JP2011022583A - パターン形成装置及びパターン形成方法、並びにデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】シートの複数の区画領域に連続してパターンを形成する。
【解決手段】シートＳの区画領域ＳＡ_ｉに対する走査露光に際して、ステージＳＳＴ_１は、走査領域ＡＳの＋Ｘ端部の待機位置でシートＳの区画領域ＳＡ_ｉに対応する裏面部分をシートホルダＳＨ_１の保持面に吸着して、マスク（マスクステージ）と同期して、Ｘ軸方向（−Ｘ方向）に所定ストロークで移動する。この際に、マスクのパターンの一部に対応する照明光が投影光学系を介してシートＳに照射されることで、パターンが転写（形成）される。区画領域ＳＡ_ｉに対する走査露光後、ステージＳＳＴ_２は、待機位置にＸＹ平面内で移動して、シートＳの次の区画領域ＳＡ_ｉ+１に対応する裏面部分をシートホルダＳＨ_１の保持面に吸着後、上述と同様に走査露光方式で露光してパターンを形成する。
【選択図】図５

Description

本発明は、パターン形成装置及びパターン形成方法、並びにデバイス製造方法に係り、さらに詳しくは、走査露光により、長尺のシート材の表面の複数領域にパターンを形成するパターン形成装置及びパターン形成方法、並びに該パターン形成方法を用いて電子デバイスを製造するデバイス製造方法に関する。

液晶ディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルなどのフラットディスプレイパネルは、次第に大型化している。例えば、液晶ディスプレイパネルの場合、その製造に用いられるガラス基板（大型基板）は、複数画面分纏めて効率良く生産するために１辺の長さが３ｍを超えるような大型基板が用いられるようになっている。そのため、基板を保持するステージ装置は、基板が大型化するほど巨大化し、十数ｋｇの基板を処理するステージ装置では、可動部の重量が１０トン近く、装置全体の重量は１００トンを超えるようになってきた。このため、近い将来には、基板がさらに大型化し、その製造、及び搬送が困難となるものと予想される上、ステージ装置がさらに大型化し、インフラ整備に巨額の投資が必要になることは確実である。

一方、主としてプリント配線基板の製造分野などで採用されているが、ロールシート状の記録媒体を、被露光物体とする露光装置が知られている。かかる露光装置を、例えば液晶表示素子の製造に適用すれば、上述したガラス基板の大型化に伴う種々の課題から解放されるので、将来の液晶表示素子製造用の露光装置の１つの選択枝になるものと期待される。

しかるに、従来のシート状の記録媒体に対する露光装置としては、例えば特許文献１〜３に開示される露光装置があるが、これらの露光装置を液晶表示素子製造用にそのまま用いると、所望の精度、及びスループットを達成することが困難である。

米国特許第５６５２６４５号明細書 米国特許出願公開第２００６／００６６７１５号明細書 米国特許第６２４３１６０号明細書

本発明の第１の態様によれば、所定のパターンに対応するエネルギビームを長尺のシート材に照射しつつ前記シート材を長尺方向に平行な第１軸に沿って走査移動させる走査露光により、前記シート材の表面の複数の領域に前記パターンを形成するパターン形成装置であって、前記シート材の裏面部分を吸着可能な基準面を有し、前記第１軸を含む前記基準面に平行な２次元平面内で移動可能な第１及び第２可動ステージを備え、前記第１可動ステージは、所定の吸着位置で前記シート材の第１領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着して、前記第１軸に平行な方向に所定ストロークで移動し、前記第２可動ステージは、前記所定の吸着位置に前記２次元平面内で移動して、前記シート材の第２領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着する第１のパターン形成装置が、提供される。

これによれば、第１可動ステージは、所定の吸着位置でシート材の第１領域に対応する裏面部分を基準面に吸着して、第１軸に平行な方向に所定ストロークで移動する。この際に、所定のパターンに対応するエネルギビームがシート材に照射されることで、シート材の第１領域が露光され、パターンが形成される。第２可動ステージは、所定の吸着位置に２次元平面内で移動して、シート材の第２領域に対応する裏面部分を基準面に吸着する。このため、そのシート材の第２領域に対応する裏面部分を基準面に吸着後、第１軸に平行な方向に所定ストロークで移動させ、その移動中にシート材の第２領域を露光してパターンを形成することが可能になる。従って、シート材の第１、第２領域に連続してパターンを形成することが可能になる。

本発明の第２の態様によれば、所定のパターンに対応するエネルギビームを長尺のシート材に照射して前記シート材の表面の複数の領域に前記パターンを形成するパターン形成装置であって、長尺の第１のシート材を、２次元平面に沿って該２次元平面内の第１軸に平行な方向の一側から他側に送る第１の送り装置と；前記２次元平面内で前記第１軸に交差する第２軸に平行な方向に関して、前記第１のシート材から離れた位置で、長尺の第２のシート材を、前記第１軸に平行な方向の他側から一側に送る第２の送り装置と；前記第１及び第２のシート材の裏面部分を吸着可能な基準面を有し、前記第１軸を含む前記基準面に平行な２次元平面内で移動可能な第１及び第２可動ステージと；を備え、前記第１可動ステージが、所定の第１吸着位置で前記第１のシート材の第１領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着して、前記第１のシート材の送り方向に所定ストロークで移動するのと並行して、前記第２可動ステージが、所定の第２吸着位置で前記第２のシート材の第２領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着して、前記第２のシート材の送り方向に所定ストロークで移動する第２のパターン形成装置が、提供される。

これによれば、第１可動ステージが、所定の第１吸着位置で第１のシート材の第１領域に対応する裏面部分を基準面に吸着して、第１のシート材の送り方向に所定ストロークで移動するのと並行して、第２可動ステージが、所定の第２吸着位置で第２のシート材の第２領域に対応する裏面部分を基準面に吸着して、第２のシート材の送り方向に所定ストロークで移動する。このため、第１、第２可動ステージの第１、第２のシート材の送り方向への移動の際に、所定のパターンに対応するエネルギビームが、第１、第２のシート材に照射されることで、第１シート材の第１領域、及び第２シート材の第２領域がほぼ同時に露光され、それぞれパターンが形成される。

本発明の第３の態様によれば、所定のパターンに対応するエネルギビームを長尺のシート材に照射しつつ前記シート材を長尺方向に平行な第１軸に沿って走査移動させる走査露光により、前記シート材の表面の複数の領域に前記パターンを形成するパターン形成方法であって、第１可動ステージが、所定の吸着位置で前記シート材の第１領域に対応する裏面部分を基準面に吸着して、前記第１軸に平行な方向に所定ストロークで移動し、第２可動ステージが、前記所定の吸着位置に前記２次元平面内で移動して、前記シート材の第２領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着するパターン形成方法が、提供される。

これによれば、シート材の第１、第２領域に連続してパターンを形成することが可能になる。

本発明の第４の態様によれば、本発明のパターン形成方法を用いて長尺のシート材上にパターンを形成することと；パターンが形成された前記シート材に処理を施すことと；を含むデバイス製造方法が提供される。

第１の実施形態の露光装置の構成を概略的に示す図である。 図１の露光装置が備えるマスクステージの概略構成及び照明領域の配置を示す平面図である。 図１の露光装置が備える投影光学系及びシート上の投影領域（露光領域）の配置を示す平面図である。 図４（Ａ）及び図４（Ｂ）は、それぞれ、ステージの概略構成を示す側面図及び平面図である。 図１の露光装置が備えるステージ装置の概略構成を示す平面図である。 図６（Ａ）は、搬送ローラ部４１，４２の近傍を示す平面図、図６（Ｂ）は、搬送ローラ部４１を示す側面図、図６（Ｃ）〜図６（Ｇ）は、シート搬送系の機能を説明するための図である。 シートＳ上の各区画領域に付設されたアライメントマークの配置の一例を示す図である。 図１の露光装置が備える主制御装置の入出力関係を示すブロック図である。 図１の露光装置におけるシートの露光のための動作の流れを説明するための図（その１）である。 図１の露光装置におけるシートの露光のための動作の流れを説明するための図（その２）である。 図１の露光装置におけるシートの露光のための動作の流れを説明するための図（その３）である。 図１の露光装置におけるシートの露光のための動作の流れを説明するための図（その４）である。 図１の露光装置におけるシートの露光のための動作の流れを説明するための図（その５）である。 図１の露光装置におけるシートの露光のための動作の流れを説明するための図（その６）である。 図１の露光装置におけるシートの露光のための動作の流れを説明するための図（その７）である。 図１の露光装置におけるシートの露光のための動作の流れを説明するための図（その８）である。 図１の露光装置におけるシートの露光のための動作の流れを説明するための図（その９）である。 変形例に係るアライメント系の配置を示す図である。 第２の実施形態の露光装置を−Ｙ方向から見た側面図である。 第２の実施形態の露光装置を＋Ｙ方向から見た側面図である。 第２の実施形態の露光装置が備えるマスクステージの概略構成を示す平面図である。 第２の実施形態の露光装置が備える投影光学系及びシート上の投影領域（露光領域）の配置を示す平面図である。 図２３（Ａ）及び図２３（Ｂ）は、それぞれ、ステージの概略構成を示す側面図及び平面図である。 図２４（Ａ）〜図２４（Ｃ）は、ステージ搬送系の構成及びステージの搬送手順を説明するための図（その１）である。 図２５（Ａ）〜図２５（Ｃ）は、ステージの搬送手順を説明するための図（その２）である。 第２の実施形態の露光装置が備えるステージ装置の概略構成を示す平面図である。 第２の実施形態の露光装置が備える主制御装置の入出力関係を示すブロック図である。 第２の実施形態の露光装置における２つのステージを用いた並行処理動作について説明するための図（その１）である。 第２の実施形態の露光装置における２つのステージを用いた並行処理動作について説明するための図（その２）である。 第２の実施形態の露光装置における２つのステージを用いた並行処理動作について説明するための図（その３）である。 第２の実施形態の露光装置における２つのステージを用いた並行処理動作について説明するための図（その４）である。 第２の実施形態の露光装置における２つのステージを用いた並行処理動作について説明するための図（その５）である。 第２の実施形態の露光装置における２つのステージを用いた並行処理動作について説明するための図（その６）である。 第２の実施形態の露光装置における２つのステージを用いた並行処理動作について説明するための図（その７）である。 第２の実施形態の露光装置における２つのステージを用いた並行処理動作について説明するための図（その８）である。 第２の実施形態の露光装置における２つのステージを用いた並行処理動作について説明するための図（その９）である。 第２の実施形態の露光装置における２つのステージを用いた並行処理動作について説明するための図（その１０）である。

《第１の実施形態》
以下、本発明の第１の実施形態を、図１〜図１８に基づいて説明する。

図１には、第１の実施形態の露光装置１００の概略的な構成が示されている。露光装置１００は、可撓性を有するシートあるいはフィルム（以下、シートと総称する）を、被露光物体とする、マルチレンズタイプの投影露光装置、いわゆるスキャナである。本実施形態では、一例として、約１００μｍ厚のシートが用いられるものとする。

露光装置１００は、照明系ＩＯＰ、マスクＭを保持するマスクステージＭＳＴ、マスクＭに形成されたパターンの像をシートＳ上に投影する投影光学系ＰＬ、シートＳを保持する２つのシートステージ（以下、ステージと略述する）ＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２（図１ではステージＳＳＴ_２は図示省略、図５等参照）を含むステージ装置ＳＳ、及びシートＳを搬送するシート搬送系４０、並びにこれらの制御系等を備えている。

なお、本実施形態の露光装置１００で用いられるシートＳは、連続長尺シートである。シートＳはローラ４０_１にロール状に巻かれセットされている。後述するように、シートＳは、シート搬送系４０（が備える搬送ローラ部４１〜４４）によってローラ４０_１から引き出され、投影光学系ＰＬ直下の領域を通って、巻き取りローラ４０_２によって巻き取られる。また、シートＳの表面には、感光剤（レジスト）が塗布されているものとする。本実施形態では、一例として、シートＳが、ローラ４０_１から引き出され（送り出され）、巻き取りローラ４０_２に巻き取られるものとしているが、これに限らず、露光の前の処理、例えばレジスト塗布を行うレジスト塗布装置から送り出され、露光の後の処理、例えば現像を行う現像装置に向けて送られるシートも、露光装置１００によって露光を行うことは可能である。

以下においては、投影光学系ＰＬの物体面側及び像面側部分の光軸（ただし、両部分の中間の部分を除く）に平行な鉛直方向（図１における紙面内の上下方向）をＺ軸方向、これに直交する面内でマスクＭとシートＳとが投影光学系ＰＬに対して相対走査される走査方向（図１における紙面内の左右方向）をＸ軸方向、Ｚ軸及びＸ軸に直交する方向をＹ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転（傾斜）方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として、説明を行う。

照明系ＩＯＰは、複数、ここでは５つの照明系モジュール（以下、単に照明系と呼ぶ）ＩＯＰ_１〜ＩＯＰ_５を備えている。照明系ＩＯＰ_１〜ＩＯＰ_５のそれぞれは、紫外光を発する不図示の超高圧水銀ランプ（光源）と、光源からの紫外光を集光する楕円鏡、集光された紫外光の光路上に配置された波長選択フィルタ、オプティカルインテグレータ、及び視野絞り等を含む照明光学系（いずれも不図示）と、を備えている。波長選択フィルタを介して、紫外光から紫外域の輝線、例えばｉ線（波長３６５ｎｍ）（ｇ線（波長４３６ｎｍ）、又はｈ線（波長４０５ｎｍ））等が照明光ＩＬ₁〜ＩＬ_５として抽出される。抽出された照明光ＩＬ₁〜ＩＬ_５は、それぞれ光軸ＡＸ_１〜ＡＸ_５に沿って、照明系ＩＯＰ（ＩＯＰ_１〜ＩＯＰ_５）外に（マスクＭに向けて）射出される（図２参照）。

なお、光軸ＡＸ_１，ＡＸ_３，ＡＸ_５は、図２に示されるように、ＸＹ平面（マスクＭのパターン面）内において、Ｙ軸方向に所定の間隔で配置されている。また、光軸ＡＸ_２，ＡＸ_４は、光軸ＡＸ_１，ＡＸ_３，ＡＸ_５から＋Ｘ側に所定距離隔てて、それぞれ光軸ＡＸ_１，ＡＸ_３の間及び光軸ＡＸ_３，ＡＸ_５の間に配置されている。すなわち、光軸ＡＸ_１〜ＡＸ_５は、ＸＹ平面内において千鳥状に配置されている。

照明系ＩＯＰ_１〜ＩＯＰ_５は、照明光ＩＬ_１〜ＩＬ_５により、それぞれ、光軸ＡＸ_１〜ＡＸ_５を中心にマスクＭ上の照明領域ＩＡＭ_１〜ＩＡＭ_５を均一な照度で照明する。各照明領域は、照明光学系内の視野絞り（不図示）によって規定される等脚台形状を有する。なお、照明系ＩＯＰ（ＩＯＰ_１〜ＩＯＰ_５）の構成の詳細については、例えば、米国特許第６，５５２，７７５号明細書等に開示されている。

マスクステージＭＳＴは、図１に示されるように、照明系ＩＯＰの下方（−Ｚ側）に配置されている。マスクステージＭＳＴ上には、矩形のパターン領域がそのパターン面（−Ｚ側の面）に形成された矩形のマスクＭが、例えば真空吸着により、固定されている。マスクステージＭＳＴは、リニアモータ等を含むマスクステージ駆動系ＭＳＤ（図１では不図示、図８参照）により、ＸＹ平面内で微小駆動可能であり、且つ走査方向（Ｘ軸方向）に所定のストロークで所定の走査速度で駆動可能である。

マスクステージＭＳＴのＸＹ平面内での位置情報は、マスクステージ干渉計システム１６（図８参照）の一部をそれぞれ構成するレーザ干渉計（以下、干渉計と略述する）１６Ｘ，１６Ｙにより、常時、例えば０．２５〜１ｎｍ程度の分解能で計測される。マスクステージＭＳＴの＋Ｘ側面及び−Ｙ側面には、それぞれ鏡面加工が施され、図２に示されるように、反射面１５Ｘ，１５Ｙが形成されている。干渉計１６Ｘは、Ｘ軸に平行な光路に沿って複数の測長ビームを反射面１５Ｘに照射し、それぞれの反射面１５Ｘからの反射光を受光して、マスクステージＭＳＴのＸ軸方向に関する位置（Ｘ位置）及びθｚ方向の回転を計測する。干渉計１６の実質的な測長軸は、光軸ＡＸ_３と直交するＸ軸に平行な軸である。干渉計１６Ｙは、光軸ＡＸ_１及びＡＸ_２とそれぞれ直交するＹ軸に平行な光路に沿って２つの測長ビームを反射面１５Ｙに照射し、反射面１５Ｙからの反射光を受光して、マスクステージＭＳＴのＹ軸方向に関する位置（Ｙ位置）を計測する。なお、上述の反射面１５Ｘ，１５Ｙの代わりに、平面鏡から成る移動鏡を、マスクステージＭＳＴに固定しても良い。

干渉計１６Ｘ，１６Ｙの計測情報は、主制御装置５０に供給される（図８参照）。主制御装置５０は、干渉計１６Ｘ，１６Ｙの計測情報（マスクステージＭＳＴの位置情報）に基づいて、マスクステージ駆動系ＭＳＤを介してマスクステージＭＳＴを制御する。

投影光学系ＰＬは、図１に示されるように、マスクステージＭＳＴの下方（−Ｚ側）に配置されている。本実施形態の投影光学系ＰＬは、例えば図３に示されるように、光軸ＡＸ_１〜ＡＸ_５の配置に対応して千鳥状に配置された５つの投影光学系モジュール（以下、単に投影光学系と呼ぶ）ＰＬ_１〜ＰＬ_５を含む。図１では、投影光学系ＰＬ_３，ＰＬ_５及びＰＬ_４はそれぞれ投影光学系ＰＬ_１及びＰＬ_２の紙面奥側に位置する。投影光学系ＰＬ_１〜ＰＬ_５のそれぞれとして、例えば、等倍正立像を像面上に形成する両側テレセントリックな反射屈折系が用いられている。

