TW202414105A - 曝光裝置及曝光裝置中之光束間隔計測方法 - Google Patents

Abstract

本發明係有關曝光裝置及其光束間隔計測方法，即便當曝光頭之數量變多時，其仍無須使載台之移動行程變大，並且可利用低成本來實現該構成。本發明之曝光裝置具備有：載台，其以水平姿勢支撐基板；曝光部，其使在水平之第1方向排列的3個以上的曝光頭各個朝向載台，而落射曝光光束；掃描移動部，其使載台於水平方向移動，並使曝光光束對基板進行掃描；及計測部，其對自曝光頭各者所出射的曝光光束間的間隔進行計測。計測部具有：受光器，其接受曝光光束；受光器支撐部，其被設置為與載台成為一體，以支撐受光器，並且可使受光器相對於載台在上述第1方向移動；及間隔計算部，其對複數個曝光頭各者所出射的曝光光束間的間隔進行計算。

Description

曝光裝置及曝光裝置中之光束間隔計測方法

本發明係有關用以在例如半導體基板、半導體封裝基板、印刷配線基板、玻璃基板等基板上描繪圖案以對基板進行曝光的技術。

作為在基板上形成配線圖案等圖案的技術已有以下之構成，即，將在表面上形成有感光層的基板作為被曝光物，使根據曝光資料所調變的光束入射，以使感光層進行曝光。基板可適用在半導體基板、半導體封裝基板、印刷配線基板、玻璃基板等各種基板。例如於日本專利特開2015-068869號公報(專利文獻1)記載有一種曝光裝置，其將按照應描繪之圖案所調變的光束照射至基板，藉此而在基板描繪既定之圖案。

此外，在該習知技術中，於載台之側邊設置有包含攝影機的觀察光學系統。該觀察光學系統係接受應入射至基板的光束，以輸出投影光學系統的對焦調整量之決定、光調變器之校正等有用的資訊。

(發明所欲解決之問題)

在此一曝光裝置中，為了提升處理之產量，被設置複數個分別出射有曝光光束的曝光頭。此係利用複數個曝光頭對1片基板並列地進行曝光，藉此以期求縮短處理時間。在此一情形下，由於利用複數個曝光頭以分擔對於1片基板之曝光，因而需要使在各個曝光頭所負責之區域的交界處不會產生不連續的情形。

因此，被要求複數個曝光頭配置為保持既定之間隔。接受來自曝光頭出射的光束的上述習知技術之觀察光學系統被期待亦可被適用此一計測間隔的目的上。然而，其存在有如下之問題。

當利用觀察光學系統以觀察光束時，其需要使觀察光學系統移動至從曝光頭出射的光束所入射的位置(一般而言為曝光頭之正下方位置)。此處，在複數個曝光頭呈一列地被配置的情形下，為了使觀察光學系統移動至與該等曝光頭相對應的位置，則需要使載台大幅度地移動。因此，對於保持載台的機構，其需要較大之移動行程，此外，因移動而需確保空間的必要性，因此其有裝置變得非常大型化且高成本的問題。曝光頭之數量越多，則該問題就越顯著。

因此，被要求有一種計測技術，其亦可對應於曝光頭之數量變多的情形，並且可抑制其成本之上升。 (解決問題之技術手段)

本發明係鑑於上述問題所完成者，其目的為提供一種技術，即便在曝光頭之數量變多的情形下，仍無須使載台之移動行程變大，又可利用低成本以實現該構成。

本發明之一態樣係一種光束間隔計測方法，其在藉由曝光光束以對基板進行曝光的曝光裝置中，對複數個曝光頭各者所出射的上述曝光光束間的間隔進行計測。此處，上述曝光裝置具有：第1曝光頭、第2曝光頭及第3曝光頭，其等作為上述曝光頭而沿著第1方向排列；載台，其保持基板；及掃描移動部，其使上述載台進行掃描移動。而且，該方法具備有以下之第1至第5步驟。

在第1步驟中，上述掃描移動部使受光器與上述載台一體地移動，分別在自上述第1曝光頭出射的上述曝光光束所入射的位置、自上述第2曝光頭出射的上述曝光光束所入射的位置，上述受光器接受上述曝光光束。在第2步驟中，根據上述第1步驟中，來自上述第1曝光頭的上述曝光光束朝向上述受光器的入射位置、來自上述第2曝光頭的上述曝光光束朝向上述受光器的入射位置、及藉由上述掃描移動部所進行的上述受光器之移動量，以求出上述第1曝光頭出射的上述曝光光束與上述第2曝光頭出射的上述曝光光束之間的間隔。在第3步驟中，使上述受光器相對於上述載台沿著上述第1方向朝向上述第3曝光頭側移動。在第4步驟中，上述掃描移動部使上述受光器與上述載台一體地移動，分別在自上述第2曝光頭出射的上述曝光光束所入射的位置、自上述第3曝光頭出射的上述曝光光束所入射的位置，上述受光器接受上述曝光光束。在第5步驟中，根據上述第4步驟，來自上述第2曝光頭的上述曝光光束朝向上述受光器的入射位置、來自上述第3曝光頭的上述曝光光束朝向上述受光器的入射位置、及藉由上述掃描移動部所進行的上述受光器之移動量，以求出上述第2曝光頭出射的上述曝光光束與上述第3曝光頭出射的上述曝光光束之間的間隔。

在如此所構成的發明中，使自複數個曝光頭各者所出射的曝光光束入射至受光器，以計算出光束間隔。具體而言，藉由使載台進行掃描移動的掃描移動部，使受光器與載台一體地移動，以個別地接受來自第1曝光頭及第2曝光頭分別出射的曝光光束。如此，使受光器移動以接受來自各曝光頭的曝光光束，藉此可使用較小型之元件以作為受光器。

被使用於對基板進行曝光時之掃描移動的掃描移動部，為了確保曝光品質其具有較高之位置精度。因此，藉由利用掃描移動部以使受光器移動，則可被期待高精度地求出其移動量。即，藉由分別求出接受來自第1曝光頭及第2曝光頭分別出射的曝光光束時曝光光束朝向受光器的入射位置、及該等曝光光束之受光時使受光器移動之量，則可精度良好地求出在實際空間中之曝光光束間的間隔。

接著，當在第2曝光頭與第3曝光頭之間求出曝光光束間之間隔時，預先使受光器相對於載台進行移動。此時受光器之移動為沿著曝光頭之排列方向即第1方向且朝向第3曝光頭側移動。

然後，當接受來自第2曝光頭與第3曝光頭各者出射的曝光光束時，再次藉由掃描移動部以使受光器移動。此時，若預先使受光器相對於載台而移動至靠近第3曝光頭的位置，則使受光器朝向與第3曝光頭相對應的位置移動時的載台移動量並不會變得如習知技術般大。

