JP5731063B2 - リソグラフィ装置、プログラマブル・パターニングデバイス、及びリソグラフィ方法 - Google Patents
リソグラフィ装置、プログラマブル・パターニングデバイス、及びリソグラフィ方法 Download PDFInfo
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Description
本出願は、2011年4月8日に出願された米国特許仮出願第61/473,636号、及び2012年2月3日に出願された米国特許仮出願第61/594,875号に関連し、これらの全体が本明細書に援用される。
1.リソグラフィ装置であって、
基板を保持し移動させるよう構成されている基板保持部と、
複数のビームを所望のパターンに従って変調するよう構成されている変調器であって、前記装置の光軸に実質的に垂直に延在する電気光学偏向器アレイを備える変調器と、
変調されたビームを受け、移動可能な前記基板に向けて投影するよう構成されている投影系と、を備えるリソグラフィ装置。
2.使用時に前記変調器と前記基板との間に配置され、前記変調されたビームが使用時に入射する供与構造体をさらに備え、前記供与構造体は、前記供与構造体から前記基板へと転写可能である供与材料層を有する、節1に記載のリソグラフィ装置。
3.前記供与材料は、金属である、節2に記載のリソグラフィ装置。
4.前記変調されたビームは使用時に前記基板に入射して前記基板の材料にアブレーションを生じさせる、節1から3のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
5.複数の電気光学偏向器のうちある電気光学偏向器は、電気光学材料のプリズムを備え、前記プリズムは、前記プリズムの入射面への入射ビームに対し非垂直に配置されている、節1から4のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
6.前記電気光学偏向器は、前記ビームを第1方向にのみ偏向する電気光学偏向器の第1セットと、前記ビームを異なる第2方向にのみ偏向する電気光学偏向器の第2セットと、を備える、節1から5のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
7.複数の電気光学偏向器のうちある電気光学偏向器は、ビーム経路に沿って直列に配列されている複数のプリズムを備え、交互に配置されるプリズムそれぞれが反対の領域を有する、節1から6のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
8.複数の電気光学偏向器のうちある電気光学偏向器は、LiNbO3、LiTaO3、KH2PO4(KDP)、またはNH4H2PO4(ADP)から選択される少なくとも1つを備える、節1から7のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
9.複数の電気光学偏向器のうちある電気光学偏向器は、屈折率勾配材料を有する、節1から8のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
10.リソグラフィ装置であって、
基板を保持するよう構成されている基板保持部と、
ビームを所望のパターンに従って変調するよう構成されている変調器であって、屈折率勾配材料を有する電気光学偏向器を備える変調器と、
変調されたビームを受け、基板に向けて投影するよう構成されている投影系と、を備えるリソグラフィ装置。
11.前記屈折率勾配材料は、タンタル酸ニオブ酸カリウムを備える、節9または10に記載のリソグラフィ装置。
12.前記電気光学偏向器と実質的に同一の屈折率を有し、前記電気光学偏向器の入射面、または出射面、または入射面及び出射面の両方に配置されているプリズムをさらに備える、節1から11のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
13.リソグラフィ装置であって、
基板を保持するよう構成されている基板保持部と、
放射ビームを所望のパターンに従って変調するよう構成されている変調器と、
変調されたビームを受け、前記基板に向けて投影するよう構成されている投影系と、
フォトリソグラフィ、材料成膜、または材料除去のうち少なくとも2つを実行するために前記変調されたビームを使用する前記装置の動作を変更するよう構成されているコントローラと、を備えるリソグラフィ装置。
14.前記コントローラは、材料成膜と材料除去との間で動作を変更するよう構成されている、節13に記載のリソグラフィ装置。
15.前記コントローラは、フォトリソグラフィ、材料成膜、及び材料除去の間で動作を変更するよう構成されている、節14に記載のリソグラフィ装置。
16.前記コントローラは、材料成膜へと動作を変更するよう構成されており、前記リソグラフィ装置は、使用時に前記変調器と前記基板との間に配置される供与構造体を備え、前記供与構造体は、前記供与構造体から前記基板へと転写可能である供与材料層を有する、節13から15のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
17.リソグラフィ装置であって、
基板を保持するよう構成されている基板保持部と、
放射ビームを所望のパターンに従って変調するよう構成されている変調器と、
変調されたビームを受け、前記基板に向けて投影するよう構成されている投影系と、
前記変調器と前記基板との間の場所に供与構造体を移動可能に支持する供与構造体支持部と、を備え、前記供与構造体は、前記供与構造体から前記基板へと転写可能である供与材料層を有し、前記変調されたビームが使用時に前記供与構造体に入射する、リソグラフィ装置。
18.前記供与構造体支持部は、前記投影系に対し移動可能である、節17に記載のリソグラフィ装置。
19.前記供与構造体支持部は、前記基板保持部に配置されている、節18に記載のリソグラフィ装置。
20.前記基板は移動可能であり、前記供与構造体支持部は前記供与構造体を前記基板とともに移動させるよう構成されている、節17から19のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
21.前記供与構造体支持部は、前記基板保持部の上方のフレームに配置されている、節17から20のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
22.前記供与構造体支持部は、該支持部と前記供与構造体との間にガスを供給する入口と、該支持部と前記供与構造体との間からガスを除去する出口と、を備えるガスベアリングを備える、節21に記載のリソグラフィ装置。
23.前記供与材料は、金属である、節16から22のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
24.前記変調器は、電気光学偏向器を備える、節13から23のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
25.前記変調器は、複数のビームを前記所望のパターンに従って変調するよう構成されており、前記変調器は、前記装置の光軸に実質的に垂直に延在する電気光学偏向器アレイを備え、前記投影系は、前記変調されたビームを受け、前記基板に向けて投影するよう構成されている、節10から24のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
26.前記ビームを使用する露光中に前記基板が移動している間に前記変調器がX方向及びY方向における前記ビームの偏向を生じさせる効率的露光モードに従って前記ビームを移動させるよう構成されているコントローラを備える、節1から25のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
27.前記投影系は、前記複数のビームを受けるレンズアレイを備える、節1から26のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
28.各レンズが、前記変調器から前記基板への前記複数のビームの少なくとも1つのビームの経路に沿って配設されている少なくとも2つのレンズを備える、節27に記載のリソグラフィ装置。
29.前記少なくとも2つのレンズの第1レンズは視野レンズを備え、前記少なくとも2つのレンズの第2レンズは結像レンズを備える、節28に記載のリソグラフィ装置。
30.前記視野レンズの焦点面は前記結像レンズの後焦点面に一致する、節29に記載のリソグラフィ装置。
31.単一の前記視野レンズと前記結像レンズとの結合により複数のビームが結像される、節28または29に記載のリソグラフィ装置。
32.前記第1レンズに向かう前記複数のビームの少なくとも1つを集束するレンズをさらに備える、節29から31のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
33.前記レンズアレイは、前記変調器に対し移動可能である、節1から32のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
34.前記変調器は、放射源を備える、節1から33のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
35.前記変調器は、電磁放射を発する複数の個別に制御可能な放射源を備える、節34に記載のリソグラフィ装置。
36.リソグラフィ装置であって、
基板を保持し移動させるよう構成されている基板保持部と、
複数のビームを所望のパターンに従って変調するよう構成されている変調器であって、前記ビームを第1方向に偏向する電気光学偏向器を備える変調器と、
前記電気光学偏向器から前記ビームを受け、前記ビームを第2方向に偏向し、変調されたビームを移動可能な前記基板に向けて投影する可動光学素子と、を備えるリソグラフィ装置。
37.前記第2方向は、前記第1方向に実質的に垂直である、請求項36に記載のリソグラフィ装置。
38.前記可動光学素子は、前記変調されたビームを目標に投影するよう構成されており、前記装置は、前記目標を移動させるよう構成されている、節36または37に記載のリソグラフィ装置。
39.前記目標を実質的に前記第1方向に移動させるよう構成されている、節36から38のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
40.前記目標は、基板または供与構造体にあり、前記供与構造体は、前記供与構造体から前記基板へと転写可能である供与材料層を有する、節39に記載のリソグラフィ装置。
41.前記電気光学偏向器は、一次元偏向器から成る、節36から40のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
42.前記電気光学偏向器は、前記ビームを前記第1方向及び前記第2方向に偏向するよう構成されている、節36から40のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
43.使用時に前記変調器と前記基板との間に配置され、前記変調されたビームが使用時に入射する供与構造体をさらに備え、前記供与構造体は、前記供与構造体から前記基板へと転写可能である供与材料層を有する、節36から42のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
44.前記供与材料は、金属である、節43に記載のリソグラフィ装置。
45.前記変調されたビームは使用時に前記基板に入射して前記基板の材料にアブレーションを生じさせる、節36から42のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
46.屈折率勾配材料を有する電気光学偏向器と、前記偏向器の入射面、または出射面、または入射面及び出射面の両方にて前記偏向器と実質的に同一の屈折率を有するプリズムと、を備えるビーム偏向システム。
47.前記屈折率勾配材料は、タンタル酸ニオブ酸カリウムを備える、節46に記載のビーム偏向システム。
48.基板を保持するよう構成されている基板保持部と、
ビームを所望のパターンに従って変調するよう構成されている変調器であって、前記電気光学偏向器を備える変調器と、
変調されたビームを受け、基板に向けて投影するよう構成されている投影系と、をさらに備える、節46または47に記載のビーム偏向システム。
49.ビーム経路に沿って直列に配列されている複数の個別に制御可能で分離された電気光学偏向器を備えるビーム偏向システム。
50.前記複数の電気光学偏向器のうちある電気光学偏向器は、屈折率勾配材料を有する、節49に記載のビーム偏向システム。
51.前記複数の電気光学偏向器のうちある電気光学偏向器は、前記偏向器の入射面、または出射面、または入射面及び出射面の両方にて前記偏向器と実質的に同一の屈折率を有するプリズムを有する、節49または50に記載のビーム偏向システム。
52.前記複数の電気光学偏向器のうちある電気光学偏向器は、ビーム経路に沿って直列に配列されている複数のプリズムを備え、交互に配置されるプリズムそれぞれが反対の領域を有する、節49から51のいずれかに記載のビーム偏向システム。
53.前記複数の電気光学偏向器のうち前記ビームを第1方向にのみ偏向する第1の電気光学偏向器と、前記複数の電気光学偏向器のうち前記ビームを異なる第2方向にのみ偏向する第2の電気光学偏向器と、を備える、節49から52のいずれかに記載のビーム偏向システム。
54.デバイス製造方法であって、
所望のパターンに従って変調された複数のビームを、該ビームのビーム経路を横切るよう延在する電気光学偏向器アレイを使用して、提供することと、
前記複数のビームを基板に向けて投影することと、
前記ビームを投影している間に前記基板を移動させることと、を備える方法。
55.デバイス製造方法であって、
放射ビームを所望のパターンに従って変調することと、
前記ビームを基板に向けて投影することと、
フォトリソグラフィ、材料成膜、または材料除去のうち少なくとも2つを実行するために、変調されたビームの使い方を変更することと、を備える方法。
56.デバイス製造方法であって、
放射ビームを所望のパターンに従って変調することと、
前記ビームを基板に向けて投影することと、
前記ビームが入射する供与構造体を移動可能に支持することと、を備え、前記供与構造体は、前記供与構造体から前記基板へと転写可能である供与材料層を有する、方法。
57.デバイス製造方法であって、
屈折率勾配材料を有する電気光学偏向器を使用して放射ビームを所望のパターンに従って変調することと、
前記ビームを基板に向けて投影することと、を備える方法。
58.デバイス製造方法であって、
複数の放射ビームを所望のパターンに従って、該ビームを第1方向に偏向する電気光学偏向器を使用して変調することと、
前記電気光学偏向器により偏向されたビームを、可動光学素子を使用して第2方向に偏向することと、
変調されたビームを前記光学素子から基板に向けて投影することと、を備える方法。
59.フラットパネルディスプレイの製造における本発明の1つ又は複数の実施形態の使用。
60.集積回路パッケージングにおける本発明の1つ又は複数の実施形態の使用。
61.本発明のいずれかの実施形態に従って又はそれを使用して製造されたフラットパネルディスプレイ。
62.本発明のいずれかの実施形態に従って又はそれを使用して製造された集積回路デバイス。
1.リソグラフィ装置であって、
基板を保持し移動させるよう構成されている基板保持部と、
複数のビームを所望のパターンに従って変調するよう構成されている変調器であって、前記装置の光軸に実質的に垂直に延在する電気光学偏向器アレイを備える変調器と、
変調されたビームを受け、移動可能な前記基板に向けて投影するよう構成されている投影系と、を備えるリソグラフィ装置。
2.使用時に前記変調器と前記基板との間に配置され、前記変調されたビームが使用時に入射する供与構造体をさらに備え、前記供与構造体は、前記供与構造体から前記基板へと転写可能である供与材料層を有する、節1に記載のリソグラフィ装置。
3.前記供与材料は、金属である、節2に記載のリソグラフィ装置。
4.前記変調されたビームは使用時に前記基板に入射して前記基板の材料にアブレーションを生じさせる、節1から3のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
5.複数の電気光学偏向器のうちある電気光学偏向器は、電気光学材料のプリズムを備え、前記プリズムは、前記プリズムの入射面への入射ビームに対し非垂直に配置されている、節1から4のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
6.前記電気光学偏向器は、前記ビームを第1方向にのみ偏向する電気光学偏向器の第1セットと、前記ビームを異なる第2方向にのみ偏向する電気光学偏向器の第2セットと、を備える、節1から5のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
7.複数の電気光学偏向器のうちある電気光学偏向器は、ビーム経路に沿って直列に配列されている複数のプリズムを備え、交互に配置されるプリズムそれぞれが反対の領域を有する、節1から6のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
8.複数の電気光学偏向器のうちある電気光学偏向器は、LiNbO3、LiTaO3、KH2PO4(KDP)、またはNH4H2PO4(ADP)から選択される少なくとも1つを備える、節1から7のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
9.複数の電気光学偏向器のうちある電気光学偏向器は、屈折率勾配材料を有する、節1から8のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
10.リソグラフィ装置であって、
基板を保持するよう構成されている基板保持部と、
ビームを所望のパターンに従って変調するよう構成されている変調器であって、屈折率勾配材料を有する電気光学偏向器を備える変調器と、
変調されたビームを受け、基板に向けて投影するよう構成されている投影系と、を備えるリソグラフィ装置。
11.前記屈折率勾配材料は、タンタル酸ニオブ酸カリウムを備える、節9または10に記載のリソグラフィ装置。
12.前記電気光学偏向器と実質的に同一の屈折率を有し、前記電気光学偏向器の入射面、または出射面、または入射面及び出射面の両方に配置されているプリズムをさらに備える、節1から11のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
13.リソグラフィ装置であって、
基板を保持するよう構成されている基板保持部と、
放射ビームを所望のパターンに従って変調するよう構成されている変調器と、
変調されたビームを受け、前記基板に向けて投影するよう構成されている投影系と、
フォトリソグラフィ、材料成膜、または材料除去のうち少なくとも2つを実行するために前記変調されたビームを使用する前記装置の動作を変更するよう構成されているコントローラと、を備えるリソグラフィ装置。
14.前記コントローラは、材料成膜と材料除去との間で動作を変更するよう構成されている、節13に記載のリソグラフィ装置。
15.前記コントローラは、フォトリソグラフィ、材料成膜、及び材料除去の間で動作を変更するよう構成されている、節14に記載のリソグラフィ装置。
16.前記コントローラは、材料成膜へと動作を変更するよう構成されており、前記リソグラフィ装置は、使用時に前記変調器と前記基板との間に配置される供与構造体を備え、前記供与構造体は、前記供与構造体から前記基板へと転写可能である供与材料層を有する、節13から15のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
17.リソグラフィ装置であって、
基板を保持するよう構成されている基板保持部と、
放射ビームを所望のパターンに従って変調するよう構成されている変調器と、
変調されたビームを受け、前記基板に向けて投影するよう構成されている投影系と、
前記変調器と前記基板との間の場所に供与構造体を移動可能に支持する供与構造体支持部と、を備え、前記供与構造体は、前記供与構造体から前記基板へと転写可能である供与材料層を有し、前記変調されたビームが使用時に前記供与構造体に入射する、リソグラフィ装置。
18.前記供与構造体支持部は、前記投影系に対し移動可能である、節17に記載のリソグラフィ装置。