上述の投影光学系ＰＬ_１〜ＰＬ_５（光軸ＡＸ_１〜ＡＸ_５）の配置により、投影光学系ＰＬ_１〜ＰＬ_５によってパターンの像が投影されるシートＳ上の投影領域ＩＡ_１〜ＩＡ_５は、照明領域ＩＡＭ_１〜ＩＡＭ_５と同様に、千鳥状に配置される。ここで、投影領域ＩＡ_１〜ＩＡ_５は、照明領域ＩＡＭ_１〜ＩＡＭ_５と同様の等脚台形状を有する。投影領域ＩＡ_１〜ＩＡ_５の配置と形状により、マスクＭ上の照明領域ＩＡＭ_１〜ＩＡＭ_５内のパターンの像（部分像）を、それぞれ投影光学系ＰＬ_１〜ＰＬ_５を介してシートＳ上の投影領域ＩＡ_１〜ＩＡ_５に投影しつつ、マスクＭ及びシートＳを走査方向（Ｘ軸方向）に同期して駆動することにより、シートＳ上に投影されたパターンの部分像はマスクＭに形成されたパターンに等しい１つの像（合成像）に合成される。従って、走査露光により、マスクＭのパターンが投影光学系ＰＬ_１〜ＰＬ_５を介してシートＳ上（の１つのショット領域（区画領域）ＳＡ_ｉ内）に転写される。なお、走査露光の詳細については後述する。

本実施形態では、投影光学系ＰＬ_１〜ＰＬ_５として等倍正立像を投影する光学系を採用したため、投影領域ＩＡ_１〜ＩＡ_５の形状及び配置（位置関係）は、それぞれ、照明領域ＩＡＭ_１〜ＩＡＭ_５の形状及び配置（位置関係）に等しい。本実施形態の投影光学系ＰＬの構成の詳細については、例えば、米国特許第６，５５２，７７５号明細書等に開示されている。

露光装置１００は、投影光学系ＰＬ_１〜ＰＬ_５によってシートＳ上に投影される投影像の歪み（位置ずれ及び／又は形状誤差）を補正するレンズコントローラＬＣ（図８参照）を備えている。レンズコントローラＬＣは、投影光学系ＰＬ_１〜ＰＬ_５をそれぞれ構成する光学素子群（レンズ群）の少なくとも一部を光軸ＡＸ_１〜ＡＸ_５に平行な方向及び光軸ＡＸ_１〜ＡＸ_５に垂直なＸＹ平面に対する任意の傾斜方向に駆動する。これにより、シートＳ上の投影領域ＩＡ_１〜ＩＡ_５のそれぞれに投影されるパターンの部分像の歪み（シフト、回転、倍率（スケーリング）等）が補正される。なお、レンズコントローラＬＣは、上記の光学素子群の駆動に代えて、あるいは加えて、投影光学系ＰＬ_１〜ＰＬ_５それぞれの内部に形成された気密室内の気体の圧力を変更する、あるいは、これらとともに、照明光の波長を変更するなどしても良い。

ステージ装置ＳＳは、図１に示されるように、投影光学系ＰＬ（ＰＬ_１〜ＰＬ_５）の下方（−Ｚ側）に配置されている。ステージ装置ＳＳは、床面上に防振機構（不図示）によってほぼ水平に支持されたベース部材ＢＳ、ベース部材ＢＳ上でシートＳを保持して移動する２つのステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２（図１ではステージＳＳＴ_２は図示省略、図５等参照）、両ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２を駆動するステージ駆動系ＳＳＤ（図１では不図示、図８参照）、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２の位置情報を計測するステージ干渉計システム１８ａ（図８参照）及び補助干渉計システム１８ｂ（図８参照）等を含む。なお、図１では、ステージＳＳＴ_１上に、シートＳが吸着保持されている。

ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２のそれぞれは、図１に示されるように、底面に設けられた複数の非接触軸受（例えばエアベアリング（不図示））によりベース部材ＢＳ上に浮上支持されるステージ本体ＳＴと、ステージ本体ＳＴ上に配置されたＺ・レベリング装置３８（図４（Ａ）参照）と、Ｚ・レベリング装置３８により３点支持されたテーブルＴＢと、を有している。

Ｚ・レベリング装置３８は、図４（Ｂ）に示されるように、ステージ本体ＳＴ上の一直線上にない３点に配置された例えばボイスコイルモータ等を含む３つのＺ駆動機構３８ａ、３８ｂ、３８ｃを有している。Ｚ・レベリング装置３８により、ステージ本体ＳＴ上で、テーブルＴＢをＺ軸方向、θｘ方向、及びθｙ方向の３自由度方向に微小駆動することができる。

ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２は、図１に示される平面モータ３０により、ベース部材ＢＳ上でＸ軸方向、Ｙ軸方向、及びθｚ方向に駆動される。

平面モータ３０は、ベース部材ＢＳの内部に配置された固定子３０_１と、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２のステージ本体ＳＴの底部に固定された可動子３０_２と、から構成される。固定子３０_１は、ベース部材ＢＳの内部にマトリクス状に配列された複数の電機子コイル（コイルユニットＣＵ）を含む。可動子３０_２は、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２のステージ本体ＳＴの底部に、ベース部材ＢＳの上面に対向してマトリックス状に配列された複数の永久磁石（磁石ユニットＭＵ）を含む。ここで、複数の永久磁石は、隣り合う磁極面の極性が互いに異なるように配列されている。複数の電機子コイル（コイルユニットＣＵ）と、複数の永久磁石（磁石ユニットＭＵ）と、を含んで、例えば米国特許第５，１９６，７４５号明細書などに開示されているローレンツ電磁力駆動方式の平面モータ３０が構成されている。

なお、コイルユニットＣＵは、ベース部材ＢＳの上面を構成する不図示の平板状部材によってカバーされている。この平板状部材の上面がステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２の移動の際のガイド面を構成する。

なお、平面モータ３０は、ムービングマグネット型に限らず、ムービングコイル型であっても良い。また、平面モータ３０は、ローレンツ電磁力駆動方式に限らず、例えば可変磁気抵抗駆動方式、あるいは磁気浮上型の平面モータ等を採用することも可能である。後者の場合、ステージ本体ＳＴの底面に非接触軸受を設ける必要はない。

ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２のテーブルＴＢは、上述の平面モータ３０及びＺ・レベリング装置３８を含むステージ駆動系ＳＳＤ（図８参照）によって、それぞれ独立に、ベース部材ＢＳ上でＸ軸方向，Ｙ軸方向，Ｚ軸方向，θｘ方向，θｙ方向，及びθｚ方向の６自由度方向に駆動される。

テーブルＴＢの上面の中央には、図４（Ａ）及び図４（Ｂ）に示されるように、シートＳを吸着保持するシートホルダＳＨ_１が設けられている。シートホルダＳＨ_１は、ＸＹ平面にほぼ平行であり且つシートＳ上に配列される区画領域より幾分大きな矩形状の保持面を有し、その保持面上にシートＳを平坦に保持する。ここでは、シートＳを吸着保持するため、シートホルダＳＨ_１として、ピンの配列間隔（ピッチ）が十分細かく、ピンの高さが低い、例えば２００μｍ程度のピンチャックホルダが採用されている。

また、テーブルＴＢの上面には、シートＳの幅方向（長尺方向に直交するＹ軸方向）の両端部の裏面を吸着保持する４つの補助シートホルダＳＨ_２が設けられている。具体的には、シートホルダＳＨ_１の±Ｙ側に、Ｘ軸方向に細長い各２つの補助シートホルダＳＨ_２が、Ｘ軸方向に関して所定の距離を隔てて配置されている。各補助シートホルダＳＨ_２は長方形の保持面を有し、テーブルＴＢ内に設けられたホルダ駆動系ＨＤ１，ＨＤ２（図８参照）によりＹ軸方向及びＺ軸方向に微小駆動可能に構成されている。補助シートホルダＳＨ_２は、後述するように、シートＳをシートホルダＳＨ_１に平坦に保持する際に補助的に使用される。ここで、ホルダ駆動系ＨＤ１は、ステージＳＳＴ_１に設けられ、ホルダ駆動系ＨＤ２は、ステージＳＳＴ_２に設けられている。

また、テーブルＴＢの＋Ｘ側面、−Ｙ側面、−Ｘ側面、及び＋Ｙ側面には、それぞれ、鏡面加工が施され、反射面１７Ｘ_１，１７Ｙ_１，１７Ｘ_２，１７Ｙ_２が形成されている。これらの反射面１７Ｘ_１，１７Ｙ_１，１７Ｘ_２，１７Ｙ_２は、後述するステージ干渉計システム及び補助干渉計システムによるステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２の位置計測に用いられる。なお、上述の反射面１７Ｙ_１，１７Ｙ_２の代わりに、平面鏡から成る移動鏡を、テーブルＴＢに固定しても良い。また、反射面１７Ｘ_１，１７Ｘ_２の代わりに、レトロリフレクタ又は平面鏡から成る移動鏡を、テーブルＴＢに固定しても良い。

ステージ干渉計システム１８ａ（図８参照）は、図５に示されるように、干渉計１８Ｘａ_１，１８Ｘａ_２，１８Ｙａ_１，１８Ｙａ_２を含み、ベース部材ＢＳ上面の−Ｙ側半部の領域（以下、走査領域と呼ぶ）ＡＳ（図５参照）内に位置するステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２（テーブルＴＢ）のＸＹ平面内での位置情報（θｚ方向の回転情報を含む）を、常時、例えば０．２５〜１ｎｍ程度の分解能で計測する。なお、図５では、走査領域ＡＳ内にステージＳＳＴ_１が位置している。

一方、補助干渉計システム１８ｂ（図８参照）は、干渉計１８Ｘｂ_１，１８Ｘｂ_２，１８Ｙｂ_１，１８Ｙｂ_２を含み、ベース部材ＢＳ上面の＋Ｙ側半部の領域（以下、退避領域と呼ぶ）ＡＲ（図５参照）内に位置するステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２（テーブルＴＢ）のＸＹ平面内での位置情報（θｚ方向の回転情報を含む）を、常時、例えば０．２５〜１ｎｍ程度の分解能で計測する。なお、図５では、退避領域ＡＲ内にステージＳＳＴ_２が、位置している。

干渉計１８Ｘａ_１，１８Ｘａ_２及び１８Ｙａ_１，１８Ｙａ_２は、それぞれ走査領域ＡＳ内に位置するステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２の反射面１７Ｘ_１及び１７Ｙ_１に対向し得るように、走査領域ＡＳ（投影光学系ＰＬ）の＋Ｘ側及び−Ｙ側に配置されている。干渉計１８Ｘｂ_１，１８Ｘｂ_２及び１８Ｙｂ_１，１８Ｙｂ_２は、それぞれ退避領域ＡＲ内に位置するステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２の反射面１７Ｘ_２及び１７Ｙ_２に対向し得るように、退避領域ＡＲの−Ｘ側及び＋Ｙ側に配置されている。

干渉計１８Ｘａ_１，１８Ｘａ_２は、走査領域ＡＳ内に位置するステージＳＳＴ_１の反射面１７Ｘ_１に、Ｘ軸と平行な測長ビームをそれぞれ照射し、反射面１７Ｘ_１からの反射光を受光して、ステージＳＳＴ_１のＸ位置をそれぞれ計測する。干渉計１８Ｙａ_１，１８Ｙａ_２は、Ｙ軸と平行な２つの測長ビームを反射面１７Ｙ_１にそれぞれ照射し、反射面１７Ｙ_１からの反射光を受光して、ステージＳＳＴ_１のＹ位置をそれぞれ計測する。ここで、干渉計１８Ｙａ_２の２つの測長ビームの一方は、光軸ＡＸ_１，ＡＸ_３，ＡＸ_５と直交するＹ軸に平行な光路に沿って、他方は、光軸ＡＸ_２，ＡＸ_４と直交するＹ軸に平行な光路に沿って、反射面１７Ｙ_１に照射される。また、干渉計１８Ｙａ_１の２つの測長ビームは、後述する複数のアライメント系のうちの、隣接するアライメント系の検出中心を通るＹ軸に平行な光路に沿って、反射面１７Ｙ_１に照射される。

ステージ干渉計システム１８ａ（干渉計１８Ｘａ_１，１８Ｘａ_２，１８Ｙａ_１，１８Ｙａ_２）の計測情報は、主制御装置５０に供給される（図８参照）。なお、ステージＳＳＴ_１が、走査領域ＡＳ内に位置する場合、そのＸ位置を問わず、必ず、干渉計１８Ｙａ_１，１８Ｙａ_２の少なくとも一方、又は干渉計１８Ｙｂ_１の測長ビームが、ステージＳＳＴ_１の対応する反射面（１７Ｙ_１又は１７Ｙ_２）に照射される。従って、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ_１のＸ位置に応じて、干渉計１８Ｙａ_１，１８Ｙａ_２及び１８Ｙｂ_１のいずれかの計測情報を使用する。また、主制御装置５０は、１８Ｘａ_１，１８Ｘａ_２の計測情報に基づいて、ステージＳＳＴ_１のθｚ方向の回転を計測する。なお、走査領域ＡＳ内にステージＳＳＴ_２が位置する場合も、同様に、その位置情報が計測される。

干渉計１８Ｘｂ_１，１８Ｘｂ_２は、退避領域ＡＲ内に位置するステージＳＳＴ_２の反射面１７Ｘ_２に、Ｘ軸と平行な測長ビームをそれぞれ照射し、反射面１７Ｘ_２からの反射光を受光して、ステージＳＳＴ_２のＸ位置をそれぞれ計測する。干渉計１８Ｙｂ_１，１８Ｙｂ_２は、Ｙ軸と平行な２つの測長ビームを反射面１７Ｙ_２にそれぞれ照射し、反射面１７Ｙ_２からの反射光を受光して、ステージＳＳＴ_２のＹ位置をそれぞれ計測する。

補助干渉計システム１８ｂ（干渉計１８Ｘｂ_１，１８Ｘｂ_２，１８Ｙｂ_１，１８Ｙｂ_２）の計測情報は、主制御装置５０に供給される（図８参照）。なお、ステージＳＳＴ_２が、退避領域ＡＲ内に位置する場合、そのＸ位置を問わず、必ず、干渉計１８Ｙｂ_１，１８Ｙｂ_２の少なくとも一方の測長ビームがステージＳＳＴ_２の反射面１７Ｙ_２に照射される。従って、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ_２のＸ位置に応じて、干渉計１８Ｙｂ_１，１８Ｙｂ_２のいずれかの計測情報を使用する。また、主制御装置５０は、干渉計１８Ｘｂ_１，１８Ｘｂ_２の計測情報に基づいて、ステージＳＳＴ_２のθｚ方向の回転を計測する。なお、退避領域ＡＲ内にステージＳＳＴ_１が位置する場合も、同様に、その位置情報が計測される。

主制御装置５０は、ステージ干渉計システム１８ａ及び補助干渉計システム１８ｂからの位置情報に基づいて、ステージ駆動系ＳＳＤを介してステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２を制御する。

なお、干渉計１８Ｘａ_１，１８Ｘａ_２，１８Ｙａ_１，１８Ｙａ_２及び干渉計１８Ｘｂ_１，１８Ｘｂ_２，１８Ｙｂ_１，１８Ｙｂ_２のそれぞれとして、Ｚ軸方向に離間する複数の測長ビームを反射面に照射する多軸干渉計を用いることも可能である。この場合、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２（テーブルＴＢ）のＸＹ平面内の位置情報（回転情報（ヨーイング量（θｚ方向の回転量θｚ）を含む））だけでなく、ＸＹ平面に対する傾斜情報（ピッチング量（θｘ方向の回転量θｘ）及びローリング量（θｙ方向の回転量θｙ））も取得可能となる。

シート搬送系４０は、図１及び図５に示されるように、投影光学系ＰＬを挟んでＸ軸方向に配列された４つの搬送ローラ部４１，４２，４３，４４を備えている。

搬送ローラ部４１，４２，４３，４４のそれぞれは、例えば図６（Ａ）〜図６（Ｇ）に示されるように、上下に位置する一対の圧接ローラと駆動ローラとを含む。下側に位置する駆動ローラ４１_２,４２_２，４３_２，４４_２は、その上端がステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２の上面（シートホルダＳＨ_１の保持面）より幾分上方（＋Ｚ側）に位置するように、その両端が、不図示の支持部材によって回転可能に支持されている（図１参照）。駆動ローラ４１_２,４２_２，４３_２，４４_２は、回転モータ（不図示）によって回転駆動される。上側に位置する圧接ローラ４１_１、４２_１，４３_１，４４_１は、ばね機構（不図示）により、上方（＋Ｚ側）から対応する駆動ローラに押し付けられている。

ただし、図６（Ｂ）に、搬送ローラ部４１を取り上げて示されるように、圧接ローラ４１_１は、長手方向の両端部以外の部分の直径が両端部より小さい段付きの円柱状のローラであり、駆動ローラ４１_２は、一定の径を有する円柱状のローラである。

搬送ローラ部４１、４２，４３，４４のそれぞれでは、代表的に搬送ローラ部４１を取り上げて図６（Ｂ）に示されるように、圧接ローラ４１_１と駆動ローラ４１_２とによりシートＳを挟持するが、その際シートＳの表面のパターンが形成される区画領域に圧接ローラ４１_１は接触しない。搬送ローラ部４１、４２，４３，４４のそれぞれでは、圧接ローラ（４１_１）と駆動ローラ（４１_２）とによりシートＳを挟持可能な第１の状態と、ばね機構による押し付け力に抗して、圧接ローラ（４１_１）を駆動ローラ（４１_２）から離し、シートＳの挟持を解除可能な第２の状態とが設定可能である。搬送ローラ部４１、４２，４３，４４のそれぞれにおける第１状態と第２の状態との切り替えが、主制御装置５０によって行われる。なお、少なくとも一部の駆動ローラを、圧接ローラ４１_１と同様に段付きの円柱状に形成しても良い。

駆動ローラ４１_２,４２_２，４３_２，４４_２は、ローラ４０_１、４０_２とともに、主制御装置５０によって、その回転、停止が制御される。シートＳは、代表的に搬送ローラ部４１を取り上げて図６（Ｂ）に示されるように、搬送ローラ部の第１の状態で、駆動ローラ（４１_２）がＹ軸と平行な軸回りに回転（同時に圧接ローラ４１_１が逆向きに回転）することにより、その回転方向に送り出される。

