼此之间的距离的传感器，以避免第1基板工作台4A与第2基板工作台4B相互碰撞或干涉。

基板工作台4的移动路径设定为从曝光单元20的下方通过。即，基板工作台4构成为被向基于曝光单元20的光的照射位置(也称为曝光位置)搬送，并使其通过该照射位置。并且，在基板工作台4通过曝光单元20的过程中，由曝光单元20形成的像的曝光图案被曝光在基板10上。

如图1所示，在更换基板10时使用的多个更换销41能够在上下方向(第3方向X3)上出没地设置于基板工作台4A、4B的上表面4a。这些更换销41在基板工作台4的上表面4a中的配置有基板10的区域中在第1方向X1和第2方向X2上隔开规定的间隔排列。若更换销41向上方突出，则成为基板10的下表面由销前端支承的状态。即，通过使更换销41出没，能够使基板10上升、下降。更换销41中的从上表面4a的突出长度被设定为至少后述的更换臂3A、3B的基板支承部31能够在上升后的基板10的下方进出的长度。

如图1所示，基板更换部3将基板工作台4上的已曝光基板10向基板工作台4的外方搬出，将下一曝光的基板10向已曝光基板10被搬出的基板工作台4上搬入。基板更换部3包括用于高速更换第1基板工作台4A上的基板10的第1更换臂3A、和用于高速更换第2基板工作台4B上的基板10的第2更换臂3B。第1更换臂3A及第2更换臂3B分别设有将基板10向基板工作台4搬入的搬入臂和将基板10搬出的搬出臂。这些更换臂3A、3B在臂前端具有基板支承部31。更换臂3A、3B配置在各基板工作台4A、4B的第2方向X2的侧方，且被设置为能够在第1方向X1、第2方向X2及第3方向X3上移动。更换臂3A、3B在第2方向X2上移动以使基板支承部31在基板10的下方进出，通过使其进一步上升而从下方支承基板10，并通过进一步在第2方向X2上向远离基板工作台4A、4B的方向移动，能够进行从基板工作台4A、4B上取出基板10的动作。将通过基板更换部在基板工作台4上搬送基板时的、底座板上的基板工作台4的位置称为基板更换位置。

基板10涂布有感光性的抗蚀剂并被搬入曝光装置1内，通过更换臂3A、3B而载置于在基板工作台4A、4B上设置的多个更换销41上。然后，使更换销41下降，由基板工作台4A、4B上的基板保持架吸附保持基板。像这样，由于基板工作台4A、4B需要从基板更换位置到曝光位置为止的驱动，所以例如在采用干涉仪53这种工作台测量系统的情况下，能够通过在曝光位置侧和基板更换位置侧进行干涉仪53的测量臂的切换来应对。

图3是示出曝光单元20的构成的图。

如图3所示，曝光单元20包括光源单元6(参见图1)和照明/投影模块7，该照明/投影模块7用于使用空间光调制元件75(后述)对光源单元6的光源61和来自光源61的光进行曝光。

如图1所示，光源单元6成对设置。作为光源单元6，能够采用以干涉性高的激光为光源61的光源单元、使用半导体激光型的UV-LD光源61的光源单元102及使用激光中继式的延迟器的光源单元。即，光源61为射出405nm、365nm的波长的灯、激光二极管、以及与空间调制元件75的驱动匹配的能够发出脉冲光的激光器。

如图3所示，照明/投影模块7的光学系统包括照明模块7A、投影模块7B、调制部7C。

照明模块7A与投影模块7B为一对一的关系而数量相同。照明模块7A将来自光源单元6的激光L通过该光纤71取入到照明模块7A内，并通过准直透镜721、复眼透镜723及主聚光透镜724使激光L大致均匀地照明空间光调制元件75。

在照明模块7A中配置有模块快门73，该模块快门73能够针对照明模块7A及投影模块7B分别对从光纤71中射出的激光L高速地进行打开/关闭。

照明模块7A使从图1所示的光源单元6的光源61输出的激光L作为曝光用照明光射入空间光调制元件75。如上所述，照明模块7A包括光纤71、准直透镜721、照明楔722、复眼透镜723、主聚光透镜724。光纤71使用例如石英的光纤。光源61的输出光(激光L)由光纤71引导而射入准直透镜721。准直透镜721将从光纤71射出并扩散的光变换为平行光后射出。照明楔722对从光纤71射出的光的强度(功率)进行调节。通过准直透镜721的光从复眼透镜723和主聚光透镜724通过并由反射镜725反射，以规定的反射角度射入空间光调制元件75。需要说明的是，也可以认为由照明模块7A和光源单元6两者照明空间光调制元件75，将两者一并视为照明系统。

调制部7C是对照明光进行调制来制作图案的构造，包括空间光调制元件75和关闭光吸收板74。空间光调制元件75作为一例采用数字反射镜器件。空间光调制元件75具备多个元件(在数字反射镜器件的情况下为反射镜)。

图4示出通过空间光调制元件75的打开/关闭显示规定的图案的情形。空间光调制元件75的各反射镜能够进行绕X1轴的旋转和绕X2轴的旋转。

图5A示出空间光调制元件75的电源关闭的状态。图5B所示的空间光调制元件75表示通过使反射镜绕X2轴倾斜而使来自照明模块7A的光朝向基板10反射的打开状态。另外，图5C所示的空间光调制元件75示出通过使反射镜绕X1轴倾斜而将来自照明模块7A的光设为关闭光L2并将光向关闭光吸收板74而非基板10引导的关闭状态。像这样，空间光调制元件75能够基于控制数据针对每个反射镜控制各反射镜的打开状态和关闭状态，来形成图案。

空间光调制元件75能够周期性地驱动各反射镜，周期性地对空间光调制元件75上的图案进行更新。光源61由于需要按图案的更新周期照明空间光调制元件75，所以优选采用以一定周期发出脉冲光的光源、或能够仅在规定的期间发出脉冲光的光源。需要说明的是，光源61也可以不发出连续光，在该情况下，也可以通过快门(未图示)的切换、声光调制器(未图示)的调制等将连续光变换为脉冲光，使得从光源61射出的光为实质上的脉冲光。

空间光调制元件75搭载于未图示的工作台，在搭载于工作台的状态下，在第1方向X1和/或第2方向X2上微动。其结果为，空间光调制子75能够相对于照明光移动，变更基板10上的图案的投影像的位置，能够对例如针对投影位置的目标值的偏差量进行修正。

如图2所示，投影模块7B支承于光学平台21，配置在调制部7C所具有的空间光调制元件75的下方。如图3所示，包括：倍率调节部76，其对用于以规定的大小投影空间光调制元件75的一个像素的的倍率进行调节；以及焦距调节部77，其进行基于向第3方向X3驱动透镜的焦距调节。

投影模块7B将在空间光调制元件75上形成的图案的像投影、曝光、形成在基板10上。

投影模块7B以1/2倍至1/10倍的投影倍率将空间光调制元件75上的图案缩小投影到基板10上。投影模块7B能够通过在第3方向X3上驱动倍率调节部76的倍率调节透镜761而对投影倍率进行少许修正。需要说明的是，作为投影倍率，不限于缩小，也可以是放大或等倍。

焦距调节部77具备一片或多片焦距调节透镜771，焦距调节透镜771主要用于调节空间光调制元件75向基板10上的投影的焦距。

如图2所示，投影模块7B在光学平台21中沿着第1方向X1设有多列。

如图6及图7所示，对准系统5具备设置于基板工作台4A、4B的第1对准系统5A(参见图6)、和设置于光学平台21的第2对准系统5B(参见图7)中的至少一方。

如图6所示，第1对准系统5A埋设于基板工作台4A、4B的规定的位置。第1对准系统5A测量基板10相对于基板工作台4A、4B的位置。第1对准系统5A配置在基板工作台4的例如四角。在基板工作台4上设有贯穿孔42，该贯穿孔42在工作台厚度方向上贯穿设有第1对准系统5A的四角的部位。

第1对准系统5A具有：透镜511，其配置在基板工作台4A的贯穿孔42内；光源513(例如LED)，其配置在透镜511的下方，将测量光朝向载置于基板工作台4上的规定位置的基板10的对准标记12照射；以及测定部512，其检测由对准标记12反射的光。

在基板工作台4上载置有基板10的情况下，第1对准系统5A能够测量基板10的例如四角的位置，能够通过测量X1方向位置、X2方向位置、旋转量(θX3)、X1方向的缩小/放大倍率、X2方向的缩小/放大倍率、正交度这6个参数(位置信息)来算出。

需要说明的是，作为基板工作台4中的第1对准系统5A的配置，不限于如上所述配置在四角的情况。例如，在因工艺而导致基板10为非线性形状等的情况下，配置有4处×4列等相应数量的第1对准系统5A。第1对准系统5A是与投影模块7B不同的单元，因此可以说是离轴对准系统。

第1对准系统5A以测定部512的摄像头的像素为基准进行测量。

如图2所示，在光学平台21上，在第1方向X1上，在夹着投影模块7B的两侧配置有AF系统23(参见图7)。AF系统23能够与基板10的扫描方向(第1方向X1)无关地在曝光处理之前检测基板10的X3方向上的位置。焦距调节部77基于AF系统23的测量结果来驱动焦距透镜771，对空间光调制元件75的图案像的焦距进行调节。

另外，如图2所示，基板工作台4具有校正用测量系统52、测量基板工作台4的位置的干涉仪53及照度测量仪54。

校正用测量系统52被用于测量及校正各种多个模块的位置。校正用测量系统52也被用于对配置在光学平台21上的第2对准系统5B进行校正。

像这样，在本实施方式的曝光装置1中，通过以基板工作台4内的第1对准系统5A测量由进行曝光的空间光调制元件75生成的图案的成像位置，能够基于测量基板工作台4的位置的干涉仪53和对准系统5的图像位置来测量基板工作台4中的第1对准系统5A相对于成像系统的位置。

另外，如图7所示，光学平台21也可以在第1基板工作台4A及第2基板工作台4B各自的上方的位置配置第2对准系统5B。

第2对准系统5B测量基板10相对于基板工作台4A、4B的位置。第2对准系统5B配置在第2贯穿孔21c中，该第2贯穿孔21c在厚度方向上贯穿光学平台21来设置。若为利用第2对准系统5B测量基板10相对于基板工作台4A、4B的位置的构成，则可以不采用将第1对准系统5A设置于第1基板工作台4A及第2基板工作台4B的构成。

第2对准系统5B具有：透镜551，其配置在光学平台21的第2贯穿孔21c的下方；光传感器552，其配置在透镜551的上方，朝向载置在基板工作台4上的规定位置的基板10的对准标记12照射测量光；以及测定部553，其检测由对准标记12反射的光。

第2对准系统5B与第1对准系统5A同样地，当在基板工作台4上载置有基板10时，能够通过测量与基板10相关的第1方向X1的位置、第2方向X2的位置、旋转量(θX3)、第1方向X1的缩小/放大倍率、第2方向X2的缩小/放大倍率、正交度这6个参数(位置信息)来算出。另外，第2对准系统5B通过测量局部区域而非测量整个基板10，能够算出基板10的变形的非线性分量或预先指定的曝光区域(例如分割为4个部分的曝光区域)的6个参数(位置信息)。

光学平台21在第1方向X1上延伸地形成。第2对准系统5B在第1方向X1上与照明/投影模块7分离地设置于光学平台21。基板工作台4向能够由第2对准系统5B测量基板10上的对准标记12的位置(对准测量位置)移动。能够使设置于基板10的对准标记12的配置在测量中具有一定程度的自由度。

另外，光学平台21支承对准系统CE(第2对准系统5B)，该对准系统CE(第2对准系统5B)在第1方向X1上设置在相互分开设置的投影模块7B之间。在利用位于两端的第2对准系统5B进行基板10上的对准标记的测量时进行基板工作台4的位置测量的干涉仪在曝光位置需要与曝光用的干涉仪进出切换，因此，为了测量在曝光位置的基板10或基板工作台4的位置而配置了对准系统CE。

曝光装置1与具有存储器的数据控制部连接而被控制。数据控制部与曝光装置1的各部位(对准系统5(5A、5B)、基板工作台4、光学系统(照明模块7A、投影模块7B及调制部7C))连接，进行测定值的收发、对曝光装置1指示控制动作等。数据控制部具有通过测量而生成和修正用于驱动空间光调制元件75的控制数据的功能，将控制数据的修正数据保存在存储器中。

接下来，基于附图说明对基板10进行连续曝光的方法。

首先，如图1所示，当向曝光装置1投入曝光用的制程时，通过掩模图案服务器选择曝光用的掩模数据(图案数据、图像数据)。然后，数据控制部将掩模数据按照明/投影模块7的数量来划分，并从划分得到的掩模数据生成控制数据并保存在存储器中。此时，由于空间光调制元件75以例如大致10kHz左右的更新速率更新4Mpixel，因此存储器高速保存大容量的控制数据。数据控制部将存储器中保存的控制数据分别向多个照明/投影模块7发送。照明/投影模块7在接收控制数据时进行各种曝光准备。照明/投影模块7将接收到的掩模数据加载到空间光调制元件75。

首先，曝光装置1按照制程进行照度(光的信息)的测量、校正。例如，配置在第1基板工作台4A上的照度测量仪54测量在空间光调制元件75上生成的照度测量用图案的光的照度。曝光装置1使用由多个照明模块/投影模块7分别测量的照度的测量结果，利用配置在照明模块7A内的照明楔722进行照度的调节，以消除照明/投影模块7间的照度差。

曝光装置1利用校正用测量系统52测量配置在光学平台21上的第2对准系统5B、和照明模块7A及投影模块7B的曝光位置。

即，校正用测量系统52测量照明模块7A及投影模块7B的配置和第2对准系统5B的位置，算出该照明模块7A及投影模块7B与第2对准系统5B的相对位置关系。

如图2所示，设置在第1基板工作台4A上的第1对准系统5A的位置以测定部512的摄像头的像素为基准进行测量。第1对准系统5A使用通过投影模块7B投影的空间光调制元件75的曝光图案进行测量。曝光装置1基于测量结果算出照明模块7A及投影模块7B与第1对准系统5A的相对位置关系。曝光装置1关于第2基板工作台4B也通过相同的方法算出照明模块7A及投影模块7B与第1对准系统5A的相对位置关系。像这样，曝光装置1算出照明模块7A及投影模块7B与对准系统5的相对位置关系。

