TWI488012B - 繪圖裝置及其焦點調整方法 - Google Patents

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TWI488012B
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Description

繪圖裝置及其焦點調整方法
本發明係關於對基板表面照射光束從而進行繪圖之繪圖裝置、及該繪圖裝置之焦點調整方法。
使光束收斂至載置於平台之基板表面而進行繪圖之繪圖裝置中，必須對用以將光束正確收斂至基板表面之收斂光學系統之焦點進行調整。然而，在進行繪圖時難以同時檢測焦點是否一致。因此，提案有藉由將相對收斂光學系統之基板之相對位置對應於收斂光學系統之焦點位置進行反饋控制，而間接調整焦點之自動聚焦技術。
例如，在特開平9-318839號公報(專利文獻1)所記述之技術中，在繪圖用雷射光束所照射之基板表面上，從相對其光軸傾斜之方向照射其他光，且接受來自基板之反射光。接著，藉由根據繪圖頭與基板表面之距離，利用反射光之受光位置產生變化，來調整繪圖頭相對基板之高度，從而進行焦點調整。
又例如，在特開平2009-246165號公報(專利文獻2)所記述之技術中，藉由隔著來自繪圖頭之雷射光之投影面而設置於繪圖頭之相反側之CCD感測器，來檢測投影面之收斂光學像。接著，藉由以使像之對比度最大化之方式來調整聚焦透鏡之位置，並令雷射光收斂於投影面上。
專利文獻1所記述之技術中，以不變動繪圖頭之收斂光學系統之焦點位置為前提。即，將繪圖頭與基板之距離以 維持預定之值之方式進行控制。然而，實際上由於收斂光學系統之焦點位置存在偏差或經時變化，故在僅將繪圖頭與基板之距離維持為一定之控制中，未必一定能使焦點位置在基板表面上一致。
此外專利文獻2所記述之技術中，雖可掌握包含經時變化之實際之收斂光學系統之焦點位置，但關於朝基板繪圖時之對焦點之控制於專利文獻2中並未記載。因此，不明確是否可使繪圖時之焦點位置在基板表面上一致。又，因在預先設定之投影面上進行觀察，故為對應例如基板厚度變化之情形，認為另外需要在專利文獻2中未揭示之構成。
如此，在一邊對應收斂光學系統之經時變化一邊亦適當調整繪圖時收斂光學系統在基板表面上之焦點位置之方面，於上述先前技術仍有改良餘地。尤其，亦可對應不同厚度之基板之焦點調整技術係在現階段可謂尚未確立。
本發明係鑒於上述課題而完成者，其第1目的在於提供一種在對基板表面照射光束而繪圖之繪圖裝置、及其焦點調整方法中，可對應收斂光學系統之經時變化，且可在繪圖時適當正確地調整收斂光學系統在基板表面上之焦點位置之技術。此外，本發明之第2目的在於提供一種對應不同厚度之基板，可適當正確地調整收斂光學系統於各基板表面上之焦點位置之技術。
本發明之繪圖裝置，為達成上述第1及第2目的，其特徵 在於包含：平台，其可以水平狀態載置基板；及繪圖機構，其包含將來自光源之光沿鉛垂方向收斂於上述基板表面之收斂光學系統，且藉由經收斂之光束而在上述基板表面繪圖；移動機構，其使來自上述繪圖機構之上述光束之照射位置對載置於上述平台之上述基板在水平方向上相對移動；觀察機構，其具有在與上述基板上不同之位置接受上述光束之觀察受光面並觀察入射至該觀察受光面之光學像；觀察高度變更機構，其使上述觀察受光面之鉛垂方向位置產生變化；焦點調整機構，其基於利用上述觀察機構觀察之光學像而調整上述收斂光學系統於鉛垂方向之焦點位置；及距離檢測機構，其分別檢測上述收斂光學系統與上述觀察受光面之鉛垂方向距離、及上述收斂光學系統與上述基板表面之鉛垂方向距離；且，在上述觀察高度變更機構將上述觀察受光面之鉛垂方向位置設定與上述基板表面之鉛垂方向位置相等，且自上述繪圖機構對該觀察受光面照射上述光束之狀態下，上述焦點調整機構基於上述光學像而調整上述收斂光學系統之焦點位置；上述距離檢測機構係檢測焦點位置經調整之上述收斂光學系統與上述觀察受光面之鉛垂方向距離作為基準距離進行檢測；在利用上述繪圖機構對上述基板表面進行繪圖時，上述距離檢測機構檢測上述收斂光學系統與上述光束所照射之上述基板表面之鉛垂方向距離作為繪圖時距離，上述焦點調整機構基於該繪圖時距離與上述基準距離而調整上述收斂光學系統之鉛垂方向之焦點位置。
此外，本發明之焦點調整方法，為達成上述第1及第2目的，其係繪圖裝置之焦點調整方法，該繪圖裝置包含：平台，其可以水平狀態載置基板；及描繪機構，其包含收斂將來自光源之光自大致鉛垂方向收斂於上述基板表面之收斂光學系統，且藉由經收斂之光束而在上述基板表面繪圖；及移動機構，其使來自上述繪圖機構之上述光束之照射位置對載置於上述平台之上述基板在水平方向上相對移動；該焦點調整方法之特徵在於包含：基準設定步驟，將觀察受光面設定在水平方向位置與載置於上述平台上之上述基板不同、且鉛垂方向位置與載置於上述平台之上述基板表面之鉛垂方向位置大致相等之位置；事前焦點調整步驟，觀察入射至上述觀察受光面之上述光束之光學像，以使該光學像最小化之方式調整上述收斂光學系統於鉛垂方向上之焦點位置；記憶步驟，將焦點位置調整後之上述收斂光學系統與上述觀察受光面之鉛垂方向距離記憶作為基準距離；及繪圖時焦點調整步驟，對載置於上述平台之上述基板之表面照射上述光束而進行繪圖，並檢測該光束所照射之上述基板表面與上述收斂光學系統之鉛垂方向距離，基於該檢測結果與上述基準距離，使上述收斂光學系統之焦點位置對準上述基板表面。另，此處「使光學像最小化」係指光束最集中且像之對比度最大之狀態。