シート搬送系４０では、図６（Ｃ）に示されるように、搬送ローラ部４１の各ローラ４１_１、４１_２が矢印方向に回転されることで、ローラ４０_１からシートＳが白抜き矢印で示される−Ｘ方向に引き出され、搬送ローラ部４２に向けて送り出される。ここで、搬送ローラ部４２の各ローラ４２_１，４２_２の回転が所定のタイミングで止められると、所定の長さ（搬送ローラ部４２，４３間の離間距離程度）のシートＳが、搬送ローラ部４１，４２間にループ状に撓められる。また、シート搬送系４０では、図６（Ｄ）に示されるように、搬送ローラ部４１の各ローラ４１_１，４１_２の回転が止められた状態で搬送ローラ部４２の各ローラ４２_１，４２_２（及び搬送ローラ部４３の各ローラ４３_１，４３_２）が矢印方向に回転されることにより、ループ状に撓んだシートＳが、投影光学系ＰＬの直下の領域に向けて白抜き矢印で示される−Ｘ方向に送り出される。

シート搬送系４０では、上と同様に、搬送ローラ部４３，４４の各ローラの回転、停止により、シートＳが投影光学系ＰＬの直下の領域から引き出される。すなわち、図６（Ｅ）に示されるように、搬送ローラ部４４の各ローラ４４_１，４４_２の回転が止められた状態で搬送ローラ部４３の各ローラ４３_１，４３_２が矢印の方向に回転されると、シートＳが、投影光学系ＰＬの直下の領域から引き出され、引き出されたシートＳが搬送ローラ部４３，４４間にループ状に撓められる。そして、図６（Ｆ）に示されるように、搬送ローラ部４３の各ローラ４３_１，４３_２の回転が止められた状態で搬送ローラ部４４の各ローラ４４_１，４４_２が矢印の方向に回転されることにより、ループ状に撓んだシートＳが、搬送ローラ部４４の−Ｘ側に送り出され、巻き取りローラ４０_２に巻き取られる。

また、シート搬送系４０では、図６（Ｇ）に示されるように、搬送ローラ部４２の各ローラの回転が止められた状態で搬送ローラ部４３の各ローラが回転されることで、あるいは搬送ローラ部４３の各ローラの回転が止められた状態で搬送ローラ部４２の各ローラが図６（Ｃ）とは逆向きに回転（以下、逆回転と記述する）されることで、シートＳが、Ｘ軸方向に関して所定のテンションが付与された状態で張られる。そして、この張られたシートＳが、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２上のシートホルダＳＨ_１に吸着保持されるようになっている。

シート搬送系４０は、さらに、シートＳの送り量を計測する計測装置（不図示）、例えば、駆動ローラ４１_２，４２_２，４３_２，４４_２それぞれの回転量を計測するロータリーエンコーダ等を備えている。

なお、露光工程中におけるシート搬送系４０によるシートＳの搬送、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２によるシートＳの保持等の詳細は後述する。

さらに、本実施形態の露光装置１００には、シートＳ上の各区画領域に付設されたアライメントマークを検出するための複数、ここでは１２個のオフアクシス方式のアライメント系ＡＬ_１〜ＡＬ_１２が設けられている。アライメント系ＡＬ_１〜ＡＬ_６は、図５に示されるように、投影光学系ＰＬの＋Ｘ側の位置に、シートＳ上の各区画領域外部の＋Ｙ側端部の領域に対向して、Ｘ軸に沿って配列されている。また、アライメント系ＡＬ_７〜ＡＬ_１２は、図５に示されるように、投影領域ＩＡ_３の光軸と直交するＸ軸に関して、アライメント系ＡＬ_１〜ＡＬ_６に対して対称に配置されている。アライメント系ＡＬ_７〜ＡＬ_１２は、シートＳ上の各区画領域外部の−Ｙ側端部の領域に対向し得る。

本実施形態では、一例として、図７に示されるように、シートＳ上の各区画領域のＹ軸方向の両外側の領域には、各６つ、合計１２個のアライメントマークＡＭが形成されており、これら１２個のアライメントマークＡＭを個別にかつ同時に検出するためにアライメント系ＡＬ_１〜ＡＬ_１２が設けられている。しかしながら、これに限らず、アライメント系がＸ軸方向に移動可能であれば、アライメント系ＡＬ_１〜ＡＬ_６の代わりに、少なくとも１つ、アライメント系ＡＬ_７〜ＡＬ_１２の代わりに、少なくとも各１つのアライメント系を備えていれば良い。

アライメント系ＡＬ_１〜ＡＬ_１２としては、一例として画像処理方式のＦＩＡ（Field Image Alignment）系が採用されている。アライメント系ＡＬ_１〜ＡＬ_１２の検出結果（指標マークと検出対象マークとの画像情報）は、アライメント信号処理系（不図示）を介して主制御装置５０に送られる。なお、ＦＩＡ系に限らず、コヒーレントな検出光を対象マークに照射し、その対象マークから発生する散乱光又は回折光を検出し、あるいはその対象マークから発生する２つの回折光（例えば同次数）を干渉させて検出するアライメントセンサを、単独であるいは適宜組み合わせて、用いることも可能である。

図８には、露光装置１００の制御系を中心的に構成し、構成各部を統括制御する、主制御装置５０の入出力関係を示すブロック図が示されている。

次に、本実施形態の露光装置１００において、２つのステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２を用いた並行処理動作を含む、シートＳの露光のための動作の流れについて、図９〜図１７に基づいて説明する。また、以後の動作説明は、多数の図面を用いて行うが、図面毎に同一の部材に符号が付されていたり、付されていなかったりしている。すなわち、図面毎に、記載している符号が異なっているが、それら図面は符号の有無に関わらず、同一構成である。これまでに説明に用いた、各図面についても同様である。

図９には、シートＳ上に配列された複数の区画領域のうち、最初の（ｉ−１）個の区画領域ＳＡ_１〜ＳＡ_ｉ−１に対する露光が既に終了し、次の区画領域ＳＡ_ｉに対する露光のための処理が開始される直前の状態が示されている。図９の状態では、区画領域ＳＡ_ｉに対する露光の際にシートＳの移動のために使用されるステージＳＳＴ_１が走査領域ＡＳ内部の＋Ｘ端部の位置（待機位置）にて待機している。なお、直前の区画領域ＳＡ_ｉ−１に対する露光の際にシートＳの移動のために使用されたステージＳＳＴ_２は、退避領域ＡＲ内部の−Ｘ端部の位置に退避している。

なお、マスクＭのマスクステージＭＳＴ上へのロード及びマスクアライメント（マスクの位置合わせ）は、通常、シートＳ上の最初の区画領域ＳＡ_１に対する露光開始前に行われるので、図９の状態では、当然にマスクＭのロード及びマスクアライメントは終了している。また、マスクステージＭＳＴは、区画領域ＳＡ_ｉに対する露光のための走査開始位置（加速開始位置）へ移動しているものとする。

ａ． まず、次のａ１．〜ａ４．の手順に従って、区画領域ＳＡ_ｉを含むシートＳの中央部がステージＳＳＴ_１上に保持される。
ａ１． 具体的には、主制御装置５０は、例えば先に図６（Ｃ）を用いて説明したように、シート搬送系４０の搬送ローラ部４２の各ローラの回転を止めた上で搬送ローラ部４１の各ローラを回転させるなどしてシートＳをローラ４０_１から引き出す。あるいは、主制御装置５０は、搬送ローラ部４３，４１の各ローラの回転を止めた上で搬送ローラ部４２を逆回転させて、シートＳを投影光学系ＰＬの直下の領域から引き戻す。いずれにしても、所定の長さのシートＳが、搬送ローラ部４１，４２間にループ状に撓められる。所定の長さは、搬送ローラ部４２，４３間の離間距離程度の長さである。

ａ２． 次に、主制御装置５０は、ステージ干渉計システム１８ａ（１８Ｘａ_１，１８Ｘａ_２，１８Ｙａ_１，１８Ｙａ_２）からのステージＳＳＴ_１の位置情報に基づいて、シート搬送系４０を制御し、シートＳを＋Ｘ方向に引き戻す、あるいは−Ｘ方向に送り出してシートＳ上の区画領域ＳＡ_ｉをステージＳＳＴ_１のシートホルダＳＨ_１（の保持面）上に位置決めする。ここで、先に図６（Ｇ）を用いて説明したように、シートＳは、適度のテンションが付与された状態で搬送ローラ部４２，４３間に張られた上で、位置決めされる。

主制御装置５０は、さらに、ステージＳＳＴ_１を微小駆動して、シートホルダＳＨ_１（の保持面）をシートＳ上の区画領域ＳＡ_ｉに位置合わせする。なお、この状態では、シートＳとステージＳＳＴ_１のシートホルダＳＨ_１（の保持面）との間には僅かな空間が設けられている。

待機位置においてステージＳＳＴ_１とシートＳとが位置合わせされた状態では、アライメント系ＡＬ_１〜ＡＬ_１２それぞれの検出視野内に、区画領域ＳＡ_ｉに付設されたアライメントマークＡＭが位置決めされる。

ａ３． 位置合わせ後、主制御装置５０は、ステージ駆動系ＳＳＤ（Ｚ・レベリング装置３８）を介してステージＳＳＴ_１のテーブルＴＢを水平に保ちつつ、テーブルＴＢ上の４つの補助シートホルダＳＨ_２を＋Ｚ方向に微小駆動して、シートＳの区画領域ＳＡ_ｉの±Ｙ側の外部部分の裏面を補助シートホルダＳＨ_２を用いて吸着保持する。図１０には、このようにして、シートＳが、補助シートホルダＳＨ_２により仮保持された状態が示されている。

ａ４． シートＳの仮保持後、主制御装置５０は、シートＳを仮保持したまま４つの補助シートホルダＳＨ_２を−Ｚ方向に微小駆動して、区画領域ＳＡ_ｉを含むシートＳの中央部の裏面をシートホルダＳＨ_１の保持面上に接触させる。そして、主制御装置５０は、４つの補助シートホルダＳＨ_２の保持面をシートホルダＳＨ_１の保持面より僅かに下方（−Ｚ側）に位置決めする。これにより、シートＳに適当なテンションが加わり、シートＳの中央部がシートホルダＳＨ_１の保持面上に固定される。この状態にて、主制御装置５０は、図１１に示されるように、シートＳをシートホルダＳＨ_１に吸着保持する。これにより、区画領域ＳＡ_ｉを含むシートＳの中央部が、ステージＳＳＴ_１上に、ＸＹ平面に平行に且つ平坦に保持される。

ｂ． 次に、シートＳに対するアライメント計測が行われる。
前述の通り、待機位置にステージＳＳＴ_１が位置決めされた状態では、アライメント系ＡＬ_１〜ＡＬ_１２のそれぞれの検出視野内に区画領域ＳＡ_ｉに付設されたアライメントマークが位置決めされている。そこで、主制御装置５０は、図１１に示されるように、シートＳ上の区画領域ＳＡ_ｉに付設されたアライメントマークをアライメント系ＡＬ_１〜ＡＬ_１２を用いて検出する（指標中心からのアライメントマークの位置を計測する）。アライメントマークの検出結果と、その検出時のステージ干渉計システム１８ａからのステージＳＳＴ_１の位置情報と、に基づき、ＸＹ座標系上における１２個のアライメントマークの位置座標が求められる。主制御装置５０は、１２個のアライメントマークの位置座標の全部又は一部を用いて、最小二乗法を用いた所定の演算を行って、シートＳ上の区画領域ＳＡ_ｉ内に形成済みのパターンの歪み、すなわちＸＹシフト、回転、ＸＹスケーリング、直交度を求める。

なお、検出すべきアライメントマークの数より、アライメント系の数が少ない場合には、シートＳを保持したステージＳＳＴ_１をＸ軸方向にステップ移動させつつ、アライメント計測を行う必要がある。この際、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ_１の動きに合わせて、シート搬送系４０の各駆動ローラの回転、停止を制御する。

ｃ．次いで、シートＳ上の区画領域ＳＡ_ｉに対する走査露光が行われる。
ｃ１． 具体的には、主制御装置５０は、アライメント計測の結果、特にＸＹシフトに基づいて、シートＳを保持したステージＳＳＴ_１を、露光のための走査開始位置（加速開始位置）に移動して、マスクＭを保持したマスクステージＭＳＴに対して位置合わせを行う。ここで、本実施形態では、ステージＳＳＴ_１（及びＳＳＴ_２）の加速開始位置は、走査領域ＡＳ内部の前述の待機位置と同じ位置（又はその近傍）に設定されているので、ＸＹ平面内のステージＳＳＴ_１（及びＳＳＴ_２）の位置の微調整が行われる。
ｃ２． 次に、主制御装置５０は、両ステージＳＳＴ_１，ＭＳＴの走査方向（−Ｘ方向）の加速を開始する。これにより、両ステージＳＳＴ_１，ＭＳＴの−Ｘ方向の移動が開始され、その移動の途中、具体的には、両ステージＳＳＴ_１，ＭＳＴの加速終了の前に、図１２に示されるように、干渉計１８Ｙａ_２からの測長ビームが反射面１７Ｙ_１に当たり始めるので、その直後に、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ_１のＹ位置を計測する干渉計を干渉計１８Ｙａ_１から干渉計１８Ｙａ_２に切り換える。
ｃ３． そして、両ステージＳＳＴ_１，ＭＳＴの加速が終了し、両ステージＳＳＴ_１，ＭＳＴが等速同期状態に達すると、照明光ＩＬ_２，ＩＬ_４によってマスクＭ上のパターン領域が照明され始め、露光が開始される。そして、両ステージＳＳＴ_１，ＭＳＴの等速同期移動の進行により、図１３に示されるように、照明光ＩＬ_１〜ＩＬ_５によってそれぞれマスクＭ上の照明領域ＩＡＭ_１〜ＩＡＭ_５（図２参照）が照明され、照明領域ＩＡＭ_１〜ＩＡＭ_５内のパターンの部分像がそれぞれ投影光学系ＰＬ_１〜ＰＬ_５（図３参照）を介してステージＳＳＴ_１上に保持されたシートＳ上の投影領域ＩＡ_１〜ＩＡ_５に投影される。

マスクＭのパターン領域の全域が照明光ＩＬ_１〜ＩＬ_５により照明されると、すなわち照明領域ＩＡＭ_１〜ＩＡＭ_５をマスクＭのパターン領域が通り過ぎると、区画領域ＳＡ_ｉに対する走査露光が終了する。これにより、区画領域ＳＡ_ｉ内に、マスクＭのパターンが転写される。すなわち、シートＳ表面に形成されたレジスト層に、マスクＭのパターンの潜像が形成される。

走査露光中、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ_１のテーブルＴＢを水平に保ちつつＺ軸方向に駆動して、テーブルＴＢ（シートホルダＳＨ_１）上に保持されたシートＳの表面を投影光学系ＰＬの焦点位置（焦点深度内）に位置決めする。また、走査露光中、主制御装置５０は、アライメント計測の結果（すなわち上で求められたＸＹシフト、回転、ＸＹスケーリング、直交度）に基づいて、ステージＳＳＴ_１とマスクステージＭＳＴとの同期駆動（相対位置及び相対速度）を制御して、シートＳ上に投影されるパターンの全体像の歪みを補正するとともに、レンズコントローラＬＣを介して投影光学系ＰＬ_１〜ＰＬ_５のそれぞれを構成する光学素子群（レンズ群）を駆動制御して、シートＳ上の投影領域ＩＡ_１〜ＩＡ_５のそれぞれに投影されるパターンの部分像の歪みを補正する。これにより、既に区画領域ＳＡ_ｉ内に形成されたパターンにマスクＭのパターンの投影像が高精度に重ね合わされる。

区画領域ＳＡ_ｉに対する走査露光の終了後、両ステージＳＳＴ_１，ＭＳＴが減速され、図１４に示されるように、それぞれの走査終了位置（減速終了位置）に到達すると、停止する。ここで、区画領域ＳＡ_ｉに対する走査露光の途中で、干渉計１８Ｙｂ_１からの測長ビームは、ステージＳＳＴ_１に当たり始めるので、主制御装置５０は、区画領域ＳＡ_ｉに対する走査露光の終了後、両ステージＳＳＴ_１，ＭＳＴの減速を開始すると共に、ステージＳＳＴ_１のＹ位置を計測する干渉計を干渉計１８Ｙａ_２から干渉計１８Ｙｂ_１へ切り換える（図１４参照）。なお、本実施形態では、ステージＳＳＴ_１、ＳＳＴ_２の走査の際の減速終了位置は、ベース部材ＢＳの−Ｘ端に一致するように定められている。

なお走査露光中、主制御装置５０は、シートＳを保持したステージＳＳＴ_１を−Ｘ方向に駆動する際、先と同様に、ステージＳＳＴ_１の動きに合わせて、そのステージＳＳＴ_１の動きが、シートＳに作用するテンションによって阻害されることがないように、シート搬送系４０の各駆動ローラを、適宜、回転、停止する。

上述のアライメント計測及び走査露光と並行して、主制御装置５０は、図１２及び図１３に示されるように、ステージＳＳＴ_２を退避領域ＡＲ内の−Ｘ端から＋Ｘ端へ移動する。主制御装置５０は、補助干渉計システム１８ｂからの位置情報に基づいて、ステージＳＳＴ_２を図１２及び図１３中の白抜き矢印の方向に駆動する。ここで、ステージＳＳＴ_２のＸ位置に応じて、そのＹ位置を計測する干渉計が干渉計１８Ｙｂ_１から干渉計１８Ｙｂ_２へ切り換えられる。さらに、図１４に示されるように、ステージＳＳＴ_２が退避領域ＡＲ内の＋Ｘ端に移動すると、そのＹ位置を計測する干渉計が干渉計１８Ｙｂ_２から干渉計１８Ｙａ_１に切り換えられる。

ｄ． 次いで、次の区画領域ＳＡ_ｉ＋１に対する露光の前処理として、次のｄ１．〜ｄ３．の手順に従って、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２の入れ替えが行われる。

