JP5752088B2 - 露光装置 - Google Patents
露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5752088B2 JP5752088B2 JP2012132235A JP2012132235A JP5752088B2 JP 5752088 B2 JP5752088 B2 JP 5752088B2 JP 2012132235 A JP2012132235 A JP 2012132235A JP 2012132235 A JP2012132235 A JP 2012132235A JP 5752088 B2 JP5752088 B2 JP 5752088B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wiring board
- printed wiring
- exposure
- unit
- exposure unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/201—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by an oblique exposure; characterised by the use of plural sources; characterised by the rotation of the optical device; characterised by a relative movement of the optical device, the light source, the sensitive system or the mask
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
- G03F7/2053—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser
- G03F7/2055—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser for the production of printing plates; Exposure of liquid photohardening compositions
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
この発明は、プリント配線基板の露光装置に関する。
基板両面に回路が形成されるプリント配線基板を製造するための露光装置では、２台の露光装置を配列し、該露光装置間に基板の反転装置を設けて、基板両面の露光を行っている。また露光装置から反転装置へプリント配線基板をコンベアにより搬送する際や、反転装置による反転の際にプリント配線基板が基準位置からずれるため、この位置補正を行うために、反転装置の出口側にプリアライメント装置を設けている。
そのため、このような露光装置では、装置が複雑化し、ラインが長くなり、コスト上昇や製造時間の増長、生産性の低下など招く問題があった。
そのため、従来から種々の試みがなされており、例えば下掲特許文献１においては、プリント配線基板を固定して反転させることにより、位置ずれを防止して反転装置の出口側のプリアライメント装置を除去した提案がなされている。
そのため、このような露光装置では、装置が複雑化し、ラインが長くなり、コスト上昇や製造時間の増長、生産性の低下など招く問題があった。
そのため、従来から種々の試みがなされており、例えば下掲特許文献１においては、プリント配線基板を固定して反転させることにより、位置ずれを防止して反転装置の出口側のプリアライメント装置を除去した提案がなされている。
しかし、上記した従来の構成においては、プリアライメント装置の除去は可能であるが、露光装置から反転装置へ、また反転装置から露光装置へのプリント配線基板の搬送をするための搬送コンベアなどの搬送装置が必要であり、装置全体が依然として複雑である問題がある。
本発明は上記従来技術の問題を解決することを目的とする。
本発明は上記従来技術の問題を解決することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明のプリント配線基板の露光装置は、プリント配線基板の一面側を露光する一面側露光部と、該プリント配線基板の他面側を露光する他面側露光部と、前記一面側露光部と前記他面側露光部との間に設けられ、前記一面側露光部又は他面側露光部の一方の露光部で露光を終了したプリント配線基板を前記一方の露光部ではない他方の露光部で露光するために受け渡しを行う受け渡し部と、前記プリント配線基板の一面側を吸着固定し、前記一面側露光部と前記受け渡し部間においてプリント配線基板を移送する一面側吸着ハンドと、前記プリント配線基板の他面側を吸着固定し、前記他面側露光部と前記受け渡し部間においてプリント配線基板を移送する他面側吸着ハンドと、前記一面側吸着ハンド又は他面側吸着ハンドの中の少なくとも１つに装着され、前記吸着ハンドを回転させることにより、ほぼ水平に配置されたプリント配線基板の上下を１８０度反転させるためのハンド回転機構と、を備え、前記受け渡し部において、前記ハンド回転機構により吸着ハンドを回転させてプリント配線基板を反転し、前記一面側吸着ハンドと他面側吸着ハンド間でプリント配線基板の受け渡しを行う、ことを特徴とする。
