JP2009157247A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】粘着ローラを転写ローラに接触させながらマスクの表面とステージの表面又はワークの表面とを一緒に除塵することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】各露光部2,4内のクリーニングユニット12は、マスク10に対向する側とステージ8に対向する側に、夫々、粘着ローラ57を突出させて、回転自在に軸支している。これら両粘着ローラ57は、これらと平行に軸支された大径の転写ローラ58に対して、夫々の外周面同士を接触させている。このクリーニングユニット12を移動させるz−yステージは、各粘着ローラ57をマスク10及びステージ上面に接触させて転がすように当該クリーニングユニット12を移動させることによって当該マスク10の表面及びステージ正面を除塵する。
【選択図】図1
【解決手段】各露光部2,4内のクリーニングユニット12は、マスク10に対向する側とステージ8に対向する側に、夫々、粘着ローラ57を突出させて、回転自在に軸支している。これら両粘着ローラ57は、これらと平行に軸支された大径の転写ローラ58に対して、夫々の外周面同士を接触させている。このクリーニングユニット12を移動させるz−yステージは、各粘着ローラ57をマスク10及びステージ上面に接触させて転がすように当該クリーニングユニット12を移動させることによって当該マスク10の表面及びステージ正面を除塵する。
【選択図】図1
Description
本発明は、電子回路基板、液晶素子用ガラス基板、PDP用ガラス素子基板等の表面にフォトレジスト層が形成されてなる平面基材(ワーク)に、パターンを露光させる露光装置に関する。
電子回路基板(プリント回路基板)等の基板にパターンを形成するために、フォトレジスト法が用いられる。このフォトレジスト法とは、ワーク上のフォトレジスト層の表面に光のパターンを形成し、これによってフォトレジスト層を選択的に感光させ、エッチング処理液に浸すことによってフォトレジスト層における感光されなかった部分のみを溶解させ、更に、その部分に覆われていた基板表面をエッチングするという手法である。かかるフォトレジスト法において、ワークを露光する方式の一つとして、ワークの露光対象面に対してマスクを重ね、このマスク越しの光でワークに塗布された感光剤層を露光させるコンタクト方式がある。本願発明は、かかるコンタクト方式の露光装置に関するものである。
かかるコンタクト方式の露光装置では、外部環境において塵芥に汚染されたワークが一旦搬入されると、当該ワークの各面に付着していた塵芥が当該ワークに接触することによって、当該ワークに転写されて汚染されてしまう。このようにしてマスクが汚染されてしまうと、当該汚染されたワークを露光する場合は勿論のこと、その後に清浄なワークを搬入して露光する場合にも、マスクの透光部に付着していた塵芥が光を遮蔽して、ワークのフォトレジスト層にその影を映り込ませるので、現像処理後においてパターンの欠け等の欠陥を生じさせてしまう。
そこで、各露光部において、夫々、マスクの表面(ワークに接触する面)又は導入されたワークの露光対象面(マスクに接触する面)に対する除塵を行うための除塵装置を設ける必要が生じる。そして、従来一般に用いられていた除塵装置は、外周面に粘着層が形成された粘着ローラと、この粘着ローラの粘着層よりも粘着力が強い粘着層を外側に向けて巻き付けてなる転写ローラとを備え、粘着ローラを除塵対象面上を転がすことにより、粘着ローラの粘着層に付着させ、互いの外周面同士が接触するように従動回転させることにより、塵芥を転写ローラに転写させて、当該転写ローラに集めるという構成を有している。このようにすると、転写ローラの粘着層に集められた塵芥を粘着層を1周分剥ぎ取ることで、簡単に廃棄できるからである。
例えば、特許文献1に記載の露光装置では、その図2に示すように、ワーク(基板)をステージ(露光テーブル18)上に搬入する搬入キャリア14の先端に粘着ローラ(除塵ローラ16)を上下揺動可能に設けておき、ワーク(基板)をステージ(露光テーブル18)上に搬入する動作に伴って当該除塵ローラ16によってマスク(原版12)の表面を除塵するとともに、ステージ(露光テーブル18)上から退避する動作に伴ってワーク(基板)の露光対象面を除塵し、その後、塵芥を転写ローラ17に転写する構成が、採用されている。
なお、露光装置に搬入されるワークの汚染については、外部環境を改善することにより、かなりの程度抑えることができるものの、露光装置を構成する各露光部内では、真空吸引手段等の固定手段によってステージ表面にワークを強固に固定しなければならないので、この固定手段の作用に起因して、ワーク自体からフォトレジスト材料,基材片等が不可避的に剥落してしまう。このようにしてステージ上で発生した塵芥は、当該ワーク及びその後に当該ステージに固定されるワークの裏面に付着してしまうことになる。このようにワークの裏面に塵芥を付着させたまま次の工程に移動させると、基板のパターン形成に重大な欠陥を起こす原因ともなる。例えば、当該裏面に対して露光を行う場合には、パターンの欠陥の原因となってしまう。そのため、ステージの上面をも除塵する必要が生じる。
この点、上記特許文献1記載の装置において、ワーク(基板11)をステージ(露光テーブル18)上に固定しない状態のまま搬入キャリア14及び除塵ローラ16を動作させれば、マスク(原版12)の表面及びステージ(露光テーブル18)の表面を除塵することも可能であると、考えられる。
しかしながら、特許文献1記載の装置は、1本の粘着ローラ(除塵ローラ16)を、上方に存在するマスク(原版12)の表面の除塵用と、下方に存在するステージ(露光テーブル18)の上面の除塵用に兼用しているので、この1本の粘着ローラ(除塵ローラ16)を、上下に揺動可能に構成する必要がある。従って、特許文献1記載の装置では、粘着ローラ(除塵ローラ16)と転写ローラ17とを常時接触させる構成を採用することはできない。