在如此構成之發明中，與專利文獻2記載之技術相同，對成像於觀察受光面之光束之光學像進行觀察，並調整收斂光學系統之焦點位置。此外，觀察受光面之鉛垂方向位 置係可變更，若設定在與平台之基板表面大致相同之鉛垂方向位置，則在觀察受光面上調整收斂光學系統之焦點位置時，使收斂光學系統與觀察受光面之鉛垂方向距離為基準距離。接著，在藉由繪圖機構對基板表面進行繪圖時，基於此時之收斂光學系統與基板表面之距離(繪圖時距離)及基準距離來調整收斂光學系統之焦點位置。藉此，達成上述第1及第2目的。
更具體之內容係如下所述。首先，檢測繪圖時之收斂光學系統與基板表面之距離，並調整收斂光學系統之焦點位置之技術在專利文獻1中亦有記載。然而，專利文獻1所記載之技術，並無在對應於本發明之基準距離之目標焦點位置，反映收斂光學系統實際焦點位置之方法。相對於此，在本發明中，藉由對觀察受光面進行觀察，來調整實際收斂光學系統之焦點位置，並將此時之收斂光學系統與觀察受光面之距離設定為基準距離。因此，藉由基於該基準距離對繪圖時之焦點位置進行調整，可使焦點位置在基板表面上一致。此外，即使距離檢測機構及收斂光學系統之特性存在經時變化，亦由於進行了上述動作，而設定對應於該經時特性之基準距離且進行焦點調整，故亦可對應於裝置之經時變化。藉此，達成第1目的。
又，將此種基準距離之設定用於鉛垂方向中設置在與基板表面大致相同位置之觀察光學面，且由於觀察光學面之鉛垂方向位置係可變，故即使在基板厚度變化且基板表面之鉛垂方向位置變化之情形下，亦可確實設定對準該位置 之焦點位置。藉此達成第2目的。
上述發明之繪圖裝置中，例如觀察受光面係以對光束具有透過性之材料形成，且觀察機構係以從與光束入射方向之相反側對觀察受光面之光學像進行觀察之方式來構成亦可。藉此，則因可在光束之光軸上觀察光學像，且可精度良好地檢測其大小，故可對焦點位置進行高精度調整。
此外，例如距離檢測機構係包含：照射部，其係對光束所照射之基板表面，從不同於光束入射方向之方向照射光；及受光部，其係接受該光被基板表面反射之反射光學像；且基於受光部所受光之反射光學像位置，來檢測收斂光學系統與基板表面之距離亦可。藉此，由於收斂光學系統與基板表面之距離反映於入射至受光部之反射光學像之位置，故藉由該檢出結果，可掌握收斂光學系統與基板表面之距離。又，藉由利用相同構成從觀察受光面接受反射光學像，亦可同樣求得收斂光學系統與觀察受光面之距離。
又例如，包含位置檢測機構，其係對載置於平台之基板表面所設置之基準部進行攝像，從而檢出基板與光束之照射位置之水平方向之相對位置；位置檢測機構之鉛垂方向之焦點位置亦可以與檢出基準距離時之觀察受光面之鉛垂方向位置一致之方式來構成。藉由設置此種位置檢測機構，可使基板與光束照射位置之水平方向之位置對準，亦即可進行校準調整。接著，因藉由使位置檢測機構之焦點位置與檢出基準距離時之觀察受光面之鉛垂方向位置對 準，且使位置檢測機構、焦點調整機構及距離檢測機構皆經由觀察受光面而基於統一之基準來進行動作，故可對協調該等而進行之繪圖動作進行更高精度之控制。
該情形下，例如亦可在觀察受光面上設置用以調整位置檢測機構之焦點位置之基準圖案。藉此，由於可使用觀察受光面上之基準圖案，調整位置檢測機構之焦點位置同時進行上述焦點調整機構與距離檢測機構共同之基準設定，故可使繪畫前之調整動作更有效率地進行。
在該等繪圖裝置中，例如收斂光學系統包含：聚焦透鏡，其可於鉛垂方向移動；使焦點調整機構亦可控制聚焦透鏡之鉛垂方向位置。藉此無須使光源或收斂光學系統整體移動，此外可謀求提高位置控制之精度。
又，本發明之焦點調整方法，例如在繪圖時之焦點調整步驟中，亦可在從事前調整步驟所設定之焦點位置僅移動檢測結果與基準距離之差所對應之距離後之位置，調整收斂光學系統之焦點位置。藉此，以消除繪圖時收斂光學系統至基板表面距離與基準距離之差之方式來變更焦點位置，從而使光束收斂於基板表面。
又例如在繪圖裝置包含用以對設置於平台所載置之基板表面上的基準部進行攝像，並檢出基板與光束之照射位置之水平方向中之相對位置之位置檢測機構時，亦可使位置檢測機構之鉛垂方向之焦點位置與基準設定步驟中設定之觀察受光面之鉛垂方向位置一致。藉此，上述方式因可基於相同基準對水平方向之位置對準與鉛垂方向之焦點位置 進行調整，故可謀求提高繪圖之精確度。
該情形中，例如在觀察受光面上設置基準圖案，且藉由位置檢測機構對基準圖案進行攝像，並基於該結果來調整焦點位置亦可。
該等情形中，例如亦可預先記憶使位置檢測機構之鉛垂方向上之焦點位置與基準設定步驟中設定之觀察受光面之鉛垂方向位置一致時之位置檢測機構與觀察受光面之距離。該距離係與收斂光學系統之焦點調整之基準距離同樣作為位置檢測機構中用以進行焦點調整之基準者。因此，藉由將其預先與基準距離一同記憶，可一邊掌握收斂光學系統與位置檢測機構之鉛垂方向上之相對位置關係，一邊對各部進行控制。此外，例如作為繪圖對象之基板厚度有所變動之情形下，可分別對收斂光學系統與位置檢測機構實行加入該變動量之控制。
又，該等焦點調整方法中，亦可為，在利用繪圖機構對第1基板進行繪圖後，利用繪圖機構對不同於第1基板之第2基板進行繪圖時，例如，若該等基板具有相同厚度，則省略對第2基板之基準設定步驟、事前焦點調整步驟、及記憶步驟，而使用第1基板之基準距離實行繪圖時焦點調整步驟，另一方面，若厚度不同，則實行對第2基板之基準設定步驟、事前焦點調整步驟、記憶步驟、及繪圖時焦點調整步驟。
在對複數基板進行前後繪圖之情形下，若基板厚度相同，則由於無需變更鉛垂方向之調整結果，故可藉由省略 對其後基板之焦點位置調整，而謀求提高處理量。另一方面，在厚度不同之情形下，則藉由再次實行上述動作，進行反映該時點之裝置狀態之調整，故亦可對應裝置之經時變化，而進行穩定之高精度繪圖。