また本発明においては、前記一面側露光部と他面側露光部の受け渡し部側と反対側に設けられ、プリント配線基板を該露光部から搬入或いは搬出する搬入搬出装置と、該搬入搬出装置に設けられた、プリント配線基板のプリアライメント装置と、を更に備え、前記一面側露光部から他面側露光部へとプリント配線基板を流す工程と、反対に他面面側露光部から一面側露光部へとプリント配線基板を流す工程の両方を行える、ように構成することも可能である。
また本発明においては、前記一面側露光部と他面側露光部の受け渡し部側と反対側に設けられ、プリント配線基板を該露光部から搬入或いは搬出する搬入搬出装置と、該搬入搬出装置に設けられた、プリント配線基板のプリアライメント装置と、を更に備え、前記一面側露光部から他面側露光部へとプリント配線基板を流す工程と、反対に他面面側露光部から一面側露光部へとプリント配線基板を流す工程の両方を行える、ように構成することも可能である。
本発明の露光装置によれば、従来の反転装置を用いず、受け渡し部において吸着ハンドにより直接プリント配線基板の受け渡しを行うため、プリント配線基板の基準位置のずれが生ずることがなく、そのため下流側の露光部の入口側にプリアライメント部を設ける必要がない。また、プリント配線基板の反転は吸着ハンドに設けられたハンド回転機構で行うため、反転装置も不要である。更に、一方の露光部から他方の露光部までは、すべて吸着ハンドによりプリント配線基板の移送が行われるため、この間に別途搬送装置を設ける必要がない、などの効果がある。また、生産ラインに対する柔軟な対応が可能になり、改造コストなども不要にできる、効果がある。
以下本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図１は本発明のプリント配線基板を製造するための露光装置の平面図、図２は立面図である。
この露光装置は、一面側の露光を行う一面側露光部１、受け渡し部２、他面側の露光を行う他面側露光部３を有し、これらが順番に直線状にほぼ等間隔に配設されている。露光部１は搬入搬出部１０を、露光部３は搬入搬出部３０をそれぞれ備えており、前工程からプリント配線基板９９を搬入し或いは次工程へとプリント配線基板９９を搬出する。
即ち前工程でフォトレジストを施されたプリント配線基板９９は搬入搬出部１０から露光部１、受け渡し部２、露光部３を経由し、一面側と他面側の表裏に露光され搬入搬出部３０から次工程に送られる。また、後述するように、逆の流れにも対応可能であり、その場合搬入搬出部３０から露光部３、受け渡し部２、露光部１を経て、搬入搬出部１０から次工程に送られる。
図１は本発明のプリント配線基板を製造するための露光装置の平面図、図２は立面図である。
この露光装置は、一面側の露光を行う一面側露光部１、受け渡し部２、他面側の露光を行う他面側露光部３を有し、これらが順番に直線状にほぼ等間隔に配設されている。露光部１は搬入搬出部１０を、露光部３は搬入搬出部３０をそれぞれ備えており、前工程からプリント配線基板９９を搬入し或いは次工程へとプリント配線基板９９を搬出する。
即ち前工程でフォトレジストを施されたプリント配線基板９９は搬入搬出部１０から露光部１、受け渡し部２、露光部３を経由し、一面側と他面側の表裏に露光され搬入搬出部３０から次工程に送られる。また、後述するように、逆の流れにも対応可能であり、その場合搬入搬出部３０から露光部３、受け渡し部２、露光部１を経て、搬入搬出部１０から次工程に送られる。
露光部１、３は、それぞれ基台１５、基台３５を備え、ここにプリント配線基板９９を載置し、位置合せ装置（図示せず）により位置合わせを行った後に、露光光源（図示せず）から露光光を発して、マスク（図示せず）に描かれたパターンをプリント配線基板９９上に焼き付けるように構成されている。
露光部１と露光部３の間には受け渡し部２が設定されており、ここでプリント配線基板９９の反転と受け渡しを行うようになっている。
この露光装置には、プリント配線基板９９の一面側を吸着し搬送する一面側吸着ハンド５と他面側を吸着し搬送する他面側吸着ハンド６が設けられている。吸着ハンド５は、搬入搬出部１０、露光部１、受け渡し部２にわたり、Ｘ方向に延びる走行レール５０を備えており、プリント配線基板９９を搬入搬出部１０から露光部１へ、また露光部１から受け渡し部２に搬送できるようになっている。また、逆方向に受け渡し部２から露光部１へ、露光部１から搬入搬出部１０に搬送できるように構成されている。
吸着ハンド６は、搬入搬出部３０、露光部３、受け渡し部２にわたり、Ｘ方向に延びる走行レール６０を備えており、プリント配線基板９９を受け渡し部２から露光部３へ、露光部３から搬入搬出部３０に搬送できるようになっている。また、逆方向に搬入搬出部３０から露光部３へ、露光部３から受け渡し部２に搬送できる搬送できるように構成されている。