ｄ１． ステージＳＳＴ_１が減速終了位置である走査領域ＡＳ内の−Ｘ端に停止すると、主制御装置５０は、図１５に示されるように、シートホルダＳＨ_１と補助シートホルダＳＨ_２によるシートＳの吸着保持を解除して、ステージＳＳＴ_１からシートＳを放す。さらに、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ_１のテーブルＴＢを下方（−Ｚ方向）に退避させる。これにより、シートＳは、ステージＳＳＴ_１のシートホルダＳＨ_１との間に僅かな空間を挟んで、搬送ローラ部４２，４３間に張られた状態になる。

ｄ２． 次いで、主制御装置５０は、図１５に示されるように、ステージＳＳＴ_１を、ベース部材ＢＳの−Ｘ端部上で白抜き矢印で示される方向（＋Ｙ方向）に駆動し、退避領域ＡＲ内に退避させる。ここで、図１５及び図１６に示されるように、ステージＳＳＴ_１のＹ位置に応じて、そのＸ位置を計測する干渉計が干渉計１８Ｘａ_１，１８Ｘａ_２から干渉計１８Ｘｂ_１，１８Ｘｂ_２へ切り換えられる（干渉計１８Ｘａ_１，１８Ｘａ_２，１８Ｘｂ_１，１８Ｘｂ_２の間で使用する干渉計が順次切り換えられる）。

ｄ３． ステージＳＳＴ_１の退避と並行して、主制御装置５０は、図１５に示されるように、ステージＳＳＴ_２を、ベース部材ＢＳの＋Ｘ端部上で白抜き矢印の方向（−Ｙ方向）に駆動し、走査領域ＡＳ内部の前述の待機位置へ移動させる。ここで、図１５及び図１６に示されるように、ステージＳＳＴ_２のＹ位置に応じて、そのＸ位置を計測する干渉計が干渉計１８Ｘｂ_１，１８Ｘｂ_２から干渉計１８Ｘａ_１，１８Ｘａ_２へ切り換えられる（干渉計１８Ｘｂ_１，１８Ｘｂ_２，１８Ｘａ_１，１８Ｘａ_２の間で使用する干渉計が順次切り換えられる）。

ｅ． さらに、主制御装置５０は、上述のステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２の入れ替えと並行して、マスクステージＭＳＴを走査開始位置（加速開始位置）へ高速で戻す。また、上のステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２の入れ替えと並行して、主制御装置５０は、シート搬送系４０を制御して、図１６に示されるように、シートＳを黒塗り矢印の方向（＋Ｘ方向）に引き戻す。

ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２の入れ替え、及びシートＳの引き戻しが完了すると、図１７に示されるように、ステージＳＳＴ_２が待機位置にて待機し、待機中のステージＳＳＴ_２上に次の区画領域ＳＡ_ｉ＋１を含むシートＳの中央部が位置合わせされ、且つステージＳＳＴ_１が退避領域ＡＲ内に退避する。この状態は、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２が入れ替わり、シートＳが１区画領域分送られたことを除いて、図９に示される状態と同じである。

ステージ入れ替えが終了すると、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ_１に替えてステージＳＳＴ_２を用いて、先と同様に、区画領域ＳＡ_ｉ＋１に対する露光を開始する。以降同様に、主制御装置５０は、上述のａ．〜ｅ．の手順を繰り返し、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２を交互に使用して、シートＳ上の全ての区画領域を露光する。

以上詳細に説明したように、シートＳの区画領域ＳＡ_ｉに対する走査露光に際して、ステージＳＳＴ_１は、走査領域ＡＳの＋Ｘ端部の前述の待機位置でシートＳの区画領域ＳＡ_ｉに対応する裏面部分をシートホルダＳＨ_１の保持面に吸着して、マスクＭ（マスクステージＭＳＴ）と同期して、Ｘ軸方向（−Ｘ方向）に所定ストロークで移動する。この際に、マスクＭのパターン領域に形成されたパターンの一部に対応する照明光ＩＬ_１〜ＩＬ_５が投影光学系ＰＬ_１〜ＰＬ_５を介してその表面にレジストが塗布されたシートＳに照射されることで、シートＳの区画領域ＳＡ_ｉが照明領域ＩＡＭ_１〜ＩＡＭ_５内のパターンの像（部分像）により露光され、パターン領域の全域を照明領域ＩＡＭ_１〜ＩＡＭ_５が通過することでパターンが転写（形成）される。シートＳの区画領域ＳＡ_ｉに対する走査露光後、ステージＳＳＴ_２は、前述の待機位置にＸＹ平面内で移動して、シートＳの次の区画領域ＳＡ_ｉ+１に対応する裏面部分をシートホルダＳＨ_１の保持面に吸着する。このため、そのシートＳの吸着後、マスクＭ（マスクステージＭＳＴ）と同期して、ステージＳＳＴ_２をＸ軸方向（−Ｘ方向）に所定ストロークで移動させ、その移動中にシートＳの区画領域ＳＡ_ｉ+１を上述と同様に走査露光方式で露光してパターンを形成することが可能になる。従って、シートＳの区画領域ＳＡ_ｉ、ＳＡ_ｉ+１に連続してパターンを形成することが可能になる。このようにして、シートＳに対する走査露光、ステージの待機位置への移動、シートＳの区画領域に対応する裏面部分のシートホルダＳＨ_１の保持面への吸着を、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２を交互に使用して、繰り返すことで、高スループットで、シートＳ上の全ての区画領域を露光してパターンを形成することが可能となる。従って、装置の大型化を招くことなく、フレキシブルな大画面のディスプレイなどの電子デバイスの製造に貢献することが可能になる。

なお、上記実施形態では、走査露光の終了後に一方のステージを退避領域に退避させると同時に他方のステージを走査領域内（の待機位置）に移動させる場合について例示したが、これに限らず、一方のステージを用いての走査露光と少なくとも一部並行して他方のステージを走査領域内部の待機位置に移動する動作を行うこととしても良い。これにより、一方のステージを用いての走査露光の終了後に他方のステージの待機位置への移動を開始する場合に比べて、他方のステージを用いたその後の動作をより速やかに開始することが可能になり、スループットの向上を図ることが可能になる。

なお、上記実施形態の露光装置１００では、Ｙ軸方向に離れて、Ｘ軸方向に沿ってそれぞれ配列されたアライメント系ＡＬ_１〜ＡＬ_１２を用いて、シートＳに対するアライメント計測を行った。しかし、これに限らず、例えばアライメントマークをシートＳ上の区画領域ＳＡ_ｉの周囲に所定間隔で配置し、このアライメントマークの配置に対応してアライメント系を、図１８に示されるように、区画領域ＳＡ_ｉの周囲部に対応する配置とし、全てのアライメントマークを同時に検出することとしても良い。

《第２の実施形態》
次に、本発明の第２の実施形態を、図１９〜図３７に基づいて説明する。ここで、前述した第１実施形態と同一若しくは同等の構成部分には、同一若しくは類似の符号を用いると共に、その説明を省略若しくは簡略する。

図１９及び図２０には、第２の実施形態の露光装置１０００の概略的な構成が示されている。このうち、図１９は、露光装置１０００を−Ｙ方向から見た側面図を示し、図２０は、露光装置１０００を＋Ｙ方向から見た側面図を示す。露光装置１０００は、２つのマスクＭａ，Ｍｂに形成されたパターンを２つのシートＳａ，Ｓｂのそれぞれに転写する露光装置（スキャナ）である。

露光装置１０００は、照明系ＩＯＰａ，ＩＯＰｂ、マスクＭａ，Ｍｂをそれぞれ保持するマスクステージＭＳＴａ，ＭＳＴｂ、マスクＭａ，Ｍｂに形成されたパターンの像をそれぞれシートＳａ，Ｓｂ上に投影する投影光学系ＰＬａ，ＰＬｂ、シートＳａ，Ｓｂを保持するステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２を含むステージ装置ＳＳ、及びシートＳａ，Ｓｂをそれぞれ搬送するシート搬送系４０ａ，４０ｂ、並びにこれらの制御系等を備えている。なお、図１９では、照明系ＩＯＰａ、マスクステージＭＳＴａ、投影光学系ＰＬａ、ステージＳＳＴ_１、シート搬送系４０ａ、及びシートＳａの＋Ｙ側（紙面奥側）にそれぞれ位置する照明系ＩＯＰｂ、マスクステージＭＳＴｂ、投影光学系ＰＬｂ、ステージＳＳＴ_２、シート搬送系４０ｂ、及びシートＳｂは、図示が省略されている。

なお、本実施形態の露光装置１０００で用いられるシートＳａ，Ｓｂは、それぞれローラ４０ａ_１，４０ｂ_１にロール状に巻かれてセットされている。シートＳａは、前述の第１の実施形態におけるシート搬送系４０と同様に構成された第１シート搬送系４０ａが備える搬送ローラ部４１ａ〜４４ａによってローラ４０ａ_１から引き出され、投影光学系ＰＬａ直下の領域を通って、巻き取りローラ４０ａ_２によって巻き取られる。

同様に、シートＳｂは、シート搬送系４０と同様に構成された第２シート搬送系４０ｂが備える搬送ローラ部４１ｂ〜４４ｂによってローラ４０ｂ_１から引き出され、投影光学系ＰＬｂ直下の領域を通って、巻き取りローラ４０ｂ_２によって巻き取られる。また、シートＳａ，Ｓｂの表面には、感光剤（レジスト）が塗布されているものとする。本第２の実施形態では、一例として、シートＳａ，Ｓｂが、ローラ４０ａ_１，４０ｂ_１から引き出され、巻き取りローラ４０ａ_２，４０ｂ_２に巻き取られるものとしているが、これに限らず、露光の前の処理、例えばレジスト塗布を行うレジスト塗布装置から送り出され、露光の後の処理、例えば現像を行う現像装置に向けて送られるシートも、露光装置１０００によって露光を行うことは可能である。

照明系ＩＯＰａ，ＩＯＰｂは、それぞれ複数、ここでは５つの照明系モジュール（以下、単に照明系と呼ぶ）ＩＯＰａ_１〜ＩＯＰａ_５，ＩＯＰｂ_１〜ＩＯＰｂ_５を備えている。照明系ＩＯＰａ_１〜ＩＯＰａ_５，ＩＯＰｂ_１〜ＩＯＰｂ_５のそれぞれは、第１の実施形態における照明系ＩＯＰ_１〜ＩＯＰ_５と同様に構成されている。図１９に示されるように、照明系ＩＯＰａ（ＩＯＰａ_１〜ＩＯＰａ_５）から照明光ＩＬａ₁〜ＩＬａ_５が、それぞれの光軸ＡＸａ_１〜ＡＸａ_５（図２１参照）に沿ってマスクＭａに向けて射出される。同様に、図２０に示されるように、照明系ＩＯＰｂ（ＩＯＰｂ_１〜ＩＯＰｂ_５）から５つの照明光ＩＬｂ₁〜ＩＬｂ_５が、それぞれの光軸ＡＸｂ_１〜ＡＸｂ_５に沿ってマスクＭｂに向けて射出される。

なお、図２１に示されるように、光軸ＡＸａ_１〜ＡＸａ_５及び光軸ＡＸｂ_１〜ＡＸｂ_５は、ＸＹ平面（それぞれマスクＭａのパターン面及びマスクＭｂのパターン面）内において、千鳥状に配置されている。ただし、光軸ＡＸａ_１〜ＡＸａ_５の配置と光軸ＡＸｂ_１〜ＡＸｂ_５の配置は、互いにＹ軸に関し対称である。

照明系ＩＯＰａ_１〜ＩＯＰａ_５は、照明光ＩＬａ_１〜ＩＬａ_５により、それぞれ、光軸ＡＸａ_１〜ＡＸａ_５を中心にマスクＭａ上の照明領域ＩＡＭａ_１〜ＩＡＭａ_５を均一な照度で照明する。一方、照明系ＩＯＰｂ_１〜ＩＯＰｂ_５は、照明光ＩＬｂ_１〜ＩＬｂ_５により、それぞれ、光軸ＡＸｂ_１〜ＡＸｂ_５を中心にマスクＭｂ上の照明領域ＩＡＭｂ_１〜ＩＡＭｂ_５を均一な照度で照明する。

マスクステージＭＳＴａ，ＭＳＴｂは、照明系ＩＯＰａ、ＩＯＰｂの下方（−Ｚ側）に、互いにＹ軸方向に離間して、配置されている。マスクステージＭＳＴａ，ＭＳＴｂ上には、それぞれ、矩形のパターン領域がそのパターン面（−Ｚ側の面）に形成された矩形のマスクＭａ，Ｍｂが、例えば真空吸着により、固定されている。マスクステージＭＳＴａ，ＭＳＴｂは、それぞれ、リニアモータ等を含む第１、第２マスクステージ駆動系ＭＳＤａ，ＭＳＤｂ（図２７参照）により、ＸＹ平面内で微小駆動可能であり、且つ走査方向（Ｘ軸方向）に所定のストロークで所定の走査速度で駆動可能である。

マスクステージＭＳＴａのＸＹ平面内での位置情報は、第１マスクステージ干渉計システム１６ａの一部をそれぞれ構成する干渉計１６Ｘａ，１６Ｙａにより、常時、例えば０．２５〜１ｎｍ程度の分解能で計測される。同様に、マスクステージＭＳＴｂのＸＹ平面内での位置情報は、第２マスクステージ干渉計システム１６ｂの一部をそれぞれ構成する干渉計１６Ｘｂ，１６Ｙｂ、により、常時、例えば０．２５〜１ｎｍ程度の分解能で計測される。

マスクステージＭＳＴａの＋Ｘ側面及び−Ｙ側面には、それぞれ鏡面加工が施され、図２１に示される反射面１５Ｘａ，１５Ｙａが形成されている。干渉計１６Ｘａは、Ｘ軸に平行な光路に沿って複数の測長ビームを反射面１５Ｘａに照射し、それぞれの反射面１５Ｘａからの反射光を受光して、マスクステージＭＳＴａのＸ位置及びθｚ方向の回転を計測する。干渉計１６Ｘａの実質的な測長軸は、光軸ＡＸａ_３と直交するＸ軸に平行な軸である。干渉計１６Ｙａは、光軸ＡＸａ_１及びＡＸａ_２とそれぞれ直交するＹ軸に平行な光路に沿って２つの測長ビームを反射面１５Ｙａに照射し、反射面１５Ｙａからの反射光を受光して、マスクステージＭＳＴａのＹ位置を計測する。なお、上述の反射面１５Ｘａ，１５Ｙａの代わりに、平面鏡から成る移動鏡を、マスクステージＭＳＴａに固定しても良い。

一方、マスクステージＭＳＴｂの＋Ｘ側面及び＋Ｙ側面には、それぞれ鏡面加工が施され、反射面１５Ｘｂ，１５Ｙｂが形成されている。干渉計１６Ｘｂは、Ｘ軸に平行な光路に沿って複数の測長ビームを反射面１５Ｘｂに照射し、それぞれの反射面１５Ｘｂからの反射光を受光して、マスクステージＭＳＴｂのＸ位置及びθｚ方向の回転を計測する。干渉計１６Ｘｂの実質的な測長軸は、光軸ＡＸｂ_３と直交するＸ軸に平行な軸である。干渉計１６Ｙｂは、光軸ＡＸｂ_４及びＡＸｂ_５とそれぞれ直交するＹ軸に平行な光路に沿って２つの測長ビームを反射面１５Ｙｂに照射し、反射面１５Ｙｂからの反射光を受光して、マスクステージＭＳＴｂのＹ位置を計測する。なお、上述の反射面１５Ｘｂ，１５Ｙｂの代わりに、平面鏡から成る移動鏡を、マスクステージＭＳＴａ、ＭＳＴｂに固定しても良い。

第１及び第２マスクステージ干渉計システム１６ａ，１６ｂの計測情報は、主制御装置５０に供給される（図２７参照）。主制御装置５０は、供給された位置情報に基づいて、第１及び第２マスクステージ駆動系ＭＳＤａ、ＭＳＤｂをそれぞれ介してマスクステージＭＳＴａ，ＭＳＴｂを独立に制御する。

投影光学系ＰＬａ，ＰＬｂは、それぞれ、マスクステージＭＳＴａ，ＭＳＴｂの下方（−Ｚ側）に配置されている。ここで、投影光学系ＰＬａ，ＰＬｂは、マスクステージＭＳＴａ，ＭＳＴｂの配置に対応して、互いにＹ軸方向に離間し、さらにＸ軸方向に関して逆向きに配置されている。

投影光学系ＰＬａは、例えば図２２に示されるように、光軸ＡＸａ_１〜ＡＸａ_５の配置に対応して千鳥状に配置された５つの投影光学系モジュール（以下、単に投影光学系と呼ぶ）ＰＬａ_１〜ＰＬａ_５を含む。同様に、投影光学系ＰＬｂは、光軸ＡＸｂ_１〜ＡＸｂ_５の配置に対応して千鳥状に配置された５つの投影光学系ＰＬｂ_１〜ＰＬｂ_５を含む。なお、投影光学系ＰＬａ_１〜ＰＬａ_５，ＰＬｂ_１〜ＰＬｂ_５のそれぞれとして、第１の実施形態と同様に、等倍正立像を形成する両側テレセントリックな反射屈折系が用いられている。

投影光学系ＰＬａ_１〜ＰＬａ_５を介して、マスクＭａ上の照明領域ＩＡＭａ_１〜ＩＡＭａ_５内のパターンの部分像が、それぞれ、シートＳａ上の投影領域ＩＡａ_１〜ＩＡａ_５に投影される。そして、前述と同様、走査露光により、マスクＭａのパターンが投影光学系ＰＬａ_１〜ＰＬａ_５を介してシートＳａ上（の１つの区画領域ＳＡａ_ｉ内）に転写される。

同様に、投影光学系ＰＬｂ_１〜ＰＬｂ_５を介して、マスクＭｂ上の照明領域ＩＡＭｂ_１〜ＩＡＭｂ_５内のパターンの部分像が、それぞれ、シートＳｂ上の投影領域ＩＡｂ_１〜ＩＡｂ_５に投影される。そして、前述と同様、走査露光により、マスクＭｂのパターンが投影光学系ＰＬｂ_１〜ＰＬｂ_５を介してシートＳｂ上（の１つの区画領域ＳＡｂ_ｉ内）に転写される。なお、走査露光の詳細について後述する。

露光装置１０００は、それぞれ、投影光学系ＰＬａ_１〜ＰＬａ_５、ＰＬｂ_１〜ＰＬｂ_５による投影像の歪み（位置及び形状）を補正する、前述のレンズコントローラＬＣと同様に構成された第１、第２レンズコントローラＬＣａ、ＬＣｂ（図２７参照）を備えている。