根據本發明，基於在設置在鉛垂方向上與基板表面大致相同位置之觀察受光面上成像之光束之光學像，對收斂光學系統之焦點進行調整，且將此時之收斂光學系統與觀察受光面之距離作為基準距離，在對基板表面繪圖時，基於收斂光學系統到基板表面之距離與基準距離，調整收斂光學系統之焦點位置。藉此，無關收斂光學系統或位置檢測機構之特性之經時變化，皆可使繪圖時之收斂光學系統之焦點位置穩定，且在基板表面上一致。
圖1係顯示本發明之圖案繪圖裝置之一實施形態之前視圖。又，圖2係圖1之圖案繪圖裝置之俯視圖。圖案繪圖裝置100係對形成有光阻等感光材料之層之基板W之上表面照射光而繪製圖案之裝置。另，基板W亦可使用半導體基板、印刷基板、彩色濾光片用基板、液晶顯示裝置或電漿顯示裝置所具備之平面顯示器用玻璃基板、及光碟用基板等各種基板中之任一者。圖示例中，與形成於圓形半導體基板表面之下層圖案重疊繪製上層圖案。
圖案繪圖裝置100係在藉由將蓋板(省略圖示)安裝於以本體框架101構成之骨架之頂面及周邊面上所形成之本體內部、及本體框架101之外側即本體外部上，配置各種構 成元件而構成。
圖案繪圖裝置100之本體內部係區分為處理區域102與交接區域103。於該等區域中之處理區域102主要配置有：平台10、平台移動機構20、平台位置計測部30、光學單元40、及校準單元60。另一方面，於交接區域103配置有對處理區域102搬入搬出基板W之搬送機械裝置等之搬送裝置70。
又，於圖案繪圖裝置100之本體外部配置有照明單元61，其係向校準單元60供給照明光。此外，於該本體外部配置有控制部90，其係與圖案繪圖裝置100所具備之裝置各部電性連接，控制該等各部之動作。
另，在圖案繪圖裝置100之本體外部鄰接於交接區域103之位置上，配置有用以載置基板匣C之基板匣載置部104。又，對應於基板匣載置部104，配置於本體內部之交接區域103之搬送裝置70取出收納於基板匣載置部104所載置之基板匣C中未處理之基板W，接著搬入(裝載)處理區域102，且將處理完畢之基板W從處理區域102中搬出(卸載)，並收納於基板匣C。對基板匣載置部104之基板匣C之交接係藉由未圖示之外部搬送裝置來進行。該未處理基板W之裝載處理及對處理完畢基板W之卸載處理係藉由根據來自控制部90之指示使搬送裝置70進行動作。
平台10係具有平板狀之外形，其上表面具有保持部，用以保持基板W以水平姿勢載置。平台10之上表面形成有複數個吸引孔(省略圖示)，藉由將負壓(吸引壓)施加至該吸 引孔，可將載置於平台10上之基板W固定保持於平台10之上表面。接著，平台10係藉由平台移動機構20來移動。
平台移動機構20係使平台10於掃描方向(Y軸方向)、副掃描方向(X軸方向)、及旋轉方向(繞著Z軸之旋轉方向(θ軸方向))移動之機構。平台移動機構20係包含：底板24，其係用以支撐可旋轉地支撐平台10之支撐板22；副掃描機構23，其係使支撐板22於副掃描方向移動；及主掃描機構25，其係使底板24於主掃描方向移動。副掃描機構23及主掃描機構25係根據來自控制部90之指示，使平台10移動。
副掃描機構23包含：線性馬達23a，其係藉由安裝於支撐板22之下表面上且未圖示之移動件、與鋪設於底板24之上表面且未圖示之固定件所構成。此外，在支撐板22與底板24之間，設置有於副掃描方向延伸之一對引導部23b。因此，若線性馬達23a動作，則支撐板22沿底板24上之引導部23b，於副掃描方向X移動。
主掃描機構25包含：線性馬達25a，其係藉由安裝於底板24之下表面之移動件、與鋪設於圖案繪圖裝置100之基台106上之固定件所構成。此外，在底板24與基台106之間，設置有於主掃描方向延伸之一對引導部25b。因此，若使線性馬達25a動作，則底板24係沿基台106上之引導部25b，於主掃描方向Y移動。
平台位置計測部30係用以計測平台10之位置之機構。平台位置計測部30係與控制部90電性連接，且根據來自控制部90之指示，計測平台10之位置。平台位置計測部30雖藉 由例如向平台10照射雷射光，且利用該反射光與出射光之干涉，而計測平台10之位置之機構而構成，但其構成動作並非限定於此。本實施形態中，平台位置計測部30包含：出射部31，其係出射雷射光；分光器32；彎束機33；第1干涉計34；及第2干涉計35。該等出射部31、各干涉計34、35係與控制部90電性連接，根據來自控制部90之指示，計測平台10之位置。
自出射部31出射之雷射光係首先入射至分光器32，分成朝向彎束機33之第1分歧光、與朝向第2干涉計35之第2分歧光。第1分歧光係藉由彎束機33反射，入射至第1干涉計34，並從第1干涉計34照射至平台10之第1部位。接著，於第1部位反射之第1分歧光再次入射向第1干涉計34。第1干涉計34係基於朝向平台10之第1部位之第1分歧光、與於第1部位反射之第1分歧光之干涉，來計測對應第1部位位置之位置參數。
另一方面，第2分歧光係入射至第2干涉計35，且從第2干涉計35照射至平台10之第2部位(但，第2部位為與第1部位不同之位置)。接著，於第2部位反射之第2分歧光再次入射向第2干涉計35。第2干涉計35係基於朝向平台10之第2部位之第2分歧光、與於平台10之第2部位反射之第2分歧光之干涉，來計測對應第2部位位置之位置參數。
控制部90係分別從第1干涉計34及第2干涉計35，取得對應於平台10之第1部位位置之位置參數、及對應於平台10之第2部位位置之位置參數。接著，基於所取得之各位置 參數算出平台10之位置。
校準單元60係對形成於基板W之上表面且未圖式之校準標記進行攝像。校準單元60包含校準攝像機601，其具有：鏡筒、對物透鏡、及CCD影像感測器。校準攝像機601所包含之CCD影像感測器係藉由例如面積影像感測器(二維影像感測器)而構成。又，校準單元60係藉由未圖示之升降機構在特定範圍內可升降地被支持。
照明單元61係經由鏡筒與光纖611來連接，用以對校準單元60供給照明用光。藉由從照明單元61延伸之光纖611引導之光係經由校準攝像機601之鏡筒被引導至基板W之上表面，其反射光係經由對物透鏡由CCD影像感測器受光。藉此，對基板W之上表面攝像並取得攝像資料。校準攝像機601係與控制部90之圖像處理部電性連接，且根據來自控制部90之指示取得攝像資料，並將取得之攝像資料發送至控制部90。
基於校準攝像機601所提供之攝像資料，控制部90檢出設置於基板W之基準位置之基準標記(校準標記)，從而進行光學單元40與基板W之相對位置定位之校準處理。接著，藉由將來自光學單元40之對應於繪圖圖案所調變之光束照射至基板W之特定位置，而進行圖案繪圖。
本實施形態中，光學單元40包含2個光學頭40a、40b。光學頭40a、40b具有相同構成，且基於對應於繪圖圖案之帶狀資料，調變光照射部所提供之雷射光。此處，一邊參照圖1一邊對光學頭40a所關聯之構成加以說明，光學頭 40b亦以同樣構成。此外，光學頭之設置數可為任意數，並非限定於此。
光照射部41包含：雷射驅動部411、雷射振盪器412、及照明光學系統413。在該光照射部41中，藉由雷射驅動部411之作動，從雷射振盪器412出射雷射光，且經由照明光學系統413導入光學頭40a。於該光學頭40a上設置有光調變元件，基於帶狀資料來調變雷射光。接著，光學頭40a係藉由將調變雷射光對在光學頭40a之正下方位置移動之基板W落射，使保持於平台10之基板W曝光，從而繪製圖案。藉此，上層圖案(繪圖圖案)係對形成於未處理基板W上之下層圖案重疊繪圖。
圖3係更詳細顯示光學頭40a之構成之圖。此外，另一個光學頭40b之構成亦相同。光學頭40a包含光調變單元421，其具有繞射晶格型之空間光調變器。來自雷射振盪器412之雷射光L係藉由照明光學系統413及鏡面422，導向其反射面之法線相對光軸傾斜配置之光調變單元421。
此時，來自雷射振盪器412之入射光係藉由照明光學系統413而成為強度分布均一之線狀光(光束剖面為線狀之光)，且照射至空間光調變器421上之調變動作之有效區域。在空間光調變器421中，基於來自控制部90之控制指令，對來自鏡面422之光進行空間調變，並使調變後之光沿著其光軸入射向投影光學系統430之透鏡。
通過投影光學系統430之透鏡之光被導向變焦透鏡，且經由聚焦透鏡431，以特定倍率導向基板W之表面S。聚焦 透鏡431係被安裝於焦點驅動機構432。焦點驅動機構432係根據來自控制部90之焦點控制部901之控制指令，使聚焦透鏡431沿鉛垂軸(Z軸)升降，並使焦點透鏡431出射之光束於基板W之表面S上收斂。
又，光學頭40a之框體下部設有：作為自動聚焦部之照射部441，其係將例如雷射二極體(LD)作為光源，且根據來自控制部90之LD驅動部902之控制訊號，將光照射向基板W之表面S；及影像感測器442，其係接受來自該照射光之基板表面S之反射光之包含例如CMOS感測器或一維CCD影像感測器。
此處，考慮光學頭40a與基板表面S之距離變動之情形。圖3中如箭頭A1所示，基板表面S自光學頭40a遠離時，或如箭頭A2所示，基板表面S朝光學頭40a接近時，自基板表面S之反射光之光路係分別變化至箭頭A3及箭頭A4所示之方向，且影像感測器442之各受光位置之受光量亦有所變動。即，影像感測器442之受光量之峰值位置係分別如箭頭A5及箭頭A6所示般變化。自動聚焦部係藉此檢出光學頭40a與基板表面S之距離。
具體而言，控制部90之距離檢測部903係接受來自影像感測器442輸出之訊號，且將其作為對應於光學頭40a與基板表面S之距離之資訊而用於焦點控制。此外，根據需要將該資訊記憶於記憶部904。另，作為對應於光學頭40a與基板表面S之距離之資訊亦可為自影像感測器442之輸出訊號算出該距離之結果亦可，又亦可為影像感測器442之受 光量之峰值位置本身。係因為該等係成1對1對應之關係之故。
若光學頭40a與基板表面S之距離發生變動，則自聚焦透鏡431出射之光束之焦點位置係自基板表面S偏離，而使繪製圖案之解析度下降。為防止其發生，藉由使焦點控制部901控制焦點驅動機構432，使聚焦透鏡431(在箭頭A7方向或箭頭A8方向)予以上下，來防止焦點位置之偏離。藉由使用影像感測器442之輸出訊號進行反饋控制，可使聚焦透鏡431之焦點位置追隨基板表面S之鉛垂方向之位置變動而上下移動，並可使光束穩定收斂於基板表面S。
為使上述自動聚焦動作有效發揮功能，必須預先掌握聚焦透鏡431之焦點與基板表面S對準時之光學頭40a與基板表面S之距離。該距離雖在短期內幾乎無變化，但隨著裝置長期使用會產生經時變動。用以修正此變動之校準之構成說明如下。
圖4(a)係顯示用以進行校準之構成之圖。又圖4(b)係顯示基準光罩圖案之一例之圖。如圖4(a)所示，在平台10之側面設置有觀察光學系統80，其係用以接受自光學頭40a、40b出射之光束，且對其光學像進行觀察。觀察光學系統80係將由例如石英玻璃形成為平板狀之透明虛設基板801大致水平設置。虛設基板801之表面(上表面801a)係如圖4(b)所示，形成有基準光罩圖案802，且如下所述被用於校準單元60之焦點調整。
於虛設基板801之下方，即隔著虛設基板801而與光學頭 40a、40b相反之側，設置有觀察用攝像機803，其具有包含例如二維CCD影像感測器之攝像部及用以收斂入射光之光學系統。虛設基板801與觀察用攝像機803係分別被安裝於外殼804且一體化，觀察用攝像機803之光學系統之焦點位置係以對準於虛設基板801之上表面801a之方式進行調整。
外殼804係藉由立設於支撐板22之支撐框架805而升降自如地予以支持，藉由控制部90之觀察系統控制部920、與具有適當驅動機構之觀察系統升降機構806，對其鉛垂方向位置進行控制。即，觀察光學系統80之虛設基板801與觀察用攝像機803作為一體，與平台10一體地於水平方向移動，另一方面，平台10可獨立於鉛垂方向升降移動。
觀察光學系統80係定位於光學頭40a(或40b)之正下方，且虛設基板801之上表面801a係以定位在與平台10所載置之基板W之上表面S大致相同之位置之狀態，由觀察用攝像機803對自光學頭40a入射至虛設基板上表面801a並成像之光學像進行攝像。該輸出訊號係利用控制部90之圖像處理部910進行資料處理。一邊利用聚焦控制部901使聚焦透鏡431之鉛垂方向位置變化，一邊利用觀察用攝像機803進行攝像，以使光學像變得最小之方式(使像之對比度最大化之方式)，設定聚焦透鏡431之鉛垂方向位置。藉此，使聚焦透鏡431之焦點對準於虛設基板上表面801a。此時，將光學頭40a與虛設基板上表面801a之距離作為「基準距離」，由距離檢測部903將對應於基準距離之資訊記憶於記 憶部904。
在以後之繪圖動作中，藉由基於光學頭40a與對向之基板表面S之間之距離、與上述基準距離之比較而控制聚焦透鏡431之位置，可穩定焦點位置並對準於基板表面S。此外，藉由在特定之時序下定期進行該校準動作，亦可對應投影光學系統430之經時變化，長期進行穩定之焦點位置調整。
圖5係顯示校準單元之詳細構成圖。圖中，為與校準單元60比對，一併記有光學頭40a之自動聚焦部。校準單元60係檢測基板表面之基準標記，掌握光學頭40a與平台10或基板W之水平方向位置，且檢測觀察光學系統80之基準光罩圖案802，而進行校準單元60之焦點調整者。
如圖5所示，校準單元60具備對基板表面S進行攝像之校準攝像機601，且具備以下者作為自動聚焦部：照射部641，其具有與設置在光學頭40a之照射部441相同的功能；及受光部642，其具有與設置在光學頭40a之受光部442相同的功能。且，與光學頭40a之自動聚焦部相同，設置在控制部90上之距離檢測部906係基於受光部642之輸出來檢測校準攝像機601與基板表面S之距離，且焦點控制部930係用以使校準攝像機601之焦點位置與基板表面S一致，而控制校準單元60之鉛垂方向位置。
在該情形中，用作校準攝像機601之焦點對準基準之距離資訊亦為必要，且該距離有經時變化之可能性。對此，使用形成於觀察光學系統80之虛設基板上表面801a之基準 光罩圖案802。即，將觀察光學系統80定位於校準單元60之正下方，且由圖像處理部910對校準攝像機601所攝像之基準光罩圖案802之圖像進行資料處理，檢測圖案最鮮明時校準之攝像機601與虛設基板上表面801a之距離並作為基準而預先記憶。將該距離作為基準，可使校準攝像機601進行自動聚焦動作。此外，藉由定期執行上述動作，亦可對應於校準攝像機601特性之經時變化，而可長期穩定進行自動聚焦動作。
至此，已對各單元之控制動作原理分別加以說明。其次，基於上述原理，對該圖案繪圖裝置100整體之校準動作加以說明。若實行如下所述之校準處理，則藉由可分別進行光學頭40a、40b及校準單元60之焦點位置調整，且基於相同基準，對光學頭40a、40b與校準單元60之鉛垂方向(Z軸方向)上之焦點位置進行相對性調整，可使圖案繪圖裝置100以最佳狀態進行動作。
圖6係顯示該裝置之校正動作之流程圖。又，圖7(a)至圖7(c)係示意性顯示圖6之動作中步驟之一部分之圖。該校正動作係例如在裝置剛起動後或於定期時序(例如1日1次)，在將基板W搬入裝置之前執行。
最初，設定校準攝像機601之初期位置。具體而言，根據搬入之預定基板W之厚度，以使焦點位置對準於平台10上假想之基板表面S之鉛垂方向位置之方式，設定校準攝像機601之上下方向位置(步驟S101)。如圖7(a)所示，因該時點時未搬入基板W，故該對位宜為概略者。
繼而，移動平台10，使觀察光學系統80移動至校準單元60之正下方(步驟S102)，並使觀察光學系統80之虛設基板上表面801a與校準攝像機601之焦點位置一致(步驟S103)。具體而言，如圖7(b)所示，一邊以校準攝像機601對形成於虛設基板上表面801a之基準光罩圖案802進行攝像，一邊藉由觀察系統升降機構806使觀察光學系統80之外殼804升降，且將外殼804定位於基準光罩圖案802之像最鮮明時之位置。
藉此，虛設基板上表面801a之鉛垂方向位置係與之後搬入之基板表面S之位置大致一致，且在該位置上，校準攝像機601之焦點成對準狀態。因此，應將此時之校準攝像機601與虛設基板上表面801a之距離作為基準，從自動聚焦部(AF部)之受光部642之輸出求得該距離相關之資訊，並記憶於記憶部904(步驟S104)。以後，以該距離為基準，調整繪圖時之校準攝像機601之焦點。該具體方法係如上所述。
另，該校正動作中對虛設基板上表面801a之位置設定係概略者，並非限定必須與平台10所載置之基板表面S之位置完全一致。然而，因藉由上述動作使校準攝像機601之焦點位置與其所對應之自動聚焦部之距離所相關之資訊相關連，故實際上，即使載置於平台10上之基板表面S之位置與虛設基板上表面801a之位置多少有些偏差，亦可使焦點朝該位置對準。然而，若虛設基板上表面801a之位置係在與繪圖時之基板表面S之位置有較大偏差之狀態下進行 校正，則繪圖時基板表面S有偏離焦點調整範圍之虞。其意味著使虛設基板上表面801a之鉛垂方向位置對準於假想之基板表面S之位置來進行校正較為有效。關於該點，在下述光學頭之校正中亦相同。