なお、この実施形態では走行レール６０は走行レール５０の上方に配置されており、受け渡し部２において、後記するようにプリント配線基板９９が回動する際に接触しないだけの間隔をあけてある。
なお、この実施形態では走行レール６０は走行レール５０の上方に配置されており、受け渡し部２において、後記するようにプリント配線基板９９が回動する際に接触しないだけの間隔をあけてある。
図３に示すように、吸着ハンド５は走行レール５０を走行する走行基台５１と該走行基台５１から上方向に延出して設けられたＺ軸５２を備えている。該Ｚ軸５２には基台１５の幅方向、Ｙ方向に延出するＹ軸５３が設けられており、Ｙ軸５３はＺ軸５２上を上下方向に昇降可能に装着されている。この構成によりＹ軸５３はＺ方向上下昇降可能に且つＸ方向に走行可能に構成されている。
Ｙ軸５３には吸着機構５４が装着されており、この吸着機構５４によりプリント配線基板９９を吸着固定し、プリント配線基板９９を搬送するように構成されている。
吸着機構５４は板状の矩形形状をなしており、図４に示すようにその中心線においてＹ軸５３に装着されている。
吸着機構５４は板状の矩形形状をなしており、図４に示すようにその中心線においてＹ軸５３に装着されている。
この実施形態では、吸着ハンド５にハンド回転機構７を備えており、Ｙ軸５３はハンド回転機構７の旋回モータ７０により３６０度回転可能に構成されている。この構成により吸着ハンド５はプリント配線基板９９をその中心線において１８０度回転させて反転させることが出来るように構成されている。
吸着ハンド６も同様に 図３に示すように、走行レール６０を走行する走行基台６１と該走行基台６１から上方向に延出して設けられたＺ軸６２を備えている。該Ｚ軸６２には基台３５の幅方向、Ｙ方向に延出するＹ軸６３が設けられており、Ｙ軸６３はＺ軸６２上を上下方向に昇降可能に装着されている。この構成によりＹ軸６３はＺ方向上下昇降可能に且つＸ方向に走行可能に構成されている。
Ｙ軸６３には吸着機構６４が装着されており、この吸着機構６４によりプリント配線基板９９を吸着固定し、プリント配線基板９９を搬送するように構成されている。
吸着機構６４は板状の矩形形状をなしており、図４に示すようにその中心線においてＹ軸６３に装着されている。
吸着機構６４は板状の矩形形状をなしており、図４に示すようにその中心線においてＹ軸６３に装着されている。
搬入搬出部１０はローラコンベア１１を備えており、ローラコンベア１１は前工程からのローラコンベア１１’と連続し、前工程からのプリント配線基板９９を搬入するように構成されている。また、逆にローラコンベア１１からローラコンベア１１’へプリント配線基板９９を搬出するように構成されている。
搬入搬出部３０も同様にローラコンベア３１を備えており、ローラコンベア３１は次工程からのローラコンベア３１’と連続し、次工程へプリント配線基板９９を搬出するように構成されている。また、逆にローラコンベア１１’からローラコンベア１１へプリント配線基板９９を搬入するように構成されている。
搬入搬出部３０も同様にローラコンベア３１を備えており、ローラコンベア３１は次工程からのローラコンベア３１’と連続し、次工程へプリント配線基板９９を搬出するように構成されている。また、逆にローラコンベア１１’からローラコンベア１１へプリント配線基板９９を搬入するように構成されている。
搬入搬出部１０と搬入搬出部３０はそれぞれプリアライメント装置であるアライメントプレート（図示せず）を備えており、更にアライメントプレートにはストッパ（図示せず）と移動可能なアライメントピン（図示せず）が設けられている。またアライメントプレートはプリント配線基板９９を吸着固定する吸着装置が備えられている。
アライメントプレートは昇降可能に構成され、前記ローラコンベア１１、ローラコンベア３１の下側に位置する状態と上側に位置する状態をとれるように構成されている。
そして、プリント配線基板９９をローラコンベア１１、ローラコンベア３１で受けると、アライメントプレートを上昇させてローラコンベア１１とローラコンベア３１を下に収め、ストッパによりプリント配線基板９９の進行方向位置を規制するとともにアライメントピンにより幅方向位置を調整してプリアライメントを行うように構成されている。プリアライメント後は、吸着装置によりプリント配線基板９９をプリアライメントした位置で固定するようになっている。
アライメントプレートは昇降可能に構成され、前記ローラコンベア１１、ローラコンベア３１の下側に位置する状態と上側に位置する状態をとれるように構成されている。
そして、プリント配線基板９９をローラコンベア１１、ローラコンベア３１で受けると、アライメントプレートを上昇させてローラコンベア１１とローラコンベア３１を下に収め、ストッパによりプリント配線基板９９の進行方向位置を規制するとともにアライメントピンにより幅方向位置を調整してプリアライメントを行うように構成されている。プリアライメント後は、吸着装置によりプリント配線基板９９をプリアライメントした位置で固定するようになっている。