接下来，如图6所示，基板更换部3将基板10载置在第1基板工作台4A上。此时，第1对准系统5A观察/测量基板10的对准标记12，算出第1对准系统5A的装置相对于基板10的相对位置。或者，第1基板工作台4A向第2对准系统5B的下方移动，第2对准系统5B观察/测量基板10的对准标记12，算出第2对准系统5B的装置相对于基板10的相对位置。由此，基于预先算出的照明模块7A及投影模块7B与对准系统5的相对位置关系、和对准系统5相对于基板10的相对位置，可知在基板上的哪个位置曝光图案即投影位置。

通过该动作，可知制程上待曝光的位置与基于当前的基板10和投影模块7B的配置关系而在基板10上曝光的位置之间的偏离量。在本实施方式中，为了修正该偏离量，数据控制部对曝光数据(掩模数据、图案数据、控制数据)进行修正。此外，曝光装置1也可以不仅为了修正偏离量而通过数据控制部对曝光数据进行修正，还在使基板工作台4本身移动以减小偏离量的基础上通过该数据控制部生成/修正修正数据。在该情况下，能够减少数据控制部进行数据修正的修正量。此外，曝光装置1也可以使搭载有空间光调制元件75的工作台移动来变更基板10上的曝光位置。曝光装置1可以通过由数据控制部进行数据修正和使基板工作台4移动进行曝光位置的修正来修正偏离量，也可以通过由数据控制部进行数据修正和使空间光调制元件75移动进行曝光位置修正来修正偏离量，还可以通过由数据控制部进行数据修正、使基板工作台4移动进行曝光位置的修正、及使空间光调制元件75移动进行曝光位置的修正来修正偏离量。

需要说明的是，在曝光装置1中，也可以针对基板10以液晶电视等的面板为单位算出修正值并求出基板工作台4的修正值。像这样，在局部修正基板10的情况下，基本上针对每个照明模块7A及投影模块7B修正值均不同，针对每个照明模块7A及投影模块7B算出修正值并对曝光的数字曝光数据进行修正。

图8所示的流程图示出在第1基板工作台4A和第2基板工作台4B中分别进行曝光动作和创建修正数据的修正数据创建动作这两个动作的动作流程的一例。

如图8所示，第1基板工作台4A使用基板更换部3的第1更换臂3A(参见图1)将基板10(将其称为第1基板)载置在第1基板工作台4A上。然后，对准系统5测量第1基板10上的对准标记12(步骤S11)。

接下来，上述数据控制部在步骤S11之后算出数字曝光数据的修正值(修正数据)(步骤S12)。然后，数据控制部将在步骤S12中得到的修正数据保存于存储器，并向照明/投影模块7发送。然后，曝光装置1基于所发送的第1基板10的修正数据和制程的信息相对于第1基板工作台4A上的第1基板10进行重叠曝光(步骤S13)。

在第2基板工作台4B中先进行的曝光动作(步骤S21)完成后，曝光装置1利用上述第1基板工作台4A相对于第1基板10进行曝光动作。在针对基于第1基板工作台4A的第1基板10进行曝光动作期间内，曝光装置1将在步骤S21中曝光后的基板10从第2基板工作台4B上搬出，并将新的基板10(将其称为第2基板)搬送至第2基板工作台4B(步骤S22)。将从第1基板工作台4A上搬出曝光后的基板10的动作、和使接下来曝光的基板10搬入至第1基板工作台4A上的动作中的至少一方统称为基板搬送动作来进行说明。然后，第1对准系统5A和/或第2对准系统5B测量第2基板10上的对准标记12(步骤S23)。

此外，由第1对准系统5A与第2对准系统5B、进一步来说是对准系统CE、干涉仪切换引起的误差的校正利用工作台标记或基板标记的校正来进行。

在数据控制部中，基于步骤22中的对准测量结果算出接下来在第2基板工作台4B上进行的曝光(也就是说，相对于第2基板10的曝光)所使用的修正数据、即用于驱动空间光调制元件75的数字曝光数据的修正值(修正数据)(步骤S24)。然后，数据控制部将在步骤S24中得到的修正数据保存于存储器并向照明/投影模块7发送。然后，曝光装置1基于所发送的第2基板10的修正数据和制程的信息针对第2基板工作台4B上的第2基板10进行重叠曝光(步骤S25)。与曝光装置1针对第2基板10的重叠曝光并行地，将载置在第1基板工作台4A上并在步骤13中曝光后的第1基板10从第1基板工作台4A上搬出。

像这样，曝光装置1通过具备多个基板工作台4，能够在一个第1基板工作台4A上进行的第1基板10的曝光处理中，在另一第2基板工作台4B中使用第1对准系统5A和/或第2对准系统5B实施从第2基板10的对准测量到修正数据的生成、数据发送为止的处理工序。由此，能够抑制节拍延迟的产生。

在此，曝光处理中是指包含基板工作台4从更换位置向对准测量位置移动的动作、对于基板10的曝光动作、从对于基板10的曝光动作结束到基板工作台4向更换位置移动为止的动作的处理。需要说明的是，曝光动作是对基板10进行扫描曝光的动作、为了变更进行扫描曝光的曝光区域而使基板工作台4向X1方向或X2方向移动的动作中的某一动作。

在进行第1基板工作台4A及第2基板工作台4B中的数据修正的动作中，还能够在数据的修正过程中进行校准等(例如基板工作台的正交度测量等)。

数据控制部例如也可以使用在曝光处理中的第2基板工作台4B上设置的照度测量仪54或校正用测量系统52测量到的照度等的光的信息，算出对载置在第1基板工作台4A上的基板10进行曝光时的修正数据。需要说明的是，数据控制部可以仅使用光的信息来算出修正数据，也可以使用对准系统5的测量结果和光的信息来算出修正数据。

另外，在曝光装置1中，先配合多个照明模块7A及投影模块7B的排列测量来进行与曝光位置及数据修正相关的测量，然后进行照度测量、设置于基板工作台4的移动镜13的弯曲(平直度)修正等，由此能够在曝光动作中进行基于数据的修正值的算出和修正数据的发送。像这样，能够不影响节拍地发送将基板10的对准和模块的排列考虑在内的数据。

在此，对曝光装置仅具备一个基板工作台的情况、和像本实施方式的曝光装置1这样具备多个基板工作台的情况进行比较。在曝光装置仅具备一个基板工作台的情况下，曝光装置通过对准系统5进行对准，在使用该结果利用数据控制部算出修正值、生成修正数据并完成发送之后，进行基板的曝光。在该情况下，可能会出现曝光装置在进行对准后且在修正数据的生成、修正数据的发送完成之前出现无法针对基板进行曝光的状态、也就是说，产生曝光等待的情况。例如将对基板工作台上的基板进行曝光的时间、和直到将曝光后的基板从基板工作台搬出为止的时间(或直到基板工作台从曝光位置向基板更换位置移动为止的时间)相加的时间需要例如100秒的时间，在对基板工作台上的基板进行曝光前进行的向基板工作台搬入基板、针对基板的对准测量、修正数据的创建、以及修正数据的发送需要50秒的时间(到所述基板搬出为止所需的时间(100秒)的一半的时间)的情况下，从将一张基板10搬入基板工作台4到曝光、搬出为止，需要两个时间相加后的150秒时间。也就是说，曝光装置在基板被搬入到基板工作台上之后的50秒后开始曝光处理。即使为了缩短一张基板从搬入到搬出为止的一连串生产节拍(在前述的例子中为150秒)，缩短从基板被搬入基板工作台到发送时间为止的时间，也无法将该时间设为0，从而影响生产节拍。从第一张基板的曝光完成到开始第二张曝光为止，需要从第一张基板的曝光到搬出为止的时间(t1)、第二张基板向基板工作台的搬入时间(t2)、针对第二张基板的对准动作/修正数据的生成/数据传送所需的时间(t3)相加的时间(t1+t2+t3)。