其次，進行光學頭40a、40b之焦點調整。此處對光學頭40a之動作加以例示，光學頭40b之動作亦相同。首先將觀察光學系統80移動定位至光學頭40a之正下方(步驟S105)。接著，如圖7(c)所示，一邊以觀察用攝像機803對通過投影光學系統430之聚焦透鏡431並入射至虛設基板上表面801a之雷射光之光學像進行觀察，一邊使聚焦透鏡431之鉛垂方向位置發生變化。將聚焦透鏡431之位置設定於該光學像之光點尺寸成為最小時之位置(步驟S106)。
藉此，使投影光學系統430之焦點對準於虛設基板上表面801a。接著，將此時之光學頭40a與虛設基板上表面801a之距離作為基準距離，從受光部422之輸出求得該基準距離相關之資訊，並記憶於記憶部904(步驟S107)。之後，繪圖時之投影光學系統430之焦點調整係基於該基準距離而進行。其具體方法係雖如先前原理所說明，但針對本實施形態更詳細加以說明。
圖8係顯示繪圖時之焦點調整動作之流程圖。如圖3所示，繪圖時光學頭40a係對向於基板表面S。在該狀態下，基於自動聚焦部(AF部)之受光部422之輸出，求得關於光學頭40a與基板表面S之距離之資訊(步驟S201)，且求得與記憶於記憶部904之基準距離之差(步驟S202)。此處，若 光學頭40a至基板表面S之距離與基準距離之間無差，則由於焦點對準於基板表面S故而無須變更，在有差之情形，由於焦點位置自基板表面S偏離，故修正該差。具體而言，應使聚焦透鏡431移動至消除上述距離差之方向，算出其驅動量(例如聚焦透鏡431向上下方向之移動距離，實現其之驅動馬達之脈衝數等)(步驟S203)，且僅以算出之驅動量使聚焦透鏡431於上方或下方移動(步驟S204)。以上動作持續進行到繪圖結束(步驟S205)。
圖9(a)及圖9(b)係示意性顯示繪圖時之焦點調整動作之圖。如圖9(a)所示，以符號D1表示光學頭40a之適當基準位置(本例為下端)與基板表面S之距離。此外，以符號D2表示用於焦點調整之聚焦透鏡431之驅動量(本例中為向鉛垂方向之移動距離)。距離D1係將自光學頭40a之下端朝向基板表面S之方向作為正方向。驅動量D2係將令聚焦透鏡431向上方，即遠離基板表面S之方向作為正方向。
作為先前校準動作之結果，若距離D1與基準距離一致，則投影光學系統430之焦點可謂為對準於基板表面S。因此，如圖9(b)所示，此時之驅動量D2為零，即聚焦透鏡431之鉛垂方向位置藉由校正動作而維持在設定之位置。另一方面，距離D1比基準距離大時，將驅動量D2設為負值，即藉由使聚焦透鏡431向下方移動，來消除焦點偏差。相反，距離D1小於基準距離時，將驅動量D2設定成正值，使聚焦透鏡431向上移動，來消除焦點偏差。若自距離D1之基準距離之偏差量越大，則聚焦透鏡431之驅動 量D2亦變大。藉此，投影光學系統430之焦點位置係穩定維持於基板表面S上。
如上所述，本實施形態中，在具有虛設基板801與觀察用攝像機803之觀察光學系統80中，可使虛設基板801及觀察用攝像機803一體地於鉛垂方向移動。且，校正動作中，在將虛設基板801之上表面801a定位於平台10所載置之基板W之表面S之假想位置之狀態下，使來自光學頭40a之光束入射至虛設基板上表面801a。以觀察用攝像機803對其觀察，以使光學像成為最小之方式來設定聚焦透鏡431之鉛垂方向位置。又，預先記憶有從此時之自動聚焦部之輸出求得之基準距離相關之資訊，在繪圖時基於該基準距離、與從自動聚焦部之輸出求得之光學頭40a與基板表面S之距離，進行焦點調整。如此之構成中，即使在自動聚焦部及投影光學系統430因經時變化使基準距離變動之情形下，因藉由進行校正而設定該時點之基準距離並基於此進行焦點調整，故亦可對應裝置之經時變化，進行長期穩定且高精度之焦點調整。
又，使用形成於設定在與上述相同位置之虛設基板801之上表面801a之基準光罩圖案802，亦可進行校準單元60之焦點調整。藉此，光學頭40a之焦點位置與校準單元60之焦點位置之鉛垂方向之相對位置關係係經由共同之位置基準即虛設基板上表面801a而關聯。因此，可謀求聯合原本獨立控制之2個單元。藉此，可以最佳狀態使圖案繪圖裝置100進行動作。
因此，可令作為光學頭40a及校準單元60之鉛垂方向之位置基準之虛設基板上表面801a，根據載置於平台10之基板W之表面位置進行升降。因此，對具有各種厚度之基板W，皆可進行高精度且穩定之焦點調整。
即，在進行對應於具有特定厚度之第1基板之校正動作及繪圖動作後，若其後之基板具有相同厚度，則不進行新校正動作，可使用先前基板之校正動作之結果進行繪圖動作。新校正動作係例如在基板之處理片數或動作時間等達到特定值時等，在特定間隔下定期執行即可。
另一方面，在對厚度與先前基板不同之第2基板進行繪圖動作時，藉由對應該基板厚度進行新校正動作並重設定基準距離，亦可以相同之方式對第2基板進行高精度且穩定之繪圖時之焦點調整。
如上所述，本實施形態中，光學頭40a，40b、光照射部41係一體化而作為本發明之「繪圖機構」發揮功能。其中雷射振盪器412作為本發明之「光源」發揮功能，另一方面，投影光學系統430係作為「收斂光學系統」以發揮功能。
此外，本實施形態中，平台移動機構20係作為本發明之「移動機構」而發揮功能。又，本實施形態中，觀察光學系統80係作為本發明之「觀察機構」發揮功能，且虛設基板801之上表面801a相當於本發明之「觀察光學面」。且，基準光罩圖案802相當於本發明之「基準圖案」。另，觀察系統升降機構806及觀察系統控制部920係一體化而作為本 發明之「觀察高度變更機構」發揮功能。