次に動作を説明する。図１と図２において、左から右にラインが流れる場合の動作を説明する。
前工程から、ローラコンベア１１’を介しローラコンベア１１上にプリント配線基板９９が搬送されると、ここでプリアライメントされ、アライメントプレートに吸着固定される。
このプリント配線基板９９の上方に吸着ハンド５が移動し、吸着機構５４が下降してプリント配線基板９９の上面を吸着固定して露光部１に搬送し、基台１５上にプリント配線基板９９を載置し、解放し、吸着ハンド５は所定の位置に退避する。
露光部１において、プリント配線基板９９のアライメントが行われたうえ、その一面側が露光される。
前工程から、ローラコンベア１１’を介しローラコンベア１１上にプリント配線基板９９が搬送されると、ここでプリアライメントされ、アライメントプレートに吸着固定される。
このプリント配線基板９９の上方に吸着ハンド５が移動し、吸着機構５４が下降してプリント配線基板９９の上面を吸着固定して露光部１に搬送し、基台１５上にプリント配線基板９９を載置し、解放し、吸着ハンド５は所定の位置に退避する。
露光部１において、プリント配線基板９９のアライメントが行われたうえ、その一面側が露光される。
露光が終了したら、吸着機構５４により再びプリント配線基板９９の一面側を吸着し、プリント配線基板９９を受け渡し部２に搬送する。受け渡し部２において、ハンド回転機構７の旋回モータ７０を駆動し、図３に示すようにプリント配線基板９９を１８０度回転させ、プリント配線基板９９を反転する。これによりプリント配線基板９９の未露光な他面側が上方向に向く。
次いで、図２に示すように吸着ハンド６が受け渡し部２に移動し、その吸着機構６４が下降して、反転して上向きになっているプリント配線基板９９の他面側を吸着固定する。同時に吸着機構５４の固定を開放し、吸着ハンド６はプリント配線基板９９を露光部３に搬送し、プリント配線基板９９を基台３５に載置し、固定を開放して吸着ハンド６は所定の位置に退避する。プリント配線基板９９は基台３５上でアライメントされ、その他面側を露光される。
露光が終了したら、吸着機構６４によりプリント配線基板９９の他面側が吸着固定され、搬入搬出部３０へと搬送される。そして、プリント配線基板９９はローラコンベア３１からローラコンベア３１’に移送され、次工程に送られる。
露光が終了したら、吸着機構６４によりプリント配線基板９９の他面側が吸着固定され、搬入搬出部３０へと搬送される。そして、プリント配線基板９９はローラコンベア３１からローラコンベア３１’に移送され、次工程に送られる。
上記では、左から右に流れるラインの場合について説明したが、右から左へ流れるラインの動作もほぼ同様であり、この場合は搬入搬出部３０においてプリアライメントが行われる。また受け渡し部２においては、他面側の露光を終了したプリント配線基板９９が吸着ハンド６により搬送され、ここで１８０度反転した吸着機構５４によりプリント配線基板９９の下側（一面側）が吸着され、吸着機構５４が１８０度回動して元に戻ることによりプリント配線基板９９を反転させる。他の動作は上記動作の逆であるので説明を省略する。
以上説明したように、本発明の露光装置によれば、吸着ハンド５によりプリント配線基板９９の搬送、反転が行われ、これを直接吸着ハンド６に受け渡しているため、プリント配線基板９９の位置ずれが生ずることがない。また、右側から左側へのラインの場合にも、吸着ハンド６によりプリント配線基板９９の搬送が行われ、直接吸着ハンド５に受け渡し、吸着ハンド５により反転されるため、同様にプリント配線基板９９の位置ずれが生ずることがない。そのため、反転装置や反転後のプリアライメント装置の必要がなく、装置を簡略化できる。また、受け渡し部２における反転はプリント配線基板９９の中心線を軸とした反転が行えるため、受け渡し部２自体のスペースも最少のものとすることができる。
更に、露光部１と露光部３の間では、ローラコンベアなどを用いないため、発塵が抑制される。
更に、露光部１と露光部３の間では、ローラコンベアなどを用いないため、発塵が抑制される。
１：露光、２：受け渡し部、３：露光部、５：吸着ハンド、６：吸着ハンド、７：ハンド回転機構、１０：搬入搬出部、１１：ローラコンベア、１５：基台、３０：搬入搬出部、３１：ローラコンベア、３５：基台、５０：走行レール、５１：走行基台、５２：Ｚ軸、５３：Ｙ軸、５４：吸着機構、６０：走行レール、６１：走行基台、６２：Ｚ軸、６３：Ｙ軸、６４：吸着機構、７０：旋回モータ、９９：プリント配線基板。
Claims (2)
- プリント配線基板の一面側を露光する一面側露光部と、
該プリント配線基板の他面側を露光する他面側露光部と、
前記一面側露光部と前記他面側露光部との間に設けられ、前記一面側露光部又は他面側露光部の一方の露光部で露光を終了したプリント配線基板を前記一方の露光部ではない他方の露光部で露光するために受け渡しを行う受け渡し部と、
前記プリント配線基板の一面側を吸着固定し、前記一面側露光部と前記受け渡し部間においてプリント配線基板を移送する一面側吸着ハンドと、