假如，將受光器設置在相對於載台而被固定的位置，則為了使受光器移動至與全部曝光頭相對應的位置所需要的載台移動量變得非常大。其則成為導致裝置大型化之原因。

另一方面，在本發明中，受光器可相對於載台來移動，在接受曝光光束之前，可預先使受光器朝向成為其對象的曝光頭側移動。因此，載台之移動行程較小即可。此外，對於求出曝光光束間之間隔時所需要的值即受光器之移動量，可使用高精度之掃描移動部以求出，另一方面，受光器相對於載台之移動僅在計測中之初始位置予以變更，其並不影響計測精度。因此，其無須使用高精度且高價之移動機構，即可抑制裝置成本之增加。如考慮可避免裝置之大型化，則勿寧說其可有助於減低裝置成本。

最佳狀態是，載台之移動行程的必要量係和曝光頭之配設數量無關，而與其排列間距成為相同之程度。因此，即便曝光頭之數量增加時，其仍無須增加載台之行程，其成本抑制之效果甚大。

此外，本發明之其他態樣係一種曝光裝置，其具備有：載台，其以水平姿勢支撐基板；曝光部，其具有在水平之第1方向被排列3個以上的曝光頭，並使上述曝光頭各者朝向上述載台，落射(epi-illumination)曝光光束；掃描移動部，其使上述載台於水平方向移動，並使上述曝光光束對上述基板進行掃描；及計測部，其對自上述曝光頭各者出射的上述曝光光束間的間隔進行計測；上述計測部具有：受光器，其接受上述曝光光束；受光器支撐部，其被設置為與上述載台成為一體，以支撐上述受光器，並且可使上述受光器相對於上述載台在上述第1方向移動；及間隔計算部，其對上述複數個曝光頭各者所出射的上述曝光光束間的間隔進行計算。

在如此所構成的本發明中，受光器可進行藉由掃描移動部所進行與載台一體的移動、及藉由受光器支撐部而相對於載台的移動。藉由將該等移動予以組合並執行，則可在不增加載台之移動行程的情形下使自各曝光頭所出射的曝光光束入射至受光器。此外，在需要高位置精度之計測時其藉由掃描移動部所適用之移動，則可確保高計測精度。 (對照先前技術之功效)

如上所述，根據本發明，一面藉由高精度之掃描移動部以進行對計測精度造成影響的受光器之移動，另一面將受光器相對於載台之移動組合，因此其無須當進行計測時使載台之移動行程變大。因而，即便曝光頭之數量變多，仍不會為了對曝光光束之間隔進行計測的目的而使裝置大型化，且亦可抑制裝置之成本。

對於本發明之上述以及其他目的與新穎特徵，只要參照附圖並閱讀以下的詳細說明，即可更加完全明瞭。然而，附圖主要被用於解說，並非用以限定本發明之範圍。

圖1係示意地表示本發明的曝光裝置之概略構成的前視圖，圖2係表示圖1之曝光裝置所具備的電性構成之一例的方塊圖。在圖1及以下之圖中，適當表示水平方向即X方向、與X方向正交之水平方向即Y方向、鉛直方向即Z方向、及以與Z方向平行之旋轉軸為中心的旋轉方向θ。

曝光裝置1藉由對形成光阻劑等感光材料之層的基板S(曝光對象基板)照射既定圖案的雷射光，以對感光材料描繪圖案。基板S例如可適用在半導體基板、半導體封裝基板、印刷配線基板、各種顯示裝置用之玻璃基板等各種基板。

曝光裝置1具備有本體11，本體11為利用本體框架111、被安裝於本體框架111的蓋板(省略圖示)所構成。又，在本體11之內部與外部各者，被配置曝光裝置1之各種構成要件。

曝光裝置1之本體11的內部被區分為處理區域112與交接區域113。於處理區域112，主要在基座部100上配置有載台2、載台驅動機構3、曝光單元4、對位單元5及觀察單元8。此外，於本體11的外部，配置有朝向對位單元5供給照明光的照明單元6。於交接區域113，配置有對於處理區域112進行基板S之搬出搬入的搬送機器人等之搬送裝置7。進而，於本體11的內部配置有控制部9。控制部9係與曝光裝置1之各部分電性連接，以控制該等各部分之動作。

被配置於本體11內部之交接區域113的搬送裝置7，自未圖示之外部的搬送裝置或基板保管裝置以接收未處理的基板S，將其搬入至處理區域112(裝載)。此外，自處理區域112將處理完畢的基板S搬出(卸載)而朝向外部送出。未處理之基板S的裝載及處理完畢之基板S的卸載係根據來自控制部9的指示並藉由搬送裝置7以被執行。

載台2係具有平板狀之外形，並將被載置在其上面的基板S保持呈水平姿勢。於載台2之上面，形成有複數個抽吸孔(省略圖示)。藉由對該抽吸孔賦予負壓(抽吸壓力)，被載置在載台2上的基板S被固定在載台2之上面。該載台2藉由載台驅動機構3所驅動。

載台驅動機構3係使載台2朝向Y方向(主掃描方向)、X方向(副掃描方向)、Z方向及旋轉方向θ(橫擺方向)移動的X-Y-Z-θ驅動機構。載台驅動機構3具有：Y軸機器人31，其係朝向Y方向被延伸設置的單軸機器人；Y移動台座32，其藉由Y軸機器人31朝向Y方向被驅動；X軸機器人33，其係於Y移動台座32之上面朝向X方向被延伸設置的單軸機器人；X移動台座34，其藉由X軸機器人33朝向X方向被驅動；及θ軸機器人35，其將被支撐在X移動台座34上面的載台2相對於X移動台座34朝向旋轉方向θ驅動。

因此，載台驅動機構3可藉由Y軸機器人31所具有之Y軸伺服馬達以將載台2朝向Y方向驅動，藉由X軸機器人33所具有之X軸伺服馬達以將載台2朝向X方向驅動，藉由θ軸機器人35所具有之θ軸伺服馬達以將載台2朝向旋轉方向θ驅動。該等伺服馬達被省略圖示。此外，載台驅動機構3可藉由Z軸機器人37以將載台2朝向Z方向驅動。該載台驅動機構3根據來自控制部9的指令，使Y軸機器人31、X軸機器人33、θ軸機器人35及Z軸機器人37進行動作，藉此使被載置在載台2的基板S移動。

在該等機器人中，至少在Y軸機器人31及X軸機器人33設置有用以檢測移動對象物之移動量的位置感測器311、331。例如雖然可將線性標尺與線性編碼器加以組合使用以作為位置感測器311、331，但是其不被限定於此。位置感測器311對藉由Y軸機器人31朝向Y方向移動的Y移動台座32在Y方向中的位置進行檢測。此外，位置感測器331對藉由X軸機器人33朝向X方向移動的X移動台座34在X方向中的位置進行檢測。該等位置感測器311、331之輸出被輸入至控制部9。

曝光單元4具有：曝光頭41，其被配置在較載台2上之基板S更上方；及光照射部40，其包含光源驅動部42、雷射出射部43及照明光學系統44，對曝光頭41照射雷射光。曝光單元4在X方向不同之位置被設置複數個。

藉由光源驅動部42之作動自雷射出射部43所射出的雷射光經由照明光學系統44朝向曝光頭41照射。曝光頭41藉由空間光調變器(以下，其存在有簡稱為「光調變器」的情形)400以對自光照射部所照射的雷射光進行調變，並對在其正下方移動的基板S進行落射。如此，利用雷射光束對基板S進行曝光，藉此可將圖案描繪於基板S(曝光動作)。

對位單元5具有被配置在較載台2上之基板S更上方的對位攝影機51。該對位攝影機51具有鏡筒、對物透鏡及CCD(Charge-Coupled Device，電荷耦合元件)影像感測器，其對在其正下方移動的基板S上面所設置的對位標記進行拍攝。對位攝影機51所具有的CCD影像感測器例如可藉由區域影像感測器(二維影像感測器)所構成。

照明單元6經由光纖61而與對位攝影機51之鏡筒相連接，其對於對位攝影機51供給照明光。藉由從照明單元6延伸的光纖61所引導的照明光經由對位攝影機51之鏡筒被引導至基板S之上面。在基板S的反射光經由對物透鏡被入射至CCD影像感測器。藉此，對基板S之上面進行拍攝而取得拍攝圖像。對位攝影機51係與控制部9電性連接，並根據來自控制部9的指示以取得拍攝圖像，並將該拍攝圖像發送至控制部9。

觀察單元8因應需要而移動至曝光頭41的正下方位置，以接受來自曝光頭41所出射的雷射光束(曝光光束)。受光結果被發送至控制部9，且被使用在各種調整處理。在本實施形態中，觀察單元8被使用在曝光頭41之對焦調整、並對分別從複數個曝光頭41所出射的曝光光束之間隔進行計測的處理中。觀察單元8具備有：觀察用攝影機81，其對藉由曝光光束所形成的像進行拍攝；及攝影機驅動機構82，其使觀察用攝影機81朝向X方向移動。

控制部9取得藉由對位攝影機51所拍攝的拍攝圖像其所表示的對位標記之位置。此外，控制部9根據對位標記之位置以控制曝光單元4，藉此，對於在曝光動作中自曝光頭41照射至基板S的雷射光之圖案進行調整。接著，控制部9使根據應描繪之圖案所調變的雷射光自曝光頭41照射至基板S，藉此而在基板S描繪圖案。

又，控制部9使用自觀察單元8所賦予的信號以進行曝光頭41之對焦調整。即，控制部9藉由觀察單元8之觀察用攝影機81所受光的曝光光束聚焦成最清晰之像之方式調整曝光頭41之投影光學系統。藉此，曝光頭41之對焦位置被最佳化。控制部9進而在具有複數個曝光頭41的情形，對該等曝光頭41出射且入射至基板S的曝光光束之間隔進行計測。關於該處理如後所詳述。

控制部9藉由對上述各單元之動作進行控制以實現各種處理。為了該目的，控制部9具備有CPU(Central Processing Unit，中央處理單元)91、記憶體(RAM，Random Access Memory，隨機存取記憶體)92、儲存裝置93、輸入部94、顯示部95及介面部96等。CPU 91讀出並執行預先被記憶在儲存裝置93的控制程式931，並執行後述之各種動作。記憶體92被使用在CPU 91所進行之運算處理，或者短期性地記憶作為運算處理之結果所生成的資料。儲存裝置93長期地記憶各種資料、控制程式。具體而言，儲存裝置93係快閃記憶體記憶裝置、硬碟驅動器裝置等非揮發性記憶裝置。除了CPU 91所執行之控制程式931以外，其例如亦記憶有表現應描繪圖案之內容的設計資料即CAD(Computer Aided Design，電腦輔助設計)資料932。

輸入部94受理來自使用者的操作輸入。為了該目的，其具有鍵盤、滑鼠、觸控板等適當之輸入設備(省略圖示)。顯示部95藉由顯示輸出各種資訊以通知使用者。為了該目的，其具有適當之顯示設備，例如液晶顯示面板。介面部96掌管與外部裝置之間的通信。例如，當該曝光裝置1自外部接收控制程式931及CAD資料932時，介面部96則發揮功能。為了該目的，介面部96亦可具有用以自外部記錄媒體讀出資料的功能。

CPU 91執行控制程式931，藉此，在軟體上可實現曝光資料生成部911、曝光控制部912、對焦控制部913、載台控制部914、間隔計算部915等功能區塊。再者，該等功能區塊之各者其至少一部分藉由專用硬體來實現亦可。

曝光資料生成部911根據自儲存裝置93所讀出的CAD資料932，以生成用以根據圖案使光束調變的曝光資料。當在基板S具有歪曲等變形的情形時，曝光資料生成部911根據基板S之歪曲量以修正曝光資料。藉此，其可進行與基板S之形狀配合的描繪。曝光資料被傳送至曝光頭41。根據該曝光資料，曝光頭41對自光照射部40所出射的雷射光進行調變。如此，根據圖案所調變的調變光束被照射至基板S，基板S表面被部分地曝光而描繪圖案。

曝光控制部912控制光照射部40，使具有既定功率及光點尺寸的雷射光束出射。對焦控制部913對被設置在曝光頭41的投影光學系統進行控制，以使雷射光束匯聚至基板S之表面。

載台控制部914控制載台驅動機構3，以實現用以進行對位調整的載台2之移動、及用以進行曝光時掃描移動的載台2之移動。在對位調整中，在X方向、Y方向、Z方向及θ方向上調整載台2的位置，以使被載置在載台2的基板S與曝光頭41之間在曝光開始時的相對位置關係成為預先被設定的關係。另一方面，在掃描移動中，使載台2以固定速度朝向Y方向移動而藉此使基板S通過曝光頭41下方的主掃描移動、及以固定間距朝向X方向之步進饋送(副掃描移動)加以組合。間隔計算部915根據觀察單元8之觀察用攝影機81所拍攝的拍攝結果，以計算複數個曝光頭41各者所出射之曝光光束間的間隔。

圖3A及圖3B係於Y方向觀察該曝光裝置的圖。再者，在曝光裝置1中，雖然在載台2及載台驅動機構3之(+Y)側配置有搬送裝置7，但是在圖3A及圖3B中則省略其記載。此外，圖3A表示自圖3B中去除觀察單元8的狀態。