又，本實施形態中，焦點控制部901及焦點驅動機構432係一體化而作為本發明之「焦點調整機構」發揮功能。此外，構成自動聚焦部之照射部441、受光部442係一體化而作為本發明之「距離檢測機構」發揮功能。進而，本實施形態中，校準單元60係作為本發明之「位置檢測機構」發揮功能。
又，在如圖6所示之本實施形態之校正動作中，步驟S103相當於本發明之「基準設定步驟」，步驟S106相當於「事前焦點調整步驟」。此外，步驟S107相當於本發明之「記憶步驟」。又，圖8之步驟S201至S204相當於本發明之「繪圖時焦點調整步驟」。
另，本發明係不限定於上述實施形態，在不脫離其宗旨之情形下可進行除上述外之各種變更。例如，在上述實施形態之校正動作中，雖進行光學頭40a(40b)之校正與校準單元60之校正配合，但並不限定於此，僅對用以繪圖之收斂光學系統進行之焦點調整動作亦可應用本發明。
此外，上述實施形態之校正動作中，校準攝像機601之焦點位置係以作為基板表面S之假想位置之方式來設定校準單元60之鉛垂方向位置，且與之配合，藉由設定虛設基板上表面801a之位置，將虛設基板上表面801a之大致位置設定成基板表面S之位置。然而，本發明並非限定於此，亦可例如先設定虛設基板上表面801a之位置後，以焦點與其對準之方式進行校準單元60之位置調整。
又，上述實施形態之校準單元60及光學頭40a、40b之自動聚焦部係對基板表面S照射光，且接受其反射光，藉由反射像之位置進行距離檢測，但距離檢測機構並不限定於此，亦可應用任意機構。
此外，上述實施形態之圖案繪圖裝置100係藉由使用繞射晶格之空間調變器421來調變光束並進行圖案繪製之裝置，但光束之調變方式並非限定於此，對使用任意調變方式之繪圖裝置，本發明亦可應用。
本發明係可應用於使光束收斂於基板表面而進行繪圖之所有繪圖裝置。作為處理對象之基板可使用半導體基板、印刷基板、彩色濾光片用基板、液晶顯示裝置或電漿顯示裝置所具備之平面顯示器用玻璃基板、及光碟用基板等各種基板。
10‧‧‧平台
20‧‧‧平台移動機構(移動機構)
22‧‧‧支持板
23‧‧‧副掃描機構
23a‧‧‧線性馬達
23b‧‧‧引導部
24‧‧‧底板
25‧‧‧主掃描機構
25a‧‧‧線性馬達
25b‧‧‧引導部
30‧‧‧平台位置計測部
31‧‧‧出射部
32‧‧‧分光器
33‧‧‧彎束機
34‧‧‧第1干涉計
35‧‧‧第2干涉計
40a‧‧‧光學頭(繪圖機構)
40b‧‧‧光學頭(繪圖機構)
41‧‧‧光照射部(繪圖機構)
60‧‧‧校準單元(位置檢測機構)
70‧‧‧搬送裝置
80‧‧‧觀察光學系統(觀察機構)
90‧‧‧控制部
100‧‧‧圖案繪圖裝置
101‧‧‧本體框架
102‧‧‧處理區域
103‧‧‧交接區域
104‧‧‧基板匣載置部
106‧‧‧基台
411‧‧‧雷射驅動部
412‧‧‧雷射振盪器(光源、繪圖機構)
413‧‧‧照明光學系統
421‧‧‧光調變單元
422‧‧‧鏡面
430‧‧‧投影光學系統(收斂光學系統、繪圖機構)
431‧‧‧聚焦透鏡
432‧‧‧焦點驅動機構(焦點調整機構)
441‧‧‧照射部(距離檢測機構)
442‧‧‧受光部(距離檢測機構)
601‧‧‧校準攝像機
611‧‧‧光纖
641‧‧‧照射部
642‧‧‧受光部
801‧‧‧虛設基板
801a‧‧‧(虛設基板801之)上表面(觀察光學面)
802‧‧‧基準光罩圖案
803‧‧‧觀察用攝像機
804‧‧‧外殼
805‧‧‧支撐框架
806‧‧‧觀察系統升降機構
901‧‧‧焦點控制部
902‧‧‧LD驅動部
903‧‧‧距離檢測部
904‧‧‧記憶部
906‧‧‧距離檢測部
910‧‧‧圖像處理部
920‧‧‧觀察系統控制部
930‧‧‧焦點控制部
S‧‧‧基板表面
S103‧‧‧基準設定步驟
S106‧‧‧事前焦點調整步驟
S107‧‧‧記憶步驟
S201‧‧‧繪圖時焦點調整步驟
S202‧‧‧繪圖時焦點調整步驟
S203‧‧‧繪圖時焦點調整步驟
S204‧‧‧繪圖時焦點調整步驟
W‧‧‧基板
圖1係顯示本發明之圖案繪圖裝置之一實施形態之前視圖。
圖2係圖1之圖案繪圖裝置之俯視圖。
圖3係更詳細顯示光學頭之構成之圖。
圖4(a)係顯示用以進行校正之構成之圖。
圖4(b)係顯示基準光罩圖案之一例之圖。
圖5係顯示校準單元之詳細構成之圖。
圖6係示意性顯示該裝置之校正動作之流程圖。
圖7(a)至7(c)係示意性顯示圖6動作中步驟之一部分之圖。
圖8係顯示繪圖時之焦點調整動作之流程圖。
圖9(a)及9(b)係示意性顯示繪圖時之焦點調整動作之圖。
10‧‧‧平台
22‧‧‧支持板
40a‧‧‧光學頭
40b‧‧‧光學頭
80‧‧‧觀察光學系統
90‧‧‧控制部
431‧‧‧聚焦透鏡
441‧‧‧自動聚焦部(照射部)
442‧‧‧自動聚焦部(受光部)
801‧‧‧虛設基板
801a‧‧‧虛設基板之上表面
802‧‧‧基準光罩圖案
803‧‧‧觀察用攝像機
804‧‧‧外殼
805‧‧‧支撐框架
806‧‧‧觀察系統升降機構
901‧‧‧焦點控制部
903‧‧‧距離檢測部
904‧‧‧記憶部
910‧‧‧圖像處理部
920‧‧‧觀察系統控制部
S‧‧‧基板表面
W‧‧‧基板

Claims (12)