19.前記供与構造体支持部は、前記基板保持部に配置されている、節18に記載のリソグラフィ装置。
20.前記基板は移動可能であり、前記供与構造体支持部は前記供与構造体を前記基板とともに移動させるよう構成されている、節17から19のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
21.前記供与構造体支持部は、前記基板保持部の上方のフレームに配置されている、節17から20のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
22.前記供与構造体支持部は、該支持部と前記供与構造体との間にガスを供給する入口と、該支持部と前記供与構造体との間からガスを除去する出口と、を備えるガスベアリングを備える、節21に記載のリソグラフィ装置。
23.前記供与材料は、金属である、節16から22のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
24.前記変調器は、電気光学偏向器を備える、節13から23のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
25.前記変調器は、複数のビームを前記所望のパターンに従って変調するよう構成されており、前記変調器は、前記装置の光軸に実質的に垂直に延在する電気光学偏向器アレイを備え、前記投影系は、前記変調されたビームを受け、前記基板に向けて投影するよう構成されている、節10から24のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
26.前記ビームを使用する露光中に前記基板が移動している間に前記変調器がX方向及びY方向における前記ビームの偏向を生じさせる効率的露光モードに従って前記ビームを移動させるよう構成されているコントローラを備える、節1から25のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
27.前記投影系は、前記複数のビームを受けるレンズアレイを備える、節1から26のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
28.各レンズが、前記変調器から前記基板への前記複数のビームの少なくとも1つのビームの経路に沿って配設されている少なくとも2つのレンズを備える、節27に記載のリソグラフィ装置。
29.前記少なくとも2つのレンズの第1レンズは視野レンズを備え、前記少なくとも2つのレンズの第2レンズは結像レンズを備える、節28に記載のリソグラフィ装置。
30.前記視野レンズの焦点面は前記結像レンズの後焦点面に一致する、節29に記載のリソグラフィ装置。
31.単一の前記視野レンズと前記結像レンズとの結合により複数のビームが結像される、節28または29に記載のリソグラフィ装置。
32.前記第1レンズに向かう前記複数のビームの少なくとも1つを集束するレンズをさらに備える、節29から31のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
33.前記レンズアレイは、前記変調器に対し移動可能である、節1から32のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
34.前記変調器は、放射源を備える、節1から33のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
35.前記変調器は、電磁放射を発する複数の個別に制御可能な放射源を備える、節34に記載のリソグラフィ装置。
36.リソグラフィ装置であって、
基板を保持し移動させるよう構成されている基板保持部と、
複数のビームを所望のパターンに従って変調するよう構成されている変調器であって、前記ビームを第1方向に偏向する電気光学偏向器を備える変調器と、
前記電気光学偏向器から前記ビームを受け、前記ビームを第2方向に偏向し、変調されたビームを移動可能な前記基板に向けて投影する可動光学素子と、を備えるリソグラフィ装置。
37.前記第2方向は、前記第1方向に実質的に垂直である、請求項36に記載のリソグラフィ装置。
38.前記可動光学素子は、前記変調されたビームを目標に投影するよう構成されており、前記装置は、前記目標を移動させるよう構成されている、節36または37に記載のリソグラフィ装置。
39.前記目標を実質的に前記第1方向に移動させるよう構成されている、節36から38のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
40.前記目標は、基板または供与構造体にあり、前記供与構造体は、前記供与構造体から前記基板へと転写可能である供与材料層を有する、節39に記載のリソグラフィ装置。
41.前記電気光学偏向器は、一次元偏向器から成る、節36から40のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
