TWI395701B - 板狀構件的搬送裝置及板狀構件的搬送方法 - Google Patents

Description

板狀構件的搬送裝置及板狀構件的搬送方法

本發明係有關用於搬送例如顯示器(display)中所使用的玻璃基板等板狀構件之板狀構件的搬送裝置及板狀構件的搬送方法。

習知的技術中，已知有一種用於搬送顯示器中所使用的玻璃基板等板狀構件之基板搬送裝置(參照例如專利文獻1)。

專利文獻1記載之技術係利用形成有複數個空氣孔的浮起區塊(block)使玻璃基板浮起，並利用吸著墊吸著浮起的玻璃基板之沿著搬送方向之下游測的背面來予以保持，一邊拉曳一邊進行搬送。

專利文獻1：日本專利公表2003-86917號公報

顯示器中所使用的玻璃基板在搬送路徑之途中，多半是一邊通過對該玻璃基板進行預定處理的處理部一邊進行搬送。就該處理部而言，係能夠舉例有，例如對玻璃基板表面(朝上之面)的周部進行曝光處理之步驟等。

一般來說，顯示器中所使用的玻璃基板非常地薄，而於上述處理部中，對玻璃基板的表面要求極佳的平坦度。

然而在前述的專利文獻1之技術中，複數個浮起區塊係沿著玻璃基板的搬送方向平行排列且沿著與搬送方向正 交之方向以預定間隔排列，換言之，在各浮起區塊間有空隙形成。

亦即，專利文獻1之技術於對玻璃基板的表面進行曝光處理的處理部中，會產生空氣未碰到玻璃基板的背面之部位，結果使玻璃基板表面出現起伏，而有無法進行高精度的曝光之問題。

此外，通常在沿矩形狀的玻璃基板的周部進行框狀之曝光處理時，大多是先對互相平行的一對框緣部進行曝光處理後，再使玻璃基板以沿著厚度方向之線為中心旋轉預定角度，再對剩下的一對框緣部進行曝光處理。亦即，在沿著矩形狀的玻璃基板的周部進行框狀之曝光處理時，需要使玻璃基板旋轉預定角度的步驟。

然而，由於在前述的專利文獻1之技術中係利用吸著墊來吸著沿著搬送方向之下游測的背面並予以保持，因此在進行使玻璃基板旋轉預定角度之步驟之前，必須使吸著墊暫時脫離玻璃基板，待進行了使玻璃基板旋轉預定角度之步驟後，再次使吸著墊吸著於玻璃基板，因而亦有無法縮短產距時間(tact time)之問題。

以上所述之問題並非僅在搬送顯示器中所使用的玻璃基板時進行曝光處理的情形才會產生，在搬送板狀構件時，當要在搬送路徑之途中進行要求板狀構件表面平坦度之處理時便會有上述問題產生。

本發明乃為了解決上述問題而研創者，其目的在於提供一種能夠在搬送路徑之途中高度地進行要求板狀構件之 表面平坦度的處理之板狀構件的搬送裝置及板狀構件的搬送方法。

此外，本發明乃為了解決上述問題而研創者，其另一目的在於提供一種在使板狀構件以沿著厚度方向之線為中心旋轉預定角度時亦能夠縮短產距時間之板狀構件的搬送裝置及板狀構件的搬送方法。

此外，本發明的板狀構件的搬送裝置係具備：維持手段，係水平地維持板狀構件；以及搬送手段，係保持前述板狀構件，並且將前述板狀構件從搬送方向上游側搬送至搬送方向下游側；該板狀構件的搬送裝置之特徵在於：前述搬送手段係具有：吸著墊，係能夠沿著前述搬送方向移動並且能夠吸著於前述板狀構件；以及支撐構件，係與前述吸著墊連動並支撐前述板狀構件。

在如上述的本發明中，即使是在為了使吸著墊移動而無法配設維持手段的區域，仍能夠藉由與吸著墊連動的支撐構件而在使板狀構件確實地受到支撐之狀態下進行搬送。

此外，本發明的板狀構件的搬送裝置中，前述支撐手段係具有藉由從多數個噴射口朝上方噴射氣體而使前述板狀構件浮起之浮起構件，且前述支撐構件係具備與前述浮起構件同等之功能的移動浮起構件。

在如上述的本發明中，藉由將支撐構件設計成移動浮起構件，而能夠在使板狀構件確實地浮起之狀態下進行搬 送。

此外，本發明的板狀構件的搬送裝置中，前述支撐構件係具備接觸於前述板狀構件並且能夠旋轉的轉動體。

在如上述的本發明中，藉由於支撐構件具備能夠旋轉的轉動體，使轉動體接觸於板狀構件，而能夠在使板狀構件確實地受到支撐之狀態下進行搬送。

此外，本發明的板狀構件的搬送裝置中，前述支撐構件係沿著前述搬送方向設置並且隔著前述吸著墊而設置於搬送方向上游側及搬送方向下游側。

在如上述的本發明中，由於支撐構件係隔著吸著墊而設置於搬送方向上游側及搬送方向下游側，因此在使吸著墊吸著於板狀構件的平面中央部時，亦能夠使板狀構件均勻地受到支撐。

此外，本發明的板狀構件的搬送方法，其特徵在於：將板狀構件投入至浮起手段的搬送方向上游側，該浮起手段係沿著搬送方向平行地、且沿著與前述搬送方向正交之方向以預定間隔排列有複數個從多數個噴射口朝上方噴射氣體的浮起構件；在前述板狀構件藉由上述浮起手段而浮起於前述浮起構件之狀態下，在前述各浮起構件間使吸著墊吸著於前述板狀構件底面的中央部，藉此予以保持；接著，使前述吸著墊、及隔著前述吸著墊而設置在搬送方向上游側及搬送方向下游側之移動浮起構件從前述搬送方向上游側往前述搬送方向下游側移動，藉此搬送前述板狀構件；藉由在 前述搬送手段的搬送路徑之途中設置前述板狀構件的表面平坦度提升手段之區域，一邊使前述板狀構件之表面平坦化，一邊利用處理部對前述板狀構件之表面進行預定處理；在通過前述處理部後使前述搬送手段的前述吸著墊旋轉，藉此使前述板狀構件旋轉。

在如上述的本發明中，由於吸著墊吸著於板狀構件的平面中央部，因此在進行使板狀構件以沿著厚度方向之線為中心旋轉預定角度的步驟時，不需要使吸著墊暫時脫離板狀構件後再使吸著墊吸著於板狀構件之步驟。

此外，本發明的板狀構件的搬送方法中，在使前述吸著墊朝前述搬送方向下游側移動之期間，將下一個板狀構件投入至前述搬送方向上游側。

在如上述的本發明中，係在使吸著墊移動之期間將下一個板狀構件投入，藉此能夠進行連續作業，能夠謀求產距時間的縮短。

本發明係在進行要求前述板狀構件的表面平坦度之處理的處理部中設置板狀構件的表面平坦度提升手段，因此與習知的技術比較，在處理部中，板狀構件之表面發生起伏的疑慮較少，能夠高精度地進行例如曝光處理等步驟。

此外，本發明中的吸著墊係吸著於板狀構件的平面中央部，因此在進行使板狀構件以沿著厚度方向之線為中心旋轉預定角度的步驟時，不必使吸著墊暫時脫離板狀構件後再使吸著墊吸著於板狀構件，藉此能夠縮短產距時間。