  1. 一種繪圖裝置，其包含：平台，其可以水平狀態載置基板；繪圖機構，其包含將來自光源之光自鉛垂方向收斂於上述基板表面之收斂光學系統，且藉由經收斂之光束而在上述基板表面繪圖；移動機構，其使來自上述繪圖機構之上述光束之照射位置對載置於上述平台之上述基板在水平方向上相對移動；觀察機構，其具有配置在與上述平台所載置之上述基板上在水平方向不同之位置並接受上述光束之觀察受光面，且觀察入射至該觀察受光面之光學像；觀察高度變更機構，其使上述觀察受光面與上述平台獨立於鉛垂方向移動，使上述觀察受光面之鉛垂方向位置變化；焦點調整機構，其基於利用上述觀察機構觀察之光學像而調整上述收斂光學系統於鉛垂方向之焦點位置；及距離檢測機構，其分別檢測上述收斂光學系統與上述觀察受光面之鉛垂方向距離、及上述收斂光學系統與上述基板表面之鉛垂方向距離；且在上述觀察高度變更機構將上述觀察受光面之鉛垂方向位置設定為與上述基板表面之鉛垂方向位置相等，且基於在上述移動機構將上述光束之照射位置設定於上述觀察受光面之狀態下藉由上述觀察機構所觀察之上述光 學像，上述焦點調整機構將上述收斂光學系統之焦點位置調整至上述觀察受光面上；上述距離檢測機構係檢測焦點位置經調整之上述收斂光學系統與上述觀察受光面之鉛垂方向距離作為基準距離；在利用上述繪圖機構對上述基板表面進行繪圖時，上述距離檢測機構檢測上述收斂光學系統與上述光束所照射之上述基板表面之鉛垂方向距離作為繪圖時距離，上述焦點調整機構因應於該繪圖時距離與上述基準距離之差而調整上述收斂光學系統之鉛垂方向上之焦點位置。
  2. 如請求項1之繪圖裝置，其中上述觀察受光面係以對上述光束具有透過性之材料形成，且上述觀察機構係從與上述光束入射方向之相反側觀察上述觀察受光面之上述光學像。
  3. 如請求項1之繪圖裝置，其中上述距離檢測機構包含：照射部，其對上述光束所照射之上述基板表面，從與上述光束入射方向不同之方向照射光；及受光部，其接受該光於上述基板表面反射而成之反射光學像；且基於上述受光部所受光之上述反射光學像位置，檢測上述收斂光學系統與上述基板表面之距離。
  4. 如請求項1之繪圖裝置，其包含位置檢測機構，其對載置於上述平台之上述基板表面所設置之基準部進行攝像，從而檢測上述基板與上述光束之照射位置於水平方向上之相對位置；上述位置檢測機構之鉛垂方向上之焦 點位置，與檢測出上述基準距離時之上述觀察受光面之鉛垂方向位置一致。
  5. 如請求項4之繪圖裝置，其中於上述觀察受光面上設置有用以調整上述位置檢測機構之焦點位置之基準圖案。
  6. 如請求項1至5中任一項之繪圖裝置，其中上述收斂光學系統包含可於鉛垂方向移動之聚焦透鏡；且上述焦點調整機構係控制上述聚焦透鏡之鉛垂方向位置。
  7. 一種焦點調整方法，其係繪圖裝置之焦點調整方法，該繪圖裝置包含：平台，其可以水平狀態載置基板；繪圖機構，其包含將來自光源之光自大致鉛垂方向收斂於上述基板表面之收斂光學系統，且藉由經收斂之光束而在上述基板表面繪圖；移動機構，其使來自上述繪圖機構之上述光束之照射位置對載置於上述平台之上述基板在水平方向上相對移動；觀察機構，其具有在與上述基板上不同之位置接受上述光束之觀察受光面，且觀察入射至該觀察受光面之光學像；及觀察高度變更機構，其使配置在與上述平台所載置之上述基板上在水平方向不同之位置之上述觀察受光面與上述平台獨立於鉛垂方向移動，使上述觀察受光面之鉛垂方向位置變化；該焦點調整方法之特徵在於包含：基準設定步驟，藉由上述觀察高度變更機構將觀察受光面設定在水平方向位置與載置於上述平台上之上述基板不同、且鉛垂方向位置與載置於上述平台之上述基板表面之鉛垂方向位置相等之位置； 事前焦點調整步驟，藉由上述移動機構將上述光束之照射位置設定於上述觀察受光面上，藉由上述觀察機構觀察入射至上述觀察受光面之上述光束之光學像，以使該光學像最小化之方式調整上述收斂光學系統之鉛垂方向上之焦點位置；記憶步驟，將焦點位置調整後之上述收斂光學系統與上述觀察受光面之鉛垂方向距離記憶作為基準距離；及繪圖時焦點調整步驟，對載置於上述平台之上述基板之表面照射上述光束而進行繪圖，並檢測該光束所照射之上述基板表面與上述收斂光學系統之鉛垂方向距離，因應於該檢測結果與上述基準距離之差，使上述收斂光學系統之焦點位置於鉛垂方向調整而對準上述基板表面。
  8. 如請求項7之焦點調整方法，其中在上述繪圖時焦點調整步驟中，將上述收斂光學系統之焦點位置，調整至從上述事前調整步驟中設定之上述焦點位置僅位移與上述檢測結果與上述基準距離之差對應之距離之位置。
  9. 如請求項7或8之焦點調整方法，其中上述繪圖裝置包含位置檢測機構，其用以對設置於要載置於上述平台之上述基板表面上的基準部進行攝像，而檢測上述基板與上述光束之照射位置之水平方向上之相對位置，且上述位置檢測機構之鉛垂方向上之焦點位置，與上述基準設定步驟中設定之上述觀察受光面之鉛垂方向位置一致。
  10. 如請求項9之焦點調整方法，其中於上述觀察受光面上設置有基準圖案，藉由上述位置檢測機構對上述基準圖案進行攝像，並基於該結果而調整上述位置檢測機構之焦點位置。
  11. 如請求項9之焦點調整方法，其記憶使上述位置檢測機構之鉛垂方向上之焦點位置與上述基準設定步驟中設定之上述觀察受光面之鉛垂方向位置一致時之、上述位置檢測機構與上述觀察受光面之距離。
  12. 如請求項7之焦點調整方法，其中在利用上述繪圖機構對第1基板進行繪圖後，利用上述繪圖機構對不同於上述第1基板之第2基板進行繪圖時，例如若上述第1基板與上述第2基板為相同厚度，則省略對上述第2基板之上述基準設定步驟、上述事前焦點調整步驟、及上述記憶步驟，而使用上述第1基板之上述基準距離實行上述繪圖時焦點調整步驟，另一方面，若上述第1基板與上述第2基板為不同厚度，則對上述第2基板實行上述基準設定步驟、上述事前焦點調整步驟、上述記憶步驟、及上述繪圖時焦點調整步驟。
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