ステージ装置ＳＳは、図１９及び図２０に示されるように、投影光学系ＰＬａ，ＰＬｂの下方（−Ｚ側）に配置されている。ステージ装置ＳＳは、床面上に防振機構（不図示）によってほぼ水平に支持されたベース部材ＢＳ、ベース部材ＢＳ上でシートＳａ又はＳｂを保持して移動する２つのステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２、両ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２を図２６に示される第１、第２走査領域ＡＳ_１，ＡＳ_２内でそれぞれ走査駆動する第１及び第２ステージ駆動系ＳＳＤａ，ＳＳＤｂ（図２７参照）、両ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２を第１及び第２走査領域ＡＳ_１，ＡＳ_２間で搬送するステージ搬送系３６ａ，３６ｂ（図２７参照）、両ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２の第１及び第２走査領域ＡＳ_１，ＡＳ_２内での位置情報をそれぞれ計測する第１ステージ干渉計システム１８ａ及び第２ステージ干渉計システム１８ｂ（図２７参照）等を含む。

ここで、図２６に示されるように、第１及び第２走査領域ＡＳ_１，ＡＳ_２は、それぞれ、投影光学系ＰＬａ，ＰＬｂの直下の領域を含むベース部材ＢＳの上面（ガイド面）の−Ｙ側半部、＋Ｙ側半部の領域である。なお、図２６では、第１走査領域ＡＳ_１内にステージＳＳＴ_１が、第２走査領域ＡＳ_２内にステージＳＳＴ_２が、位置している。

ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２のそれぞれは、例えば図２３（Ａ）に示されるように、ステージ本体ＳＴ、テーブルＴＢ、及びＺ・レベリング装置３８（３つのＺ駆動機構３８ａ、３８ｂ、３８ｃ）を含んで、前述の第1の実施形態におけるステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２と同様に構成されている。従って、Ｚ・レベリング装置３８を制御することにより、ステージ本体ＳＴ上で、テーブルＴＢをＺ軸方向、θｘ方向、及びθｙ方向の３自由度方向に微小駆動することができる。ただし、そのステージ本体ＳＴの底部には可動子は存在しない。これに対応して、ベース部材ＢＳの内部に固定子は存在しない。すなわち、本第２の実施形態では、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２をベース部材ＢＳの上面（ガイド面）に沿って駆動する平面モータは設けられていない。このため、露光装置１０００には、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２を、それぞれ第１及び第２走査領域ＡＳ_１，ＡＳ_２内で駆動する前述の第１、第２ステージ駆動系ＳＳＤａ，ＳＳＤｂ（図２７参照）が設けられている。

第１ステージ駆動系ＳＳＤａは、例えば図２３（Ｂ）及び図２６に示されるように、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２をＸＹ平面内で微小駆動する微動装置３４ａと、微動装置３４ａを第１走査領域ＡＳ_１内で走査方向（−Ｘ方向）に駆動する粗動装置３２ａとを含む。

粗動装置３２ａは、一種のリニアモータであり、図２６に示されるように、ベース部材ＢＳの−Ｙ側に、Ｘ軸方向を長手方向として設置された断面Ｕ字状（＋Ｙ側が開口している）の磁石ユニット（又はコイルユニット）を有する固定子３２ａ_１と、固定子３２ａ_１に非接触で係合し、該固定子３２ａ_１との間で発生する駆動力（電磁力）により長手方向（Ｘ軸方向）に駆動されるコイルユニット（又は磁石ユニット）を有する可動子３２ａ_２とを含む。

微動装置３４ａは、一種の平面モータであり、図２３（Ａ）及び図２３（Ｂ）に示されるように、可動子３２ａ_２の＋Ｙ側に突設された矩形板状の突設部から成る固定子３４ａ_１と、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２のステージ本体ＳＴの−Ｙ側の側面に設けられた可動子３４ａ_２とを含む。

固定子３４ａ_１は、上述の突設部内に収容され、所定の位置関係で配置された複数のＸコイル、Ｙコイルから成るコイルユニットＣＵａを含む。

ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２（ステージ本体ＳＴ）の−Ｙ側面には、図２３（Ａ）及び図２３（Ｂ）に示されるように、上述の固定子３４ａ_１が非接触で挿入可能な凹部３５ａが形成されている。

一方、可動子３４ａ_２は、図２３（Ａ）に示されるように、上述のステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２（ステージ本体ＳＴ）の凹部３５ａの上下の対向面にそれぞれ配置された一対の磁石ユニットＭＵａ_１，ＭＵａ_２を含む。

ここで、磁石、コイル等の配置等の説明は省略するが、固定子３４ａ_１のコイルユニットＣＵａを構成する各コイルに対する電流の向き、大きさを適宜制御することにより、可動子３４ａ_２の磁石ユニットＭＵａ_１，ＭＵａ_２とコイルユニットＣＵａとの間で行われる電磁相互作用により、可動子３４ａ_２（ステージ本体ＳＴ）を、固定子３４ａ_１に対して、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、θｚ方向に微少駆動することができるようになっている。

一方、第２ステージ駆動系ＳＳＤｂは、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２をＸＹ平面内で微小駆動する微動装置３４ｂと、微動装置３４ｂを第２走査領域ＡＳ_２内で走査方向（＋Ｘ方向）に駆動する粗動装置３２ｂと、から構成される。

粗動装置３２ｂは、粗動装置３２ａと同様のリニアモータであり、図２６に示されるように、固定子３２ｂ_１と、可動子３２ｂ_２と、を含んで、粗動装置３２ａとＸ軸に関して対称ではあるが、同様に構成されている。

微動装置３４ｂは、微動装置３４ａと同様の平面モータであり、例えば図２５（Ａ）から分かるように、固定子３４ｂ_１と可動子３４ｂ_２とを含んで、微動装置３４ａとＸ軸に関して対称ではあるが、同様に構成されている。

従って、微動装置３４ａと同様に、微動装置３４ｂを構成する固定子３４ｂ_１に対して可動子３４ｂ_２（ステージ本体ＳＴ）を、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、及びθｚ方向に駆動することができる。

上述の説明からわかるように、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２は、第１走査領域ＡＳ_１内では第１ステージ駆動系ＳＳＤａ（図２７参照）によって、第２走査領域ＡＳ_２内では第２ステージ駆動系ＳＳＤｂ（図２７参照）によって、それぞれ独立に、３自由度方向（Ｘ，Ｙ，θｚ方向）に駆動される。

ステージ搬送系３６ａ（図２７参照）は、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２を、第１走査領域ＡＳ_１から第２走査領域ＡＳ_２へ搬送する。ステージ搬送系３６ｂ（図２７参照）は、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２を、第２走査領域ＡＳ_２から第１走査領域ＡＳ_１へ搬送する。

ステージ搬送系３６ａは、図２６に示されるように、ベース部材ＢＳの−Ｘ側の端面に近接して配置されシートＳａの幅より幾分長い長さを有し、Ｙ軸方向に延びるガイド３６ａ_１と、ガイド３６ａ_１にその長手方向に沿ってスライド移動可能に取り付けられたＸ軸及びＹ軸に対して４５°を成す方向を長手方向とする長方形状のスライダ３６ａ_２と、スライダ３６ａ_２にその長手方向に沿って移動可能に取り付けられたＬ字状のアーム部材３６ａ_３と、を有している。

これをさらに詳述すると、ガイド３６ａ_１の上面には、長手方向（Ｙ軸方向）に沿ってガイド溝が形成されており、このガイド溝の側壁には、第１リニアモータの固定子を構成する複数の磁石（又はコイル）が長手方向に沿って所定間隔で配置されている。ガイド溝の内部に、スライダ３６ａ_２の下端部に固定された可動子を構成するコイル（又は磁石）が係合している。第１リニアモータによって、スライダ３６ａ_２が、Ｙ軸方向に駆動される。

スライダ３６ａ_２の上面には、長手方向に沿ってガイド溝が形成されており、このガイド溝の側壁には、第２リニアモータの固定子を構成する複数の磁石（又はコイル）が長手方向に沿って所定間隔で配置されている。ガイド溝の内部に、アーム部材３６ａ_３の下端部に固定された可動子を構成するコイル（又は磁石）が係合している。第２リニアモータによって、アーム部材３６ａ_３が、Ｘ軸及びＹ軸に対して４５°を成す方向に駆動される。

ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２（ステージ本体ＳＴ）の−Ｘ側端かつ−Ｙ側端の角部には、図２３（Ａ）及び図２３（Ｂ）に示されるように、アーム部材３６ａ_３が係合するＬ字状の凹部３７ａが形成されている。

ステージ搬送系３６ａのスライダ３６ａ_２及びアーム部材３６ａ_３は、第１、第２リニアモータを介して、主制御装置５０によって制御される（図２７参照）。

ここで、主制御装置５０が、ステージ搬送系３６ａを用いて、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２を第１走査領域ＡＳ_１から第２走査領域ＡＳ_２へ搬送する際の手順について説明する。

まず、図２４（Ａ）に示されるように、第１走査領域ＡＳ_１の−Ｘ端に停止しているステージＳＳＴ_１（ＳＳＴ_２）に向かって、アーム部材３６ａ_３を、スライダ３６ａ_２上で黒塗り矢印で示される方向にスライドさせる。これにより、図２４（Ｂ）に示されるように、アーム部材３６ａ_３の先端が、ステージＳＳＴ_１（ＳＳＴ_２）の凹部３７ａに係合する。

次に、第１ステージ駆動系ＳＳＤａの微動装置３４ａを構成する固定子３４ａ_１（コイルユニットＣＵａ）への電流供給を停止する。これにより、固定子３４ａ_１と可動子３４ａ_２との間の電磁力による拘束が解除される。次に、図２４（Ｃ）に示されるように、スライダ３６ａ_２を、ガイド３６ａ_１上で黒塗り矢印で示される方向（＋Ｙ方向）に駆動する。これにより、ステージＳＳＴ_１（ＳＳＴ_２）が＋Ｙ方向に、すなわち、第２走査領域ＡＳ_２に向かって搬送され、この搬送の途中で固定子３４ａ_１がステージＳＳＴ_１（ＳＳＴ_２）の凹部３５ａから離脱する。

このとき、図２５（Ａ）に示されるように、第２ステージ駆動系ＳＳＤｂの粗動装置３２ｂの可動子３２ｂ_２が、一体的に設けられた微動装置３４ｂの固定子３４ｂ_１がステージＳＳＴ_１（ＳＳＴ_２）の凹部３５ｂに対向する位置で待機している。

ステージＳＳＴ_１（ＳＳＴ_２）がベース部材ＢＳ（上面）の＋Ｙ端まで搬送されると、図２５（Ｂ）に示されるように、固定子３４ｂ_１がステージＳＳＴ_１（ＳＳＴ_２）の凹部３５ｂに非接触で係合する（挿入される）。係合後、固定子３４ｂ_１（コイルユニットＣＵｂ）に電流を供給することにより、固定子３４ｂ_１と可動子３４ｂ_２とが電磁力により拘束され、第２ステージ駆動系ＳＳＤｂの微動装置３４ｂが構成される。その後、図２５（Ｂ）に示されるように、アーム部材３６ａ_３を、黒塗り矢印で示される方向に退避させる。退避後、図２５（Ｃ）に示されるように、スライダ３６ａ_２を黒塗り矢印で示される方向（−Ｙ方向）に駆動して、第１走査領域ＡＳ_１に戻す。これにより、ステージＳＳＴ_１（ＳＳＴ_２）は、第２ステージ駆動系ＳＳＤｂにより第２走査領域ＡＳ_２内で駆動可能な状態になる。

一方、ステージ搬送系３６ｂは、図２６に示されるように、ベース部材ＢＳの＋Ｘ端部の＋Ｙ側半部の近傍に設けられている。このステージ搬送系３６ｂはガイド３６ｂ_１とスライダ３６ｂ_２とアーム部材３６ｂ_３とを含み、ステージ搬送系３６ａとはベース部材ＢＳの中心に関して対称ではあるが同様に構成されている。これに対応して、図２３（Ａ）及び図２３（Ｂ）等に示されるように、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２（ステージ本体ＳＴ）の＋Ｘ側端かつ＋Ｙ側端の角部には、アーム部材３６ｂ_３が係合する凹部３７ｂが形成されている。なお、アーム部材３６ａ_３，３６ｂ_３の内面にバキュームチャックをそれぞれ設けても良い。この場合、ステージ本体ＳＴに凹部３７ａを形成する必要はない。

主制御装置５０は、ステージ搬送系３６ａを用いてステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２を第１走査領域ＡＳ_１から第２走査領域ＡＳ_２へ搬送するのと同様に、ステージ搬送系３６ｂを用いてステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２を第２走査領域ＡＳ_２から第１走査領域ＡＳ_１へ搬送することができる。

第１ステージ干渉計システム１８ａは、図２６に示されるように、干渉計１８Ｘａ_１，１８Ｘａ_２，１８Ｙａ_１，１８Ｙａ_２を含み、第１走査領域ＡＳ_１内に位置するステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２（テーブルＴＢ）のＸＹ平面内での位置情報（θｚ方向の回転情報を含む）を、常時、例えば０．２５〜１ｎｍ程度の分解能で計測する。

一方、第２ステージ干渉計システム１８ｂは、干渉計１８Ｘｂ_１，１８Ｘｂ_２，１８Ｙｂ_１，１８Ｙｂ_２を含み、第２走査領域ＡＳ_２内に位置するステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２（テーブルＴＢ）のＸＹ平面内での位置情報（θｚ方向の回転情報を含む）を、常時、例えば０．２５〜１ｎｍ程度の分解能で計測する。

図２６に示されるように、干渉計１８Ｘａ_１，１８Ｘａ_２及び１８Ｙａ_１，１８Ｙａ_２は、それぞれ第１走査領域ＡＳ_１内に位置するステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２の反射面１７Ｘ_１及び１７Ｙ_１に対向し得るように、第１走査領域ＡＳ_１（投影光学系ＰＬ）の＋Ｘ側及び−Ｙ側に配置されている。干渉計１８Ｘｂ_１，１８Ｘｂ_２及び１８Ｙｂ_１，１８Ｙｂ_２は、それぞれ第２走査領域ＡＳ_２内に位置するステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２の反射面１７Ｘ_２及び１７Ｙ_２に対向するように、第２走査領域ＡＳ_２の−Ｘ側及び＋Ｙ側に配置されている。

干渉計１８Ｘａ_１，１８Ｘａ_２は、第１走査領域ＡＳ_１内に位置するステージＳＳＴ_１の反射面１７Ｘ_１に、Ｘ軸に平行に測長ビームをそれぞれ照射し、反射面１７Ｘ_１からの反射光を受光して、ステージＳＳＴ_１のＸ位置をそれぞれ計測する。干渉計１８Ｙａ_１，１８Ｙａ_２は、Ｙ軸と平行な２つの測長ビームを反射面１７Ｙ_１にそれぞれ照射し、反射面１７Ｙ_１からの反射光を受光して、ステージＳＳＴ_１のＹ位置をそれぞれ計測する。ここで、干渉計１８Ｙａ_２の２つの測長ビームの一方は、光軸ＡＸａ_１，ＡＸａ_３，ＡＸａ_５と直交するＹ軸に平行な光路に沿って、他方は、光軸ＡＸａ_２，ＡＸａ_４と直交するＹ軸に平行な光路に沿って、反射面１７Ｙ_１に照射される。また、干渉計１８Ｙａ_１の２つの測長ビームは、後述する複数のアライメント系のうちの、隣接するアライメント系の検出中心を通るＹ軸に平行な光路に沿って、反射面１７Ｙ_１に照射される。

第１ステージ干渉計システム１８ａ（１８Ｘａ_１，１８Ｘａ_２，１８Ｙａ_１，１８Ｙａ_２）の計測情報は、主制御装置５０に供給される（図２７参照）。なお、ステージＳＳＴ_１が、第１走査領域ＡＳ_１内に位置する場合、そのＸ位置を問わず、必ず、干渉計１８Ｙａ_１，１８Ｙａ_２の少なくとも一方、又は干渉計１８Ｙｂ_１の測長ビームが、ステージＳＳＴ_１の対応する反射面（１７Ｙ_１又は１７Ｙ_２）に照射される。従って、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ_１のＸ位置に応じて、干渉計１８Ｙａ_１，１８Ｙａ_２及び１８Ｙｂ_１のいずれかの計測情報を使用する。また、主制御装置５０は、１８Ｘａ_１，１８Ｘａ_２の計測情報に基づいて、ステージＳＳＴ_１のθｚ方向の回転を計測する。なお、第１走査領域ＡＳ_１内にステージＳＳＴ_２が位置する場合も、同様に、その位置情報が計測される。

干渉計１８Ｘｂ_１，１８Ｘｂ_２は、第２走査領域ＡＳ_２内に位置するステージＳＳＴ_２の反射面１７Ｘ_２に、Ｘ軸と平行な測長ビームをそれぞれ照射し、反射面１７Ｘ_２からの反射光を受光して、ステージＳＳＴ_２のＸ位置をそれぞれ計測する。干渉計１８Ｙｂ_１，１８Ｙｂ_２は、Ｙ軸と平行な２つの測長ビームを反射面１７Ｙ_２にそれぞれ照射し、反射面１７Ｙ_２からの反射光を受光して、ステージＳＳＴ_２のＹ位置をそれぞれ計測する。ここで、干渉計１８Ｙｂ_１，１８Ｙｂ_２からは、前述した干渉計１８Ｙａ_１，１８Ｙａ_２と同様の光路に沿って、反射面１７Ｙ_２に測長ビームが照射される。

第２ステージ干渉計システム１８ｂ（１８Ｘｂ_１，１８Ｘｂ_２，１８Ｙｂ_１，１８Ｙｂ_２）の計測情報は、主制御装置５０に供給される（図２７参照）。なお、ステージＳＳＴ_２が、第２走査領域ＡＳ_２内に位置する場合、そのＸ位置を問わず、必ず、干渉計１８Ｙｂ_１，１８Ｙｂ_２の一方、又は干渉計１８Ｙａ_１の測長ビームが、ステージＳＳＴ_１の対応する反射面（１７Ｙ_２又は１７Ｙ_１）に照射される。従って、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ_２のＸ位置に応じて、干渉計１８Ｙｂ_１，１８Ｙｂ_２，１８Ｙａ_１のいずれかの計測情報を使用する。また、主制御装置５０は、干渉計１８Ｘｂ_１，１８Ｘｂ_２の計測情報に基づいて、ステージＳＳＴ_２のθｚ方向の回転を計測する。なお、第２走査領域ＡＳ_２内にステージＳＳＴ_１が位置する場合も、同様に、その位置情報が計測される。