如圖3A所示，高架起重機狀之支撐框架101在X方向以跨過載台驅動機構3及被其支撐的載台2之方式安裝在基座部100。在該支撐框架101，沿著X方向以大致等間隔並列之方式安裝複數個曝光頭41。在本例中，雖然設置有5座曝光頭41(411~415)，但是其配設數不被限定於此，而可為任意數量。該等曝光頭411~415具有相互相同之構造。此外，其相互之位置關係被固定，在掃描移動中，該等成為一體並相對於基板S進行相對移動。

對1片基板S的曝光，係使用該等5座曝光頭41(411~415)來進行。即，基板S之表面被區分為5個區域，1個曝光頭41負責對該等區域中之一者進行曝光。如此一來，其可縮短基板S之曝光所需要的時間。

在此情形下，需要避免在相鄰之曝光頭41各者所進行曝光的區域其邊界產生圖案不連續的情形。為此，則需要確實地掌握自各曝光頭41入射至基板S的曝光光束之間隔，並根據其結果來進行各曝光頭41所負責的區域之分配。在本實施形態中，係使用觀察單元8以對曝光光束之間隔進行計測。

如圖3B所示，觀察單元8被設置在載台2之(+Y)側。再者，在圖3B中，為了明確地表示觀察單元8之構造，對載台2及載台驅動機構3中較觀察單元8更位於(-Y)側的構成，被附加網點以進行區別。具體而言，對載台2、X移動台座34、θ軸機器人35及Z軸機器人37被附加上網點。在以下各圖中皆相同。

觀察單元8具有：觀察用攝影機81，其被設置成向上作為拍攝方向；及攝影機驅動機構82，其一面支撐觀察用攝影機81並一面使其朝向X方向移動。雖然被省略圖示，但是在觀察用攝影機81之鏡筒的上端，例如被設置有玻璃製之受影面。受影面之Z方向位置被設定在與被載置於載台2的基板S之上面大致相同的高度。因此，在受影面上形成有與自各曝光頭41所出射的曝光光束聚焦於基板S上面的像大致相同的像。亦即，觀察用攝影機81可間接地觀察被形成在基板S上的像。

攝影機驅動機構82可自適當之直線移動機構，例如線性馬達、滾珠螺桿機構、齒條齒輪機構、皮帶傳動機構、鏈條驅動機構等之中適當地選擇來被使用。如後所述，在藉由攝影機驅動機構82所進行的觀察用攝影機81之移動中，則無須較高之定位精度。

圖4係表示被安裝在X移動台座的載台及觀察單元的立體圖。如圖4所示，攝影機驅動機構82經由適當之支撐構件83被安裝在載台驅動機構3之X移動台座34，並朝向X方向被延伸設置。因此，當X移動台座34藉由載台驅動機構3朝向X方向移動時，攝影機驅動機構82係與載台2一體地朝向X方向移動。此外，X移動台座34被載置在Y移動台座32。因此，當Y移動台座32朝向Y方向移動時，X移動台座34、載台2及攝影機驅動機構82一體地朝向Y方向移動。觀察用攝影機81亦與攝影機驅動機構82一起移動。

另一方面，當根據來自控制部9的控制指令使攝影機驅動機構82作動時，觀察用攝影機81對X移動台座34相對地朝向X方向移動。因此，觀察用攝影機81可獨立於載台2而朝向X方向移動。亦即，觀察用攝影機81之移動態樣具有以下之態樣：藉由載台驅動機構3之作動而與載台2一體地朝向X方向及Y方向移動的態樣；及藉由攝影機驅動機構82之作動而獨立於載台2朝向X方向移動的態樣。

藉由攝影機驅動機構82所實現的觀察用攝影機81在X方向中其可動範圍被希望為：對於全部曝光頭511~514，涵蓋可對曝光光束進行受光的範圍。然而，此並非為必需之要件。其原因在於，藉由與X移動台座34的移動組合，即可使觀察用攝影機81移動至超過藉由攝影機驅動機構82本身所移動的可動範圍。

接著，對使用此一構成的觀察單元8與被設置在控制部9的間隔計算部915以執行光束間隔之計算處理，參照圖5至圖8B來進行說明。於此，為了容易理解光束間隔計算處理之原理，首先根據其原理之基本動作說明。其後，再對可使所需時間更縮短的情形進行說明。

圖5係表示光束間隔計算處理的流程圖。此外，圖6至圖8B係表示該處理過程中各部分之位置關係的圖。最先，載台驅動機構3使載台2朝向Y方向移動，將其定位在預先所設定的位置以作為Y方向中的計測位置(步驟S101)。

圖6係表示載台2在Y方向中的計測位置。該計測位置被設成使自各曝光頭41所出射的曝光光束L之光路與觀察用攝影機81之光軸在Y方向上大致一致。再者，使曝光光束L之光路與觀察用攝影機81之光軸一致並非為必需之要件。當適當調整觀察用攝影機81之X方向位置之後，只要確保曝光光束L入射至觀察用攝影機81的位置關係即可。有關X方向中的位置，只要可實現後述朝向X方向的載台移動，其並未特別地被限定。例如，其可預先定位在可動範圍中之中央。

其次，處理用之內部參數N被設定為1(步驟S102)。該內部參數N係用以區別各曝光頭411~415的參數。即，以下為了區別曝光頭411、412、…、，將該等分別稱為「第1曝光頭」、「第2曝光頭」、…、。此等係使用參數N而可表示為「第N曝光頭」。

接著，攝影機驅動機構82作動，使觀察用攝影機81移動並定位在既定之第N計測位置(步驟S103)。此處，由於參數N為1，因此觀察用攝影機81被定位在第1計測位置。

圖7A表示第1計測位置之一例。第1計測位置係，以一點鏈線表示觀察用攝影機81之光軸到達至複數個曝光頭41中第1曝光頭411出射的曝光光束L1之光路和與其相鄰之第2曝光頭412出射的曝光光束L2之光路之間，觀察用攝影機81之位置。例如，雖然可設定在曝光光束L1之光路與曝光光束L2之光路的中間點，但是此並非為必需之要件。

自該狀態起，載台驅動機構3之X軸機器人33使X移動台座34朝向(+X)方向移動。藉此，觀察用攝影機81被定位在第N曝光頭，即第1曝光頭411之正下方位置(步驟S104)。此時，攝影機驅動機構82不作動，因此，觀察用攝影機81與載台2一體地移動。

圖7B表示此時之狀態。此時，觀察用攝影機81位在第1曝光頭411之正下方位置，當自第1曝光頭411出射曝光光束時，該曝光光束L1應入射至觀察用攝影機81。

在該狀態下，自第1曝光頭411出射與既定之測試圖案相對應的曝光光束L1。與測試圖案相對應的像被投影至觀察用攝影機81之受影面，該像藉由觀察用攝影機81被拍攝(步驟S105)。如此，對藉由第1曝光頭411所形成的第1測試圖案進行拍攝。

拍攝後，載台驅動機構3之X軸機器人33使X移動台座34朝向(-X)方向移動，使觀察用攝影機81自第N曝光頭，即第1曝光頭411之正下方位置移動，而朝向第(N+1)曝光頭，即第2曝光頭412之正下方位置進行定位(步驟S106)。接著，與步驟S105同樣的，第2曝光頭412出射為了形成測試圖案的曝光光束L2，並對被投影在觀察用攝影機81之受影面的測試圖案之像進行拍攝(步驟S107)。

如此一來，分別藉由觀察用攝影機81以拍攝藉由自第1曝光頭411被出射的曝光光束L1所形成的測試圖案、及藉由自第2曝光頭412被出射的曝光光束L2所形成的測試圖案。間隔計算部915根據該等之間的載台移動量、及所拍攝的2幅圖像中的測試圖案之像位置，以計算第1曝光頭411與第2曝光頭412之間的曝光光束L1、L2之間隔(步驟S108)。具體而言，求出X方向之光束間隔Dx、及Y方向之光束間隔Dy。有關其計算方法，容後詳述。

對所求出的光束間隔Dx、Dy與預先被決定的規定值進行比較，以判斷是否需要補正(步驟S109)。若所求出的光束間隔Dx、Dy與規定值之偏差在容許範圍內，則判斷為不需要補正(在步驟S109中為NO)。另一方面，當存在有超過容許範圍之偏差時，則判斷為需要補正(在步驟S109中為YES)。若有需要的話，則進行光束位置之補正(步驟S110)。

圖8A及圖8B係例示光束位置補正處理的圖。圖8A表示可進行光束位置補正之光學系統的例子。在曝光頭41內，於空間光調變器400與投影光學系統402之間，設置用以使光路偏移的光學元件，例如楔形稜鏡401，藉此，可對光束位置進行補正。即，藉由使其通過楔形稜鏡401，該出射光在與入射光平行且不同的光路上前進。藉此，光路被偏移。藉由改變構成楔形稜鏡401的1對稜鏡間之距離，可調整光路之偏移量。利用上述動作，可進行光束位置之補正。具體而言，例如可成為下述。

圖8B係表示光束位置補正處理的流程圖。首先，根據所求出的偏差量，計算出在楔形稜鏡401所需要的移動量(步驟S301)。接著，根據所求出的移動量以驅動楔形稜鏡401，並變更稜鏡間距離(步驟S302)。在該狀態下，再次形成測試圖案之像，藉由觀察用攝影機81以進行拍攝(步驟S303)。

自利用拍攝所獲得的圖像，對測試圖案之位置進行檢測，自該結果再次對補正後之光束間隔的偏差量進行評價(步驟S304)。若偏差量收斂至容許範圍內(在步驟S305中為YES)，則結束補正處理。另一方面，當偏差量依然超過容許範圍時(在步驟S305中為NO)，則返回至步驟S301，重複進行上述處理，直至偏差收斂為止。

作為使光路偏移的光學元件，除了楔形稜鏡以外，例如可使用平行平面板。此外，對於朝向主掃描方向即Y方向的位置偏差Dy，雖然亦可機構性地或光學性地對此進行補正，但是亦可利用調節曝光時間點以期求位置偏差之補正。

又，在此為了原理說明之原因，自第1曝光頭411起依序進行拍攝。因此，在上述處理中，係第2曝光頭412相對於第1曝光頭411之偏差進行評價並加以補正。然而，自對曝光頭間之相對位置偏差進行校正的目的來看，例如亦可用複數個曝光頭41中位在中央者為基準，自與其相鄰之曝光頭起依序地進行補正。

上述處理被重複進行，直至在全部曝光頭間計算出間隔並進行需要之補正為止。即，在圖5之步驟S111中，有關全部曝光光束間，被判斷間隔的計算是否結束。例如，可根據參數N之值來判斷。若全部曝光光束間之計算結束(在步驟S111中為YES)，則結束處理。另一方面，當計算未結束時(在步驟S111中為NO)，則參數N之值增加1(步驟S121)，而使載台2之X方向位置返回至步驟S101時間點的位置(步驟S122)，並重複進行自步驟S103起的處理。

圖9A至圖9C係表示在第2次迴圈處理中各部分之位置關係的圖。在步驟S103中，觀察用攝影機81被定位在第2計測位置。圖9A表示第2計測位置。此時，觀察用攝影機81位在第2曝光頭412出射的曝光光束L2之光路和與其相鄰之第3曝光頭413出射的曝光光束L3之光路之間。

接著，與上述相同，觀察用攝影機81在第2曝光頭412之正下方位置對第2曝光頭412所形成的測試圖案進行拍攝(步驟S104~S105)，其後，朝向第3曝光頭413之正下方位置移動(步驟S106)，對第3曝光頭413所形成的測試圖案進行拍攝(步驟S107)。自該等拍攝結果以計算曝光光束L2、L3間之間隔(步驟S108)。

同樣地，依序計算出第3曝光頭413出射的曝光光束L3與第4曝光頭414出射的曝光光束L4的間隔、及第4曝光頭414出射的曝光光束L4與第5曝光頭415出射的曝光光束L5的間隔。如此，計算出在全部光束間的間隔，則結束光束間隔計算處理。

圖10係表示光束間隔計算處理中之載台及觀察用攝影機之移動態樣的圖。此圖已完全省略在說明中不需要之構成的記載，而僅示意性地表示載台2及觀察用攝影機81之隨時間經過的位置變化。此外，在圖中，實線箭頭表示藉由攝影機驅動機構82所進行的觀察用攝影機81之移動，虛線箭頭表示藉由載台驅動機構3所進行的載台2之移動。

如圖10所示，在圖5之光束間隔計算處理中所執行的複數次迴圈處理中，X移動台座34在X方向中的移動態樣每次大致相同。因此，若初始位置大致相同，則X移動台座34在相同範圍重複進行往返移動。在此期間，攝影機驅動機構82使觀察用攝影機81之X方向位置變化，藉此使成為計測對象的曝光頭依序地切換。相對於此，X移動台座34之移動範圍大致相同。

假如，當觀察用攝影機81相對於載台2之X方向位置被固定時，為了將觀察用攝影機81定位在各曝光頭之正下方位置，則需要使X移動台座34在X方向上大幅度地移動。在此情形下，X移動台座34則有需要確保較大之移動行程，因而導致裝置之大型化。當曝光頭41之配設數變多時，此問題則更顯著。

特別是，例如圖3A所示般，當設置有高架起重機型之支撐框架101時，為了使X移動台座34之移動行程變大，則需要擴大支撐框架101之腳部的間隔。裝置全體變成大型且其重量亦大幅度地增加。此外，當樑部分之跨度(span)變長時，為了支撐曝光頭41之機械強度的方面，亦有不利之處。