前記プリント配線基板の他面側を吸着固定し、前記他面側露光部と前記受け渡し部間においてプリント配線基板を移送する他面側吸着ハンドと、
前記一面側吸着ハンド又は他面側吸着ハンドの中の少なくとも１つに装着され、前記吸着ハンドを回転させることにより、ほぼ水平に配置されたプリント配線基板の上下を１８０度反転させるためのハンド回転機構と、を備え、
前記受け渡し部において、前記ハンド回転機構により吸着ハンドを回転させてプリント配線基板を反転し、前記一面側吸着ハンドと他面側吸着ハンド間でプリント配線基板の受け渡しを行う、
ことを特徴とするプリント配線基板の露光装置。 - 前記一面側露光部と他面側露光部の受け渡し部側と反対側に設けられ、プリント配線基板を該露光部から搬入或いは搬出する搬入搬出装置と、
該搬入搬出装置に設けられた、プリント配線基板のプリアライメント装置と、を更に備え、
前記一面側露光部から他面側露光部へとプリント配線基板を流す工程と、反対に他面側露光部から一面側露光部へとプリント配線基板を流す工程の両方を行える、
ことを特徴とする請求項１の露光装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012132235A JP5752088B2 (ja) | 2012-06-11 | 2012-06-11 | 露光装置 |
| KR1020130017929A KR102058252B1 (ko) | 2012-06-11 | 2013-02-20 | 노광 장치 |
| TW102105950A TWI575331B (zh) | 2012-06-11 | 2013-02-21 | Exposure device |
| CN201310193949.3A CN103488052B (zh) | 2012-06-11 | 2013-05-22 | 曝光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012132235A JP5752088B2 (ja) | 2012-06-11 | 2012-06-11 | 露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013257389A JP2013257389A (ja) | 2013-12-26 |
| JP5752088B2 true JP5752088B2 (ja) | 2015-07-22 |
Family
ID=49828380
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012132235A Active JP5752088B2 (ja) | 2012-06-11 | 2012-06-11 | 露光装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5752088B2 (ja) |
| KR (1) | KR102058252B1 (ja) |
| CN (1) | CN103488052B (ja) |
| TW (1) | TWI575331B (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5906362B1 (ja) * | 2015-07-23 | 2016-04-20 | 株式会社ダイワ | 露光すべきプリント配線板の移載方法及び移載装置 |
| CN105278259A (zh) * | 2015-07-27 | 2016-01-27 | 江苏影速光电技术有限公司 | 单机双台面多工位自动pcb板曝光设备及其曝光方法 |
| JP6865609B2 (ja) * | 2017-03-26 | 2021-04-28 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 露光装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07251921A (ja) * | 1994-03-11 | 1995-10-03 | Ono Sokki Co Ltd | 反転装置及び露光システム |
| JP2002175972A (ja) * | 2000-12-08 | 2002-06-21 | Orc Mfg Co Ltd | 自動露光装置 |
| JP4922071B2 (ja) * | 2007-05-28 | 2012-04-25 | 株式会社オーク製作所 | 露光描画装置 |
| JP2009157247A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Orc Mfg Co Ltd | 露光装置 |
| US8379186B2 (en) * | 2009-07-17 | 2013-02-19 | Nikon Corporation | Pattern formation apparatus, pattern formation method, and device manufacturing method |
-
2012