42.前記電気光学偏向器は、前記ビームを前記第1方向及び前記第2方向に偏向するよう構成されている、節36から40のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
43.使用時に前記変調器と前記基板との間に配置され、前記変調されたビームが使用時に入射する供与構造体をさらに備え、前記供与構造体は、前記供与構造体から前記基板へと転写可能である供与材料層を有する、節36から42のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
44.前記供与材料は、金属である、節43に記載のリソグラフィ装置。
45.前記変調されたビームは使用時に前記基板に入射して前記基板の材料にアブレーションを生じさせる、節36から42のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
46.屈折率勾配材料を有する電気光学偏向器と、前記偏向器の入射面、または出射面、または入射面及び出射面の両方にて前記偏向器と実質的に同一の屈折率を有するプリズムと、を備えるビーム偏向システム。
47.前記屈折率勾配材料は、タンタル酸ニオブ酸カリウムを備える、節46に記載のビーム偏向システム。
48.基板を保持するよう構成されている基板保持部と、
ビームを所望のパターンに従って変調するよう構成されている変調器であって、前記電気光学偏向器を備える変調器と、
変調されたビームを受け、基板に向けて投影するよう構成されている投影系と、をさらに備える、節46または47に記載のビーム偏向システム。
49.ビーム経路に沿って直列に配列されている複数の個別に制御可能で分離された電気光学偏向器を備えるビーム偏向システム。
50.前記複数の電気光学偏向器のうちある電気光学偏向器は、屈折率勾配材料を有する、節49に記載のビーム偏向システム。
51.前記複数の電気光学偏向器のうちある電気光学偏向器は、前記偏向器の入射面、または出射面、または入射面及び出射面の両方にて前記偏向器と実質的に同一の屈折率を有するプリズムを有する、節49または50に記載のビーム偏向システム。
52.前記複数の電気光学偏向器のうちある電気光学偏向器は、ビーム経路に沿って直列に配列されている複数のプリズムを備え、交互に配置されるプリズムそれぞれが反対の領域を有する、節49から51のいずれかに記載のビーム偏向システム。
53.前記複数の電気光学偏向器のうち前記ビームを第1方向にのみ偏向する第1の電気光学偏向器と、前記複数の電気光学偏向器のうち前記ビームを異なる第2方向にのみ偏向する第2の電気光学偏向器と、を備える、節49から52のいずれかに記載のビーム偏向システム。
54.デバイス製造方法であって、
所望のパターンに従って変調された複数のビームを、該ビームのビーム経路を横切るよう延在する電気光学偏向器アレイを使用して、提供することと、
前記複数のビームを基板に向けて投影することと、
前記ビームを投影している間に前記基板を移動させることと、を備える方法。
55.デバイス製造方法であって、
放射ビームを所望のパターンに従って変調することと、
前記ビームを基板に向けて投影することと、
フォトリソグラフィ、材料成膜、または材料除去のうち少なくとも2つを実行するために、変調されたビームの使い方を変更することと、を備える方法。
56.デバイス製造方法であって、
放射ビームを所望のパターンに従って変調することと、
前記ビームを基板に向けて投影することと、
前記ビームが入射する供与構造体を移動可能に支持することと、を備え、前記供与構造体は、前記供与構造体から前記基板へと転写可能である供与材料層を有する、方法。
57.デバイス製造方法であって、
屈折率勾配材料を有する電気光学偏向器を使用して放射ビームを所望のパターンに従って変調することと、
前記ビームを基板に向けて投影することと、を備える方法。
58.デバイス製造方法であって、
複数の放射ビームを所望のパターンに従って、該ビームを第1方向に偏向する電気光学偏向器を使用して変調することと、
前記電気光学偏向器により偏向されたビームを、可動光学素子を使用して第2方向に偏向することと、
変調されたビームを前記光学素子から基板に向けて投影することと、を備える方法。
59.フラットパネルディスプレイの製造における1つ又は複数の本発明の使用。
60.集積回路パッケージングにおける1つ又は複数の本発明の使用。
61.上記節における本発明のいずれかに従って又はそれを使用して製造されたフラットパネルディスプレイ。
62.上記節における本発明のいずれかに従って又はそれを使用して製造された集積回路デバイス。
Claims (14)
- リソグラフィ装置であって、
基板を保持し移動させるよう構成されている基板保持部と、
複数のビームを所望のパターンに従って変調するよう構成されている変調器であって、前記装置の光軸に実質的に垂直に延在する電気光学偏向器アレイを備える変調器と、
変調されたビームを受け、移動可能な前記基板に向けて投影するよう構成されている投影系と、を備え、
複数の電気光学偏向器のうちある電気光学偏向器は、電気光学材料のプリズムを備え、前記プリズムの入射面は、前記プリズムの入射面への入射ビームに対し非垂直に配置されているリソグラフィ装置。 - 使用時に前記変調器と前記基板との間に配置され、前記変調されたビームが使用時に入射する供与構造体をさらに備え、前記供与構造体は、前記供与構造体から前記基板へと転写可能である供与材料層を有する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記供与材料は、金属である、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記供与材料は、供与材料滴の形で前記供与構造体から前記基板へと転写される、請求項2または3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記変調されたビームは使用時に前記基板に入射して前記基板の材料にアブレーションを生じさせる、請求項1から4のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記プリズムは、プレートであり、前記入射面と前記プレートの出射面との間に電位差が印加される、請求項1から5のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記電気光学偏向器は、前記ビームを第1方向にのみ偏向する電気光学偏向器の第1セットと、前記ビームを異なる第2方向にのみ偏向する電気光学偏向器の第2セットと、を備える、請求項1から6のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 複数の電気光学偏向器のうちある電気光学偏向器は、ビーム経路に沿って直列に配列されている複数のプリズムを備え、交互に配置されるプリズムそれぞれが反対の領域を有する、請求項1から7のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 複数の電気光学偏向器のうちある電気光学偏向器は、LiNbO3、LiTaO3、KH2PO4(KDP)、またはNH4H2PO4(ADP)から選択される少なくとも1つを備える、請求項1から8のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置であって、
基板を保持するよう構成されている基板保持部と、
放射ビームを所望のパターンに従って変調するよう構成されている変調器であって、電気光学偏向器を備える変調器と、
変調されたビームを受け、前記基板に向けて投影するよう構成されている投影系と、
フォトリソグラフィ、材料成膜、または材料除去のうち少なくとも2つを実行するために前記変調されたビームを使用する前記装置の動作を変更するよう構成されているコントローラと、を備え、
前記電気光学偏向器は、電気光学材料のプリズムを備え、前記プリズムの入射面は、前記プリズムの入射面への入射ビームに対し非垂直に配置されているリソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置であって、
基板を保持するよう構成されている基板保持部と、
放射ビームを所望のパターンに従って変調するよう構成されている変調器であって、電気光学偏向器を備える変調器と、
変調されたビームを受け、前記基板に向けて投影するよう構成されている投影系と、
前記変調器と前記基板との間の場所に供与構造体を移動可能に支持する供与構造体支持部と、を備え、前記供与構造体は、前記供与構造体から前記基板へと転写可能である供与材料層を有し、前記変調されたビームが使用時に前記供与構造体に入射し、
前記電気光学偏向器は、電気光学材料のプリズムを備え、前記プリズムの入射面は、前記プリズムの入射面への入射ビームに対し非垂直に配置されている、リソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置であって、
基板を保持し移動させるよう構成されている基板保持部と、
複数のビームを所望のパターンに従って変調するよう構成されている変調器であって、前記ビームを第1方向に偏向する電気光学偏向器を備える変調器と、
前記電気光学偏向器から前記ビームを受け、前記ビームを第2方向に偏向し、変調されたビームを移動可能な前記基板に向けて投影する可動光学素子と、を備え、
前記電気光学偏向器は、電気光学材料のプリズムを備え、前記プリズムの入射面は、前記プリズムの入射面への入射ビームに対し非垂直に配置されているリソグラフィ装置。 - 前記第2方向は、前記第1方向に実質的に垂直である、請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- 前記可動光学素子は、前記変調されたビームを目標に投影するよう構成されており、前記装置は、前記目標を移動させるよう構成されている、請求項12または13に記載のリソグラフィ装置。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201161473636P | 2011-04-08 | 2011-04-08 | |
US61/473,636 | 2011-04-08 | ||
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