以下，根據圖式說明本發明的板狀構件的搬送裝置及板狀構件的搬送方法的實施形態。

於第1圖顯示的第1實施形態的搬送裝置10係用來將顯示器中所使用且為板狀構件的玻璃基板11從第1圖中的左方往右方搬送者。

該搬送裝置10係具備：浮起手段20，係用以使玻璃基板11浮起；搬送手段30，係用來搬送玻璃基板11；以及處理部40，係設置於搬送手段30的搬送路徑之途中。

浮起手段20係具有複數個浮起構件21，該等浮起構件21係藉由從多數個噴射口朝上方噴射氣體而使玻璃基板11浮起。

浮起構件21係形成為大致平角筒狀，且頂面以規則的等間隔設有多數個噴射口。該等如上述的浮起構件21係沿著搬送方向(第1圖中的左右方向)平行地且沿著與搬送方向正交之方向以預定間隔排列有複數個。

此外，如上述的浮起手段20係於中央部設有空隙22俾不與搬送手段30發生干涉。

亦如第2圖所示，搬送手段30係具有：軌道31，係設置在前述空隙22的正下方；導引構件32，係能夠沿著軌道31移動；馬達33，係由導引構件32所支撐，且垂直地配置有旋轉軸36(參照第3圖)；吸著墊34，係連結於馬達33的旋轉軸36；以及一對移動浮起構件(支撐構件)35、35，係由導引構件32所支撐。

移動浮起構件35、35與前述的浮起構件同樣地形成為大致扁平角筒狀，且頂面以規則的等間隔設有多數個噴射口。該等移動浮起構件35、35係沿著搬送方向設置並且隔著吸著墊34設置，且能夠與吸著墊34連動而沿著搬送方向移動。

回到第1圖，如此的搬送手段30係以令吸著墊能夠吸著於玻璃基板11的平面中央部之方式配置。

亦如第3圖所示，處理部40係具備：門型的支撐構件41，係為了對玻璃基板11的整個表面(整個朝上之面)進行曝光處理，而沿著與搬送方向正交之方向設置；以及曝光裝置42，係能夠沿著支撐構件41移動。

如上述的處理部40中，為了進行要求玻璃基板11之表面平坦度之處理，而沿著與搬送方向交叉之方向使噴射口的密集度成為均一。

具體言之，處理部40係沿著支撐構件41(亦即沿著與搬送方向交叉之方向)且避開空隙22而設置有一對橫置浮起構件(表面平坦度提升手段)43、43。

接著，說明如上述的搬送裝置10的搬送流程。

如第1圖所示，在預先使空氣從浮起構件21的噴射口噴射出的狀態下，從第1圖中的左上方朝下方將玻璃基板11投入至浮起手段20的搬送方向上游側(第1圖中的左方)，並在玻璃基板11藉由浮起手段20而浮起於浮起構件21的狀態下，使配置在空隙22的吸著墊34吸著於玻璃基板11底面的中央部而予以保持。

如第4圖所示，玻璃基板底面的中央部係指以對角線的交點為中心、以預定半徑繪出的圓A內。

第4圖中的圓B係表示當使吸著墊吸著於玻璃基板的中心(亦即對角線的交點)並進行旋轉時之玻璃基板的角部的軌跡，第4圖中的圓C係以使玻璃基板不與其他的構造物發生干涉之半徑所繪出的安全範圍。

並且，第4圖中的圓A的半徑係設定為，即使吸著墊吸著於偏離玻璃基板中心的位置，玻璃基板的角部的軌跡仍不會超出第4圖中的圓C之距離(參照第4圖中的D)。

再次回到第1圖，在藉由使搬送手段30的吸著墊34旋轉而使玻璃基板11旋轉預定角度後，使吸著墊34、及隔著吸著墊34而設置在搬送方向的上游側及下游側之移動浮起構件35、35沿著搬送方向從上游側往下游側移動，藉此搬送玻璃基板11，且一邊藉由沿著處理部40的支撐構件41而設置的橫置浮起構件43、43將玻璃基板11之表面予以平坦化，一邊以處理部40進行曝光處理。

之後，藉由使搬送手段30的吸著墊34旋轉而使玻璃基板11旋轉，再將之搬出至下一個步驟。

此外，在搬送手段30往搬送方向下游側移動之期間，將下一個玻璃基板11投入至搬送方向上游側，並且藉由浮起手段20而使玻璃基板11浮起於浮起構件21的狀態下進行待機直到搬送手段30重新回到初始位置(上游側)為止。

依據如上述的第1實施形態，在進行要求玻璃基板11之表面平坦度的處理之處理部40中，由於沿著與搬送方向 交叉之方向使噴射口的密集度成為均一，因此與習知的技術比較，在處理部40中，玻璃基板11之表面發生起伏的疑慮較少，而能夠高精度地進行曝光處理等。

具體而言，由於藉由沿著與搬送方向交叉之方向配設橫置浮起構件43、43而使噴射口的密集度成為均一，因此在處理部40中，能夠確實地較減少玻璃基板11之表面發生起伏的疑慮。

此外，由於吸著墊34係吸著於玻璃基板11的平面中央部，因此在進行使玻璃基板11以沿著厚度方向之線為中心旋轉預定角度之步驟時，不必使吸著墊34暫時脫離玻璃基板11後再使吸著墊34吸著於玻璃基板11，藉此能夠縮短產距時間。

具體而言，由於吸著墊34係連結於能夠沿著搬送方向移動的馬達33的旋轉軸36(參照第3圖)，因此直到將供給至搬送方向上游側的玻璃基板11從搬送方向下游側搬出為止之期間，不必使吸著墊34脫離與再次吸著，藉此能夠進一步縮短產距時間。

並且，在搬送手段30往搬送方向下游側移動之期間，將下一個玻璃基板11投入至搬送方向上游側，藉此，能夠進行連續作業，而能夠更加縮短產距時間。

此外，由於搬送手段30具有能夠與吸著墊34連動而沿著搬送方向移動的移動浮起構件35、35，因此即使在搬送路徑中有空隙22，仍能夠在使玻璃基板11確實地浮起的狀態下進行搬送。

具體而言，由於隔著吸著墊34設置有一對移動浮起構件35、35，因此在使吸著墊34吸著於玻璃基板11的平面中央部時，亦能夠使玻璃基板11均勻地浮起。

接著，根據第5圖至第7圖，說明第1實施形態的搬送裝置10的變形例1至變形例5。其中，在變形例1至變形例5中，與搬送裝置10相同．類似的構件係標註相同符號並省略說明。

(變形例1)

第1實施形態的搬送裝置10中，係針對將以馬達33使旋轉軸36直接旋轉之直接驅動馬達(direct drive motor)構成作為使旋轉軸36旋轉的手段而進行說明，但亦能使用第5圖(A)所示的旋轉機構50。

旋轉機構50係由馬達51及齒輪52組成者。依據旋轉機構50，藉由使馬達51進行旋轉，使齒輪52旋轉，藉由使齒輪52旋轉，使吸著墊34與旋轉軸36一同旋轉。

依據變形例1的旋轉機構50，由於不必使用直接驅動馬達，因此可獲得能夠降低搬送裝置10的製造成本之效果。

(變形例2)

此外，亦可取代第1實施形態的搬送裝置10中使用的直接驅動馬達構成，而使用第5圖(B)所示的旋轉機構55。

旋轉機構55係由空氣驅動源56及齒輪57組成者。依據旋轉機構55，藉由驅動空氣驅動源56，使齒輪57旋 轉，藉由使齒輪57旋轉，使吸著墊34與旋轉軸36一同旋轉。

依據變形例2的旋轉機構55，由於不必使用直接驅動馬達，因此可獲得能夠降低搬送裝置10的製造成本之效果。

(變形例3)

再者，亦可取代第1實施形態的搬送裝置10中使用的直接驅動馬達構成，而使用第5圖(C)所示的旋轉機構60。

旋轉機構60係由馬達61及環形皮帶62組成者。依據旋轉機構60，藉由使馬達61進行旋轉，使環形皮帶62旋轉，藉由使環形皮帶62旋轉，使吸著墊34與旋轉軸36一同旋轉。

依據變形例3的旋轉機構60，由於不必使用直接驅動馬達，因此可獲得能夠降低搬送裝置10的製造成本之效果。

(變形例4)

雖然第1實施形態的搬送裝置10係隔著吸著墊34而於搬送方向上游側及搬送方向下游側設置一對的移動浮起構件35、35，但並非以此為限，例如，亦能夠如第6圖所示，於搬送方向上游側排列配置複數個移動浮起構件35、35，且於搬送方向下游側排列配置複數個移動浮起構件35、35。

依據變形例4，由於於搬送方向上游側及搬送方向下 游側分別排列配置有複數個移動浮起構件35、35，因此能夠將浮起構件21間的間隙確保得較寬，結果便能夠將吸著墊34擴大，而能夠增加對玻璃基板11的吸著力。

(變形例5)

此外，亦可取代第1實施形態的搬送裝置10的移動浮起構件35、35，而如第7圖(A)、第7圖(B)所示，使用支撐構件65。

支撐構件65係具備：複數個轉動體66，係接觸於玻璃基板11且能夠旋轉；以及基座67，係以可旋轉方式支撐複數個轉動體66。

依據變形例5，由於不使用浮起構件，因此能夠降低構件成本，並且能夠抑制空氣消耗量。

接著，根據第8圖至第15圖，說明第2實施形態至第5實施形態的板狀構件的搬送裝置及板狀構件的搬送方法。其中，在第2實施形態至第5實施形態中，與第1實施形態的搬送裝置10相同．類似的構件係標註相同符號並省略說明。

(第2實施形態)

第8圖及第9圖所示的第2實施形態的搬送裝置70係取代第1實施形態的橫置浮起構件43、43而具備有表面平坦度提升手段71者，其他的構成係與第1實施形態的搬送裝置10相同。

表面平坦度提升手段71的構成為，在處理部40中，浮起構件21係沿著與搬送方向正交之方向以預定間隔連 續排列複數個，且在浮起構件21間具備區間浮起構件72。

區間浮起構件72係如第8圖所示，僅配置在處理部40的區域40A並將長度尺寸形成為較短的L。

該區間浮起構件72係與第1實施形態的橫置浮起構件43、43同樣地，具備藉由從頂面72A的多數個噴射口朝上方噴射氣體而使玻璃基板11浮起之功能。

因此，藉由在浮起構件21間具備區間浮起構件72，便與第1實施形態的橫置浮起構件43、43同樣地，將噴射口的密集度設計為均一而能夠在處理部40中確實地減少玻璃基板11之表面發生起伏的疑慮。

藉此，依據第2實施形態的搬送裝置70，便與第1實施形態同樣地，在進行要求玻璃基板11之表面平坦度的處理之處理部40中，玻璃基板11之表面發生起伏的疑慮較少，能夠高精度地進行曝光處理等。

(第3實施形態)

第10圖及第11圖所示的第3實施形態的搬送裝置80係取代第1實施形態的橫置浮起構件43、43而具備有表面平坦度提升手段81者，其他的構成係與第1實施形態的搬送裝置10相同。

表面平坦度提升手段81的構成為，在處理部40中，浮起構件21係沿著與搬送方向正交之方向以預定間隔連續排列複數個，並且具有複數個從多數個噴射口朝上方噴射氣體的支承(support)墊82，且各支承墊82係敷設於各浮起構件21間。

各支承墊82係僅配置於處理部40的區域40A(參照第8圖)。

該支承墊82係與第1實施形態的橫置浮起構件43、43同樣地，具備藉由從頂面82A的多數個噴射口朝上方噴射氣體而使玻璃基板11浮起之功能。

因此，藉由在浮起構件21間敷設複數個支承墊82，便與第1實施形態的橫置浮起構件43、43同樣地，使噴射口的密集度成為均一而能夠在處理部40中確實地減少玻璃基板11之表面發生起伏的疑慮。

藉此，依據第3實施形態的搬送裝置80，便與第1實施形態1同樣地，在進行要求玻璃基板11之表面平坦度的處理之處理部40中，玻璃基板11之表面發生起伏的疑慮較少，能夠高精度地進行曝光處理等。

(第4實施形態)

第12圖及第13圖所示的第4實施形態的搬送裝置90係取代第1實施形態的橫置浮起構件43、43而具備有表面平坦度提升手段91者，其他的構成係與第1實施形態的搬送裝置10相同。

表面平坦度提升手段91的構成為，在浮起構件20之對應於處理部40之區域40A(參照第8圖)中，具有噴射吸引構件92，該噴射吸引構件92係於頂面92A分別具備朝上方噴射氣體的噴射口、以及吸引外部空氣的吸引口。

由於噴射吸引構件92具有吸引外部空氣的吸引口，而適當地維持玻璃基板11下方的氣體，故能夠在區域40A 中確實地減少玻璃基板11之表面發生起伏的疑慮。

藉此，依據第4實施形態的搬送裝置90，便與第1實施形態同樣地，在進行要求玻璃基板11之表面平坦度的處理之處理部40中，玻璃基板11之表面發生起伏的疑慮較少，能夠高精度地進行曝光處理等。

(第5實施形態)

第14圖及第15圖所示的第5實施形態的搬送裝置100係取代第1實施形態的橫置浮起構件43、43而具備有表面平坦度提升手段101者，其他的構成係與第1實施形態的搬送裝置10相同。

表面平坦度提升手段101的構成為，在浮起構件20之對應於處理部40之區域40A(參照第8圖)中，浮起構件21係沿著與搬送方向正交之方向以預定間隔排列，並且具有覆蓋各浮起構件21間的間隙之披覆構件102。

藉由具備覆蓋各浮起構件21間的間隙之披覆構件102，而適當地維持玻璃基板11下方的氣體，能夠在區域40A中確實地減少玻璃基板11之表面發生起伏的疑慮。

藉此，依據第5實施形態的搬送裝置100，便與第1實施形態同樣地，在進行要求玻璃基板11之表面平坦度的處理之處理部40中，玻璃基板11之表面發生起伏的疑慮較少，能夠高精度地進行曝光處理等。

此外，本發明並非限定於上述實施形態，前述實施形態中所例示的板狀構件、浮起構件、浮起手段、搬送手段、處理部、吸著墊、馬達、移動浮起構件、旋轉機構、支撐 構件、表面平坦度提升手段等亦可進行適當之變形、改良等。

10、70、80、90、100‧‧‧搬送裝置

11‧‧‧玻璃基板

20‧‧‧浮起手段

21‧‧‧浮起構件

22‧‧‧空隙

30‧‧‧搬送手段

31‧‧‧軌道

32‧‧‧導引構件

33、51、61‧‧‧馬達

34‧‧‧吸著墊

35‧‧‧移動浮起構件(支撐構件)

36‧‧‧旋轉軸

40‧‧‧處理部

40A‧‧‧區域

41‧‧‧門型的支撐構件

42‧‧‧曝光裝置

43‧‧‧橫置浮起構件

50、55、60‧‧‧旋轉機構

52、57‧‧‧齒輪

56‧‧‧空氣驅動源

62‧‧‧環形皮帶

65‧‧‧支撐構件

66‧‧‧轉動體

67‧‧‧基座

71、81、91、101‧‧‧表面平坦度提升手段

72‧‧‧區間浮起構件

72A、82A、92A‧‧‧頂面

82‧‧‧支承墊

92‧‧‧噴射吸引構件

102‧‧‧披覆構件

A、B、C‧‧‧圓

第1圖係本發明第1實施形態的搬送裝置的平面圖。

第2圖係第1實施形態的搬送手段的主要部分斜視圖。

第3圖係第1實施形態的處理部的側視圖。

第4圖係顯示板狀構件中央部的概念之示意性平面圖。

第5圖(A)係取代第1實施形態的馬達之變形例1的旋轉機構的斜視圖，第5圖(B)係變形例2的旋轉機構的斜視圖，第5圖(C)係變形例3的旋轉機構的斜視圖。

第6圖係取代第1實施形態的移動浮起構件之變形例4的移動浮起構件的斜視圖。

第7圖(A)及(B)係取代第1實施形態的移動浮起構件之變形例5的支撐構件的斜視圖。

第8圖係本發明第2實施形態的表面平坦度提升手段的平面圖。

第9圖係第2實施形態的處理部的側視圖。

第10圖係第3實施形態的處理部的側視圖。

第11圖係第3實施形態的表面平坦度提升手段的斜視圖。

第12圖係第4實施形態的處理部的側視圖。

第13圖係說明第4實施形態的表面平坦度提升手段 所致之氣體流動的剖面圖。

第14圖係第5實施形態的處理部的側視圖。

第15圖係說明第5實施形態的表面平坦度提升手段所致之氣體流動的剖面圖。

10‧‧‧搬送裝置

11‧‧‧玻璃基板

20‧‧‧浮起手段

21‧‧‧浮起構件

22‧‧‧空隙

30‧‧‧搬送手段

34‧‧‧吸著墊

35‧‧‧移動浮起構件(支撐構件)

40‧‧‧處理部

41‧‧‧門型的支撐構件

42‧‧‧曝光裝置

43‧‧‧橫置浮起構件

Claims (6)

1. 一種板狀構件的搬送裝置，係具備：維持手段，係水平地維持板狀構件；以及搬送手段，係保持前述板狀構件，並且將前述板狀構件從搬送方向上游側搬送至搬送方向下游側；其中，前述搬送手段係具有：吸著墊，係能夠沿著前述搬送方向移動並且能夠吸著於前述板狀構件；以及支撐構件，係與前述吸著墊連動並支撐前述板狀構件。
2. 如申請專利範圍第1項之板狀構件的搬送裝置，其中，前述支撐手段係具有藉由從多數個噴射口朝上方噴射氣體而使前述板狀構件浮起之浮起構件；且前述支撐構件係具備與前述浮起構件同等之功能的移動浮起構件。
3. 如申請專利範圍第1項之板狀構件的搬送裝置，其中，前述支撐構件係具備接觸於前述板狀構件並且能夠旋轉的轉動體。
4. 如申請專利範圍第1項之板狀構件的搬送裝置，其中，前述支撐構件係沿著前述搬送方向設置並且隔著前述吸著墊而設置於搬送方向上游側及搬送方向下游側。
5. 一種板狀構件的搬送方法，該方法之特徵為：將板狀構件投入至浮起手段的搬送方向上游側，該浮起手段係沿著搬送方向平行地、且沿著與前述搬 送方向正交之方向以預定間隔排列有複數個從多數個噴射口朝上方噴射氣體的浮起構件；在前述板狀構件藉由上述浮起手段而浮起於前述浮起構件之狀態下，在前述各浮起構件間使吸著墊吸著於前述板狀構件底面的中央部，藉此予以保持；接著，使前述吸著墊、及隔著前述吸著墊而設置在搬送方向上游側及搬送方向下游側之移動浮起構件從前述搬送方向上游側往前述搬送方向下游側移動，藉此搬送前述板狀構件；藉由在前述搬送手段的搬送路徑之途中設置前述板狀構件的表面平坦度提升手段之區域，一邊使前述板狀構件之表面平坦化，一邊利用處理部對前述板狀構件之表面進行預定處理；在通過前述處理部後使前述搬送手段的前述吸著墊旋轉，藉此使前述板狀構件旋轉。
6. 如申請專利範圍第5項之板狀構件的搬送方法，其中，在使前述吸著墊朝前述搬送方向下游側移動之期間，將下一個板狀構件投入至前述搬送方向上游側。