相對於此，在本實施形態中，可使觀察用攝影機81相對於載台2在X方向移動，使其移動以實施計測對象之切換。藉此，在X移動台座34所需要的移動行程，無論曝光頭之數量如何，只要為其排列間距之程度即可。因此，即使當曝光頭之數量增加時，仍可將裝置之大型化抑制在最小限度。自節省資源之觀點來看，此亦甚為有利。

再者，此處所需要之X移動台座34的移動行程係與在曝光動作中用以執行副掃描移動所需要之移動行程量大致相同。亦即，本實施形態之光束間隔計算處理，係藉由使X移動台座34在為了副掃描移動所準備的可動範圍內移動，而可實現。因此，為了執行光束間隔計算處理，其不需要變更X移動台座34之移動行程。

其次，參照圖11A及圖11B更具體地對相鄰之2個曝光頭間的光束間隔計算方法進行說明。

圖11A及圖11B係說明光束間隔計算方法之原理的圖。如圖11A所示，此處所應計算出之值係自相鄰之2個曝光頭411、412各者所出射的曝光光束L1、L2之間隔Dx。再者，雖然此處舉出在第1曝光頭411與第2曝光頭412之間計算光束間隔的案例以進行說明，但是對於該等以外之曝光頭之間亦可同樣地來進行。

如圖11A所示，將在步驟S105中所拍攝的圖像以符號Im1來表示，將在步驟S107中所拍攝的圖像以符號Im2來表示。當將圖像Im1以xy圖像平面來表現時，測試圖案之像TP1的重心位置被設為(x1,y1)。此外，當將圖像Im2以xy圖像平面來表現時，將測試圖案之像TP2的重心位置設為(x2,y2)。該等重心位置可適當地應用眾所周知之圖像處理以求出。

該等2幅圖像Im1、Im2係在使X移動台座34朝向X方向移動之前後所拍攝的圖像。當將此時之X移動台座34的移動量以符號Tx來表示時，2幅圖像在空間上具有於X方向離開相當於距離Tx的位置關係。有關X移動台座34之移動量Tx，可根據被設置在X軸機器人31的位置感測器331之輸出來求出。X軸機器人31負責曝光動作中之副掃描移動，因此可認為其位置精度相當高。

如此一來，自圖11A所示之關係可獲得下式： Tx-x1=Dx-x2 又，使其變形可獲得下式： Dx=Tx+(x2-x1) … (式1) 如此，根據拍攝時之X移動台座34(載台2)之移動量Tx、及所拍攝的圖像中之測試圖案的位置檢測結果x1、x2，可計算出2個曝光頭411、412所出射的曝光光束間之間隔。

再者，此處之值x1、x2為xy圖像平面內之座標值，為了符合上述(式1)之適用，需要將該等座標值換算成在實際空間之距離。自圖像內之像素尺寸與實際空間中尺寸關係使座標值與在實際空間之尺寸成為一致係屬容易。藉此，則可計算出光束間隔Dx。

在對2幅圖像進行拍攝的期間，觀察用攝影機81之Y方向位置未變化。因此，2幅圖像Im1、Im2中之測試圖案TP1、TP2在Y方向的位置差直接地表示2個曝光頭411、412出射的曝光光束在Y方向的位置差。因此，2個曝光光束L1、L2在Y方向之位置偏差Dy可由下式表示： Dy=y2-y1…(式2) 如此，求出X方向及Y方向中之光束間隔Dx、Dy。

同樣地，可在第2曝光頭412與第3曝光頭413之間、第3曝光頭413與第4曝光頭414之間、…、第(N)曝光頭與第(N+1)曝光頭之間，分別求出光束間隔。藉此，最終對全部的曝光光束求出相互之間隔。

藉由攝影機驅動機構82使觀察用攝影機81朝向X方向的移動，具有使X移動台座34(載台2)朝向X方向的移動量(行程)抑制為較小的效果，另一方面，其對上述之光束間隔的計算精度則不會有影響。即，即使當利用攝影機驅動機構82而觀察用攝影機81的定位精度不高時，使所拍攝的圖像內測試圖案之位置僅在圖像內偏移，該偏移量在2個圖像之間相同。因此，在上述運算中，偏移量則被消除而不影響計算精度。

因此，對於攝影機驅動機構82而言無須為高精度之定位機構，只要具有可單純地將各曝光頭所形成的測試圖案收容至拍攝視野內之程度的精度即可。因此，其不會使設置攝影機驅動機構82成為龐大之成本增加。反而，藉由固定觀察用攝影機而可迴避裝置全體大型化之點來看，可說是有助於裝置成本之減低。

此處對所使用的測試圖案，使用圖11B來進行說明。再者，測試圖案之形狀為任意者，並不被限定於此處所示者。如圖11A所示，測試圖案TP1、TP2係可成為具有如下配置之圖案，即，利用以X方向作為長邊方向之長圓形的點夾著中央圓點在X方向的兩側。如此之圖案即便在任一個點具有部分的缺陷，但是在檢測重心位置的目的上其則較不會受到影響。

此外，當光調變器400為一維空間光調變器時，因其不隨著主掃描移動而形成測試圖案，因而使用朝向X方向延伸的一維圖案係為有效者。如圖11B所示般，本實施形態之測試圖案可利用一維像素行來構成，而對使用一維空間光調變器來形成的情況甚為合適。

其次，對光束間隔計算處理之變形例進行說明。在上述實施形態之光束間隔計算處理中，觀察用攝影機81被定位在成為對象的2個曝光頭之間，例如曝光頭411與曝光頭412之間。其後，藉由使X移動台座34移動，以使觀察用攝影機81朝向用以進行拍攝的位置移動。

另一方面，攝影機驅動機構82具有某程度之高定位精度，當可使觀察用攝影機81從各曝光頭411等出射的曝光光束直接移動至入射的位置時，藉由如下變形例可使處理時間縮短。再者，因為利用流程圖來表示該變形例中之處理變得相當複雜，因此，使用表示與圖9相同之位置變化的示意圖來說明其思考方式。

圖12係表示光束間隔計算處理之變形例中載台及觀察用攝影機之移動態樣的圖。在該變形例中，藉由攝影機驅動機構82，首先觀察用攝影機81被定位在第1曝光頭411之正下方位置(圖12(a))。在此情形下，只要自第1曝光頭411出射的曝光光束L1被觀察用攝影機81受光，而可拍攝測試圖案即已足夠，而無須在其上作精密之定位。在該狀態下，第1曝光頭411對所形成的第1測試圖案拍攝。

其次，X移動台座34朝向(-X)方向移動，觀察用攝影機81移動至第2曝光頭412之正下方位置(圖12(b))。在該狀態下，對第2曝光頭412所形成的第2測試圖案進行拍攝。如此，對第1及第2測試圖案進行拍攝。在該等拍攝之期間，僅存在有因X移動台座34之移動。因此，與上述實施形態同樣，可計算出第1曝光頭411與第2曝光頭412之間的光束間隔。

接著，在維持載台2之位置的狀態下，觀察用攝影機81因攝影機驅動機構82而被移動至第3曝光頭413之正下方位置(圖12(c))。在該狀態下，第3曝光頭413對所形成的第3測試圖案利用觀察用攝影機81進行拍攝。接著，X移動台座34朝向(+X)方向移動，觀察用攝影機81再次被定位在第2曝光頭412之正下方位置(圖12(d))，以對第2測試圖案進行拍攝。在此階段，可在第2曝光頭412與第3曝光頭413之間計算出光束間隔。

同樣地，觀察用攝影機81因為攝影機驅動機構82而被移動，且被定位在第3曝光頭413之正下方位置(圖12(e))。此時，對包含有第3測試圖案的圖像進行拍攝。其後，使X移動台座34朝向(-X)方向移動(圖12(f))，於觀察用攝影機81被定位在第4曝光頭414之正下方位置的狀態下，對包含有第4測試圖案的圖像進行拍攝。使用該等圖像，可在第3曝光頭413與第4曝光頭414之間計算出光束間隔。其對第4曝光頭414與第5曝光頭415之間亦相同(圖12(g)~(h))。

如此，在該變形例中，交互地執行藉由載台驅動機構3所進行的載台2之移動、及藉由攝影機驅動機構82所進行的觀察用攝影機81之移動，使用在載台2移動之前後所拍攝的圖像以計算光束間隔。即使在此情形下，載台2朝向X方向之移動行程亦被保留為與相鄰之曝光頭間的間隔相同之程度，而可被期望有與上述實施形態相同之效果。即，其可抑制裝置之大型化並期求成本之減低。此外，與圖9A至圖9C所示之動作相比，隨著載台移動之步驟數變少，其可期求在處理所需之時間的縮短。

如以上所說明，在此實施形態之曝光裝置1中，載台驅動機構3被作為本發明之「掃描移動部」及「載台驅動機構」而發揮作用，曝光單元4被作為本發明之「曝光部」而發揮功能。此外，觀察用攝影機81被作為本發明之「受光器」及「攝影機」而發揮功能，攝影機驅動機構82被作為本發明之「受光器支撐部」而發揮功能。此外，間隔計算部915被作為本發明之「間隔計算部」而發揮功能。接著，觀察用攝影機81、攝影機驅動機構82及間隔計算部915被作為本發明之「計測部」而發揮功能。此外，空間光調變器400被作為本發明之「光調變器」而發揮功能。

此外，副掃描方向即X方向相當於本發明之「第1方向」。而且，在本實施形態中，X軸機器人33被作為本發明之「載台移動機構」及「驅動機構」而發揮功能，位置感測器331被作為本發明之「位置檢測部」而發揮功能。此外，X移動台座34被作為本發明之「支撐構件」而發揮功能。

再者，本發明並不被限定在上述之實施形態，只要不脫離其主旨，則除了上述內容以外，亦可進行各種變更。例如，雖然在上述實施形態中，觀察用攝影機81被作為本發明之「受光器」來使用，但是受光器之構成並不被限定於此。例如，在X方向中其目的僅為計算間隔的話，則可將線性影像感測器作為本發明之「受光器」來使用。

此外，在上述實施形態中，當判斷光束間隔計測處理之結果即曝光頭間之位置偏差較大時，則執行用以對其進行補正的處理。然而，作為本發明之目的之一的「計測」，其本身具有效果，因此並無須經常根據計測結果的補正加以組合。

以上，如對具體之實施形態為例示所說明者，在本發明之光束間隔計測方法中，例如，受光器為對曝光光束之像進行拍攝的攝影機，在第2步驟及第5步驟中，從所拍攝的圖像中曝光光束之像的位置以求出入射位置。根據如此之構成，則可將曝光光束作為圖像中之像而加以固定。而且，用以自圖像中對該像進行檢測而特定出位置，其可適用眾所周知之圖像處理之技術。如此一來，其可精度良好地對光束間之間隔進行計測。

更具體而言，例如，可根據藉由不同之曝光頭的拍攝所取得的在複數幅圖像間之入射位置的差、及藉由掃描移動部之受光器之移動量的和，來求出間隔。攝影機即受光器之移動量係表示該攝影機之拍攝視野的移動量，亦即複數幅圖像之拍攝視野在實際空間中的間隔。因此，藉由將該間隔與在各幅圖像內之位置的差相加，則可求出在實際空間的曝光光束之間隔。

此外，例如亦可構成各個曝光頭出射與既定之測試圖案相對應的曝光光束。藉由使曝光光束形成具有預先所決定之特定形狀的圖案，則可使其位置檢測變得容易且確實。

此外，本發明之曝光裝置例如可構成為掃描移動部具有：支撐構件，其支撐載台；及驅動機構，其使支撐構件於第1方向往返移動；受光器支撐部被安裝在支撐構件，使受光器相對於支撐構件來移動。根據此一構成，當用以使載台移動的驅動機構作動時，可使受光器支撐部及被其所支撐的受光器與載台一體地移動。此外，藉由使以與載台一體支撐的受光器支撐部作動，則可使受光器相對於載台來移動。

或者例如可構成為掃描移動部具有：載台移動機構，其使載台於第1方向移動；及位置檢測部，其對載台在第1方向中的位置進行檢測。根據如此之構成，可自位置檢測部之輸出中求出載台之移動量。

此外，例如可構成為掃描移動部可執行朝向與第1方向正交之方向的主掃描移動、及朝向第1方向的副掃描移動。亦即，可將第1方向作為副掃描方向。根據如此之構成，使在副掃描方向中的曝光光束之間隔為已知的複數個曝光頭呈並列地動作，則可有效地對基板進行曝光。

以上，雖已依照特定之實施例來對本發明進行說明，但該說明並非用為限定之意思來進行解釋。本發明所屬技術領域中具有通常知識者只要參照本發明之說明，則應可與本發明之其他實施形態相同地瞭解已被揭示之實施形態的各種變形例。因而，本發明之申請專利範圍應被認為包含有不脫離本發明實際範圍之範圍內的該等變形例或實施形態。 (產業上之可利用性)

本發明可適於例如半導體基板、半導體封裝基板、印刷配線基板或玻璃基板等基板上形成圖案以對基板進行曝光的技術領域。

1:曝光裝置 2:載台 3:載台驅動機構(掃描移動部) 4:曝光單元(曝光部) 5:對位單元 6:照明單元 7:搬送裝置 8:觀察單元 9:控制部 11:本體 31:Y軸機器人 32:Y移動台座 33:X軸機器人(驅動機構、載台移動機構) 34:X移動台座(支撐構件) 35:θ軸機器人 37:Z軸機器人 40:光照射部 41、411~415:曝光頭 42:光源驅動部 43:雷射出射部 44:照明光學系統 51:對位攝影機 61:光纖 81:觀察用攝影機(受光器、攝影機) 82:攝影機驅動機構(受光器支撐部) 83:支撐構件 91:CPU 92:記憶體 93:儲存裝置 94:輸入部 95:顯示部 96:介面部 100:基座部 101:支撐框架 111:本體框架 112:處理區域 113:交接區域 311、331:位置感測器(位置檢測部) 400:空間光調變器(光調變器) 401:楔形稜鏡 402:投影光學系統 430:光源單元 911:曝光資料生成部 912:曝光控制部 913:對焦控制部 914:載台控制部 915:間隔計算部 931:控制程式 932:CAD資料 Dx:光束間隔 Dy:光束間隔(位置偏差) Im1、Im2:圖像 L、L1~L5:曝光光束(雷射光束) Le:曝光光束 S:基板 TP1、TP2:像(測試圖案) Tx:移動量(距離) x1、x2:位置檢測結果 X、Y、Z:方向 θ:旋轉方向

圖1係示意地表示本發明的曝光裝置之概略構成的前視圖。 圖2係表示圖1之曝光裝置所具備有的電性構成之一例的方塊圖。 圖3A係於Y方向觀察該曝光裝置的圖。 圖3B係於Y方向觀察該曝光裝置的圖。 圖4係表示載台及觀察單元的立體圖。 圖5係表示光束間隔計算處理的流程圖。 圖6係表示在該處理過程中之各部分之位置關係的圖。 圖7A係表示在該處理過程中之各部分之位置關係的圖。 圖7B係表示在該處理過程中之各部分之位置關係的圖。 圖7C係表示在該處理過程中之各部分之位置關係的圖。 圖8A係表示光束位置補正處理的圖。 圖8B係表示光束位置補正處理的圖。 圖9A係表示在第2次迴圈處理中之各部分之位置關係的圖。 圖9B係表示在第2次迴圈處理中之各部分之位置關係的圖。 圖9C係表示在第2次迴圈處理中之各部分之位置關係的圖。 圖10係表示載台及觀察用攝影機之移動態樣的圖。 圖11A係說明光束間隔計算方法之原理的圖。 圖11B係說明光束間隔計算方法之原理的圖。 圖12(a)至(h)係表示在變形例中之載台及觀察用攝影機之移動態樣的圖。

2:載台

8:觀察單元

31:Y軸機器人

32:Y移動台座

33:X軸機器人(驅動機構、載台移動機構)

34:X移動台座(支撐構件)

41、411~415:曝光頭

81:觀察用攝影機(受光器、攝影機)

82:攝影機驅動機構(受光器支撐部)

100:基座部

101:支撐框架

X、Y、Z:方向

Claims (8)

1. 一種光束間隔計測方法，其在藉由曝光光束以對基板進行曝光的曝光裝置中，對複數個曝光頭各者所出射的上述曝光光束間的間隔進行計測； 上述曝光裝置具有：第1曝光頭、第2曝光頭及第3曝光頭，其等作為上述曝光頭而沿著第1方向排列；載台，其保持基板；及掃描移動部，其使上述載台進行掃描移動； 該光束間隔計測方法具備有如下步驟： 第1步驟，其中，上述掃描移動部使受光器與上述載台一體地移動，分別在自上述第1曝光頭出射的上述曝光光束所入射的位置、自上述第2曝光頭出射的上述曝光光束所入射的位置，上述受光器接受上述曝光光束； 第2步驟，其中，根據在上述第1步驟中，來自上述第1曝光頭的上述曝光光束朝向上述受光器的入射位置、來自上述第2曝光頭的上述曝光光束朝向上述受光器的入射位置、及藉由上述掃描移動部所進行的上述受光器之移動量，以求出上述第1曝光頭出射的上述曝光光束與上述第2曝光頭出射的上述曝光光束之間的間隔； 第3步驟，其中，使上述受光器相對於上述載台沿著上述第1方向朝向上述第3曝光頭側移動； 第4步驟，其中，上述掃描移動部使上述受光器與上述載台一體地移動，分別在自上述第2曝光頭出射的上述曝光光束所入射的位置、自上述第3曝光頭出射的上述曝光光束所入射的位置，上述受光器接受上述曝光光束；及 第5步驟，其中，根據上述第4步驟中，來自上述第2曝光頭的上述曝光光束朝向上述受光器的入射位置、來自上述第3曝光頭的上述曝光光束朝向上述受光器的入射位置、及藉由上述掃描移動部所進行的上述受光器之移動量，以求出上述第2曝光頭出射的上述曝光光束與上述第3曝光頭出射的上述曝光光束之間的間隔。
2. 如請求項1之光束間隔計測方法，其中， 上述受光器係對上述曝光光束之像進行拍攝的攝影機，在上述第2步驟及上述第5步驟中，從所拍攝的圖像中上述曝光光束之像的位置以求出上述入射位置。
3. 如請求項2之光束間隔計測方法，其中， 在上述第2步驟及上述第5步驟中，對不同之上述曝光頭拍攝所取得的複數幅圖像間根據上述入射位置的差、及藉由上述掃描移動部之上述受光器之移動量的和，以求出上述間隔。
4. 如請求項1至3中任一項之光束間隔計測方法，其中， 上述曝光頭各者出射與既定測試圖案相對應的上述曝光光束。
5. 一種曝光裝置，其具備有： 載台，其以水平姿勢支撐基板； 曝光部，其具有在水平之第1方向被排列的3個以上的曝光頭，並使上述曝光頭各者朝向上述載台，落射曝光光束； 掃描移動部，其使上述載台於水平方向移動，並使上述曝光光束對上述基板進行掃描；及 計測部，其對自上述曝光頭各者所出射的上述曝光光束間的間隔進行計測； 上述計測部具有： 受光器，其接受上述曝光光束； 受光器支撐部，其被設置為與上述載台成為一體，以支撐上述受光器，並且可使上述受光器相對於上述載台在上述第1方向移動；及 間隔計算部，其對上述複數個曝光頭各者所出射的上述曝光光束間的間隔進行計算。
6. 如請求項5之曝光裝置，其中， 上述掃描移動部具有：支撐構件，其支撐上述載台；及驅動機構，其使上述支撐構件在上述第1方向往返移動； 上述受光器支撐部被安裝在上述支撐構件，使上述受光器相對於上述支撐構件作移動。
7. 如請求項5之曝光裝置，其中， 上述掃描移動部具有：載台移動機構，其使上述載台在上述第1方向移動；及位置檢測部，其對上述載台在上述第1方向中的位置進行檢測。
8. 如請求項5至7中任一項之曝光裝置，其中， 上述掃描移動部可執行朝向與上述第1方向正交之方向的主掃描移動、及朝向上述第1方向的副掃描移動。