主制御装置５０は、第１及び第２ステージ干渉計システム１８ａ，１８ｂからの位置情報に基づいて、第１及び第２ステージ駆動系ＳＳＤａ，ＳＳＤｂを介してステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２を駆動制御する。

なお、干渉計１８Ｘａ_１，１８Ｘａ_２，１８Ｙａ_１，１８Ｙａ_２，１８Ｘｂ_１，１８Ｘｂ_２，１８Ｙｂ_１，１８Ｙｂ_２のそれぞれとして、Ｚ軸方向に離間する複数の測長ビームを反射面に照射する多軸干渉計を用いることも可能である。この場合、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２（テーブルＴＢ）のＸＹ平面内の位置情報（回転情報（ヨーイング量（θｚ方向の回転量θｚ）を含む））だけでなく、ＸＹ平面に対する傾斜情報（ピッチング量（θｘ方向の回転量θｘ）及びローリング量（θｙ方向の回転量θｙ））も取得可能となる。

さらに、本第２の実施形態の露光装置１０００には、シートＳａ及びＳｂ上の各区画領域に付設されたアライメントマークを検出するための各１２個のアライメント系ＡＬａ_１〜ＡＬａ_１２及びＡＬｂ_１〜ＡＬｂ_１２が、それぞれ、投影光学系ＰＬａの＋Ｘ側及び投影光学系ＰＬｂの−Ｘ側に設置されている。なお、これらのアライメント系ＡＬａ_１〜ＡＬａ_１２及びＡＬｂ_１〜ＡＬｂ_１２は、第１の実施形態のアライメント系ＡＬ_１〜ＡＬ_１２と同様に構成され、同様に配置されている。

図２７には、露光装置１０００の制御系を中心的に構成し、構成各部を統括制御する主制御装置５０の入出力関係を示すブロック図が示されている。

本実施形態の露光装置１０００における、２つのステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２を用いた並行処理動作について、図２８〜図３７に基づいて説明する。また、以後の動作説明は、多数の図面を用いて行うが、図面毎に同一の部材に符号が付されていたり、付されていなかったりしている。すなわち、図面毎に、記載している符号が異なっているが、それら図面は符号の有無に関わらず、同一構成である。これまでに説明に用いた、各図面についても同様である。

図２８には、シートＳａ上に配列された複数の区画領域のうちの最初の（ｉ−１）個の区画領域ＳＡａ_１〜ＳＡａ_ｉ−１に対する露光が既に終了し、且つシートＳｂ上に配列された複数の区画領域のうちの最初の（ｉ−１）個の区画領域ＳＡｂ_１〜ＳＡｂ_ｉ−１に対する露光が既に終了し、次の区画領域ＳＡａ_ｉ，ＳＡｂ_ｉに対する露光のための処理が開始される直前の状態が示されている。図２８の状態では、シートＳａの区画領域ＳＡａ_ｉに対する露光の際にシートＳａの移動のために使用されるステージＳＳＴ_１が第１走査領域ＡＳ_１内の＋Ｘ端部の位置（第１待機位置）にて待機し、シートＳｂの区画領域ＳＡｂ_ｉに対する露光の際にシートＳｂの移動のために使用されるステージＳＳＴ_２が第２走査領域ＡＳ_２内の−Ｘ端部の位置（第２待機位置）にて待機している。

なお、マスクＭａ，ＭｂのマスクステージＭＳＴａ，ＭＳＴｂ上へのロード及びマスクアライメント（マスクの位置合わせ）は、通常、シートＳａ，Ｓｂ上の最初の区画領域ＳＡａ_１，ＳＡｂ_１に対する露光開始前に行われるので、図２８に示される状態では、マスクＭａ，Ｍｂのロード及びマスクアライメントは終了している。また、マスクステージＭＳＴａ、ＭＳＴｂは、区画領域ＳＡａ_ｉ，ＳＡｂ_ｉに対する露光のための走査開始位置（加速開始位置）へ移動しているものとする。

ｆ． まず、次のｆ１．〜ｆ４．の手順に従って、区画領域ＳＡａ_ｉ，ＳＡｂ_ｉを含むシートＳａ，Ｓｂの中央部が、それぞれステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２上に保持される。
ｆ１． 具体的には、主制御装置５０は、前述の第１の実施形態のａ１．で説明したのと同様に第１シート搬送系４０ａを制御して、所定の長さのシートＳａを、搬送ローラ部４１ａ，４２ａ間にループ状に撓めると同時に、第２シート搬送系４０ｂを制御して、所定の長さのシートＳｂを、搬送ローラ部４１ｂ，４２ｂ間にループ状に撓める。所定の長さは、搬送ローラ部４２ａ，４３ａ（４２ｂ，４３ｂ）の離間距離程度の長さである。

ｆ２． 次に、主制御装置５０は、第１ステージ干渉計システム１８ａ（１８Ｘａ_１，１８Ｘａ_２，１８Ｙａ_１，１８Ｙａ_２）からのステージＳＳＴ_１の位置情報に基づいて、第１シート搬送系４０ａを制御し、シートＳａを＋Ｘ方向に引き戻す、あるいは−Ｘ方向に送り出してシートＳａ上の区画領域ＳＡａ_ｉをステージＳＳＴ_１のシートホルダＳＨ_１（の保持面）上に位置決めする。ここで、シートＳａは、適度のテンションが付与された状態で搬送ローラ部４２ａ，４３ａ間に張られた上で、位置決めされる。主制御装置５０は、さらに、ステージＳＳＴ_１を微小駆動して、シートホルダＳＨ_１（の保持面）をシートＳａ上の区画領域ＳＡａ_ｉに位置合わせする。

シートＳａの位置合わせと並行して、主制御装置５０は、同様に、第２ステージ干渉計システム１８ｂ（１８Ｘｂ_１，１８Ｘｂ_２，１８Ｙｂ_１，１８Ｙｂ_２）からのステージＳＳＴ_２の位置情報に基づいて、第２シート搬送系４０ｂを制御し、シートＳｂ上の区画領域ＳＡｂ_ｉをステージＳＳＴ_２のシートホルダＳＨ_１（の保持面）上に位置決めする。主制御装置５０は、さらに、ステージＳＳＴ_２を微小駆動して、シートホルダＳＨ_１（の保持面）をシートＳｂ上の区画領域ＳＡｂ_ｉに位置合わせする。

なお、この状態では、シートＳａとステージＳＳＴ_１のシートホルダＳＨ_１（の保持面）との間には僅かな空間が設けられている。同様に、シートＳｂとステージＳＳＴ_２のシートホルダＳＨ_１（の保持面）との間にも僅かな空間が設けられている。

第１待機位置においてステージＳＳＴ_１とシートＳａが位置合わせされた状態では、アライメント系ＡＬａ_１〜ＡＬａ_１２それぞれの検出視野内に、区画領域ＳＡａ_ｉに付設されたアライメントマークが位置決めされる。同様に、第２待機位置においてステージＳＳＴ_２とシートＳｂが位置合わせされた状態では、アライメント系ＡＬｂ_１〜ＡＬｂ_１２それぞれの検出視野内に、区画領域ＳＡｂ_ｉに付設されたアライメントマークが位置決めされる。

ｆ３． 位置合わせ後、主制御装置５０は、第１ステージ駆動系ＳＳＤ（Ｚ・レベリング装置３８）を介してステージＳＳＴ_１のテーブルＴＢを水平に保ちつつ、テーブルＴＢ上の４つの補助シートホルダＳＨ_２を＋Ｚ方向に微小駆動して、シートＳａの区画領域ＳＡａ_ｉの±Ｙ側の外部部分の裏面を補助シートホルダＳＨ_２を用いて吸着保持する。同様に、主制御装置５０は、シートＳｂの区画領域ＳＡｂ_ｉの±Ｙ側の外部部分の裏面をステージＳＳＴ_２（テーブルＴＢ）上の補助シートホルダＳＨ_２を用いて吸着保持する。図２９には、このようにして、シートＳａ，ＳｂがそれぞれステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２（補助シートホルダＳＨ_２）により仮保持された状態が示されている。

ｆ４． シートＳａ，Ｓｂの仮保持後、主制御装置５０は、シートＳａを仮保持したままステージＳＳＴ_１上の４つの補助シートホルダＳＨ_２を−Ｚ方向に微小駆動して、区画領域ＳＡａ_ｉを含むシートＳの中央部の裏面をシートホルダＳＨ_１の保持面上に接触させる。そして、主制御装置５０は、４つの補助シートホルダＳＨ_２の保持面をシートホルダＳＨ_１の保持面より僅かに下方（−Ｚ側）に位置決めする。これにより、シートＳａに適当なテンションが加わり、シートＳａの中央部がシートホルダＳＨ_１の保持面上に固定される。この状態にて、主制御装置５０は、図３０に示されるように、シートＳａをシートホルダＳＨ_１に吸着保持する。これにより、区画領域ＳＡａ_ｉを含むシートＳａの中央部が、ステージＳＳＴ_１上に、ＸＹ平面に平行に且つ平坦に保持される。

シートＳａの保持と並行して、主制御装置５０は、同様に、区画領域ＳＡｂ_ｉを含むシートＳｂの中央部を、ステージＳＳＴ_２上のシートホルダＳＨ_１に吸着保持する。

ｇ． 次に、シートＳａ，Ｓｂに対するアライメント計測が行われる。

前述の通り、第１待機位置にステージＳＳＴ_１が位置決めされた状態では、アライメント系ＡＬａ_１〜ＡＬａ_１２のそれぞれの検出視野内に区画領域ＳＡａ_ｉに付設されたアライメントマークが位置決めされている。また、第２待機位置にステージＳＳＴ_２が位置決めされた状態では、アライメント系ＡＬｂ_１〜ＡＬｂ_１２のそれぞれの検出視野内に区画領域ＳＡｂ_ｉに付設されたアライメントマークが位置決めされている。そこで、主制御装置５０は、図３０に示されるように、シートＳａ上の区画領域ＳＡａ_ｉに付設されたアライメントマークをアライメント系ＡＬａ_１〜ＡＬａ_１２を用いて検出する（指標中心からのアライメントマークの位置を計測する）。アライメントマークの検出結果と、その検出時の第１ステージ干渉計システム１８ａからのステージＳＳＴ_１の位置情報と、に基づき、ＸＹ座標系上における１２個のアライメントマークの位置座標が求められる。主制御装置５０は、１２個のアライメントマークの位置座標の全部又は一部を用いて、最小二乗法を用いた所定の演算を行って、シートＳａ上の区画領域ＳＡａ_ｉ内に形成済みのパターンの歪み、すなわちＸＹシフト、回転、ＸＹスケーリング、直交度を求める。

シートＳａのアライメント計測と並行して、主制御装置５０は、同様に、アライメント系ＡＬｂ_１〜ＡＬｂ_１２を用いて、シートＳｂ上の区画領域ＳＡｂ_ｉに付設されたアライメントマークを検出し、アライメントマークの検出結果と、その検出時の第２ステージ干渉計システム１８ｂからのステージＳＳＴ_２の位置情報と、に基づき、ＸＹ座標系上における１２個のアライメントマークの位置座標を求める。そして、主制御装置５０は、先と同様にアライメントマークの位置座標を用いて所定の演算を行って、シートＳｂ上の区画領域ＳＡｂ_ｉ内に形成済みのパターンの歪み、すなわちＸＹシフト、回転、ＸＹスケーリング、直交度を求める。

なお、検出すべきアライメントマークの数より、アライメント系の数が少ない場合には、シートＳａを保持したステージＳＳＴ_１、シートＳｂを保持したステージＳＳＴ_２をＸ軸方向にステップ移動させつつ、アライメント計測を行う必要がある。この際、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ_１、ＳＳＴ_２の動きに合わせて、シート搬送系４０ａ、４０ｂの各駆動ローラの回転、停止を制御する。

ｈ． 次いで、シートＳａ上の区画領域ＳＡａ_ｉ及びシートＳｂ上の区画領域ＳＡｂ_ｉに対する走査露光が行われる。

ｈ１． 具体的には、主制御装置５０は、シートＳａに対するアライメント計測の結果、特にＸＹシフトに基づいて、シートＳａを保持したステージＳＳＴ_１を、露光のための走査開始位置（加速開始位置）に移動して、マスクＭａを保持したマスクステージＭＳＴａに対して位置合わせを行う。ここで、本第２の実施形態においても、ステージＳＳＴ_１（及びＳＳＴ_２）の第１走査領域ＡＳ_１内部の加速開始位置は、前述の第１待機位置と同じ位置（又はその近傍）に設定されているので、ＸＹ平面内のステージＳＳＴ_１（及びＳＳＴ_２）の位置の微調整が行われる。
ｈ２． 次に、主制御装置５０は、両ステージＳＳＴ_１，ＭＳＴａの走査方向（−Ｘ方向）の加速を開始する。これにより、両ステージＳＳＴ_１，ＭＳＴａの−Ｘ方向の移動が開始され、その移動の途中、具体的には、両ステージＳＳＴ_１，ＭＳＴａの加速終了の前に、図３１に示されるように、干渉計１８Ｙａ_２からの測長ビームが反射面１７Ｙ_１に当たり始めるので、その直後に、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ_１のＹ位置を計測する干渉計を干渉計１８Ｙａ_１から干渉計１８Ｙａ_２に切り換える。
ｈ３． そして、両ステージＳＳＴ_１，ＭＳＴａの加速が終了し、両ステージＳＳＴ_１，ＭＳＴａが等速同期状態に達すると、照明光ＩＬ_２，ＩＬ_４によってマスクＭａ上のパターン領域が照明され始め、露光が開始される。そして、両ステージＳＳＴ_１，ＭＳＴａの等速同期移動の進行により、図３２に示されるように、照明光ＩＬａ_１〜ＩＬａ_５によってそれぞれマスクＭａ上の照明領域ＩＡＭａ_１〜ＩＡＭａ_５（図２１参照）が照明され、照明領域ＩＡＭａ_１〜ＩＡＭａ_５内のパターンの部分像がそれぞれ投影光学系ＰＬａ_１〜ＰＬａ_５（図２２参照）を介してステージＳＳＴ_１上に保持されたシートＳａ上の投影領域ＩＡａ_１〜ＩＡａ_５に投影される。

ｈ４． 上述のｈ１．〜ｈ３．の動作と並行して、主制御装置５０によって、シートＳｂを保持したステージＳＳＴ_２の、露光のための走査開始位置（加速開始位置）への移動、マスクＭｂを保持したマスクステージＭＳＴｂに対しての位置合わせ、両ステージＳＳＴ_１，ＭＳＴｂの走査方向（＋Ｘ方向）の加速開始、並びに加速終了前のステージＳＳＴ_２のＹ位置を計測する干渉計の、干渉計１８Ｙｂ_１から干渉計１８Ｙｂ_２への切り換え、などが、上述と同様にして行われる。そして、両ステージＳＳＴ_２，ＭＳＴｂの加速が終了し、両ステージＳＳＴ_２，ＭＳＴｂが等速同期状態に達すると、照明光ＩＬｂ_１〜ＩＬｂ_５によってマスクＭｂ上のパターン領域が照明され始め、露光が開始される。そして、両ステージＳＳＴ_２，ＭＳＴｂによる等速同期移動の進行により、図３２に示されるように、５つの照明光によってそれぞれマスクＭａ上の照明領域ＩＡＭｂ_１〜ＩＡＭｂ_５（図２１参照）が照明され、照明領域ＩＡＭｂ_１〜ＩＡＭｂ_５内のパターンの部分像がそれぞれ投影光学系ＰＬｂ_１〜ＰＬｂ_５（図２２参照）を介してステージＳＳＴ_２上に保持されたシートＳｂ上の投影領域ＩＡｂ_１〜ＩＡｂ_５に投影される。

マスクＭａのパターン領域の全域が照明光ＩＬａ_１〜ＩＬａ_５により照明されると、すなわち照明領域ＩＡＭｂ_１〜ＩＡＭｂ_５をマスクＭａのパターン領域が通り過ぎると、シートＳａの区画領域ＳＡａ_ｉに対する走査露光が終了し、同様にマスクＭｂのパターン領域の全域が照明光ＩＬｂ_１〜ＩＬｂ_５により照明されると、シートＳｂの区画領域ＳＡｂ_ｉに対する走査露光が終了する。これにより、シートＳａ，Ｓｂの区画領域ＳＡａ_ｉ，Ｓｂ_ｉ内に、それぞれ、マスクＭａ，Ｍｂのパターンが転写される。

走査露光中、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ_１（ＳＳＴ_２）のテーブルＴＢを水平に保ちつつＺ軸方向に駆動して、テーブルＴＢ（シートホルダＳＨ_１）上に保持されたシートＳａ（Ｓｂ）の表面を投影光学系ＰＬａ（ＰＬｂ）の焦点位置（焦点深度内）に位置決めする。また、走査露光中、主制御装置５０は、アライメント計測の結果に基づいて、ステージＳＳＴ_１（ＳＳＴ_２）とマスクステージＭＳＴａ（ＭＳＴｂ）との同期駆動（相対位置及び相対速度）を制御して、シートＳａ（Ｓｂ）上に投影されるパターンの全体像の歪みを補正する。さらに、主制御装置５０は、第１レンズコントローラＬＣａ（第２レンズコントローラＬＣｂ）を介して投影光学系ＰＬａ_１〜ＰＬａ_５（ＰＬｂ_１〜ＰＬｂ_５）のそれぞれを構成する光学素子群（レンズ群）を駆動制御して、シートＳａ（Ｓｂ）上の投影領域ＩＡａ_１〜ＩＡａ_５（ＩＡｂ_１〜ＩＡｂ_５）のそれぞれに投影されるパターンの部分像の歪みを補正する。これにより、既に区画領域ＳＡａ_ｉ（Ｓｂ_ｉ）内に形成されたパターンにマスクＭａ（Ｍｂ）のパターンの投影像が高精度に重ね合わされる。

区画領域ＳＡａ_ｉに対する走査露光の終了後、両ステージＳＳＴ_１，ＭＳＴａが減速され、図３３に示されるように、それぞれの走査終了位置（減速終了位置）に到達すると、停止する。同様に、区画領域ＳＡｂ_ｉに対する走査露光の終了後、両ステージＳＳＴ_２，ＭＳＴｂが減速され、図３３に示されるように、それぞれの走査終了位置（減速終了位置）に到達すると、停止する。ここで、並行して行われる区画領域ＳＡａ_ｉ、ＳＡｂ_ｉに対する走査露光の途中で、干渉計１８Ｙｂ_１からの測長ビームは、ステージＳＳＴ_２に当たらなくなると同時に、ステージＳＳＴ_１に当たり始め、干渉計１８Ｙａ_１からの測長ビームは、ステージＳＳＴ_１に当たらなくなると同時に、ステージＳＳＴ_２に当たり始める。そこで、主制御装置５０は、区画領域ＳＡａ_ｉに対する走査露光の終了後、両ステージＳＳＴ_１，ＭＳＴａの減速を開始すると共に、ステージＳＳＴ_１のＹ位置を計測する干渉計を干渉計１８Ｙａ_２から干渉計１８Ｙｂ_１へ切り換え、これと並行して区画領域ＳＡｂ_ｉに対する走査露光の終了後、両ステージＳＳＴ_２，ＭＳＴｂの減速を開始すると共に、ステージＳＳＴ_２のＹ位置を計測する干渉計を干渉計１８Ｙｂ_２から干渉計１８Ｙａ_１へ切り換える。なお、本第２の実施形態では、ステージＳＳＴ_１、ＳＳＴ_２の走査の際の減速終了位置は、ベース部材ＢＳの−Ｘ端、＋Ｘ端に一致するように定められている。

なお、走査露光中、主制御装置５０は、シートＳａ（Ｓｂ）を保持したステージＳＳＴ_１（ＳＳＴ_２）を−Ｘ方向（＋Ｘ方向）に駆動する際、先と同様に、ステージＳＳＴ_１（ＳＳＴ_２）の動きに合わせて、そのステージＳＳＴ_１（ＳＳＴ_２）の動きが、シートＳａ（Ｓｂ）に作用するテンションによって阻害されることがないように、シート搬送系４０ａ（４０ｂ）の各駆動ローラを、適宜、回転、停止する。

次いで、シートＳａ，Ｓｂの次の区画領域ＳＡａ_ｉ＋１，ＳＡｂ_ｉ＋１に対する露光の前処理として、次のｉ１．〜ｉ５．の手順に従って、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２の入れ替えが行われる。

ｉ１． 図３４に示されるように、ステージＳＳＴ_１が減速終了位置である第１走査領域ＡＳ_１内の−Ｘ端に停止すると、主制御装置５０は、シートホルダＳＨ_１と補助シートホルダＳＨ_２によるシートＳａの吸着保持を解除する。同様に、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ_２が減速終了位置である第２走査領域ＡＳ_２内の＋Ｘ端に停止すると、シートホルダＳＨ_１と補助シートホルダＳＨ_２によるシートＳｂの吸着保持を解除する。さらに、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２のテーブルＴＢを下方（−Ｚ方向）に退避させる。これにより、シートＳａは、ステージＳＳＴ_１のシートホルダＳＨ_１との間に僅かな空間を挟んで、搬送ローラ部４２ａ，４３ａ間に張られた状態になる。同様に、シートＳｂは、ステージＳＳＴ_２のシートホルダＳＨ_１との間に僅かな空間を挟んで、搬送ローラ部４２ｂ，４３ｂ間に張られた状態になる。

ｉ２． 次いで、主制御装置５０は、先に図２４（Ａ）〜図２４（Ｃ）及び図２５（Ａ）〜図２５（Ｃ）を用いて説明したように、ステージ搬送系３６ａを用いて、ステージＳＳＴ_１を第１走査領域ＡＳ_１から第２走査領域ＡＳ_２内の前述の第２待機位置へ搬送する。具体的には、主制御装置５０は、まず図３４に示されるように、アーム部材３６ａ_３をステージＳＳＴ_１の凹部３７ａに係合させる。次に、主制御装置５０は、第１ステージ駆動系ＳＳＤａの微動装置３４ａを構成する固定子３４ａ_１と可動子３４ａ_２との間の拘束を解除する。そして、主制御装置５０は、スライダ３６ａ_２を図３４中に黒塗り矢印で示される方向（＋Ｙ方向）に駆動する。これにより、ステージＳＳＴ_１が、第２走査領域ＡＳ_２に向かって図３４中に黒塗り矢印で示されるように＋Ｙ方向に搬送され（駆動され）、固定子３４ａ_１がステージＳＳＴ_１の凹部３５ａから離脱する。

ステージＳＳＴ_１の搬送と並行して、主制御装置５０は、ステージ搬送系３６ｂを用いて、ステージＳＳＴ_２を第２走査領域ＡＳ_２から第１走査領域ＡＳ_１内の前述の第１待機位置へ搬送する。主制御装置５０は、まず、アーム部材３６ｂ_３をステージＳＳＴ_２の凹部３７ｂに係合させる。次に、主制御装置５０は、第２ステージ駆動系ＳＳＤｂの微動装置３４ｂを構成する固定子３４ｂ_１と可動子３４ｂ_２との間の拘束を解除する。そして、主制御装置５０は、スライダ３６ｂ_２を図３４中に白抜き矢印で示される方向（−Ｙ方向）に駆動する。これにより、ステージＳＳＴ_２が第１走査領域ＡＳ_１に向かって図３４中に白抜き矢印で示されるように−Ｙ方向に搬送され（駆動され）、固定子３４ｂ_１がステージＳＳＴ_２の凹部３５ｂから離脱する。

ステージＳＳＴ_１の搬送中、図３４及び図３５に示されるように、ステージＳＳＴ_１のＹ位置に応じて、そのＸ位置を計測する干渉計が干渉計１８Ｘａ_１，１８Ｘａ_２から干渉計１８Ｘｂ_１，１８Ｘｂ_２へ切り換えられる（干渉計１８Ｘａ_１，１８Ｘａ_２，１８Ｘｂ_１，１８Ｘｂ_２の間で使用する干渉計が順次切り換えられる）。同様に、ステージＳＳＴ_２の搬送中、ステージＳＳＴ_２のＹ位置に応じて、そのＸ位置を計測するステージ干渉計が干渉計１８Ｘｂ_１，１８Ｘｂ_２から干渉計１８Ｘａ_１，１８Ｘａ_２へ切り換えられる（干渉計１８Ｘａ_１，１８Ｘａ_２，１８Ｘｂ_１，１８Ｘｂ_２の間で使用する干渉計が順次切り換えられる）。

ｉ３． ステージＳＳＴ_１の搬送中、主制御装置５０は、第２ステージ駆動系ＳＳＤｂの粗動装置３２ｂを構成する可動子３２ｂ_２を、図３５中に白抜き矢印で示されるように−Ｘ方向に駆動し、可動子３２ｂ_２に固定された固定子３４ｂ_１を、搬送中のステージＳＳＴ_１の凹部３５ｂに対向させて、位置決めする。同様に、主制御装置５０は、第１ステージ駆動系ＳＳＤａの粗動装置３２ａを構成する可動子３２ａ_２を、図３５中に黒塗り矢印で示されるように＋Ｘ方向に駆動し、可動子３２ａ_２に固定された固定子３４ａ_１を、搬送中のステージＳＳＴ_２の凹部３５ａに対向させて、位置決めする。

図３６に示されるように、ステージ搬送系３６ａによりステージＳＳＴ_１がベース部材ＢＳ（上面）の＋Ｙ端の前述の第２待機位置まで搬送されると、第２ステージ駆動系ＳＳＤｂの粗動装置３２ｂの可動子３２ｂ_２に固定された固定子３４ｂ_１がステージＳＳＴ_１の凹部３５ｂに非接触で係合する（挿入される）。同様に、ステージ搬送系３６ｂによりステージＳＳＴ_２がベース部材ＢＳ（上面）の−Ｙ端の前述の第１待機位置まで搬送されると、第１ステージ駆動系ＳＳＤａの粗動装置３２ａの可動子３２ａ_２に固定された固定子３４ａ_１がステージＳＳＴ_２の凹部３５ａに非接触で係合する（挿入される）。

ｉ４． 固定子３４ｂ_１がステージＳＳＴ_１の凹部３５ｂに係合後、主制御装置５０は、固定子３４ｂ_１とステージＳＳＴ_１に設けられた可動子３４ｂ_２とを拘束する。これにより、第２ステージ駆動系ＳＳＤｂの微動装置３４ｂが構成される。同様に、固定子３４ａ_１がステージＳＳＴ_２の凹部３５ａに係合後、主制御装置５０は、固定子３４ａ_１とステージＳＳＴ_２に設けられた可動子３４ａ_２とを拘束する。これにより、第１ステージ駆動系ＳＳＤａの微動装置３４ａが構成される。

ｉ５． その後、主制御装置５０は、スライダ３６ａ_２を図３６中に黒塗り矢印で示されるように−Ｙ方向に駆動して、元の位置に戻すとともに、スライダ３６ｂ_２を図３６中に白抜き矢印で示されるように＋Ｙ方向に駆動して、元の位置に戻す。

これにより、ステージＳＳＴ_１は、第２ステージ駆動系ＳＳＤｂにより第２走査領域ＡＳ_２内で駆動可能な状態になり、ステージＳＳＴ_２は、第１ステージ駆動系ＳＳＤａにより第１走査領域ＡＳ_１内で駆動可能な状態になる。

ｊ． また、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２の入れ替え（搬送）と並行して、主制御装置５０は、シート搬送系４０ａを制御して、シートＳａを図３５中に黒塗り矢印で示される方向（＋Ｘ方向）に引き戻し、シート搬送系４０ｂを制御して、シートＳｂを図３５中に白抜き矢印で示される方向（−Ｘ方向）に引き戻す。

ｋ． さらに、主制御装置５０は、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２の入れ替えと並行して、マスクステージＭＳＴａ，ＭＳＴｂをそれぞれの走査開始位置（加速開始位置）へ高速で戻す。

ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２の入れ替えとシートＳａ，Ｓｂの引き戻しが完了すると、図３７に示されるように、ステージＳＳＴ_１が第２走査領域ＡＳ_２内の第２待機位置にて待機し、待機中のステージＳＳＴ_１上に次の区画領域ＳＡｂ_ｉ＋１を含むシートＳｂの中央部が位置合わせされ、且つステージＳＳＴ_２が第１走査領域ＡＳ_１内の第１待機位置にて待機し、待機中のステージＳＳＴ_２上に次の区画領域ＳＡａ_ｉ＋１を含むシートＳａの中央部が位置合わせされる。この状態は、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２が入れ替わり、シートＳａ，Ｓｂが１区画領域分送られたことを除いて、図２８に示された状態と同じである。

ステージ入れ替えが終了すると、主制御装置５０は、先と同様に、ステージＳＳＴ_１に替えてステージＳＳＴ_２を用いてシートＳａの区画領域ＳＡａ_ｉ＋１に対する露光を開始するとともに、ステージＳＳＴ_２に替えてステージＳＳＴ_１を用いてシートＳｂの区画領域ＳＡｂ_ｉ＋１に対する露光を開始する。以降同様に、主制御装置５０は、上述のｆ．〜ｋ．の手順を、繰り返し、シートＳａ，Ｓｂ上の全ての区画領域をステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２を交互に使用して露光する。

以上詳細に説明したように、本第２の実施形態の露光装置１０００によると、ステージＳＳＴ_１が、前述の第１待機位置でシートＳａの区画領域ＳＡａ_ｉに対応する裏面部分をシートホルダＳＨ_１の保持面に吸着して、シートＳａの送り方向（−Ｘ方向）に所定ストロークで移動するのと並行して、ステージＳＳＴ_２が、前述の第２待機位置でシートＳｂの区画領域ＳＡｂ_ｉに対応する裏面部分をシートホルダＳＨ_１の保持面に吸着して、シートＳｂの送り方向（＋Ｘ方向）に所定ストロークで移動する。このため、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２のシートＳａ、Ｓｂの送り方向への移動の際に、マスクＭａ，Ｍｂのパターン領域にそれぞれ形成されたパターンの一部に対応する照明光ＩＬａ_１〜ＩＬａ_５が投影光学系ＰＬａ_１〜ＰＬａ_５を介してその表面にレジストが塗布されたシートＳに照射されることで、シートＳａの区画領域ＳＡａ_ｉ、及びシートＳｂの区画領域ＳＡｂ_ｉがほぼ同時に露光され、それぞれパターンが形成される。従って、並行処理による高スループットのシートの露光（パターンの形成）が可能である。

なお、上記第２の実施形態において、第１ステージ駆動系ＳＳＤａ、第２ステージ駆動系ＳＳＤｂ、及びステージ搬送系３６ａ，３６ｂに代えて、第１の実施形態と同様の平面モータを設け、該平面モータを用いて、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２を、ベース部材ＢＳ上面に沿ってＸＹ二次元平面内で自在駆動しても良い。

反対に、上記第１の実施形態において、平面モータに代えて、上記第２の実施形態と同様に、第１ステージ駆動系ＳＳＤａ、第２ステージ駆動系ＳＳＤｂ、及びステージ搬送系３６ａ，３６ｂを設け、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２を、ベース部材ＢＳ上で駆動しても良い。

なお、上記各実施形態の露光装置では、ステージ（テーブル）の上面に、Ｚ軸方向に微小駆動可能な補助シートホルダを設けたが、これに代えて、あるいはこれとともに、シートホルダ（ＳＨ_１）をＺ軸方向に微小駆動可能に構成することもできる。これにより、シートを仮保持した補助シートホルダとシートホルダとをＺ軸方向に相対的に駆動して、ステージ（シートホルダ）上にシートを着脱することも可能となる。また、上記各実施形態では、シート搬送系４０，４０ａ，４０ｂが備える搬送ローラ部をＺ軸方向に昇降可能に構成することもできる。これにより、シートを張る搬送ローラ部を昇降させて、ステージ（シートホルダ）上にシートを着脱することも可能となる。

なお、上記各実施形態では、既に複数の区画領域のそれぞれにパターンが形成されたシートを露光対象として、露光装置により、第２層以降の露光を行う場合について例示したが、これに限らず、未露光のシートＳを露光対象として、上記各実施形態の露光装置により、第１層の露光を行うことも勿論可能である。

また、上記各実施形態では、ステージＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２の位置計測系として干渉計システム１８ａ及び１８ｂを採用したが、これらに代えてエンコーダ（又は複数のエンコーダから構成されるエンコーダシステム）を採用しても良い。あるいは、干渉計システム１８ａ及び１８ｂとエンコーダとを併用しても良い。また、マスクステージの位置計測系として干渉計システムを採用したが、これに代えてエンコーダ（又は複数のエンコーダから構成されるエンコーダシステム）を採用しても良い。あるいは、干渉計システムとエンコーダとを併用しても良い。

また、上記各実施形態の露光装置１００，１０００では、等倍マルチレンズタイプの投影光学系が用いられたが、これに限らず、例えば米国特許出願公開第２００８／０１６５３３４号明細書等に開示されている拡大マルチレンズタイプの投影光学系を用いることも可能である。また、投影光学系は、マルチレンズタイプに限られないことは勿論である。また、投影光学系は、等倍系、拡大系に限らず、縮小系であっても良いし、反射屈折系に限らず、屈折系、反射系でも良く、その投影像は正立像、倒立像のいずれでも良い。

また、露光装置１００の光源として、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）等の輝線を発する超高圧水銀ランプのみならず、固体レーザ（例えばＹＡＧレーザの３倍高調波：波長３５５ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、Ｆ₂レーザ（１５７ｎｍ）を用いることもできる。

また、上記各実施形態では、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）が形成された光透過型マスクを用い、該マスクのパターンを投影光学系を介してシート上に投影する場合について例示した。しかし、これに限らず、マスクに代えて、所定方向へ進行する光の振幅（強度）、位相あるいは偏光の状態を空間的に変調する素子である空間光変調器（ＳＬＭ：Spatial Light Modulator）、例えば非発光型画像表示素子、例えばＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）、反射型液晶表示素子、電気泳動ディスプレイ（ＥＰＤ：Electro Phonetic Display）、電子ペーパー（または電子インク）、光回折型ライトバルブ（Grating Light Valve）等を用いて、パターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（可変成形マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いても良い。かかる電子マスクについては例えば米国特許第６，７７８，２５７号明細書に開示されている。また、透過型液晶表示素子（ＬＣＤ：Liquid Crystal Display）、エレクトロクロミックディスプレイ（ＥＣＤ）等の透過型空間光変調器を用いる電子マスクを用いても良い。例えば、ＤＭＤ等の電子マスクを用いる場合、シート材上に形成すべきパターンに対応するエネルギビームが電子マスクから投影光学系を介してシート材上に投射され、そのパターンに対応する像がシート材上に形成される。この場合において、投影光学系を用いない場合には、電子マスクにより、上記パターンに対応するエネルギビームがシート上に照射され、そのシート上にパターンが形成される。

露光装置の用途としては液晶表示素子用の露光装置に限定されることなく、例えば、有機ＥＬ表示素子としてのフレキシブルディスプレイ、及び電子ペーパー、並びにプリント配線基板などを製造するための露光装置にも広く適用できる。

また、シート上にパターンを形成する装置は、前述の露光装置（リソグラフィシステム）に限られず、例えばインクジェット方式にてシート上にパターンを形成する装置にも本発明を応用することができる。この場合、上述の複数の投影光学系ＰＬ_１〜ＰＬ_５をＹ軸方向に沿って配列する代わりに、複数（もしくは大型の１つの）インクジェット用ヘッドをＹ軸方向に沿って配置すると良い。

《デバイス製造方法》
上記各実施形態の露光装置を用いてシート上に所定のパターンを形成することによって、電子デバイス、一例として液晶表示素子を製造することができる。

[パターン形成工程]
まず、上記各実施形態の露光装置により、シート上に形成すべきパターンに対応する像が投影光学系を介してレジストが塗布されたシート上に順次形成する、いわゆる光リソグラフィ工程が実行される。この光リソグラフィ工程によって、シート上には多数の電極等を含む所定パターンが形成される。その後、露光されたシートは、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程等の各工程を経ることによって、シート上に所定のパターンが形成される。

[カラーフィルタ形成工程]
次に、Ｒ（Red）、Ｇ（Green）、Ｂ（Blue）に対応した３つのドットの組がマトリックス状に多数配列されたカラーフィルタ、又はＲ、Ｇ、Ｂの３本のストライプのフィルタの組が複数水平走査線方向に配列されたカラーフィルタを形成する。

[セル組み立て工程]
カラーフィルタ形成工程の後に、パターン形成工程にて得られた所定パターンを有するシート、及びカラーフィルタ形成工程にて得られたカラーフィルタ等を用いて液晶セルを組み立てる、セル組み立て工程が実行される。セル組み立て工程では、例えば、パターン形成工程にて得られた所定パターンを有するシートとカラーフィルタ形成工程にて得られたカラーフィルタとの間に液晶を注入して、液晶パネル（液晶セル）を製造する。

[モジュール組立工程]
その後、組み立てられた液晶セルの表示動作を行わせる電気回路、バックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。従って、このマイクロデバイスの製造方法のパターン形成工程においては、所望の線幅のパターン像を所望の位置に精度良く形成することができ、結果的に液晶表示素子を歩留り良く製造することができる。

また、上記各実施形態における露光装置及び露光方法は、フレキシブルディスプレイをはじめとするフレキシブルな電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するのに適している。例えば、前述した第１の実施形態において、シートの長尺方向に関して、ローラ４０_１と露光装置１００との間にシートＳの表面にレジストを塗布するレジスト塗布装置等、露光装置１００と巻き取りローラ４０_２との間にパターンが形成されたシートＳを現像する現像装置を配置し、電子デバイスを製造する製造ラインを構築することも可能である。

なお、一般には上述の実施形態の露光装置及び露光方法を用いて、シートＳにパターンを形成することと、パターンが形成されたシートＳをそのパターンに基づいて処理することとを経て、少なくともシートＳの一部を含む電子デバイスを製造することができる。ここで、形成されたパターンに基づいてシートＳを処理することには、その形成されたパターンに基づいてシートＳを現像すること、エッチングすること、又は印刷すること等が適宜適用可能である。また、印刷することとして、その形成されたパターンに基づいて、例えば導電性インク等の所定材料をシートＳに塗布すること等が適用可能である。なお、この印刷することとして、機能性材料（例えば、紫外線の照射によって材料の撥水性、親水性又は疎水性等の性質が変化するもの）の層をシートＳに予め形成し、この機能性材料の層に露光パターンを形成し、この形成した露光パターンに対応して導電性インク等の材料をシートＳに塗布すること等が適用可能である。

本発明の露光装置及び露光方法は、長尺シート上にパターンを形成するのに適している。また、本発明のデバイス製造方法は、電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するのに適している。

１８ａ…ステージ干渉計システム（第１ステージ干渉計システム）、１８ｂ…補助干渉計システム（第２ステージ干渉計システム）、３０…平面モータ、３２ａ，３２ｂ…粗動装置、３２ａ_１，３２ｂ_１…固定子、３２ａ_２，３２ｂ_２…可動子、３４ａ，３４ｂ…微動装置、３４ａ_１，３４ｂ_１…固定子、３４ａ_２，３４ｂ_２…可動子、３６ａ，３６ｂ…ステージ搬送系、４０，４０ａ，４０ｂ…シート搬送装置、４１_１〜４４_１…圧接ローラ、４１_２〜４４_２…駆動ローラ、５０…主制御装置、１００，１０００…露光装置、ＩＬ_１〜ＩＬ_５…照明光、Ｓ，Ｓａ，Ｓｂ…シート、ＳＡ_ｉ−１，ＳＡ_ｉ，ＳＡａ_ｉ，ＳＡｂ_ｉ，ＳＡ_ｉ＋１…区画領域、ＳＨ_１…シートホルダ、ＳＳＴ_１，ＳＳＴ_２…ステージ、ＳＳＤ…ステージ駆動系、ＳＳＤａ…第１ステージ駆動系、ＳＳＤｂ…第２ステージ駆動系、ＰＬ，ＰＬａ，ＰＬｂ（ＰＬ_１〜ＰＬ_５，ＰＬａ_１〜ＰＬａ_５，ＰＬｂ_１〜ＰＬｂ_５）…投影光学系、ＡＬ_１〜ＡＬ_１２，ＡＬａ_１〜ＡＬａ_１２，ＡＬｂ_１〜ＡＬｂ_１２…アライメント系、ＬＣ，ＬＣａ，ＬＣｂ…レンズコントローラ。

Claims (40)

1. 所定のパターンに対応するエネルギビームを長尺のシート材に照射しつつ前記シート材を長尺方向に平行な第１軸に沿って走査移動させる走査露光により、前記シート材の表面の複数の領域に前記パターンを形成するパターン形成装置であって、
   前記シート材の裏面部分を吸着可能な基準面を有し、前記第１軸を含む前記基準面に平行な２次元平面内で移動可能な第１及び第２可動ステージを備え、
   前記第１可動ステージは、所定の吸着位置で前記シート材の第１領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着して、前記第１軸に平行な方向に所定ストロークで移動し、
   前記第２可動ステージは、前記所定の吸着位置に前記２次元平面内で移動して、前記シート材の第２領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着するパターン形成装置。
2. 前記第２可動ステージは、前記第２領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着して前記第１軸に平行な方向に前記所定ストロークで移動し、
   前記第１可動ステージは、前記所定の吸着位置に前記２次元平面内で移動して、前記シート材の第３領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着する請求項１に記載のパターン形成装置。
3. 前記第１可動ステージの前記第１軸に平行な方向の移動動作と、前記所定の吸着位置に向かっての前記第２可動ステージの移動動作とは、少なくとも一部並行して行われる請求項１又は２に記載のパターン形成装置。
4. 前記第１及び第２可動ステージは、前記所定の吸着位置で前記シート材を吸着して前記第１軸に平行な方向に移動する移動動作後、前記シート材の吸着を解除する請求項１〜３のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
5. 前記第１及び第２可動ステージは、前記移動動作時と異なる経路を辿って、前記所定の吸着位置に向かって移動する請求項４に記載のパターン形成装置。
6. 前記第１及び第２可動ステージを、前記２次元平面内で駆動する平面モータをさらに備える請求項１〜５のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
7. 前記第１及び第２可動ステージのそれぞれを前記異なる経路に沿って搬送する搬送装置をさらに備える請求項５に記載のパターン形成装置。
8. 前記第１及び第２可動ステージのそれぞれを前記第１軸に平行な方向に所定ストロークで移動する際に駆動する駆動装置をさらに備える請求項１〜５、７のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
9. 前記駆動装置は、前記第１及び第２可動ステージのそれぞれを前記２次元平面に平行な方向に微小駆動する第１駆動装置と、該駆動装置を前記第１軸に平行な方向に駆動する第２駆動装置と、を含む請求項８に記載のパターン形成装置。
10. 前記第１及び第２可動ステージのそれぞれは、前記第１駆動装置の固定子を介して、前記第２駆動装置に着脱可能であり、
    前記第１駆動装置は、前記第１及び第２可動ステージのそれぞれに設けられた可動子と、前記固定子とによって構成される請求項９に記載のパターン形成装置。
11. 前記第１及び第２可動ステージは、前記２次元平面に平行なガイド面上に浮上支持される請求項１〜１０のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
12. 前記シート材を前記第１軸に平行な方向の一側から他側に送る送り装置をさらに備える請求項１〜１１のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
13. 前記送り装置は、前記シート材を挟持可能な第1の状態と、前記シート材の挟持を解除可能な第２の状態とが設定可能で、前記第１の状態で前記二次元平面内で前記第1軸に垂直な第２軸と平行な軸回りに互いに逆向きに回転する駆動ローラと圧接ローラとを含む請求項１２に記載のパターン形成装置。
14. 前記パターンに対応するエネルギビームを前記シート材に投射して、前記シート材上に前記パターンに対応する像を形成する投影光学系をさらに備える請求項１〜１３のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
15. 前記第１及び第２可動ステージの前記２次元平面内の位置情報を計測する計測系と；
    前記計測系の計測結果に基づいて前記第１及び第２可動ステージを駆動する制御装置と；をさらに備える請求項１４に記載のパターン形成装置。
16. 前記シート材上の複数のマークを検出するマーク検出系と；
    前記投影光学系の光学特性を調整する調整装置と；をさらに備え、
    前記制御装置は、前記第１可動ステージが、前記シート材の前記所定領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着した状態で、前記走査露光に先立って前記マーク検出系を用いて前記シート材上の前記所定領域に付設された複数の位置合わせマークの少なくとも一部を検出し、該検出結果とその検出時の前記計測系の計測結果とに基づいて、前記調整装置及び前記第１可動ステージの少なくとも一方を介して前記像の形成状態を調整する請求項１５に記載のパターン形成装置。
17. 前記シート材は２つ用意され、
    前記２つのシート材の一方を、前記第１軸に平行な方向の一側から他側に送る第１の送り装置と；
    前記２つのシート材の他方を、前記第１軸に平行な方向の他側から一側に送る第２の送り装置と；をさらに備え、
    前記第１可動ステージが、前記所定の吸着位置で前記一方のシート材の前記所定領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着して、前記第１軸に平行な方向の一側から他側に所定ストロークで移動するのと並行して、前記第２可動ステージが、別の吸着位置で前記他方のシート材の所定領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着して、前記第１軸に平行な方向の他側から一側に所定ストロークで移動し、
    前記第１軸に平行な方向の移動の後、前記第２可動ステージが、前記所定の吸着位置に前記２次元平面内で移動するのと並行して、前記第１可動ステージが、前記別の吸着位置に前記２次元平面内で移動する請求項１〜１１のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
18. 所定のパターンに対応するエネルギビームを長尺のシート材に照射して前記シート材の表面の複数の領域に前記パターンを形成するパターン形成装置であって、
    長尺の第１のシート材を、２次元平面に沿って該２次元平面内の第１軸に平行な方向の一側から他側に送る第１の送り装置と；
    前記２次元平面内で前記第１軸に交差する第２軸に平行な方向に関して、前記第１のシート材から離れた位置で、長尺の第２のシート材を、前記第１軸に平行な方向の他側から一側に送る第２の送り装置と；
    前記第１及び第２のシート材の裏面部分を吸着可能な基準面を有し、前記第１軸を含む前記基準面に平行な２次元平面内で移動可能な第１及び第２可動ステージと；を備え、
    前記第１可動ステージが、所定の第１吸着位置で前記第１のシート材の第１領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着して、前記第１のシート材の送り方向に所定ストロークで移動するのと並行して、前記第２可動ステージが、所定の第２吸着位置で前記第２のシート材の第２領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着して、前記第２のシート材の送り方向に所定ストロークで移動するパターン形成装置。
19. 前記第２可動ステージが、前記第２のシート材の送り方向への移動後に、前記第１吸着位置に前記２次元平面内で移動するのと並行して、前記第１可動ステージが、前記第２吸着位置に前記２次元平面内で移動する請求項１８に記載のパターン形成装置。
20. 前記第１可動ステージは、前記第１のシート材の送り方向に移動した後、前記第１のシート材の吸着を解除し、前記第２可動ステージは、前記第２のシート材の送り方向に移動した後、前記第２のシート材の吸着を解除する請求項１８又は１９に記載のパターン形成装置。
21. 前記第１及び第２可動ステージは、前記第１のシート材の送り方向に所定ストロークで移動する第１経路と、前記第２のシート材の送り方向に所定ストロークで移動する第２経路と、を含む閉じた経路を周回する請求項１８〜２０のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
22. 前記第１及び第２可動ステージのそれぞれを、前記２次元平面内で駆動する平面モータをさらに備える請求項１８〜２１のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
23. 前記第１及び第２可動ステージのそれぞれを前記第１及び第２経路上で駆動する駆動装置をさらに備える請求項２１に記載のパターン形成装置。
24. 前記駆動装置は、前記第１及び第２可動ステージのそれぞれを前記２次元平面に平行な方向に微小駆動する２つの第１駆動装置と、該２つの第１駆動装置のそれぞれを前記第１、及び第２経路のそれぞれに沿って駆動する２つの第２駆動装置と、を含む請求項２３に記載のパターン形成装置。
25. 前記第１及び第２可動ステージのそれぞれは、前記２つの第１駆動装置それぞれの固定子を介して、前記２つの第２駆動装置に着脱可能であり、
    前記２つの第１駆動装置は、前記第１及び第２可動ステージのそれぞれに設けられた可動子と、前記固定子とを含む請求項２４に記載のパターン形成装置。
26. 前記第１及び第２可動ステージのそれぞれを、前記第１及び第２経路間で搬送する搬送装置をさらに備える請求項２３〜２５のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
27. 前記第１及び第２可動ステージは、前記２次元平面に平行なガイド面上に浮上支持される請求項１８〜２６のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
28. 前記第１及び第２の送り装置は、それぞれ、前記第１及び第２のシート材のそれぞれを挟持する第１の状態と、前記第１及び第２のシート材のそれぞれの前記挟持状態を解除する第２の状態とが設定可能で、前記第1の状態では、前記二次元平面内で前記第１軸に垂直な第２軸と平行な軸回りに互いに逆向きに回転する駆動ローラと圧接ローラとを含む請求項１８〜２７のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
29. 前記第１及び第２可動ステージの前記２次元平面内の位置情報を計測する計測系と；
    前記計測系の計測結果に基づいて前記第１及び第２可動ステージを駆動する制御装置と；をさらに備える請求項１８〜２８のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
30. 前記パターンに対応するエネルギビームを前記第１及び第２のシート材のそれぞれに投射して、前記第１及び第２のシート材それぞれの上に前記パターンに対応する像を形成する第１及び第２の投影光学系をさらに備える請求項１８〜２９のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
31. 第１及び第２のシート材に形成された複数のマークを、それぞれ検出する第１、第２のマーク検出系と；
    前記第１及び第２の投影光学系の光学特性を個別に調整する調整装置と；をさらに備え、
    前記制御装置は、
    前記第１可動ステージが、前記第１のシート材の前記第１領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着した状態で、前記第１マーク検出系を用いて前記第１領域に付設された複数の位置合わせマークの少なくとも一部を検出し、該検出結果とその検出時の前記計測系の計測結果とに基づいて、前記調整装置及び前記第１可動ステージの少なくとも一方を介して前記第１のシート材上の前記像の形成状態を調整し、
    前記第２可動ステージが、前記第２のシート材の前記第２領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着した状態で、前記第２マーク検出系を用いて前記第２領域に付設された複数の位置合わせマークの少なくとも一部を検出し、該検出結果とその検出時の前記計測系の計測結果とに基づいて、前記調整装置及び前記第２可動ステージの少なくとも一方を介して前記第２のシート材上の前記像の形成状態を調整する請求項３０に記載のパターン形成装置。
32. 所定のパターンに対応するエネルギビームを長尺のシート材に照射しつつ前記シート材を長尺方向に平行な第１軸に沿って走査移動させる走査露光により、前記シート材の表面の複数の領域に前記パターンを形成するパターン形成方法であって、
    第１可動ステージが、所定の吸着位置で前記シート材の第１領域に対応する裏面部分を基準面に吸着して、前記第１軸に平行な方向に所定ストロークで移動し、
    第２可動ステージが、前記所定の吸着位置に前記２次元平面内で移動して、前記シート材の第２領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着するパターン形成方法。
33. 前記第２可動ステージは、前記第２領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着して前記第１軸に平行な方向に前記所定ストロークで移動し、
    前記第１可動ステージは、前記所定の吸着位置に前記２次元平面内で移動して、前記シート材の第３領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着する請求項３２に記載のパターン形成方法。
34. 前記第１可動ステージの前記第１軸に平行な方向の移動動作と、前記所定の吸着位置に向かっての前記第２可動ステージの移動動作とは、少なくとも一部並行して行われる請求項３２又は３３に記載のパターン形成方法。
35. 前記所定の吸着位置で前記シート材を吸着して前記第１軸に平行な方向に移動する移動動作後、前記第１及び第２可動ステージによる前記シート材の吸着が解除される請求項３２〜３４のいずれか一項に記載のパターン形成方法。
36. 前記第１及び第２可動ステージは、前記移動動作時と異なる経路を辿って、前記所定の吸着位置に向かって移動する請求項３５に記載のパターン形成方法。
37. 前記シート材は２つ用意され、
    前記第１可動ステージが、前記所定の吸着位置で前記一方のシート材の前記第１領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着して、前記第１軸に平行な方向の一側から他側に所定ストロークで移動するのと並行して、前記第２可動ステージが、別の吸着位置で前記他方のシート材の所定領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着して、前記第１軸に平行な方向の他側から一側に所定ストロークで移動し、
    しかる後、前記第２可動ステージが、前記所定の吸着位置に前記２次元平面内で移動するのと並行して、前記第１可動ステージが、前記別の吸着位置に前記２次元平面内で移動する請求項３２〜３６のいずれか一項に記載のパターン形成方法。
38. 前記第１及び第２可動ステージの前記２次元平面内の位置情報を計測し、該計測結果に基づいて前記第１及び第２可動ステージを駆動する請求項３７に記載のパターン形成方法。
39. 前記２つのシート材のそれぞれの上には、前記パターンに対応する像が、第１、第２の投影光学系をそれぞれ介して形成され、
    前記第１及び第２可動ステージの一方が、前記２つのシート材の一方の前記所定領域に対応する裏面部分を前記基準面に吸着した状態で、前記走査露光に先立って前記一方のシート材上の前記所定領域に付設された複数の位置合わせマークの少なくとも一部を検出し、該検出結果とその検出時の前記一方の可動ステージの位置情報とに基づいて、前記一方のシート材に対応する投影光学系の光学特性及び前記一方の可動ステージの少なくとも一方を調整することで、前記一方のシート材上の前記像の形成状態を調整する請求項３７又は３８に記載のパターン形成方法。
40. 請求項３２〜３９のいずれか一項に記載のパターン形成方法を用いて長尺のシート材上にパターンを形成することと；
    パターンが形成された前記シート材に処理を施すことと；
    を含むデバイス製造方法。

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