与之相对地，根据本实施方式的曝光装置1，通过设置多个(在本实施方式中为两个)基板工作台4A、4B，能够提高曝光中的作业效率。具体来说，通过在针对基板工作台4A、4B中的一个基板工作台(例如第1基板工作台4A)上的第1基板10进行曝光的期间内，在另一工作台(例如第2基板工作台4B)上进行已曝光基板10的搬出、第2基板10的搬入、对准动作/修正数据的生成/数据传送的全部动作，能够在第1基板10的曝光完成后立即开始第2基板10的曝光。如上所述，能够减少在曝光装置仅具备一个基板工作台的情况下从第一张基板的曝光完成到下一基板的曝光开始为止所需的时间(上述的t1+t2+t3的时间)。在前述例子中，能够将150秒的生产节拍设为100秒以下(仅需设为100秒中的用于曝光动作的时间)。由此，在本实施方式的曝光装置1中，能够取消在仅有一个基板工作台的曝光装置中产生的曝光等待的时间。

另外，数据控制部需要用于将曝光用的数据向空间光调制元件75的存储器和预先存储有用于进行包含第2基板10B的对准在内的曝光的数据的存储器。例如，也可以是大容量的存储器包括存储第1基板工作台4A用的数据的区域和存储第2基板工作台4B用的数据的区域。考虑基于数据读写的同时处理的延迟，优选数据控制部具有单独的存储器，也可以使用用于切换最终向空间光调制元件75发送的存储器的交换机。

以上对在第1基板工作台4A和第2基板工作台4B中分别进行曝光作业和数据修正用的对准作业这两种作业的动作流程进行了说明，但也可以采用图9所示的变形例的动作流程。

(变形例)

在图9所示的变形例的曝光装置1的曝光动作流程中，第1基板工作台4A被设置专用于曝光动作，第2基板工作台4B被设置专用于对准动作及数据修正动作。因此，第1对准系统5A仅设置于第2基板工作台4B。变形例的数据控制部的构成与上述实施方式相同。基板工作台4也可以配置为第1基板工作台4A的可移动范围与第2基板工作台4B的可移动范围不重叠。

在第1基板工作台4A中，按时间序列在步骤S31中针对第1基板10实施第1曝光α，在第1曝光α之后的步骤S32中针对第2基板实施第2曝光β，在第2曝光β之后的步骤S33中针对第3基板10实施第3曝光γ。

如图9所示，在步骤S41中，在第2基板工作台4B上针对第1基板工作台4A上的第1基板10实施第1曝光α的期间内，通过第1对准系统5A针对在第1曝光α之后要实施的第2曝光β用的第2基板10进行对准动作，并由数据控制部创建修正数据。

具体来说，在第2基板工作台4B中，使用基板更换部3的第1更换臂3A(参见图1)将第2基板10载置在第2基板工作台4B上。然后，通过第1对准系统5A测量第2基板10的对准标记12。在数据控制部中，通过第1对准系统5A的测量算出用于驱动空间光调制元件75的数字曝光数据的修正值(修正数据)。并且，在数据控制部中，将所得到的修正数据保存在存储器中。

接下来，若在第1基板工作台4A上完成曝光α，则使用图1所示的基板更换部3将曝光后的第1基板10从第1基板工作台4A上搬出。然后，使用基板更换部3将在步骤S41中创建了修正数据的第2基板10从第2基板工作台4B交付到第1基板工作台4A。

在将第2基板10从第2基板工作台4B交付到第1基板工作台4A上时，第1基板工作台4A为了通过第2对准系统5B检测对准标记12而移动，并通过第2对准系统5B掌握第2基板10相对于第1基板工作台4A的位置。或者，由第1对准系统5A测量第2基板10相对于第1基板工作台4A的位置来掌握该位置。

在变形例中，由于在第1基板工作台4A与第2基板工作台4B之间交接基板10，所以基于第2基板工作台4B与(交接前的)第2基板10的位置关系而生成的修正数据无法直接使用。其理由在于，第2基板工作台4B与(向第1基板工作台4A交付前的)第2基板10的位置关系和第1基板工作台4A与(向第1基板工作台4A交付后的)第2基板10的位置关系不同。为此，若事先测量第1工作台4A与第2工作台4B的位置关系来获知基板10相对于交接前后的各工作台4A、4B的位置(测量对准标记12而求出的位置)，则能够对第2基板工作台4B与(向第1基板工作台4A交付前的)第2基板10的位置关系、和第1基板工作台4A与(向第1基板工作台4A交付后的)第2基板10的位置关系进行相对比较。在此，如图7所示，使用在第1方向X1上在相互分开设置的投影模块7B之间设置的第2对准系统5B(对准系统CE)仅测量基板10的规定的点数，来测量包含由从第1基板工作台4A向第2基板工作台4B的交接引起的基板10的旋转在内的位置偏离，设为与创建了数据修正的状态大致相同的状态，在基板工作台4、保持空间光调制元件75的工作台上进行投影位置的修正。

然后，在第1基板工作台4A中，在步骤S32中，基于从数据控制部发送的第2基板的修正数据和制程的信息针对第1基板工作台4A上的第2基板10进行第2曝光β(步骤S32)。此外，也可以与相对比较获知的偏离量对应地进一步进行修正数据的修正。也可以在进一步对修正数据进行修正的同时进行工作台位置的调节和/或空间光调制元件75的位置调节。

此外，在步骤S42中，在第2基板工作台4B上针对第1基板工作台4A上的第2基板10实施第2曝光β的期间内，通过对准系统5针对在第2曝光β之后要实施的第3曝光γ用的第3基板10进行对准，并由数据控制部创建修正数据。

具体来说，在第2基板工作台4B上，使用基板更换部3的第1更换臂3A(参见图1)将第3基板10载置在第2基板工作台4B上。然后，通过对准系统5测量第3基板10的对准标记12。在数据控制部中，通过基于对准系统5的测量算出用于驱动空间光调制元件75的数字曝光数据的修正值(修正数据)。并且，在数据控制部中，将所得到的修正数据保存于存储器。

以下，在第1基板工作台4A和第2基板工作台4B中依次反复进行相同的动作。

像这样，在变形例的曝光动作中，能够在多个(此处为两个)基板工作台4A、4B中的一个曝光专用的第1基板工作台4A上进行的基板10的曝光处理中，在另一对准及数据修正专用的第2基板工作台4B上使用第1对准系统5实施从基板10的对准到数据发送为止的处理工序，并预先发送修正数据。由此能够抑制发生节拍延迟。

在本变形例中，在曝光装置1内的曝光专用的第1基板工作台4A与对准及数据修正专用的第2基板工作台4B之间进行基板10的交接。但是，第2基板工作台4B无需设置在曝光装置1内，也可以设置在独立于曝光装置1的其他装置中。例如，在通过对准测量测量的对准标记12的点数多而在此之后由数据控制部对修正数据的创建在下一基板10的曝光开始之前未完成的情况下、或在为了还进行非线性等的修正而使得对准点数多等的情况下，可以将第2基板工作台4B设置于独立于曝光装置1的其他装置。其他装置例如是对基板10涂敷感光材料(抗蚀剂)的涂料器、或者位于涂料器的前级来对基板10进行规定的处理的装置。通过利用其他装置进行详细的对准测量，能够进一步节约实际上测量的数据的处理(修正数据的创建)及到曝光为止的时间。曝光装置1具备接收由其他装置测量出的结果的接收部。数据控制部使用接收到的数据创建修正数据。在该情况下，数据控制部的存储器需要正在曝光的基板的数据的保存部、由其他装置处理并已经完成测量的基板10的数据保存部、以及当前正在进行测量的数据的保存部这三个保存部。数据控制部对应于基板选择性地进行数据读取。

也就是说，只要通过使用曝光处理前重合用的(独立于曝光装置1的其他装置的)数据测量仪进行测量并对测量数据和基板进行匹配管理，从而将不同于当前正在进行曝光的基板的数据处理保存在存储器中即可。此时的数据测量仪和曝光装置通过设为大致相同的环境(保持架或基板温度)变化，能够使测量在基板工作台4侧无法修正的倍率基本不变地进行测量。

需要说明的是，该数据测量仪和曝光机中由测量引起的基板的吸附等的差也可以根据最终重合曝光的结果来求出，并作为工艺偏差预先输入至数据修正。

另外，关于对准系统5，说明了在第1方向X1上设置在与投影模块7B分开的位置的一例，也就是说，说明了投影模块7B的光轴与对准的轴的位置偏离的离轴对准的情况。但不限于此，也可以一并设置投影模块7B的光轴与对准轴重叠的同轴对准、借助投影模块7B进行测量的TTL(Through the lens：经由透镜对准)构成的对准。

光调制器(空间光调制元件57)包含液晶元件、数字反射镜器件(数字微型反射镜器件、DMD)、磁光学光调制器(Magneto Optic Spatial Light Modulator、MOSLM)等。光调制器可以是反射来自作为照明光学系统的照明模块7A的照明光的反射型，也可以是使照明光透射的透射型，也可以是使照明光折射的折射型。光调制器能够在空间上且在时间上对照明光进行调制。

以上对本发明的实施方式进行了说明，以下补充说明本发明与上述实施方式中的对应关系。

(1)在上述实施方式中，经由根据图像图案被控制多个元件的光调制器(空间光调制元件75)对基板20进行扫描曝光的曝光装置包括：第1基板工作台4A，其支承第1基板10；第2基板工作台4B，其支承与第1基板10不同的第2基板10；测量部，其测量第2基板10的信息；以及生成部，其在第1基板10的曝光处理中，基于信息生成在对第2基板10进行扫描曝光时控制所述多个元件的控制数据。

在这种构成的曝光装置中，通过设置多个基板工作台4A、4B，能够提高曝光时的作业效率。即，在相对于基板工作台4A、4B中的一个基板工作台(例如第1基板工作台4A)上的第1基板10进行曝光的期间内，通过在另一工作台(例如第2基板工作台4B)上进行已曝光基板10的搬出、第2基板10的搬入、基于测量部的对准动作/基于生成部的修正数据的生成/数据传送的全部动作，能够在第1基板10的曝光完成后立即开始第2基板10的曝光。像这样，能够减少在曝光装置仅具备一个基板工作台4的情况下从第一张基板的曝光完成到下一基板10的曝光开始为止所需的时间。由此，在本实施方式中，能够消除以往在这种基板工作台4仅为一个的曝光装置1中产生的曝光等待的时间。

(2)另外，在上述实施方式中，测量部在第1基板10的曝光处理中测量第2基板10的信息。

根据这种构成，能够在多个基板工作台4A、4B中的一个曝光专用的第1基板工作台4A上进行的第1基板10的曝光处理中，在另一对准(测量)及数据修正专用的第2基板工作台4B上测量基板10的信息，因此能够抑制发生节拍延迟。

(3)另外，在上述实施方式中，测量部与曝光单元20(光调制器(空间光调制元件75))分开设置，以便于避免对通过具有光调制器(空间光调制元件75)的曝光单元20曝光的第1基板10进行支承的第1基板工作台4A与对通过测量部测量的第2基板10进行支承的第2基板工作台4B碰撞。

根据这种构成，由于以使第1基板工作台4A的可移动范围与第2基板工作台4B的可移动范围不重叠的方式来配置，所以能够在一个基板工作台4的曝光动作中，在另一基板工作台4上通过测量部测量基板10的信息。由于能够并行地进行两种作业，所以能够抑制发生节拍延迟，能够消除曝光等待的时间。

(4)另外，在上述实施方式中，测量部设置于第2基板工作台4B。

根据这种构成，能够在第1基板工作台4A的曝光动作中，在第2基板工作台4B上通过测量部测量第2基板10的信息。在第1基板工作台4A上曝光完成后，能够将在第2基板工作台4B上测定后的第2基板10搬送并载置在第1基板工作台4A上，并基于所测量的信息针对第1基板工作台4A上的第2基板10进行曝光。也就是说，能够在第1基板10曝光后以使等待时间为最小限度的状态立即进行第2基板10的曝光。像这样，由于能够并行地进行两种作业，因此能够抑制发生节拍延迟，能够消除曝光等待的时间。

(5)另外，在上述实施方式中，第1基板工作台4A具有在第1基板10的曝光处理中或曝光处理前获取与具有光调制器(空间光调制元件75)的曝光单元20的光相关的信息的获取部，生成部基于信息和由获取部获取的信息生成控制数据。

根据这种构成，能够在第1基板工作台4A中的第1基板10的曝光处理中或曝光处理前由获取部获取与光相关的信息，并由生成部基于由获取部获取的信息生成控制数据。因此，能够基于由生成部生成的控制数据对第1基板工作台4A上的第2基板10进行曝光。

(6)另外，在上述实施方式中，通过具有根据图像图案被控制多个元件的光调制器的曝光单元20对基板10进行扫描曝光的曝光装置包括：第1基板工作台4A，其支承第1基板10；第2基板工作台4B，其支承与第1基板10不同的第2基板10；以及生成部，其生成在第2基板10的扫描曝光时控制多个元件来曝光的曝光图案的控制数据，第1基板工作台4A具有获取与曝光单元20的光相关的信息的获取部，生成部基于由获取部获取的信息生成控制数据。

根据这种构成，由于设有多个基板工作台4A、4B，能够提高曝光中的作业效率。即，在第2基板工作台4B上由获取部获取与曝光单元20的光相关的信息，生成部能够基于由获取部获取的信息生成曝光图案的控制数据。因此，能够基于由生成部生成的曝光图案针对第1基板工作台4A上的第2基板10进行曝光。

(7)另外，在上述实施方式中，生成部在第1基板10的曝光处理中生成控制数据。

根据这种构成，在多个基板工作台4A、4B中的一个曝光专用的第1基板工作台4A上进行的第1基板10的曝光处理中，生成部能够基于与在第1基板10之后要曝光的第2基板10的光相关的信息生成曝光图案的控制数据，因此能够抑制发生节拍延迟。

(8)另外，在上述实施方式中，获取部在第1基板10的曝光处理中或曝光处理前获取与光相关的信息。

根据这种构成，能够在第1基板工作台4A上针对第1基板10进行的曝光处理中或曝光处理前，在第2基板工作台4B上由获取部获取与曝光单元20的光相关的信息，并由生成部基于由获取部获取的信息生成曝光图案的控制数据。

(9)另外，在上述实施方式中，获取部获取与光的照度相关的信息和与第1基板工作台4A相关的信息中的至少一个。

根据这种构成，由于生成部能够基于由获取部获取的信息生成曝光图案的控制数据，因此能够进行精度更高的曝光。

(10)另外，在上述实施方式中，生成部具备在第1基板10的曝光处理中保存所生成的控制数据的存储器。

根据这种构成，由于将由生成部生成的控制数据预先保存在存储器中，所以能够在对第1基板10进行曝光时或在开始对第2基板10进行曝光之前的适当时机，高效地将存储器中保存的控制数据向曝光单元20发送。

(11)另外，在上述实施方式中，具备将控制数据从存储器向曝光单元20发送的发送部，发送部在曝光单元20针对第2基板10的曝光开始前将控制数据向曝光单元20发送。

根据这种构成，能够在第2基板10的曝光开始前高效地将由生成部生成并保存在存储器中的控制数据向曝光单元20发送。

(12)另外，在上述实施方式中，具备使第2基板工作台4B移动的驱动部，驱动部在针对第2基板10的扫描曝光中使支承第2基板10的第2基板工作台4B相对于接收到控制数据的曝光单元20移动。

根据这种构成，能够取代驱动第1基板工作台4A而通过驱动部驱动第2基板工作台4B，使其移动至能够由曝光单元20曝光的位置。也就是说，能够利用曝光单元20相对于第2基板工作台4B上的第2基板10进行曝光。像这样，能够在能够由曝光单元20曝光的位置交替切换第1基板工作台4A和第2基板工作台4B来进行曝光。

(13)另外，在上述实施方式中，包括：搬送部，其将第1基板10从第1基板工作台4A搬出，将第3基板10搬入第1基板10被搬出的第1基板工作台4A；以及测量装置，其测量与第1基板工作台4A上的第3基板10相关的信息，生成部基于信息生成对第3基板10进行曝光的曝光图案的控制数据。

根据这种构成，能够利用搬送部将第1基板工作台4A上的第1基板10搬出并将第3基板10搬入到第1基板工作台4A上，利用测量装置测量与该第1基板工作台4A上的第3基板10相关的信息，由生成部基于所测量的信息生成曝光图案的控制数据。

(14)另外，在上述实施方式中，测量装置与曝光单元20分开设置，以避免对通过曝光单元20曝光的第2基板10进行支承的第2基板工作台4B与对通过测量装置测量的第3基板10进行支承的第1基板工作台4A碰撞。

根据这种构成，能够在第2基板工作台4B上相对于第3基板10进行曝光的动作中，在第1基板工作台4A上利用测量装置测量第3基板10的信息。像这样，由于能够并行地进行两种作业，因此能够抑制发生节拍延迟，能够消除曝光等待的时间。

(15)另外，在上述实施方式中，测量装置设置在第1基板工作台4A上。

根据这种构成，能够利用设置于各基板工作台4A、4B的测量装置测量支承在第1基板工作台4A和第2基板工作台4B双方上的基板10的信息。因此，能够在针对一个基板工作台4的基板10进行曝光的动作中，在另一基板工作台4上利用测量装置测量基板10的信息。像这样，由于能够并行地进行两种作业，因此能够抑制发生节拍延迟，能够消除曝光等待的时间。

(16)另外，在上述实施方式中，存储器具有：第1存储器，其记录通过测量装置测量出的、支承于第2基板工作台4B的基板10的信息；以及第2存储器，其记录利用测量装置测量出的、支承于第1基板工作台4A的基板10的信息。

根据这种构成，由于将由第1基板工作台4A及第2基板工作台4B各自的生成部生成的控制数据预先保存在与各基板工作台4A、4B对应的第1存储器及第2存储器中，因此能够在对基板10进行曝光时或基板10的曝光开始前的适当时机，高效地将存储器中保存的控制数据向曝光单元20发送。

(17)另外，在上述实施方式中，包括：搬送部，其将第2基板10从第2基板工作台4B向第1基板工作台4A搬送；以及驱动装置，其使第1基板工作台4A移动，搬送部在通过生成部生成控制数据后，将第2基板10搬入第1基板10被搬出的第1基板工作台4A，驱动装置使对所搬入的第2基板10进行支承的第1基板工作台4A相对于曝光单元20移动。

根据这种构成，能够利用驱动装置驱动第1基板工作台4A以使其移动至能够由曝光单元20曝光的位置。也就是说，将第2基板工作台4B上的第2基板10通过搬送部向第1基板工作台4A上搬送，并利用曝光单元20相对于该第1基板工作台4A上的第2基板10进行曝光。像这样，能够将第1基板工作台4A配置在能够由曝光单元20曝光的位置并进行曝光。

(18)另外，在上述实施方式中，搬送部将第3基板10搬入第2基板10被搬出的第2基板工作台4B，设有对第2基板工作台4B上的第3基板10的信息进行测量的测量部，生成部在第2基板10的曝光处理中生成与第3基板10相关的控制数据。

根据这种构成，能够在第1基板工作台4A上的第2基板10的曝光处理中利用测量部测量被搬入第2基板工作台4B的第3基板10的信息，利用生成部基于由测量部测量到的第3基板10的信息生成控制数据。像这样，由于能够并行地进行两种作业，因此能够抑制发生节拍延迟，能够消除曝光等待的时间。

(19)另外，在上述实施方式中，生成部对预先设定的曝光数据进行修正，生成控制数据。

根据这种构成，生成部能够根据基于由测定部测定出的信息而预先设定的曝光数据，进行将所设定的曝光数据与测定信息对比后的修正，因此能够进行精度更高的修正。

(20)另外，在上述实施方式中，曝光单元20设有多个，使用多个空间光调制元件75对光源61和来自光源61的光进行分割曝光。

根据这种构成，能够使用多个曝光单元20，通过多个空间光调制元件75对光源61和来自光源61的光进行分割曝光。

(21)另外，在上述实施方式中，经由根据图像图案被控制多个元件的光调制器对基板10进行扫描曝光的曝光装置包括：基板工作台4，其支承第1基板10；接收部，其接收由与曝光装置不同的装置进行测量的、在对第1基板10进行扫描曝光后要利用曝光装置1扫描曝光的第2基板10的信息；生成部，其基于通过接收部接收到的信息，生成在对第2基板10进行扫描曝光时控制多个元件的控制数据；以及存储器，其在第1基板10的曝光处理中保存控制数据。

(22)另外，在上述实施方式中，包括：投影部，其将图像图案的像投影到第1基板或第2基板上；以及位置变更部，其在对第1基板或第2基板进行扫描曝光时，对通过投影部被投影像的第1基板或第2基板上的位置进行变更。位置变更部控制基板工作台4、保持光调制器75的基板工作台4、投影系统的一部分中的至少一个，对所述位置进行变更。

(23)另外，在上述实施方式中，包括：搬送部，其从基板工作台4搬出第1基板10并搬入第2基板10；以及测量部，其测量向基板工作台4搬送的第2基板的信息。测量部对由不同的装置为了测量第2基板10的信息而测量出的标记进行测量，来获取第2基板10的信息。

(24)另外，在上述实施方式中，能够具备将用于识别基板10的识别信息与由其他装置测量出的第2基板10的信息或控制数据建立关联的控制部。

(25)另外，在上述实施方式中，包含使用(1)～(20)中任一项所述的曝光装置1对基板10进行曝光的步骤、和对曝光的基板10进行显影的步骤。

根据这种构成，使用曝光装置1消除曝光等待的时间地对基板10进行曝光并对曝光后的基板10进行显影，从而能够高效地制造器件。

(26)另外，在上述实施方式中，包含使用(1)～(20)中任一项所述的曝光装置对平板显示器用的基板进行曝光的步骤、和对曝光后的所述基板进行显影的步骤。

根据这种构成，使用曝光装置1消除曝光等待的时间地对基板10进行曝光并对曝光后的基板10显影，从而能够高效地制造平板显示器。

(27)另外，在上述实施方式中，通过具有光调制器的曝光单元对基板进行扫描曝光的曝光方法具有下述步骤：将第1基板支承于第1工作台；将与所述第1基板不同的第2基板支承于第2工作台；对第2基板的信息进行测量；以及在所述第1基板的曝光处理中，基于所述信息生成对所述第2基板进行曝光的曝光图案的控制数据。

根据这种构成，通过设有多个基板工作台4A、4B，能够提高曝光中的作业效率。即，在相对于基板工作台4A、4B中的一个基板工作台(例如第1基板工作台4A)上的第1基板10进行曝光的期间内，在另一工作台(例如第2基板工作台4B)上进行已曝光基板10的搬出、第2基板10的搬入、基于测量部的对准动作/基于生成部的修正数据的生成/数据传送的全部动作，由此能够在第1基板10的曝光完成后立即开始第2基板10的曝光。像这样，能够减少在曝光装置仅具备一个基板工作台4的情况下从第一张基板的曝光完成到下一基板10的曝光开始为止所需的时间。由此，在本实施方式中，能够消除以往在这种基板工作台4仅为一个的曝光装置1中产生的曝光等待的时间。

(28)另外，在上述实施方式中，通过具有光调制器的曝光单元20对基板10进行扫描曝光的曝光装置1具有下述步骤：将第1基板10支承在具有获取与曝光单元20的光相关的信息的获取部的第1基板工作台4A上的步骤；将与第1基板10不同的第2基板10支承在第2基板工作台4B上的步骤；以及基于由获取部获取的信息生成对第2基板10进行曝光的曝光图案的控制数据的步骤。

根据这种构成，通过设有多个基板工作台4A、4B，能够提高曝光中的作业效率。即，能够在第2基板工作台4B上利用获取部获取与曝光单元20的光相关的信息，并利用生成部基于由获取部获取的信息生成曝光图案的控制数据。因此，能够基于由生成部生成的曝光图案相对于第1基板工作台4A上的第2基板10进行曝光。

(29)另外，在上述实施方式中，经由根据图像图案来控制多个元件的光调制器对基板进行扫描曝光的曝光方法具有下述步骤：将第1基板支承于工作台；由接收部接收由与对所述基板进行扫描曝光的曝光装置不同的装置测量的第2基板的信息，其中，所述第2基板在相对于所述第1基板进行扫描曝光后由所述曝光装置扫描曝光；基于由所述接收部接收到的所述信息生成在对所述第2基板进行扫描曝光时控制所述多个元件的控制数据；以及在所述第1基板的曝光处理中将所述控制数据保存于存储器。

(30)另外，在上述实施方式中，包含下述步骤：通过(27)至(29)中任一项所述的曝光方法对基板10进行曝光的步骤；以及对曝光后的基板10进行显影的步骤。

根据这种构成，能够通过消除曝光等待的时间地对基板10进行曝光并对曝光后的基板10进行显影的步骤高效地制造器件。

(31)另外，在上述实施方式中，包含下述步骤：通过(27)至(29)中任一项所述的曝光方法对平板显示器用的基板进行曝光；以及对曝光后的所述基板进行显影的步骤。

根据这种构成，使用曝光装置1消除曝光等待的时间地对基板10进行曝光并对曝光后的基板10显影，由此能够高效地制造平板显示器。

以上参照附图对该发明的一实施方式进行了详细说明，但具体的构成不限于上述构成，能够在不脱离本发明要旨的范围内进行多种设计变更等。

附图标记说明

1曝光装置、2曝光装置主体、3基板更换部、4基板工作台、4A第1基板工作台、4B第2基板工作台、5对准系统、5A第1对准系统、5B第2对准系统、6光源单元、7照明/投影模块、7A照明模块、7B投影模块、10基板、11底座板、20曝光单元、21光学平台、22柱、23AF系统、61光源、75空间光调制元件、X1第1方向、X2第2方向、X3第3方向。

Claims (31)

1.一种曝光装置，其经由光调制器对基板进行扫描曝光，所述光调制器的多个元件根据图像图案来控制，所述曝光装置包括：

第1工作台，其支承第1基板；

第2工作台，其支承与所述第1基板不同的第2基板；

测量部，其测量所述第2基板的信息；以及

生成部，其在所述第1基板的曝光处理中，基于所述信息生成在对所述第2基板进行扫描曝光时控制所述多个元件的控制数据。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，

所述测量部在所述第1基板的曝光处理中测量所述第2基板的信息。

3.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其中，

所述测量部与所述光调制器分开设置，以使得对通过具有所述光调制器的曝光单元曝光的所述第1基板进行支承的所述第1工作台不与对通过所述测量部测量的所述第2基板进行支承的所述第2工作台发生碰撞。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的曝光装置，其中，

所述测量部设置于所述第2工作台。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的曝光装置，其中，

所述第1工作台具有获取部，该获取部在所述第1基板的曝光处理中或曝光处理前获取与具有所述光调制器的曝光单元的光相关的信息，

所述生成部基于所述信息和由所述获取部获取的信息生成所述控制数据。

6.一种曝光装置，其通过具有光调制器的曝光单元对基板进行扫描曝光，所述光调制器的多个元件根据图像图案来控制，所述曝光装置包括：

第1工作台，其支承第1基板；

第2工作台，其支承与所述第1基板不同的第2基板；以及

生成部，其生成在对所述第2基板进行扫描曝光时控制所述多个元件的控制数据，

所述第1工作台具有获取部，该获取部获取与所述曝光单元的光相关的信息，

所述生成部基于由所述获取部获取的信息生成所述控制数据。

7.根据权利要求6所述的曝光装置，其中，

所述生成部在所述第1基板的曝光处理中生成所述控制数据。

8.根据权利要求6或7所述的曝光装置，其中，

所述获取部在所述第1基板的曝光处理中或曝光处理前获取与所述光相关的信息。

9.根据权利要求5～8中任一项所述的曝光装置，其中，

所述获取部获取与所述光的照度相关的信息和与所述第1工作台相关的信息中的至少一个。

10.根据权利要求1～9中任一项所述的曝光装置，其中，

所述生成部具备存储器，所述存储器保存在所述第1基板的曝光处理中生成的所述控制数据。

11.根据权利要求10所述的曝光装置，其中，

具备发送部，其将所述控制数据从所述存储器向所述曝光单元发送，

所述发送部在所述曝光单元对所述第2基板进行的曝光开始前向所述曝光单元发送所述控制数据。

12.根据权利要求10或11所述的曝光装置，其中，

具备使所述第2工作台移动的驱动部，

所述驱动部在相对于所述第2基板的扫描曝光中，使支承所述第2基板的所述第2工作台相对于接收到所述控制数据的所述曝光单元移动。

13.根据权利要求12所述的曝光装置，其包括：

搬送部，其将所述第1基板从所述第1工作台搬出，并将第3基板搬入所述第1基板被搬出的所述第1工作台；以及

测量装置，其测量与所述第1工作台上的所述第3基板相关的信息，

所述生成部基于所述信息生成对所述第3基板进行曝光的曝光图案的控制数据。

14.根据权利要求13所述的曝光装置，其中，

所述测量装置与所述曝光单元分开设置，以使得对通过所述曝光单元曝光的所述第2基板进行支承的所述第2工作台不与对通过所述测量装置测量的所述第3基板进行支承的所述第1工作台碰撞。

15.根据权利要求13或14所述的曝光装置，其中，

所述测量装置设置于所述第1工作台。

16.根据权利要求13～15中任一项所述的曝光装置，其中，

所述存储器具有：

第1存储器，其记录通过所述测量装置测量的、由所述第2工作台支承的基板的信息；以及

第2存储器，其记录通过所述测量装置测量的、由所述第1工作台支承的基板的信息。

17.根据权利要求10或11所述的曝光装置，其包括：

搬送部，其将所述第2基板从所述第2工作台向所述第1工作台搬送；以及

驱动装置，其使所述第1工作台移动，

所述搬送部在由所述生成部生成了所述控制数据之后，将所述第2基板向所述第1基板被搬出的所述第1工作台搬入，

所述驱动装置使支承所搬入的所述第2基板的所述第1工作台相对于所述曝光单元移动。

18.根据权利要求17所述的曝光装置，其中，

所述搬送部将第3基板向所述第2基板被搬出的所述第2工作台搬入，

在所述曝光装置设有对所述第2工作台上的所述第3基板的信息进行测量的测量部，

所述生成部在所述第2基板的曝光处理中生成与所述第3基板相关的所述控制数据。

19.根据权利要求1～18中任一项所述的曝光装置，其中，

所述生成部对预先设定的曝光数据进行修正，生成所述控制数据。

20.根据权利要求1～19中任一项所述的曝光装置，其中，

所述曝光单元设有多个，

使用多个空间光调制元件对光源和来自所述光源的光进行分割曝光。

21.一种曝光装置，其经由光调制器对基板进行扫描曝光，所述光调制器的多个元件根据图像图案来控制，所述曝光装置包括：

工作台，其支承第1基板；

接收部，其接收通过与所述曝光装置不同的装置测量出的第2基板的信息，所述第2基板是在对所述第1基板进行扫描曝光之后通过所述曝光装置来扫描曝光的；

生成部，其基于通过所述接收部接收到的所述信息，生成在对所述第2基板进行扫描曝光时控制所述多个元件的控制数据；以及

存储器，其在所述第1基板的曝光处理中保存所述控制数据。

22.根据权利要求21所述的曝光装置，其包括：

投影部，其将所述图像图案的像投影到所述第1基板或所述第2基板上；以及

位置变更部，其在对所述第1基板或所述第2基板进行扫描曝光时，变更被所述投影部投影所述像的所述第1基板或所述第2基板上的位置，

所述位置变更部控制所述工作台、保持所述光调制器的工作台、投影系统的一部分中的至少一个，来变更所述位置。

23.根据权利要求21或22所述的曝光装置，其包括：

搬送部，其将所述第1基板从所述工作台搬出，并搬入所述第2基板；

测量部，其测量被搬送至所述工作台的所述第2基板的信息；以及，

所述测量部对由所述不同的装置为了测量所述第2基板的信息而测量出的标记进行测量，获取所述第2基板的信息。

24.根据权利要求21～23中任一项所述的曝光装置，其中，

具备控制部，所述控制部将用于识别所述基板的识别信息与由其他装置测量的所述第2基板的信息或所述控制数据建立关联。

25.一种器件制造方法，其包括如下步骤：

使用权利要求1～24中任一项所述的曝光装置对所述基板进行曝光；以及

对曝光后的所述基板进行显影。

26.一种平板显示器的制造方法，其包括如下步骤：

使用权利要求1～24中任一项所述的曝光装置对平板显示器用的基板进行曝光；以及

对曝光后的所述基板进行显影。

27.一种曝光方法，其经由光调制器对基板进行扫描曝光，所述光调制器的多个元件根据图像图案来控制，所述曝光方法包括如下步骤：

将第1基板支承于第1工作台；

将与所述第1基板不同的第2基板支承于第2工作台；

测量所述第2基板的信息；以及

在所述第1基板的曝光处理中，基于所述信息生成在对所述第2基板进行扫描曝光时控制所述多个元件的控制数据。

28.一种曝光方法，其经由光调制器对基板进行扫描曝光，所述光调制器的多个元件根据图像图案来控制，所述曝光方法包括如下步骤：

将第1基板支承于第1工作台，所述第1工作台具有获取部，该获取部获取与具有所述光调制器的曝光单元的光相关的信息；

将与所述第1基板不同的第2基板支承于第2工作台；

基于由所述获取部获取的信息生成对所述第2基板进行曝光的曝光图案的控制数据。

29.一种曝光方法，其经由光调制器对基板进行扫描曝光，所述光调制器的多个元件根据图像图案来控制，所述曝光方法包括如下步骤：

将第1基板支承于工作台；

通过接收部接收由与对所述基板进行扫描曝光的曝光装置不同的装置测量出的第2基板的信息，所述第2基板是在对所述第1基板进行扫描曝光后由所述曝光装置扫描曝光的；

基于由所述接收部接收到的所述信息生成在对所述第2基板进行扫描曝光时控制所述多个元件的控制数据；以及

在所述第1基板的曝光处理中将所述控制数据保存于存储器。

30.一种器件制造方法，其包括如下步骤：

通过权利要求27至29中任一项所述的曝光方法对所述基板进行曝光；以及

对曝光后的所述基板进行显影。

31.一种平板显示器的制造方法，其包括如下步骤：

通过权利要求27至29中任一项所述的曝光方法对平板显示器用的基板进行曝光；以及

对曝光后的所述基板进行显影。