何故ならば、粘着ローラ(除塵ローラ16)と転写ローラ17とを常時接触させる構成でありながら、粘着ローラ(除塵ローラ16)が上下へ揺動した際に転写ローラ17がマスク(原版12)にもステージ(露光テーブル18)にも当たらないようにするには、転写ローラ17を粘着ローラ(除塵ローラ16)よりも十分に小径なものに変更するか、転写ローラ17を粘着ローラ(除塵ローラ16)よりも大径である一般的な構成のままにするのであれば、粘着ローラ(除塵ローラ16)を転写ローラの回りを公転できるように構成しなければならないが、前者の場合には転写ローラの寿命が粘着ローラ(除塵ローラ16)よりも早く尽きてしまうという問題があり、後者の場合には機構が複雑になってしまうという問題があり、何れにしても、現実的な採用が困難だからである。
そのために、特許文献1では、転写ローラ17をステージ(露光テーブル18)外の固定位置に設置するとともに、粘着ローラ(除塵ローラ16)を当該転写ローラ17から独立して移動可能とする構成を採用したのであるが、かかる構成においては、粘着ローラ(除塵ローラ16)がマスク(原版12)及びステージ(露光テーブル18)の除塵をしている間には、当該粘着ローラ(除塵ローラ16)の粘着層に付着した塵芥が蓄積する一方となり、粘着ローラ(除塵ローラ16)の除塵能力が急激に低下してしまうという問題が生じる。特に、塵芥の量が多い場合には、粘着ローラ(除塵ローラ16)が一通りの除塵を完了して転写ローラ17に最接触するまでの間に、当該粘着ローラ(除塵ローラ16)の除塵能力が尽きてしまうという可能性も否定できない。
そこで、本願発明の課題は、露光装置の露光部において、一つの除塵装置の一連の移動によってマスクの表面とステージの表面とを一緒に除塵することが可能であるが、複雑な構成を採用せずに、除塵対象面上を転がる粘着ローラに、これよりも大径な転写ローラを常時接触させるようにし、もって、粘着ローラに付着した塵芥を直ちに当該転写ローラに転写させることによって、粘着ローラの寿命を延ばすことができる除塵装置を、提供することである。
上記の課題を解決するために案出された本発明による露光装置の第1の態様は、ワークの表面に対してマスク越しに光のパターンを露光させる露光装置であって、前記マスクを保持するマスク保持手段と、前記マスク保持手段に保持されるマスクに対向する側に、当該マスクと平行にワークを固定する固定面を有するステージと、前記マスク保持手段によって保持されるマスクと前記ステージの固定面とを相対的に接近及び離反させる移動機構と、前記マスク保持手段に保持されるマスク越しに、前記ステージの固定面に保持されるワークに向けて光を照射する光源と、フレーム,前記マスク保持手段に保持されるマスクの表面及び前記固定面と平行な回転軸によって前記フレームに軸支されて粘着層が形成された外周面を有する転写ローラ,前記転写ローラに対して外周面同士が接触するとともに当該転写ローラよりも前記マスクに近接するように前記回転軸と平行な回転軸によって前記フレームに軸支されて前記外周面に粘着層が形成された第1粘着ローラ,及び、前記転写ローラに対して外周面同士が接触するとともに当該転写ローラよりも前記ステージに近接するように前記各回転軸と平行な回転軸によって前記フレームに軸支されて前記外周面に粘着層が形成された第2粘着ローラを有するクリーニングユニットと、前記クリーニングユニットを前記回転軸に直交する面内で移動させる移動テーブルと、を備えることを特徴とする。
また、本発明による露光装置の第2の態様は、ワークの表面に対してマスク越しに光のパターンを露光させる露光装置であって、前記マスクを保持するマスク保持手段と、前記マスク保持手段に保持されるマスクに対向する側に、当該マスクと平行にワークを固定する固定面を有するステージと、前記マスク保持手段によって保持されるマスクと前記ステージの固定面とを相対的に接近及び離反させる移動機構と、前記マスク保持手段に保持されるマスク越しに、前記ステージの固定面に保持されるワークに向けて光を照射する光源と、フレーム,前記マスク保持手段に保持されるマスクの表面及び前記固定面と平行な回転軸によって前記フレームに軸支されて粘着層が形成された外周面を有する転写ローラ,前記転写ローラに対して外周面同士が接触するとともに当該転写ローラよりも前記マスクに近接するように前記回転軸と平行な回転軸によって前記フレームに軸支されて前記外周面に粘着層が形成された第1粘着ローラ,前記転写ローラに対して外周面同士が接触するように前記各回転軸と平行な回転軸によって前記フレームに軸支されて前記外周面に粘着層が形成された中間ローラ,前記転写ローラに対して外周面同士が接触するとともに当該転写ローラよりも前記ステージに近接するように前記各回転軸と平行な回転軸によって前記フレームに軸支されて前記外周面に粘着層が形成された第2粘着ローラを有するクリーニングユニットと、前記クリーニングユニットを前記回転軸に直交する面内で移動させる移動テーブルと、前記移動機構及び前記移動テーブルとを制御し、前記第1粘着ローラが前記マスク保持手段に保持されるマスクに接触すると同時に前記第2粘着ローラが前記ステージの固定面に接触した状態で、前記クリーニングユニットを前記マスクの表面及び前記固定面と平行且つ前記各回転軸に直交する方向へ移動させる制御手段とを、備えたことを特徴とする。
以上のように構成された本発明によると、クリーニングユニットのフレームには、マスク専用の第1粘着ローラと、ステージの固定面専用の第2粘着ローラとが、共に、その外周面が転写ローラの外周面に対して常時接触するように、軸支されている。従って、第1粘着ローラがマスクに接触する際に転写ローラが当該マスクに接触せぬように当該第1粘着ローラの位置を転写ローラの位置よりもマスクに近接して配置するとともに、第2粘着ローラがステージの固定面に接触する際に転写ローラが当該固定面に接触せぬように当該第2粘着ローラの位置を転写ローラの位置よりもステージに近接しているにも拘わらず、複雑な機構が不要であり、また、転写ローラの外径を各粘着ローラの外径よりも大きくすることができるので、転写ローラの粘着ローラの寿命が長くなり、塵芥の量が多くなっても十分に除塵を行うことができる。
更に、上記本発明の第2の態様によると、マスクに対する除塵とステージの固定面に対する除塵とを同時に行うことが可能となるので、除塵に要する作業時間を短くすることができる。
以上のように構成された本発明による露光装置によると、一つの除塵装置の一連の移動によってマスクの表面とステージの表面とを一緒に除塵することが可能であるが、複雑な構成を採用せずに、除塵対象面上を転がる粘着ローラに、これよりも大径な転写ローラを常時接触できるようになる。
以下、図面に基づいて本発明の実施形態を説明する。
本実施形態による露光装置は、露光及びエッチング処理後に回路配線として残る金属膜とフォトレジスト層とを両面に夫々積層してなる平面基材をワークWとし、このワークWの各面のフォトレジスト層に対して夫々コンタクト方式によってパターンを露光するものである。
<露光装置の全体構成>
図1は、本実施形態による露光装置の概略構成を示す側面透視図である。この図1に示されるように、この露光装置は、水平方向に(図1の左側から右側に向けて)、投入部1,第1露光部2,反転部3,第2露光部4,排出部5を配置することによって、構成されている。
投入部1は、作業者若しくは図示せぬロボットが、未露光のワークWを第1ハンドラ6に拾い上げさせるべく載置するためのステージ1aを有する。
図1は、本実施形態による露光装置の概略構成を示す側面透視図である。この図1に示されるように、この露光装置は、水平方向に(図1の左側から右側に向けて)、投入部1,第1露光部2,反転部3,第2露光部4,排出部5を配置することによって、構成されている。
投入部1は、作業者若しくは図示せぬロボットが、未露光のワークWを第1ハンドラ6に拾い上げさせるべく載置するためのステージ1aを有する。
この第1ハンドラ6は、図1の左右方向に延びた腕を有し、この腕の両端に夫々、ワークWを着脱自在に吸着するパッドを、昇降可能に備えている。そして、第1ハンドラ6全体を図示せぬリニアスライドによって図1の左右方向に移動することにより、図中左端のパッドによって吸着したワークWを投入部1から第1露光部2まで移送してそのステージ8上に置き去り、図中右端のパッドによって吸着したワークWを第1露光部2から反転部3まで移送して、その反転装置9内に置き去る。
第1露光部2は、投入部1から移送されたワークWの第1面にマスク10を重ね、フォトレジスト層を感光させる波長帯域の光(例えば紫外光)をこのマスク10越しに照射することによってマスク10の透光部として描かれたパターンを第1面上のフォトレジスト層に露光する装置である。そのため、この第1露光部2は、第1ハンドラ6によってワークWが載置されるとステージ8と、このワークWをマスク10に向けて接近させて接触させ、また、離反させるようにステージ8を昇降させる上昇機構55(図5参照)と、マスク10を保持するマスク保持手段としてのホルダ11と、フォトレジスト層を感光させるための光を発する光源14とから、構成されている。
光源14としては、例えば、ショートアークランプ等の点光源,若しくは、高圧ランプ等の直感式各種UVランプもしくは平面上に敷説されたLED等から、ワークWのフォトレジスト層の反応条件に依って選択される。なお、光源14から発した光線を基板に効率よく誘導するミラー、レンズ等が備えられても良い。
また、マスク10は、矩形の焼き枠に保持されたガラス,アクリル等に光を透過させるべき箇所が透光部となるように遮光部材により貼り付けられるか描かれたものである。
なお、ステージ8の上面は、ホルダ11に保持されたマスク10の表面と平行となっており、図示せぬ吸引ポンプに連通する多数の吸引口が開けられている。これら吸引口を通じて空気が吸引されることによって、このステージ8の上面に、マスク10の表面と平行に、ワークWが吸着固定される(即ち、当該上面が固定面として機能する)。なお、上記とは逆に、上昇機構55がマスク10を保持するホルダ11を下降させることによって、ステージ8に接近させても良い。従って、当該上昇機構55が、ホルダ11によって保持されるマスク10とステージ8の固定面とを相対的に接近又は離反させる移動機構に、相当する。
なお、図1においては、ハンドラ6がマスク10の直下に在るように描かれているが、マスク10は、第1ハンドラ6に対して紙面に直行する方向にずれた位置に配置されていても良い。この場合には、ステージ8には、昇降する機能の他、紙面に直行する方向に水平移動する機能が備わっている必要がある。かかる構成が採用されると、テーブル8の昇降に際して第1ハンドラ6を退避させる必要がなくなり、また、光源14から漏れ光の遮光が容易となる。なお、投入部1と第1露光部2との間に設けられ、第1露光部2のマスク10下面とステージ8上面とを除塵するためのクリーニングユニット12については、後で詳しく説明する。
反転部3は、第1ハンドラ6によって第1露光部2から移送された第1面が露光済みのワークWを反転するための反転装置9及び、この反転装置9によって反転されたワークWの第2面を除塵するためのクリーニングユニット13を、内蔵している。
第2露光部4は、第1露光部2と同一の構成を有している。従って、図1において、第1露光部2と共通する第2露光部4の部品には、第1露光部2のものと同じ番号を付し、個々の説明を省略する。
第2ハンドラ7は、図1の左右方向に延びた腕を有し、この腕の両端に夫々、ワークWを着脱自在に吸着するパッドを、昇降可能に備えている。そして、第2ハンドラ7全体を図示せぬリニアスライドによって図1の左右方向に移動することにより、図中左端のパッドによって吸着したワークWを反転部3から第2露光部4まで移送してそのステージ8上に置き去り、図中右端のパッドによって吸着したワークWを第2露光部4から排出部5まで移送して、排出部5のステージ5a上に置き去る。このようにして排出部5のステージ5a上に置かれた露光済みのワークWは、作業者若しくは図示せぬロボットによって取り出されて、次の処理工程に移動される。なお、第2露光部4と排出部5との間に設けられ、第2露光部4のマスク10下面とステージ8上面とを除塵するためのクリーニングユニット12については、後で詳しく説明する。
<各露光部のクリーニングユニット>
図2は、各露光部2,4中のクリーニングユニット12の全体を、図1における左上に視点を置いてみた状態を示す斜視図である。便宜上、各ハンドラ6,7によるワークWの移送方向を「z方向」と称し、ステージ8の昇降方向(鉛直方向)を「y方向」と称し、z方向及びy方向に夫々直交する方向を「x方向」と称する。
図2は、各露光部2,4中のクリーニングユニット12の全体を、図1における左上に視点を置いてみた状態を示す斜視図である。便宜上、各ハンドラ6,7によるワークWの移送方向を「z方向」と称し、ステージ8の昇降方向(鉛直方向)を「y方向」と称し、z方向及びy方向に夫々直交する方向を「x方向」と称する。
図2に示されるように、クリーニングユニット12は、移動テーブルとしてのY−Zテーブル40によって、各露光部2,4内に保持されている。このZ−Yテーブル40は、y方向に向けて各露光部2,4の図示せぬフレームに固定された一対のガイドレール41,41と、各ガイドレール41によって夫々y方向にスライド自在に保持された一対のyテーブル42,42と、z方向に向けて両yテーブル42,42の間に掛け渡されたガイドレール43と、このガイドレールによってz方向にスライド自在に保持されたzテーブル44と、x方向に向けてzテーブル44から突出するように固定されたステー45とから、構成される。なお、各yテーブル42,42及びzテーブル44は、夫々、内蔵するアクチュエータによって各ガイドレール41,43に対してスライドし且つ位置決めされる。
各クリーニングユニット12は、図2に示すような箱形のフレーム12aに収容されており、その上流側(図1における左側)の下縁及び上縁が切り欠かれている。これら各切り欠きによって形成された各開口からは、x方向に向けてフレーム12a内に掛け渡された各回転軸57a,57aを中心として回転可能に軸支された各粘着ローラ57,57の外周面の一部が、夫々突出している。これら各粘着ローラ57,57は、粘着層が形成された外周面を有する。
図3は、各クリーニングユニット12を上流側から見た状態を示す透視図であるが、この図3及び上述した図1に示されるように、両粘着ローラ57,57は、これと平行にフレーム12a内に掛け渡された回転軸58aを介して回転自在に軸支された転写ローラ58に対して外周面同士が接触している。この転写ローラ58は、各粘着ローラ57,57よりも十分に大径である。そして、上側の粘着ローラ(第1粘着ローラ)57は、転写ローラ58よりもマスクに近接して配置されており、下側の粘着ローラ(第2粘着ローラ)57は、転写ローラ58よりもマスクに近接して配置されている。
転写ローラ58の外周面には、粘着ローラ57,57の外周面の粘着層よりも粘着力の強い粘着テープが、その粘着面を外側に向けて巻き付けられている。そして、この転写ローラ58は、フレーム12aの側面に固定され且つ回転軸58aに直結された駆動モータ53によって、回転駆動される。従って、この駆動モータ53によって転写ローラ58が回転することによって、各粘着ローラ57,57が従動し、その回転方向と逆向きにクリーニングユニット12全体がy−zテーブル40により移動されることにより除塵対象面上を転がり、除塵対象面上に付着していた塵芥をその外周面に付着させる。このようにして粘着ローラ46の外周面に付着した塵芥は、転写ローラ47の表面に転写されることによりこの転写ローラ48に集められる。このようにして転写ローラ47によって回収された塵芥は、転写ローラ48の外周面から粘着テープを一巻分剥ぎ取られることによって、廃棄されるのである。
なお、駆動モータ53は、転写ローラ58の回転軸58aに直接固定されていなくても良く、例えば、他の位置に固定されていてベルト等の伝達手段を介して転写ローラ58を駆動する構成となっていても良い。また、駆動モータ53は、何れかの転写ローラ59に結像されていても良い。
<各露光部の制御>
上述した各露光部2,4のステージ8の上昇機構55,及び吸引ポンプ54,光源14,Y−Zテーブル40,並びに駆動モータ53は、夫々、図4に示すように、各露光部2,4全体の動作を制御する制御装置である第1露光部コントローラ56及び第2露光部コントローラ51に接続され、これら第1露光部コントローラ56及び第2露光部コントローラ51から制御信号及び駆動電力を供給されて、所定のシーケンスに従った動作を行う。なお、これら第1露光部コントローラ56及び第2露光部コントローラ51自体は、露光装置全体の動作を制御する制御装置である全体コントローラ50に接続され、この全体コントローラ50によって動作タイミング等を制御される。
上述した各露光部2,4のステージ8の上昇機構55,及び吸引ポンプ54,光源14,Y−Zテーブル40,並びに駆動モータ53は、夫々、図4に示すように、各露光部2,4全体の動作を制御する制御装置である第1露光部コントローラ56及び第2露光部コントローラ51に接続され、これら第1露光部コントローラ56及び第2露光部コントローラ51から制御信号及び駆動電力を供給されて、所定のシーケンスに従った動作を行う。なお、これら第1露光部コントローラ56及び第2露光部コントローラ51自体は、露光装置全体の動作を制御する制御装置である全体コントローラ50に接続され、この全体コントローラ50によって動作タイミング等を制御される。
以下、各露光部コントローラ51,56が各露光部2,4のクリーニングユニット12を制御するシーケンスを、図5乃至図10に基づいて、説明する。なお、第1露光部コントローラ51が行う制御と第2露光部コントローラ56が行う制御とは、動作タイミング及びクリーニングユニット12の退避位置(第1露光部2のクリーニングユニット12は搬入部1内,第2露光部4のクリーニングユニット12は排出部5内)が異なるのみで、それ以外は全く同じである。そこで、第2露光部コントローラ51を例にとって、以下の説明を行う。
図5は、第2露光部4において、ステージ8上に吸引ポンプ54によって吸着されたワークWを、当該ステージ8を上昇機構55によって上昇させることによって、マスク10に当接させた状態を示している。この状態において、第2露光部コントローラ51は、光源14を発光させることにより、マスク10越しにワークWの第2面を露光して、マスク10に描かれたパターンを露光する。この際、クリーニングユニット12は、第2露光部コントローラ51によって制御されたY−Zテーブル40によって、排出部5内に退避されている。
次に、第2露光部コントローラ51は、上昇機構55を制御することにより、ステージ8を、その上面がパスレベルと面一となるまで下降させるとともに、吸引ポンプ54を停止させる。この状態においてハンドラ7がステージ8上のワークWを把持し(図6参照)、排出部5に移動させる(図1参照)。
次に、第2露光部コントローラ51は、Y−Zテーブル40を制御することにより、クリーニングユニット12を図7に示す初期位置,即ち、上側の粘着ローラ(第1粘着ローラ)57がマスク10の下面における一端に当接した位置に、移動させる。なお、図7に描かれた破線は、Y−Zテーブル40を制御するために予め第2露光部コントローラ51に設定されているクリーニングユニット12の移動軌跡である(図においては、上側の粘着ローラ57の中心の移動軌跡として示した)。即ち、第2露光部コントローラ51は、この破線に示す移動軌跡に沿ってクリーニングユニット12を移動させるように、Y−Zテーブル40を制御するのである。
具体的には、クリーニングユニット12は、先ず、図7に示す位置から図8に示す位置までz方向に水平移動する。この間、第2露光部コントローラ51は、駆動モータ53を回転させることにより、上側の粘着ローラ57を、クリーニングユニット12自体の移動速度と一致にするその周速にて、図中反時計方向に回転させる。これによって、マスク10の下面を粘着ローラ57が加圧しつつ転がり、マスク10の下面が除塵される。
次に、ステージ8が若干量上昇するとともに、クリーニングユニット12が図8に示す位置から図9に示す位置まで下降して、その下側の粘着ローラ(第2粘着ローラ)57をステージ8の上面に接触させる。
次に、クリーニングユニット12は、図9に示す位置から図10に示す位置までz方向に水平移動する。この間、駆動モータ53が同方向に回転し続けているので、下側の粘着ローラ(第2粘着ローラ)57が、クリーニングユニット12自体の移動速度と一致にするその周速にて、図中反時計方向に回転している。これによって、ステージ8の上面を粘着ローラ57が転がり、ステージ8の上面が除塵される。
なお、図11は、第1露光部2においてはマスク10の下面の除塵がなされ、反転部3においてはワークWの第2面の除塵がなされ、第2露光部4においてはステージ8の上面の除塵がなされている状態を示している。
なお、各露光部2,4において除塵をするタイミングは、ステージ8とマスク10との間に空間ができるタイミングであれば良く、予め一定の露光サイクルで除塵が開始されても良いし、任意の露光が完了して、ワークWが排出したタイミングで除塵が開始されても良い。
<本実施形態による利点>
本実施例において各露光部2,4のクリーニングユニット12は、上下に粘着ローラ57,57を備えており、夫々、同一の転写ローラ58に接触している。かかる構成を採用することにより、本実施形態によれば、一台のクリーニングユニット12をz方向に往復させる間に、一往復する間にマスク10の下面とステージ8の上面とを除塵することができる。このような効果は、粘着ローラが一本しかないクリーニングユニットによっても、可能ではある。しかし、それを実現するには、粘着ローラを転写ローラよりも大径なものにしたり、粘着ローラを転写ローラに対して公転自在に構成したり、粘着ローラを転写ローラから独立して移動させるといった工夫が必要となる。しかしながら、粘着ローラを転写ローラよりも大径なものにするならば、転写ローラの寿命が短くなってしまうという問題が生じ、粘着ローラを転写ローラに対して公転自在に構成するには機構が複雑化してコストや重量が大きなってしまうという問題が生じ、粘着ローラを転写ローラから独立して移動させるならば、除塵途中で粘着ローラの粘着力が落ちてしまうという問題が生じる。本実施形態では、クリーニングユニット12は、マスク下面用として転写ローラ58よりも高い位置に設置した粘着ローラ57と、ステージ上面用として転写ローラ58よりも低い位置に設置した粘着ローラ57とを予め備えているので、かかる問題が一切生じないというメリットがある。
本実施例において各露光部2,4のクリーニングユニット12は、上下に粘着ローラ57,57を備えており、夫々、同一の転写ローラ58に接触している。かかる構成を採用することにより、本実施形態によれば、一台のクリーニングユニット12をz方向に往復させる間に、一往復する間にマスク10の下面とステージ8の上面とを除塵することができる。このような効果は、粘着ローラが一本しかないクリーニングユニットによっても、可能ではある。しかし、それを実現するには、粘着ローラを転写ローラよりも大径なものにしたり、粘着ローラを転写ローラに対して公転自在に構成したり、粘着ローラを転写ローラから独立して移動させるといった工夫が必要となる。しかしながら、粘着ローラを転写ローラよりも大径なものにするならば、転写ローラの寿命が短くなってしまうという問題が生じ、粘着ローラを転写ローラに対して公転自在に構成するには機構が複雑化してコストや重量が大きなってしまうという問題が生じ、粘着ローラを転写ローラから独立して移動させるならば、除塵途中で粘着ローラの粘着力が落ちてしまうという問題が生じる。本実施形態では、クリーニングユニット12は、マスク下面用として転写ローラ58よりも高い位置に設置した粘着ローラ57と、ステージ上面用として転写ローラ58よりも低い位置に設置した粘着ローラ57とを予め備えているので、かかる問題が一切生じないというメリットがある。
<露光装置の全体構成>
図12は、本発明の第2実施形態による露光装置の全体構成を示す側面透視図である。この図12に示されるように、本発明の第2実施形態は、上述した第1実施形態のものと比較して、各露光部2,4におけるクリーニングユニット21の構成,及び、各露光部コントローラ51,56によるx−zテーブル40及び上昇機構55に対する制御内容のみが異なり、その他の構成を共通とする。従って、図12においては、第1実施形態についての図1に示す構成と共通する要素については図1と同じ番号を付して、その説明を省略する。
図12は、本発明の第2実施形態による露光装置の全体構成を示す側面透視図である。この図12に示されるように、本発明の第2実施形態は、上述した第1実施形態のものと比較して、各露光部2,4におけるクリーニングユニット21の構成,及び、各露光部コントローラ51,56によるx−zテーブル40及び上昇機構55に対する制御内容のみが異なり、その他の構成を共通とする。従って、図12においては、第1実施形態についての図1に示す構成と共通する要素については図1と同じ番号を付して、その説明を省略する。
<各露光部のクリーニングユニット>
本実施形態による各露光部2,4のクリーニングユニット21も、図2に示すものと同じy−zテーブルによって支持されており、y−z平面内において所定の軌道を描くように移動される。
本実施形態による各露光部2,4のクリーニングユニット21も、図2に示すものと同じy−zテーブルによって支持されており、y−z平面内において所定の軌道を描くように移動される。
また、各クリーニングユニット21は、箱形のフレーム21aに収容されており、その上流側(図1における左側)の下縁及び上縁が切り欠かれている。これら各切り欠きによって形成された各開口からは、x方向に向けてフレーム21a内に掛け渡された各回転軸57a,57aを中心として回転可能に軸支された各粘着ローラ57,57の外周面の一部が、夫々突出している。これら粘着ローラ57,57は、粘着層が形成された外周面を有する。
図13は、各クリーニングユニット21を上流側から見た状態を示す透視図である。
図13は、各クリーニングユニット21を上流側から見た状態を示す透視図である。
が、この図13及び上述した図1に示されるように、上側の粘着ローラ(第1粘着ローラ)57は、これと平行にフレーム21a内に掛け渡された回転軸58aを介して回転自在に軸支された転写ローラ58に対してその外周面同士が直接接触している。この転写ローラ58は、各粘着ローラ57,57よりも十分に大径であり、上側の粘着ローラ(第1粘着ローラ)57は、この転写ローラ58よりもマスクに近接して配置されている。
転写ローラ58の外周面には、粘着ローラ57,57の外周面の粘着層よりも粘着力の強い粘着テープが、その粘着面を外側に向けて巻き付けられている。そして、この転写ローラ58は、フレーム21aの側面に固定され且つ回転軸58aに直結された駆動モータ53によって、回転駆動される。従って、この駆動モータ53によって転写ローラ58が回転することによって、上側の粘着ローラ(第1粘着ローラ)57が従動し、その回転方向と逆向きにクリーニングユニット13全体がy−zテーブル40により移動されることにより除塵対象面上を転がり、除塵対象面上に付着していた塵芥をその外周面に付着させる。このようにして粘着ローラ46の外周面に付着した塵芥は、転写ローラ47の表面に転写されることによりこの転写ローラ47に集められる。
また、下側の粘着ローラ57は、これと平行にフレーム21a内に掛け渡された回転軸22aを介して回転自在に軸支された中間ローラ22に対して、その外周面同士が接触している。この中間ローラ22は、また、転写ローラ58に対してその外周面同士が接触している。そして、下側の粘着ローラ(第2粘着ローラ)57は、この転写ローラ58よりもステージ8に近接している。
上記中間ローラ22の外径は、粘着ローラ57よりも大径且つ転写ローラ58よりも小径であり、その外周面に形成された粘着層の粘着力は、粘着ローラ57のものよりも強く転写ローラ58のものよりも弱い。従って、上述したように駆動モータ53によって転写ローラ58が回転駆動されると、中間ローラ22を介して、下側の粘着ローラ(第2粘着ローラ)57が、上側の粘着ローラ57とは逆方向に回転する。そして、その回転方向と逆向きにクリーニングユニット13全体がy−zテーブル40により移動されることにより、下側の粘着ローラ57が除塵対象面上を転がり、これにより、下側の粘着ローラ57の表面に付着した塵芥は、これよりも粘着力が強い中間ローラ22に転写され、更に、より粘着力の強い転写ローラ58に転写される。
以上のようにして各粘着ローラ57,57によって各除塵対象面から除塵された塵芥は、何れも、転写ローラ47に集められる。そして、集められた塵芥は、転写ローラ48の外周面から粘着テープを一巻分剥ぎ取られることによって、廃棄されるのである。
なお、駆動モータ53は、転写ローラ58の回転軸58aに直接固定されていなくても良く、例えば、他の位置に固定されていてベルト等の伝達手段を介して転写ローラ58を駆動する構成となっていても良い。また、駆動モータ53は、何れかの転写ローラ59又は中間ローラ22に結像されていても良い。
<各露光部の制御>
次に、第2実施形態において、各露光部コントローラ51,56が各露光部2,4のクリーニングユニット21を制御するシーケンスを、図14乃至図21に基づいて、説明する。本第2実施形態においても、第1露光部コントローラ51が行う制御と第2露光部コントローラ56が行う制御とは、動作タイミング及びクリーニングユニット21の退避位置(第1露光部2のクリーニングユニット21は搬入部1内,第2露光部4のクリーニングユニット21は排出部5内)が異なるのみで、それ以外は全く同じである。そこで、第2露光部コントローラ51を例にとって、以下の説明を行う。
次に、第2実施形態において、各露光部コントローラ51,56が各露光部2,4のクリーニングユニット21を制御するシーケンスを、図14乃至図21に基づいて、説明する。本第2実施形態においても、第1露光部コントローラ51が行う制御と第2露光部コントローラ56が行う制御とは、動作タイミング及びクリーニングユニット21の退避位置(第1露光部2のクリーニングユニット21は搬入部1内,第2露光部4のクリーニングユニット21は排出部5内)が異なるのみで、それ以外は全く同じである。そこで、第2露光部コントローラ51を例にとって、以下の説明を行う。
図14は、第2露光部4において、ステージ8上に吸引ポンプ54によって吸着されたワークWを、当該ステージ8を上昇機構55によって上昇させることによって、マスク10に当接させた状態を示している。この状態において、第2露光部コントローラ51は、光源14を発光させることにより、マスク10越しにワークWの第2面を露光して、マスク10に描かれたパターンを露光する。この際、クリーニングユニット12は、第2露光部コントローラ51によって制御されたY−Zテーブル40によって、排出部5内に退避されている。
次に、第2露光部コントローラ51は、上昇機構55を制御することにより、ステージ8を、その上面がパスレベルと面一となるまで下降させるとともに、吸引ポンプ54を停止させる。この状態においてハンドラ7がステージ8上のワークWを把持し(図15参照)、排出部5に移動させる。
次に、第2露光部コントローラ51は、y−zテーブル40を制御することにより、クリーニングユニット12をマスク10とステージ8との間の空間に進入させ(図16)、上側の粘着ローラ(第1粘着ローラ)57がマスク10の下面における一端の直下となる位置まで移動させる。
次に、第2露光部コントローラ51は、y−zテーブル40を制御することにより、上側の粘着ローラ57がマスク10の下面における一端に当接する位置までクリーニングユニット21を移動させ、更に、マスク10に微圧力を掛ける。また、クリーニングユニット21の上側の粘着ローラ57がマスク10に当接するタイミングに合わせて、第2露光部コントローラ51は、上昇機構55を制御することにより、ステージ8を上昇させ、その上面をクリーニングユニット21の下側の粘着ローラ(第2粘着ローラ)57に当接させ、更に、当該粘着ローラ57に微圧力を掛ける(図17)。
次に、第2露光部コントローラ51は、駆動モータ53を駆動することにより転写ローラ58を図中時計方向に回転させる。すると、上側の粘着ローラ57は図中反時計方向に回転し、下側の粘着ローラ57は、中間ローラ22の介在により、上側の粘着ローラ57と同じ回転速度で図中時計方向57に回転しようとする。そこで、第2露光部コントローラ51は、y−zテーブル40を制御することにより、各粘着ローラ57の周速に同期した速度で、クリーニングユニット21を図17に示す位置から図18に示す位置まで、z方向に移動させる。この移動中に、上側の粘着ローラ57がマスク10の下面に接触しながら転がるので当該下面が除塵されると同時に、下側の粘着ローラ57がステージ8の上面に接触しながら転がるので当該上面が除塵される。即ち、クリーニングユニット21の一方向への移動によって、これら両面に対する除塵が一挙に完了する。
第2露光部コントローラ51は、図示せぬセンサからの出力に拠り、クリーニングユニット21がステージ8の他端に到達したことを確認すると、上昇機構55を制御することにより、ステージ8を、その上面がパスレベルと面一となるまで下降させ(図19)、更に、y−zテーブル40を制御することにより、クリーニングユニット12を若干量降下させて、マスク10に対する圧力を開放する方向に退避させる(図20参照)。
最後に、第2露光部コントローラ51は、y−zテーブル40を制御することにより、クリーニングユニット21を、除塵時の移動速度とは異なる高速度でz方向に移動して、排出部5に回収する。
なお、図11は、第1露光部2においてはマスク10及びステージ8に対する除塵が完了し(図18の段階)、第2露光部4においては除塵を行う直前である状態を、示している。
<本実施形態による利点>
以上のように構成された本実施形態の露光装置によると、上述した第1実施形態による利点が全て得られる他、マスク10の下面に対する除塵とステージ8の上面に対する除塵とを同時に完了させることができるので、クリーニングユニット21が投入部1又は排出部5から出発して一連の除塵を完了してから再び投入部1又は排出部5に帰還するまでの時間,即ち、露光ステップ以外のタイムダウンを最小限に抑えることができる。また、上側の粘着ローラ57をマスク10に加圧するとともにステージを下側の粘着ローラ57に加圧する圧力は、ステージ8の上昇機構55によって付与することができるので、z−yステージ40の強度をあまり上げる必要がない。よって、この点においてコストダウンを実現することができる。
以上のように構成された本実施形態の露光装置によると、上述した第1実施形態による利点が全て得られる他、マスク10の下面に対する除塵とステージ8の上面に対する除塵とを同時に完了させることができるので、クリーニングユニット21が投入部1又は排出部5から出発して一連の除塵を完了してから再び投入部1又は排出部5に帰還するまでの時間,即ち、露光ステップ以外のタイムダウンを最小限に抑えることができる。また、上側の粘着ローラ57をマスク10に加圧するとともにステージを下側の粘着ローラ57に加圧する圧力は、ステージ8の上昇機構55によって付与することができるので、z−yステージ40の強度をあまり上げる必要がない。よって、この点においてコストダウンを実現することができる。
<変形例>
上述した各実施形態では、ステージ8の上面を除塵対象としたが、ステージ8の上面にワークWを固定した状態でクリーニングユニット12,21を作動させれば、ワークWの露光対象面を除塵対象とすることができる。
上述した各実施形態では、ステージ8の上面を除塵対象としたが、ステージ8の上面にワークWを固定した状態でクリーニングユニット12,21を作動させれば、ワークWの露光対象面を除塵対象とすることができる。
2 第1露光部
4 第2露光部
8 ステージ
10 マスク
12 クリーニングユニット
14 光源
21 クリーニングユニット
22 中間ローラ
49 反転部コントローラ
50 全体コントローラ
51 第2露光部コントローラ
53 駆動モータ
55 昇降機構
56 第1露光部コントローラ
57 粘着ローラ
58 転写ローラ
4 第2露光部
8 ステージ
10 マスク
12 クリーニングユニット
14 光源
21 クリーニングユニット
22 中間ローラ
49 反転部コントローラ
50 全体コントローラ
51 第2露光部コントローラ
53 駆動モータ
55 昇降機構
56 第1露光部コントローラ
57 粘着ローラ
58 転写ローラ
Claims (6)
- ワークの表面に対してマスク越しに光のパターンを露光させる露光装置であって、
前記マスクを保持するマスク保持手段と、
前記マスク保持手段に保持されるマスクに対向する側に、当該マスクと平行にワークを固定する固定面を有するステージと、
前記マスク保持手段によって保持されるマスクと前記ステージの固定面とを相対的に接近及び離反させる移動機構と、
前記マスク保持手段に保持されるマスク越しに、前記ステージの固定面に保持されるワークに向けて光を照射する光源と、
フレーム,前記マスク保持手段に保持されるマスクの表面及び前記固定面と平行な回転軸によって前記フレームに軸支されて粘着層が形成された外周面を有する転写ローラ,前記転写ローラに対して外周面同士が接触するとともに当該転写ローラよりも前記マスクに近接するように前記回転軸と平行な回転軸によって前記フレームに軸支されて前記外周面に粘着層が形成された第1粘着ローラ,及び、前記転写ローラに対して外周面同士が接触するとともに当該転写ローラよりも前記ステージに近接するように前記各回転軸と平行な回転軸によって前記フレームに軸支されて前記外周面に粘着層が形成された第2粘着ローラを有するクリーニングユニットと、
前記クリーニングユニットを前記回転軸に直交する面内で移動させる移動テーブルと
を備えることを特徴とする露光装置。 - 前記移動テーブルは、前記クリーニングユニットを所定の経路に沿って移動させることにより、前記第1粘着ローラを前記保持手段によって保持されるマスクの表面上を転がせて行う当該マスクの表面に対する除塵,及び、前記第2粘着ローラを前記ステージの固定面上を転がさせて行う当該固定面に対する除塵を する
ことを特徴とする請求項1記載の露光装置。 - 前記移動テーブルは、前記クリーニングユニットを所定の経路に沿って移動させることにより、前記第1粘着ローラを前記保持手段によって保持されるマスクの表面上を転がせてから、前記第2粘着ローラをステージの固定面によって固定されたマスクの表面上を転がせる
ことを特徴とする請求項1記載の露光装置。 - 前記移動機構によって前記マスク保持手段によって保持されるマスクと前記ステージの固定面とを相対的に離反させた状態において、前記移動テーブルを動作させる制御手段を、更に備えたことを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載された露光装置。
- ワークの表面に対してマスク越しに光のパターンを露光させる露光装置であって、
前記マスクを保持するマスク保持手段と、
前記マスク保持手段に保持されるマスクに対向する側に、当該マスクと平行にワークを固定する固定面を有するステージと、
前記マスク保持手段によって保持されるマスクと前記ステージの固定面とを相対的に接近及び離反させる移動機構と、
前記マスク保持手段に保持されるマスク越しに、前記ステージの固定面に保持されるワークに向けて光を照射する光源と、
フレーム,前記マスク保持手段に保持されるマスクの表面及び前記固定面と平行な回転軸によって前記フレームに軸支されて粘着層が形成された外周面を有する転写ローラ,前記転写ローラに対して外周面同士が接触するとともに当該転写ローラよりも前記マスクに近接するように前記回転軸と平行な回転軸によって前記フレームに軸支されて前記外周面に粘着層が形成された第1粘着ローラ,前記転写ローラに対して外周面同士が接触するように前記各回転軸と平行な回転軸によって前記フレームに軸支されて前記外周面に粘着層が形成された中間ローラ,前記転写ローラに対して外周面同士が接触するとともに当該転写ローラよりも前記ステージに近接するように前記各回転軸と平行な回転軸によって前記フレームに軸支されて前記外周面に粘着層が形成された第2粘着ローラを有するクリーニングユニットと、
前記クリーニングユニットを前記回転軸に直交する面内で移動させる移動テーブルと、
前記移動機構及び前記移動テーブルとを制御し、前記第1粘着ローラが前記マスク保持手段に保持されるマスクに接触すると同時に前記第2粘着ローラが前記ステージの固定面に接触した状態で、前記クリーニングユニットを前記マスクの表面及び前記固定面と平行且つ前記各回転軸に直交する方向へ移動させる制御手段と
を備えたことを特徴とする露光装置。 - 前記転写ローラを回転駆動するために前記フレームに固定されたモータを
更に備えたことを特徴とする請求項1乃至5の何れかに記載の露光装置。
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