- 2012-06-11 JP JP2012132235A patent/JP5752088B2/ja active Active
-
2013
- 2013-02-20 KR KR1020130017929A patent/KR102058252B1/ko active IP Right Grant
- 2013-02-21 TW TW102105950A patent/TWI575331B/zh active
- 2013-05-22 CN CN201310193949.3A patent/CN103488052B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW201351054A (zh) | 2013-12-16 |
| KR102058252B1 (ko) | 2019-12-20 |
| CN103488052B (zh) | 2017-10-24 |
| KR20130138663A (ko) | 2013-12-19 |
| TWI575331B (zh) | 2017-03-21 |
| JP2013257389A (ja) | 2013-12-26 |
| CN103488052A (zh) | 2014-01-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4896236B2 (ja) | 基板搬送装置及び基板搬送方法 | |
| JP4745040B2 (ja) | 基板搬送装置及び基板処理装置 | |
| JP2006031025A (ja) | 平板表示装置の製造システム及び製造方法 | |
| KR20100042587A (ko) | 기판 반송 처리 장치 | |
| JP5752088B2 (ja) | 露光装置 | |
| JP2010098125A (ja) | 基板搬送装置及び基板搬送方法 | |
| JP2009295950A (ja) | スキャン露光装置およびスキャン露光方法 | |
| TWI606538B (zh) | 基板處理裝置及基板處理系統 | |
| JP4638755B2 (ja) | 露光装置および露光方法 | |
| JP5165718B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| TWI626091B (zh) | 板邊清洗系統 | |
| JP2012173337A (ja) | マスク、近接スキャン露光装置及び近接スキャン露光方法 | |
| TWI395701B (zh) | 板狀構件的搬送裝置及板狀構件的搬送方法 | |
| CN110880461B (zh) | 基板处理装置 | |
| JP2004094142A (ja) | 幅広露光機 | |
| WO2013151146A1 (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
| JP3850281B2 (ja) | 基板処理システム | |
| TWI485533B (zh) | 旋轉式曝光載送設備 | |
| JP6773435B2 (ja) | 露光装置 | |
| JP2004307115A (ja) | 処理システム | |
| JP2010132460A (ja) | 板状部材の搬送装置および板状部材の搬送方法 | |
| JP2011176040A (ja) | 露光装置ユニット及びその基板交換方法 | |
| JP2011025587A (ja) | パターン形成装置 | |
| TWI607293B (zh) | Method for transferring printed wiring board to be exposed and transfer device | |
| JP2002313699A (ja) | 処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141212 |
|
| A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20150217 |
|
| A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20150224 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150324 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150327 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150519 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150519 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5752088 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |