KR20130138663A - 노광 장치 - Google Patents

노광 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20130138663A
KR20130138663A KR1020130017929A KR20130017929A KR20130138663A KR 20130138663 A KR20130138663 A KR 20130138663A KR 1020130017929 A KR1020130017929 A KR 1020130017929A KR 20130017929 A KR20130017929 A KR 20130017929A KR 20130138663 A KR20130138663 A KR 20130138663A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
wiring board
printed wiring
exposure
hand
suction hand
Prior art date
Application number
KR1020130017929A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102058252B1 (ko
Inventor
켄지 와타나베
Original Assignee
가부시키가이샤 아도테크 엔지니어링
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시키가이샤 아도테크 엔지니어링 filed Critical 가부시키가이샤 아도테크 엔지니어링
Publication of KR20130138663A publication Critical patent/KR20130138663A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102058252B1 publication Critical patent/KR102058252B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/201—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by an oblique exposure; characterised by the use of plural sources; characterised by the rotation of the optical device; characterised by a relative movement of the optical device, the light source, the sensitive system or the mask
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
    • G03F7/2053—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser
    • G03F7/2055—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser for the production of printing plates; Exposure of liquid photohardening compositions
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

본 발명은 프린트 배선기판의 반전 후 사전 정렬을 불필요로 한 노광장치를 제공한다.
본 발명에 따른 노광장치는 프린트 배선 기판의 일면 측의 노광을 행하는 일면 측 노광부 1, 전달부 2, 타면 측 노광을 행하는 타면 측 노광부 3을 구비하고, 노광부 1, 3은 각각 흡착 핸드 5, 흡착 핸드 6을 구비하여, 노광부 1과 노광부 3 사이에 설정된 전달부 2에서 흡착 핸드 5에 의해 프린트 배선기판 99의 반전을 행하고 직접 흡착 핸드 6에 전달한다.
상기와 같이 구성되는 본 발명의 노광 장치에 의하면, 종래의 반전 장치를 이용하지 않고, 전달부에 있어서 흡착 핸드에 의해 직접 프린트 배선기판을 전달하기 위해 프린트 배선기판의 기준 위치의 차이가 생길 수 없고, 따라서 하류 측의 노광부의 입구 측에 사전 정렬 부를 구비할 필요가 없다.

Description

노광 장치{Exposure device}
본 발명은 프린트 배선기판의 노광장치에 대한 것이다.
기판 양면에 회로가 형성되어 지는 프린트 배선기판을 제조하기 위한 노광 장치에서는 두 대의 노광 장치를 배열하고, 이들 노광장치 사이에 기판의 반전 장치를 구비하여서 기판 양면의 노광을 실시하여 왔다. 또한, 노광 장치에서 반전 장치에 프린트 배선기판을 컨베이어에 의해 이송할 때나, 반전 장치에 의한 반전시 프린트 배선기판이 기준 위치로부터 어긋나는 때문에, 이의 위치 보정을 행하기 위해서 반전 장치의 출구 측에 사전 정렬 장치를 구비하고 있다.
따라서, 이러한 노광 장치는 장치가 복잡해 지게 되고, 라인이 길어지고, 비용 상승과 제조 시간의 증대, 생산성의 저하 등 초래할 문제가 있었다.
따라서, 이러한 문제를 해결하기 위해 종래로부터 다양한 시도가 이루어지고 있었는데, 예를 들어 아래에 게재된 특허문헌 1에서는 프린트 배선기판을 고정하여 반전시킴으로써 위치 이탈을 방지하여 반전 장치의 출구 측의 사전 정렬 장치를 제거하는 제안을 하고 있다.
특허문헌 1: 일본국 특허공개공보 평7-251921호
그러나, 상기 한 종래의 구성에 있어서 사전 정렬 장치의 제거는 가능하지만, 노광 장치에서 반전 장치로, 또는 반전 장치에서 노광 장치로 프린트 배선기판의 반송을 위한 반송 컨베이어 등의 반송 장치가 필요하여, 장치 전체가 여전히 복잡하다 문제가 있다.
따라서, 본 발명은 상기한 종래 기술의 문제를 해결하는 것을 그 목적으로 한다.
상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 프린트 배선기판의 노광 장치는 프린트 배선기판의 일면 측을 노광하는 일면 측 노광부와, 상기 프린트 배선기판의 타면 측을 노광하는 타면 측 노광부와, 상기 노광부와 노광부와의 사이에 설치되어 한편의 노광부에 노광을 종료한 프린트 배선 기판을 다른 편의 노광부에 노광하기 위해 전달하는 전달부와, 상기 프린트 배선기판의 일면 측을 흡착 고정하여, 상기 일면 측 노광부와 상기 전달부 사이에서 프린트 배선기판을 이송하는 일면 측 흡착 핸드와, 상기 프린트 배선기판의 타면 측을 흡착 고정하여, 상기 타면 측 노광부와 상기 전달부와의 사이에서 프린트 배선기판을 이송하는 타면 측 흡착 핸드와, 상기 일면 측 흡착 핸드 또는 타면 측 흡착 핸드 중의 적어도 하나에 장착되어 상기 흡착 핸드를 회전시킴에 의하여 프린트 배선기판을 180도 반전시키기 위한 핸드 회전기구를 구비하고, 상기 전달부에 있어서, 상기 핸드 회전기구에 의해 흡착 핸드를 회전시켜 프린트 배선기판을 반전하여 상기 일면 측 흡착 핸드와 타면 측 흡착 핸드 사이에서 프린트 배선기판을 전달하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명에 있어서는 상기 일면 측 노광부와 타면 측 노광부의 전달부 측과 반대 측에 설치된 프린트 배선기판을 이 노광부에서 반입 또는 반출하는 반입 반출장치와 이 반입 반출장치에 설치된 프린트 배선기판의 사전 정렬 장치를 더 구비하여, 상기 일면 측 노광부에서 타면 측 노광부로 프린트 배선 기판을 유동하는 공정과, 반대로 타면 측 노광부에서 일면 측 노광부로 프린트 배선 기판을 유동하는 공정의 양방을 모두 실시 구성할 수 있다.
상기와 같이 구성되는 본 발명의 노광 장치에 의하면, 종래의 반전 장치를 이용하지 않고, 전달부에 있어서 흡착 핸드에 의해 직접 프린트 배선기판을 전달하기 위해 프린트 배선기판의 기준 위치의 차이가 생길 수 없고, 따라서 하류 측의 노광부의 입구 측에 사전 정렬 부를 구비할 필요가 없다. 또한, 프린트 배선기판의 반전은 흡착 핸드에 설치된 핸드 회전 기구에서 행하기 때문에 반전 장치도 불필요하게 된다. 또한, 한편의 노광부에서 다른 노광부까지 모두 흡착 핸드에 의해 프린트 배선기판의 이송이 이루어지기 때문에 이들 사이에 별도의 반송 장치를 마련할 필요가 없는 등의 효과가 있다. 더욱이, 생산 라인에 대한 유연한 대응이 가능하게 되어, 개조 비용 등도 불필요하게 되는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시형태를 도시한 개략 평면도이고,
도 2는 본 발명의 일 실시형태를 도시한 개략 측면도이고,
도 3은 본 발명의 일 실시형태의 일면 측 및 타면 측의 흡착 핸드 5의 측면도이고,
도 4는 본 발명의 일 실시형태의 일면 측 및 타면 측의 흡착 핸드 5의 평면도이다.
이하 본 발명의 바람직한 실시형태를 첨부 도면을 참고로 하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 프린트 배선기판을 제조하는 노광 장치의 평면도이고, 도 2는 측면도이다.
이 노광 장치는 일면 측의 노광을 행하는 일면 측 노광부 1, 전달부 2, 타면 측 노광을 행하는 타면 측 노광부 3을 구비하고, 이들이 차례로 직선 상에서 거의 일정한 간격으로 배치되어 구성되어 진다. 노광부 1은 반입 반출부 10을, 노광부 3은 반입 반출부 30을 각각 구비하고 있어, 전 공정에서 프린트 배선기판 99를 반입하거나 또는 다음 공정으로 프린트 배선기판 99를 반출한다.
즉, 이전 공정에서 포토 레지스트를 시행한 프린트 배선 기판 99는 반입 반출부 10으로부터 노광부 1, 전달부 2, 노광부 3을 경유하여 일면 측과 타면 측의 앞뒤에 노광된 반입 반출부 30에서 다음 공정으로 보내어 진다. 또한, 후술하는 바와 같이, 반대의 흐름에도 대응이 가능하며, 이 경우에 반입 반출부 30으로부터 노광부 3, 전달부 2, 노광부 1을 거쳐 반입 반출부 10에서 다음 공정으로 보내어 진다.
노광부 1, 3은 각각 기대 15, 기대 35를 구비하고, 여기에 프린트 배선기판 99를 재치하고, 위치 맞춤 장치(도시하지 않음)에 의해 위치 맞춤을 행한 후에, 노광 광원(도시하지 않음)에서 노광 광을 발하고, 마스크(도시하지 않음)에 그려진 패턴을 프린트 배선 기판 99 위에 소부하도록 구성되어있다.
노광부 1과 노광부 3 사이에 전달부 2가 설정되어 있으며, 여기에서 프린트 배선기판 99의 반전과 전달을 행하도록 되어 있다.
이 노광 장치에서는 프린트 배선기판 99의 일면 측을 흡착하여 반송하는 일면 측 흡착 핸드 5와 타면 측을 흡착하여 반송하는 타면 측 흡착 핸드 6이 설치되어있다. 흡착 핸드 5는 반입 반출부 10, 노광부 1, 전달부 2에 걸쳐 X 방향으로 신장하는 주행 레일 50을 구비하여, 프린트 배선기판 99를 반입 반출부 10으로부터 노광부 1에, 또한 노광부 1에서부터 전달부 2로 반송할 수 있다. 또한, 반대 방향으로 전달부 2에서부터 노광부 1로, 노광부 1로부터 반입 반출부 10으로 반송할 수 있도록 구성되어 있다.
흡착 핸드 6은 반입 반출부 30, 노광부 3, 전달부 2에 걸쳐 X 방향으로 신장하는 주행 레일 60을 구비하여, 프린트 배선기판 99를 전달부 2에서부터 노광부 3으로, 노광부 3에서 반입 반출부 30으로 반송할 수 있다. 또한, 반대 방향으로 반입 반출부 30으로부터 노광부 3에, 노광부 3에서 전달부 2에 반송함에 의해 반송할 수 있도록 구성되어 진다.
또한, 이 실시형태에서는 주행 레일 60은 주행 레일 50의 상방으로 배치되어 있으며, 전달부 2에 있어서는 후술하는 바와 같이 프린트 배선기판 99가 회동할 때 접촉하지 않게 간격을 가지게 된다.
도 3에 도시된 바와 같이, 흡착 핸드 5는 주행 레일 50을 주행하는 주행 기대 51과 이 주행 기대 51에서 위쪽으로 연장하여 설치된 Z 축 52를 구비하고 있다. 상기 Z 축 52에는 기대 15의 폭 방향, Y 방향으로 연장하는 Y 축 53이 설치되어 있으며, Y 축 53은 Z 축 52 위를 상하방향으로 승강 가능하게 장착되어 진다. 이 구성에 의해 Y 축 53은 Z 방향 상하 승강 가능하게 하고, X 방향으로 주행이 가능하게 구성되어 진다.
Y 축 53에는 흡착기구 54가 장착되어 있으며, 이 흡착기구 54에 의해 프린트 배선기판 99를 흡착 고정하여, 프린트 배선 기판 99를 반송하도록 구성되어 진다.
흡착기구 54는 판상의 사각형 형상을 이루고 있으며, 도 4에 도시된 바와 같이 그 중심선에서 Y 축 53에 장착되어 있다.
이 실시형태에서는 흡착 핸드 5에 핸드 회전기구 7을 구비하도록 하여, Y 축 53은 핸드 회전기구 7의 선회 모터 70으로 360도 회전 가능하게 구성되어 있다. 이 구성에 의해 흡착 핸드 5는 프린트 배선 기판 99를 그 중심선에서 180도 회전시켜 반전시킬 수 있도록 구성되어 있다.
흡착 핸드 6도 마찬가지로 도 3에 도시된 바와 같이, 주행 레일 60을 주행하는 주행 기대 61과 이 주행 기대 61에서 위쪽으로 신장하여 설치된 Z 축 62를 갖추고 있다. 상기 Z 축 62에는 기대 35 폭 방향인, Y 방향으로 신장하는 Y 축 63이 설치되어 있어, Y 축 63은 Z 축 62 위를 상하방향으로 승강 가능하게 장착되어 있다. 이 구성에 의해 Y 축 63은 Z 방향 상하 승강 가능하게 하고 X 방향으로 주행이 가능하게 구성되어 진다.
Y 축 63에는 흡착기구 64가 장착되어 있으며, 이 흡착기구 64에 의해 프린트 배선기판 99를 흡착 고정하여, 프린트 배선 기판 99를 반송하도록 구성되어 진다.
흡착기구 64는 판상의 사각형 모양을 이루고 있으며, 도 4에 도시된 바와 같이 그 중심선에서 Y 축 63에 장착되어 있다.
반입 반출부 10은 롤러 컨베이어 11을 가지며, 롤러 컨베이어 11은 이전 공정에서의 롤러 컨베이어 11'와 연속하여, 이전 공정에서의 프린트 배선기판 99를 반입하도록 구성되어 진다. 또한, 반대로 롤러 컨베이어 11에서 롤러 컨베이어 11'로 프린트 배선기판 99를 반출하도록 구성되어 진다.
반입 반출부 30도 마찬가지로 롤러 컨베이어 31을 갖추고 있어, 롤러 컨베이어 31은 다음 공정에서의 롤러 컨베이어 31'과 연속하여, 다음 공정에 프린트 배선기판 99를 반출하도록 구성되어 진다. 또한, 반대로 롤러 컨베이어 31'에서 롤러 컨베이어 31로 프린트 배선기판 99를 반입하도록 구성되어 진다.
반입 반출부 10과 반입 반출부 30은 각각 사전 정렬 장치로 되는 정렬 플레이트(도시 생략)를 갖추고 있고, 더욱이 정렬 플레이트에는 스토퍼(도시 생략)와 이동 가능한 정렬 핀(도시 생략)이 설치되어 있다. 또한, 정렬 플레이트는 프린트 배선 기판 99를 흡착 고정하는 흡착 장치가 구비되어 있다.
정렬 플레이트는 승강 가능하게 구성되어, 상기 롤러 컨베이어 11, 롤러 컨베이어 31의 아래에 위치하는 상태와 위에서 위치하는 상태를 각각 취할 수 있도록 구성되어 있다.
그리고, 프린트 배선기판 99를 롤러 컨베이어 11, 롤러 컨베이어 31에서 받으면 정렬 플레이트를 상승시켜 롤러 컨베이어 11과 롤러 컨베이어 31을 아래로 취하고, 스토퍼에 의해 프린트 배선기판 99의 진행 방향 위치를 규제함과 동시에 정렬 핀에 의해 폭 방향 위치를 조정하여 사전 정렬을 하도록 구성되어 진다. 사전 정렬 후, 흡착 장치에 의해 프린트 배선기판 99를 미리 정렬된 위치에 고정하도록 되어 있다.
다음으로는 동작을 설명한다. 도 1과 도 2에 있어서, 왼쪽에서 오른쪽으로 라인이 흐르는 경우의 동작을 설명한다.
이전 공정에서 롤러 컨베이어 11'를 통해 롤러 컨베이어 11 위에 프린트 배선 기판 99가 반송되어 지면 여기에서 미리 정렬되어 정렬 플레이트에 흡착 고정되어 진다.
이 프린트 배선기판 99의 위쪽으로 흡착 핸드 5가 이동하여, 흡착기구 54가 하강하고 프린트 배선기판 99의 윗면을 흡착 고정하여 노광부 1에 반송하고, 기대 15 위에 프린트 배선 기판 99를 재치하고 해제하고, 흡착 핸드 5는 소정의 위치로 되돌아 간다.
노광부 1에 있어서 프린트 배선기판 99의 정렬이 행하여 진 후, 그 일면 측이 노광되어 진다.
노광이 종료되어 지면, 흡착기구 54에 의해 다시 프린트 배선기판 99의 일면 측을 흡착하고, 프린트 배선 기판 99를 전달부 2에 반송한다. 전달 부 2에 있어서 핸드 회전기구 7의 선회 모터 70을 구동하여, 도 3에 도시된 바와 같이 프린트 배선기판 99를 180도 회전시켜, 프린트 배선기판 99를 반전한다. 이렇게 하므로 프린트 배선 기판 99의 노광되지 않은 타면 측이 위쪽으로 향한다.
이어서, 도 2에 도시된 바와 같이 흡착 핸드 6이 전달부 2로 이동하고, 그 흡착기구 64가 하강하여 반전되어 상향으로 된 프린트 배선기판 99의 타면 쪽을 흡착 고정한다. 동시에 흡착기구 54의 고정을 개방하고 흡착 핸드 6은 프린트 배선기판 99를 노광부 3에 반송하여, 프린트 배선기판 99를 기대 35에 재치하고 고정을 개방하고 흡착 핸드 6은 소정의 위치로 되돌아 간다. 프린트 배선 기판 99는 기대 35 위에서 정렬되고 그 타면 측이 노광된다.
노광이 종료되면 흡착기구 64에 의해 프린트 배선기판 99의 타면 측이 흡착 고정되어 반입 반출부 30으로 반송된다. 그리고, 프린트 배선기판 99는 롤러 컨베이어 31에서 롤러 컨베이어 31'으로 이송되고, 다음 공정으로 보내진다.
상기에서는 왼쪽에서 오른쪽으로 흐르는 라인의 경우에 대하여 설명하였지만, 오른쪽에서 왼쪽으로 흐르는 라인의 동작도 거의 마찬가지이며, 이 경우 반입 반출부 30에서 사전 정렬을 한다. 또한, 전달 부 2에서는 타면 측의 노광을 종료 한 프린트 배선기판 99가 흡착 핸드 6에 의해 반송되어, 여기서 180도 반전되는 흡착기구 54에 의해 프린트 배선기판 99의 아래쪽(일면 측)이 흡착되고 흡착기구 54가 180도 회동하여 원래로 돌아감에 의해 프린트 배선 기판 99를 반전시킨다. 다른 동작은 상기 동작의 역으로 되기 때문에 설명을 생략한다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 노광 장치에 따르면, 흡착 핸드 5에 의해 프린트 배선 기판 99의 반송, 반전이 행해져 이것을 직접 흡착 핸드 6에 전달하기 때문에, 프린트 배선 기판 99의 위치 어긋남이 발생하지 않는다. 또한, 오른쪽에서 왼쪽에의 라인의 경우에도, 흡착 핸드 6에 의해 프린트 배선 기판 99의 반송이 행해져 직접 흡착 핸드 5에 전달되고, 흡착 핸드 5에 의해 반전되기 때문에, 마찬가지로 프린트 배선 기판 99의 위치 차이가 발생하지 않는다. 이에 의해, 반전 장치나 반전 후의 사전 정렬 장치의 필요가 없어, 장치를 간략화할 수 있다. 또한, 전달부 2에 있어서 반전은 프린트 배선 기판 99의 중심선을 축으로 한 반전을 행하기 때문에, 전달부 2 자체의 공간도 최소한으로 할 수 있다.
더욱이, 노광부 1과 노광부 3의 사이에서는 롤러 컨베이어 등을 이용하지 않기 때문에 먼지의 발생이 억제되어 진다.
1 : 노광부 2 : 전달 부
3 : 노광부 5 : 흡착 핸드
6 : 흡착 핸드 7 : 핸드 회전기구
10 : 반입 반출 부 11 : 롤러 컨베이어
15 : 기대 30 : 반입 반출 부
31 : 롤러 컨베이어 35 : 기대
50 : 주행 레일 51 : 주행 기대
52 : Z 축 53 : Y 축
54 : 흡착기구 60 : 주행 레일
61 : 주행 기대 62 : Z 축
63 : Y 축 64 : 흡착기구
70 : 선회 모터 99 : 프린트 배선기판

Claims (2)

  1. 프린트 배선 기판의 일면 측을 노광하는 일면 측 노광부와,
    상기 프린트 배선기판의 타면 측을 노광하는 타면 측 노광부와,
    상기 노광부와 노광부와의 사이에 설치되어 한편의 노광부에서 노광을 종료 한 프린트 배선 기판을 다른 편의 노광부에 노광하기 위해 전달하는 전달부와,
    상기 프린트 배선기판의 일면 측을 흡착 고정하여 상기 일면 측 노광부와 상기 전달부 사이에서 프린트 배선 기판을 이송하는 일면 측 흡착 핸드와,
    상기 프린트 배선기판의 타면 쪽을 흡착 고정하여 상기 타면 측 노광부와 상기 전달부 사이에서 프린트 배선 기판을 이송하는 타면 측 흡착 핸드와,
    상기 일면 측 흡착 핸드 또는 타면 측 흡착 핸드 중의 적어도 하나에 장착되어 상기 흡착 핸드를 회전함에 의해 프린트 배선기판을 180도 반전시키기 위한 핸드 회전기구를 구비하여,
    상기 전달부에 있어서, 상기 핸드 회전기구에 의해 흡착 핸드를 회전시켜 프린트 배선기판을 반전하여 상기 일면 측 흡착 핸드와 타면 측 흡착 핸드 사이에서 프린트 배선 기판를 전달하는 것을 특징으로 하는 프린트 배선기판의 노광 장치.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 일면 측 노광부와 타면 측 노광부의 전달부 측과 반대 측에 설치된 프린트 배선기판을 이 노광부에서 반입 또는 반출하는 반입 반출장치와,
    이 반입 반출장치에 설치된 프린트 배선기판의 사전 정렬 장치를 더 구비하여,
    상기 일면 측 노광부에서 타면 측 노광부로 프린트 배선 기판을 유동하는 공정과, 반대로 타면 측 노광부에서 일면 측 노광부로 프린트 배선 기판을 유동하는 공정을 모두 실시하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
KR1020130017929A 2012-06-11 2013-02-20 노광 장치 KR102058252B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012132235A JP5752088B2 (ja) 2012-06-11 2012-06-11 露光装置
JPJP-P-2012-132235 2012-06-11

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130138663A true KR20130138663A (ko) 2013-12-19
KR102058252B1 KR102058252B1 (ko) 2019-12-20

Family

ID=49828380

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020130017929A KR102058252B1 (ko) 2012-06-11 2013-02-20 노광 장치

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5752088B2 (ko)
KR (1) KR102058252B1 (ko)
CN (1) CN103488052B (ko)
TW (1) TWI575331B (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106550610B (zh) * 2015-07-23 2019-03-12 大和股份有限公司 待曝光印刷配线板的移载方法及移载装置
CN105278259A (zh) * 2015-07-27 2016-01-27 江苏影速光电技术有限公司 单机双台面多工位自动pcb板曝光设备及其曝光方法
JP6865609B2 (ja) * 2017-03-26 2021-04-28 株式会社アドテックエンジニアリング 露光装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07251921A (ja) * 1994-03-11 1995-10-03 Ono Sokki Co Ltd 反転装置及び露光システム
JP2002175972A (ja) * 2000-12-08 2002-06-21 Orc Mfg Co Ltd 自動露光装置
JP4922071B2 (ja) * 2007-05-28 2012-04-25 株式会社オーク製作所 露光描画装置
JP2009157247A (ja) * 2007-12-27 2009-07-16 Orc Mfg Co Ltd 露光装置
US8379186B2 (en) * 2009-07-17 2013-02-19 Nikon Corporation Pattern formation apparatus, pattern formation method, and device manufacturing method

Also Published As

Publication number Publication date
JP5752088B2 (ja) 2015-07-22
TWI575331B (zh) 2017-03-21
CN103488052A (zh) 2014-01-01
JP2013257389A (ja) 2013-12-26
CN103488052B (zh) 2017-10-24
TW201351054A (zh) 2013-12-16
KR102058252B1 (ko) 2019-12-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4745040B2 (ja) 基板搬送装置及び基板処理装置
JP2006031025A (ja) 平板表示装置の製造システム及び製造方法
WO2007049640A1 (ja) 露光方法及び露光装置
KR102058252B1 (ko) 노광 장치
KR20100042587A (ko) 기판 반송 처리 장치
KR20090006768A (ko) 도포 장치, 기판의 수수 방법 및 도포 방법
CN101718954A (zh) 供给化学液体的单元及使用该单元处理衬底的装置和方法
JP2010181519A (ja) 露光装置
JP4638755B2 (ja) 露光装置および露光方法
JP5077655B2 (ja) 近接スキャン露光装置及びエアパッド
JP5089257B2 (ja) 近接スキャン露光装置
JP5089255B2 (ja) 露光装置
JP5099318B2 (ja) 露光装置及び露光方法
CN101562123A (zh) 板状部件的输送装置及板状部件的输送方法
KR102222263B1 (ko) 기판 처리 장치
TW201008856A (en) Coating apparatus and coating method
US9445505B2 (en) Rotary conveying equipment for exposing substrate
JP2004307115A (ja) 処理システム
JP5046157B2 (ja) 近接スキャン露光装置
JP2000171980A (ja) 両面露光装置
CN117558663A (zh) 传输轨道及传输系统、轨道的设计方法及系统
KR101126997B1 (ko) 판상 부재의 반송 장치 및 판상 부재의 반송 방법
JP2011258901A (ja) 搬送装置及びこれを用いた搬送処理装置
KR100914004B1 (ko) 인쇄회로기판 노광 자동화 시스템 및 그 작동방법
JP2011123263A (ja) 近接露光装置及び近接露光方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant