TWI553424B - Exposure device - Google Patents

Description

曝光裝置

本發明是關於一種曝光裝置，使基板的感光面與形成有圖案(pattern)的罩幕板(mask board)面對面，藉由使基板的感光面曝光而將圖案轉印至基板之曝光裝置。

以往已知有各種以使基板的感光面與形成有圖案的罩幕(mask)面對面的狀態，藉由使基板的感光面曝光而將圖案轉印至基板之曝光裝置。在這種曝光裝置中，不只是對基板的感光面進行除塵，對罩幕板與基板面對面的罩幕側的面(稱為罩幕板的圖案面)進行除塵也很重要。此乃因若在罩幕板的圖案面存在塵埃，則在曝光時連塵埃也會與形成在罩幕的圖案一起被轉印，發生該基板成為不良品的不良狀況。

為了防止這種不良狀況的發生，以往提出有一種曝光裝置，不只是基板的感光面，也能進行罩幕板的圖案面的除塵(例如參照專利文獻1)。

圖8是為了說明專利文獻1所記載的曝光裝置900而顯示之圖。揭示於專利文獻1的曝光裝置900(以下稱為習知的曝光裝置900)如圖8所示具有：基板供給平台901；定位平台902；曝光平台903；搬出平台904；基板保持平台905；對基板906的感光面進行除塵之當作基板除塵部的基板除塵輥907；及對罩幕板908的圖案面進行除塵之當作罩幕除塵部的罩幕除塵輥909。

基板保持平台905具有可在圖8中的沿著z軸的方向升降的吸附板910。吸附板910是對成為曝光對象的基板906進行吸附、吸附解除的構件，可與基板保持平台905一起往復運動於沿著x軸的方向。

基板除塵輥907被安裝於定位平台902，雖然沿著x軸的位置係固定，但是可朝沿著z軸的方向進行升降動作。另一方面，罩幕除塵輥909被安裝於基板保持平台905，可與基板保持平台905一起沿著x軸行進，並且可朝沿著z軸的方向進行升降動作。此外，基板除塵輥907及罩幕除塵輥909的升降動作藉由在圖8中未圖示的驅動機構而進行。

在這種習知的曝光裝置900中，以成為曝光對象的基板906被承載於基板供給平台901上的狀態當作初始狀態時，在該初始狀態中，基板除塵輥907成為下降的狀態(被收納於定位平台902內的狀態)，罩幕除塵輥909成為上升的狀態(被收納於基板保持平台905的內部的狀態)。而且，在該初始狀態中，基板保持平台905位於與基板供給平台901對向的位置，吸附板910已上升。因此，吸附板910位於由承載於基板供給平台901上的基板906離開的位置。

在這種初始狀態中，首先，吸附板910由基板保持平台905下降並吸附保持基板906，該吸附板910上升。在該狀態下基板保持平台905沿著x軸往圖8中的右方向行進。然後，基板保持平台905一到達定位平台902上，吸附板910就下降並將基板906承載於定位平台902上，吸附板910解除基板906的吸附並上升。

然後，定位平台902進行基板906的定位。另一方面，基板除塵輥907藉由驅動機構而上升，成為由定位平台902突出於上方的狀態，並且罩幕除塵輥909藉由驅動機構而下降，並成為由基板保持平台905突出於下方的狀態。然後，吸附板910下降並吸附基板906而上升。此時，如圖8所示，基板除塵輥907位於比基板906還靠行進方向的前方側，罩幕除塵輥909位於比罩幕板908還靠行進方向的後方側。

藉由在該狀態下基板保持平台905沿著x軸進一步行進，使被吸附板910吸附保持的基板906也與基板保持平台905一起行進。此時，基板除塵輥907接觸基板906的感光面，在該狀態下基板906行進而去。據此，基板906的感光面藉由基板除塵輥907而被除塵。

另一方面，罩幕除塵輥909與基板保持平台905一起行進。此時，由於罩幕除塵輥909一邊接觸罩幕板908的表面一邊行進，因此罩幕板的圖案面藉由罩幕除塵輥909而被除塵。

然後，基板保持平台905一到達曝光平台903上時，吸附板910就下降並使基板906密著於曝光平台903的罩幕板908的表面之後，吸附板910上升，基板保持平台905沿著x軸往相反方向(圖示的左方向)返回而去。

如此，在基板保持平台905朝曝光平台903進行行進動作的過程中，可藉由基板除塵輥907及罩幕除塵輥909進行基板906的除塵及罩幕板908的除塵。

[專利文獻1]：日本國特許第2847808號公報

在習知的曝光裝置900中，基板除塵輥907及罩幕除塵輥909配設用以使該基板除塵輥907及罩幕除塵輥909升降的驅動機構，藉由該驅動機構，使基板除塵輥907及罩幕除塵輥909升降，並且藉由該驅動機構，以規定的緊壓力並以適當的緊壓力接觸基板906的感光面及罩幕板908的表面。此外，例如舉例說明氣缸(air cylinder)等當作驅動機構。

如此，在習知的曝光裝置900中，需要配設用以使基板除塵輥907及罩幕除塵輥909升降的驅動機構，而且，雖然在專利文獻1未明示，但是需要進行使基板除塵輥907及罩幕除塵輥909升降時的時序控制或緊壓力的控制等。因此，為了進行這種控制需要作成控制程式，並且也需要進行依照該控制程式的控制的控制裝置。如此，在習知的曝光裝置900中有用以進行基板及罩幕板的圖案面的除塵的機構全體變得複雜之課題。

而且，在習知的曝光裝置900中，在基板保持平台905沿著x軸行進的過程中，反復進行使吸附板910升降並對基板906進行吸附、吸附解除的動作。

也就是說，進行如下的動作：吸附板910吸附承載於基板供給平台901的基板906之後，基板保持平台905一到達定位平台902上，吸附板910就在定位平台902上下降並解除吸附，將基板906承載於定位平台902上之後再度上升，定位結束後，吸附板910再度下降而吸附基板906並上升，然後，基板保持平台905一到達曝光平台903上，吸附板910就在曝光平台903上下降並解除吸附，將基板906承載於曝光平台903上之後再度上升。

如此，習知的曝光裝置900需要進行如下的動作：除了基板保持平台905行進的動作之外，還需在定位平台902上及曝光平台903上等吸附板910每次進行升降動作，進行對基板906進行吸附、吸附解除的動作。因此，習知的曝光裝置900將基板供給平台901的基板906運送至曝光平台903為止需要許多的時間，在使大量的基板高速曝光的情形下留下課題。

本發明是鑒於上述情況所進行的創作，其目的在於提供一種曝光裝置，可簡化用以對基板的感光面及罩幕板的圖案面進行除塵的機構全體，並且可使大量的基板高速曝光。

[1]、本發明的曝光裝置是使基板的感光面與罩幕板的圖案面面對面並使前述基板的感光面曝光，其特徵在於包含：基板保持平台，在保持前述基板的狀態下，可沿著x軸往復運動於由x軸及y軸形成的xy平面，且可沿著正交於xy平面的z軸升降；曝光平台，在突出於該罩幕板的厚度方向的狀態下保持該罩幕板；以前述基板保持平台沿著x軸朝向前述罩幕板的側當作前方側，以與該前方側相反側當作後方側，以緊壓前述罩幕板的圖案面的方向當作第一方向，以緊壓前述基板的感光面的方向當作第二方向時，包含：罩幕除塵部，安裝於由前述基板保持平台的前方側的端部突出於前方側的突出部，藉由與前述基板保持平台一起往前方側行進而在前述第一方向的力作用的狀態下對前述罩幕板的圖案面進行除塵而去；基板除塵部，安裝於基板除塵部支撐板，該基板除塵部支撐板配置於比前述基板保持平台位於初始位置時的該基板保持平台還靠前方側，且比前述曝光平台還靠後方側的規定位置，藉由前述基板保持平台由前述初始位置往前方側行進而在前述第二方向的力作用的狀態下對前述基板的感光面進行除塵而去；基板保持平台驅動機構部，用以使前述基板保持平台可沿著x軸往復運動並且可沿著z軸升降；及基板保持平台控制裝置，藉由控制前述基板保持平台驅動機構部而控制前述基板保持平台的往復運動及升降。

依照本發明的曝光裝置，由於無須用以使罩幕除塵部及基板除塵部升降的驅動機構，而且，無須進行使罩幕除塵部及基板除塵部升降時的時序控制或緊壓力的控制等，因此也無須用以進行這種控制的控制裝置。據此，依照本發明的曝光裝置，可簡化用以對罩幕板的圖案面及基板的感光面進行除塵的機構全體。

而且，依照本發明的曝光裝置，由於基板保持平台在保持了基板的狀態下行進而去，因此在基板保持平台行進而去的過程中，不會進行解除基板的保持或保持基板此一動作而能將基板運送至曝光平台。據此，依照本發明的曝光裝置，可縮短將基板運送至曝光平台所需的時間，可使大量的基板高速曝光。

[2]、在本發明的曝光裝置中，若成為前述罩幕除塵部接觸前述罩幕板的圖案面的狀態，則一邊吸收由前述罩幕板給予的抵抗前述第一方向的力的力，一邊伴隨前述基板保持平台的行進而對前述罩幕板的圖案面進行除塵的動作，若成為前述基板除塵部接觸前述基板的感光面的狀態，則一邊吸收由前述基板給予的抵抗前述第二方向的力的力，一邊伴隨前述基板保持平台的行進而對前述基板的感光面進行除塵而去的動作較佳。

如此，若成為罩幕除塵部接觸罩幕板的圖案面的狀態，則一邊吸收由罩幕板給予的抵抗第一方向的力的力，一邊伴隨基板保持平台的行進而對罩幕板的圖案面進行除塵而去。而且，若成為基板除塵部接觸基板的感光面的狀態，則一邊吸收由基板給予的抵抗第二方向的力的力，一邊伴隨基板保持平台的行進而對前述基板的感光面進行除塵而去。

因此，罩幕除塵部及基板除塵部可分別以適當的緊壓力接觸罩幕板的圖案面及基板的感光面。據此，無須進行使罩幕除塵部及基板除塵部升降時的時序控制或緊壓力的控制等，也無須用以進行這種控制的控制裝置。

[3]、在本發明的曝光裝置中，前述罩幕除塵部成至少在表面具有黏著力的輥狀，前述罩幕除塵部對前述罩幕板的圖案面進行除塵而去的動作是在接觸前述罩幕板的圖案面的狀態下旋轉而去的動作較佳。 據此，可有效且確實地對罩幕板的圖案面進行除塵。

[4]、在本發明的曝光裝置中，成至少在表面具有比前述罩幕除塵部所具有的黏著力強的黏著力的輥狀，更包含：在接觸前述罩幕除塵部的表面的狀態下與前述罩幕除塵部的旋轉一起旋轉之輔助罩幕除塵部較佳。

藉由配設這種輔助罩幕除塵部，可使附著於罩幕除塵部的塵埃附著於輔助罩幕除塵部側，可長時間使用罩幕除塵部，可使罩幕除塵部的維修保養(maintenance)變得容易。

[5]、在本發明的曝光裝置中，前述基板除塵部成至少在表面具有黏著力的輥狀，前述基板除塵部對前述基板的感光面進行除塵而去的動作是在接觸前述基板的感光面的狀態下旋轉的動作較佳。 據此，可有效且確實地對基板的感光面進行除塵。

[6]、在本發明的曝光裝置中，成至少在表面具有比前述基板除塵部所具有的黏著力強的黏著力的輥狀，更包含：在接觸前述基板除塵部的表面的狀態下與前述基板除塵部的旋轉一起旋轉之輔助基板除塵部較佳。

藉由配設這種輔助基板除塵部，可使附著於基板除塵部的塵埃附著於輔助基板除塵部側，可長時間使用基板除塵部，可使基板除塵部的維修保養變得容易。

[7]、在本發明的曝光裝置中，前述基板保持平台以使前述基板的感光面沿著z軸朝上方的方式保持該基板，前述曝光平台以使前述罩幕板的圖案面沿著z軸朝下方的方式保持前述罩幕板較佳。

如此，藉由基板的感光面朝上方配置，並且罩幕板的圖案面朝下方配置，可有效且穩定地進行使基板保持於基板保持平台的動作以及保持基板的基板保持平台行進的動作。

也就是說，在將基板承載於基板保持平台時，例如當由積層有多數成為曝光對象的基板的儲存庫(stocker)等藉由吸附而一片一片地取出基板，並進行將所取出的基板放置於基板保持平台的動作時，可有效地進行由儲存庫取出基板以及將基板放置於基板保持平台的動作。而且，然後由於在基板保持平台行進時，基板在重力施加於基板保持平台的頂面的狀態下放置，因此基板保持平台可穩定地運送基板。

[8]、在本發明的曝光裝置中，前述第一方向的力是由彈簧的伸張力產生的力，前述罩幕除塵部被安裝於前述基板保持平台的前述突出部，以藉由該彈簧的伸張力而使前述第一方向的力發生作用，前述第二方向的力是該基板除塵部藉由自身的重量而要自由落下的力，前述基板除塵部被安裝於前述基板除塵部支撐板，以在沿著z軸的方向自在地滑動規定量較佳。

如此，在本發明的曝光裝置中，罩幕除塵部藉由彈簧的伸張力而接觸罩幕板的圖案面，基板除塵部藉由該基板除塵部的重量而以自由落下的力接觸基板。因此，無須用以使罩幕除塵部及基板除塵部升降的驅動機構等，而且，沒有必要進行使罩幕除塵部及基板除塵部升降時的時序控制或接觸時的緊壓力的控制等。而且，由於罩幕除塵部藉由彈簧的伸張力而接觸罩幕板的圖案面，基板除塵部藉由該基板除塵部的重量而以自由落下的力接觸基板，因此罩幕除塵部及基板除塵部的高度方向(沿著z軸的方向)的位置設定無須高精度地進行調整，可減輕基板除塵部及罩幕除塵部的調整作業。

[9]、在本發明的曝光裝置中，在由前述基板的感光面與前述基板除塵部離開的狀態到前述基板除塵部開始前述基板的感光面的除塵之間，前述基板保持平台控制裝置進行的控制是控制前述基板保持平台驅動機構部，以使前述基板保持平台沿著x軸僅行進規定量，並且沿著z軸僅移動規定量，而使前述基板除塵部接觸前述基板的感光面中的前方側的端部附近的平面部較佳。

藉由基板保持平台控制裝置進行這種控制，在伴隨基板保持平台往前方側行進而基板往前方側行進時，不會產生基板除塵部將基板的前方側的端部推向沿著x軸的後方側的動作。因此，可防止基板的位置偏移，而且也能防止基板的前方側的端部破損。

[10]、在本發明的曝光裝置中，更包含：在前述罩幕板的後方側的端部沿著y軸配設，一邊給予在第一方向的力作用的狀態下往前方側行進而來的前述罩幕除塵部抵抗前述第一方向的力的力，一邊將該罩幕除塵部導引至前述罩幕板的圖案面之導引部(guide part)較佳。

藉由配設這種導引部，可將罩幕除塵部導引至罩幕板的圖案面，以使罩幕除塵部不直接抵接罩幕板的後方側的端部。也就是說，罩幕除塵部在緊壓罩幕板的圖案面的方向的力(第一方向的力)作用的狀態下對罩幕板的圖案面進行除塵。因此，雖然若在罩幕板突出於厚度方向的狀態下被安裝於曝光平台，則罩幕除塵部抵接罩幕板的後方側的端部而將罩幕板推向前方側，有罩幕板位置偏移了的可能性，但是在本發明中，配設有將罩幕除塵部導引至罩幕板的圖案面的導板(guide plate)。據此，由於可將罩幕除塵部導引至罩幕板的圖案面，以使罩幕除塵部不直接抵接罩幕板的後方側的端部，因此罩幕除塵部不會將罩幕板推向前方側，可防止罩幕板的位置偏移，並且可防止罩幕板的後方側的端部破損。

[11]、在本發明的曝光裝置中，在由前述罩幕板的圖案面與前述罩幕除塵部離開的狀態到前述罩幕除塵部開始前述罩幕板的圖案面的除塵之間，前述基板保持平台控制裝置進行的控制是控制前述基板保持平台驅動機構部，以使前述基板保持平台沿著x軸僅行進規定量，並且沿著z軸僅移動規定量，而使前述罩幕除塵部接觸前述罩幕板的圖案面中的後方側的端部附近的平面部較佳。

藉由基板保持平台控制裝置進行這種控制，在伴隨基板保持平台往前方側行進而罩幕除塵部往前方側行進時，不會產生罩幕除塵部將罩幕板的後方側的端部推向沿著x軸的前方側的動作。因此，可防止罩幕板的位置偏移，而且也能防止罩幕板的後方側的端部破損。

[12]、在本發明的曝光裝置中，前述罩幕除塵部安裝於前述基板保持平台，以在前述基板保持平台位於前述初始位置時，位於比前述基板除塵部還靠後方側較佳。

藉由以這種構成，可防止曝光裝置大型化。也就是說，由於罩幕除塵部被安裝於由基板保持平台的前方側的端部突出於前方側的位置，因此若以像罩幕除塵部位於比基板除塵部還靠沿著x軸的前方側的配置，則在基板保持平台位於初始位置(開始行進前的位置)時，需安裝於由基板保持平台的前方側的端部大大地突出於前方側的位置。

如此，若安裝於由基板保持平台的前方側的端部大大地突出於前方側的位置，則在成為基板保持平台往前方側行進而到達曝光部的下方的狀態(基板的感光面與罩幕板的圖案面面對面的狀態)時，罩幕除塵部的位置成為大大地突出於沿著x軸的前方側的位置。因此，需更加大曝光裝置框體之沿著x軸方向的長度，曝光裝置全體就會大型化。相對於此，如本發明的曝光裝置，藉由以罩幕除塵部位於比基板除塵部還靠後方側的方式被安裝於基板保持平台的構成，可防止曝光裝置全體大型化。

[13]、本發明的曝光裝置是使基板的感光面與罩幕板的圖案面面對面並使前述基板的感光面曝光，其特徵在於包含：基板保持平台，在保持前述基板的狀態下，可沿著x軸往復運動於由x軸及y軸形成的xy平面，且可沿著正交於xy平面的z軸升降；曝光平台，在突出於該罩幕板的厚度方向的狀態下保持該罩幕板；以前述基板保持平台沿著x軸朝向前述罩幕板的側當作前方側，以與該前方側相反側當作後方側，以緊壓前述罩幕板的圖案面的方向當作第一方向，以緊壓前述基板的感光面的方向當作第二方向時，包含：罩幕除塵部，安裝於由前述基板保持平台的前方側的端部突出於前方側的突出部，藉由與前述基板保持平台一起往前方側行進，而在與前述罩幕板的圖案面之間具有規定的空隙的狀態下一邊吸引一邊對前述罩幕板的圖案面進行除塵而去；基板除塵部，安裝於基板除塵部支撐板，該基板除塵部支撐板配置於比前述基板保持平台位於初始位置時的該基板保持平台還靠前方側，且比前述曝光平台還靠後方側的規定位置，藉由前述基板保持平台由前述初始位置往前方側行進，而在與前述基板的感光面之間具有規定的空隙的狀態下一邊吸引一邊對前述基板的感光面進行除塵而去；基板保持平台驅動機構部，用以使前述基板保持平台可沿著x軸往復運動並且可沿著z軸升降；及基板保持平台控制裝置，藉由控制前述基板保持平台驅動機構部而控制前述基板保持平台的往復運動及升降。

依照本發明的曝光裝置，可得到[1]所記載的本發明的曝光裝置所具有的功效之中對應的功效。

以下，就本發明的實施形態進行說明。

[實施形態一] 圖1是為了說明與實施形態一有關的曝光裝置10A而顯示之圖。此外，圖1是模式地顯示與實施形態一有關的曝光裝置10A的圖，關於在說明與實施形態一有關的曝光裝置10A上不是特別必要的構成元件是省略圖式。而且，由於圖1是模式圖，因此不以同一比率將實際的構成元件的尺寸縮小，也有誇張地描繪或更加縮小地描繪。

與實施形態一有關的曝光裝置10A如圖1所示具有：供給曝光前的基板W並且回收曝光後的基板W之基板供給回收部100；對基板W的感光面M1進行除塵之基板除塵機構部200；藉由使基板W的感光面M1曝光而將圖案轉印至基板W之曝光部300；收納該等各構成元件之曝光裝置框體400；及配設於曝光裝置框體400的內部或外部之基板保持平台控制裝置500。此外，雖然曝光裝置框體400的內部成為盡可能被潔淨化的空間，但是即使如此也有存在塵埃的情形。

基板供給回收部100具有：基板保持平台110；罩幕除塵部120；安裝有罩幕除塵部120之罩幕除塵座130；及可使基板保持平台110沿著x軸往復運動於由x軸及y軸形成的xy平面，並且可沿著正交於xy平面的z軸升降之基板保持平台驅動機構部140。

此外，在本說明書中，以基板保持平台110沿著x軸朝向曝光部300的罩幕板310(於後述)的側當作[前方側]，以與前方側相反側當作[後方側]而進行說明。

基板保持平台110在使基板W的感光面M1沿著z軸朝上方的狀態下對該基板W進行定位並進行真空吸附，可在沿著x軸的方向往復運動。此外，圖1中的基板保持平台110的位置是該基板保持平台110開始朝曝光部300行進之前的位置，以該位置當作初始位置。此外，基板W的感光面M1是指在基板W塗佈有光阻劑(photoresist)等的面，光阻劑處於已經乾了的狀態而構成。

罩幕除塵部120安裝於基板保持平台110。具體而言，安裝於突出配設於基板保持平台110的前方側的端部(稱為頂端部)之罩幕除塵座130，與基板保持平台110一起行進並對被保持於曝光部300的罩幕板310的圖案面M2進行除塵。

而且，罩幕除塵部120成在表面具有黏著力的輥狀。在與實施形態一有關的曝光裝置10A中使用將具有黏著力的構件(例如具有黏著力的橡膠等)形成為輥狀的構件。

如此，由於罩幕除塵部120成輥狀，因此也將罩幕除塵部120稱為[罩幕除塵輥120]。此外，雖然罩幕除塵輥120是具有黏著力的構件，但是其黏著力為可黏著去除存在於罩幕板310的圖案面M2的塵埃的程度，是以不會給予罩幕板310的圖案面M2不良影響的程度的黏著力。

罩幕除塵座130具有：由基板保持平台110突出於前方側之突出部131；旋轉自如地支撐罩幕除塵輥120之罩幕除塵部支撐板132；導引罩幕除塵輥120的升降之導軌(guide rail)133；及給予緊壓罩幕板310的圖案面M2的方向(當作第一方向)的力(當作第一方向的力)之彈簧134。此外，罩幕除塵輥120不是藉由動力進行旋轉，而是以空轉的方式被支撐於罩幕除塵部支撐板132。

罩幕除塵部支撐板132位於突出部131的頂端部，被安裝為藉由導軌133的導引而自在地升降規定量。而且，彈簧134介於罩幕除塵部支撐板132與突出部131之間。因此，在罩幕除塵部支撐板132由彈簧134的伸張力產生的第一方向的力(緊壓罩幕板310的圖案面M2的方向的力)會發生作用，據此，在罩幕除塵輥120也同樣由彈簧134的伸張力產生的第一方向的力(緊壓罩幕板310的圖案面M2的方向的力)會發生作用。

如此，由於罩幕除塵輥120藉由第一方向的力(彈簧的伸張力)接觸罩幕板310的圖案面M2，因此可一邊吸收由罩幕板310給予的抵抗第一方向的力的力，一邊伴隨基板保持平台110的行進而對罩幕板310的圖案面M2進行除塵而去。

此外，第一方向的力的強度可藉由調整彈簧134的伸張力等而進行調整。而且，作為用以使第一方向的力作用於罩幕除塵輥120的手段不限於彈簧，也可使用其他的構件。例如，以藉由氣缸等對罩幕除塵輥120給予第一方向的壓力的構成也可以。

基板保持平台驅動機構部140具有：用以使基板保持平台110沿著x軸往復運動之x軸往復運動驅動機構部141；及用以使基板保持平台110沿著z軸升降之z軸升降驅動機構部145。

x軸往復運動驅動機構部141具有：固定基板保持平台110之基板保持平台固定台142；及用以使基板保持平台固定台142沿著x軸進行往復動作之第一滾珠螺桿(ball screw)143。z軸升降驅動機構部145具有：固定於基板保持平台固定台142之升降台146；及用以使升降台146沿著z軸升降之第二滾珠螺桿147。

如此構成的基板保持平台驅動機構部140可藉由使第一滾珠螺桿143順時針方向或逆時針方向旋轉，而使基板保持平台固定台142及z軸升降驅動機構部145全體沿著x軸往前方側或後方側行進。

例如，若使第一滾珠螺桿143順時針方向旋轉，則可使基板保持平台固定台142及z軸升降驅動機構部145全體沿著x軸往後方側行進，若使第一滾珠螺桿143逆時針方向旋轉，則可使基板保持平台固定台142及z軸升降驅動機構部145全體沿著x軸往前方側行進。據此，可使固定在基板保持平台固定台142的基板保持平台110沿著x軸往復運動。

而且，藉由使z軸升降驅動機構部145的第二滾珠螺桿147順時針方向或逆時針方向旋轉，可使升降台146上升或下降。例如，一使第二滾珠螺桿147順時針方向旋轉，升降台146就下降，基板保持平台固定台142也與升降台146一起下降。另一方面，一使第二滾珠螺桿147逆時針方向旋轉，升降台146就上升，基板保持平台固定台142也與升降台146一起上升。據此，可使固定在基板保持平台固定台142的基板保持平台110沿著z軸升降。

此外，由於第一滾珠螺桿143需要使基板保持平台110由圖1的位置移動至曝光部300的位置，因此由曝光裝置框體400內的約略右端附近配設至左端附近。另一方面，第二滾珠螺桿147由於基板保持平台110的升降量不那麼大而升降台146的移動量少，因此比第一滾珠螺桿143短。

此外，第一滾珠螺桿143及第二滾珠螺桿147的配設位置不限於圖1所示的位置，例如，第一滾珠螺桿143也可以配設於接近曝光裝置框體400的底面的位置。而且，x軸往復運動驅動機構部141及z軸升降驅動機構部145不限於如圖1所示的構成，可採用各種構成。

可是，基板保持平台驅動機構部140藉由基板保持平台控制裝置500(參照圖2)而被控制，據此可控制基板保持平台110。

圖2是顯示基板保持平台控制裝置500的構成之圖。基板保持平台控制裝置500如圖2所示具有：驅動第一滾珠螺桿143之第一滾珠螺桿驅動部(伺服馬達(servo motor)等)510；儲存用以控制基板保持平台110的行進及升降的控制程式及使用者的設定資訊等各種資訊之儲存部550；藉由根據儲存部550所儲存的資訊控制第一滾珠螺桿驅動部510，控制基板保持平台110朝前方側或後方側行進之行進控制部520；驅動第二滾珠螺桿147之第二滾珠螺桿驅動部(伺服馬達等)530；及藉由根據儲存部550所儲存的資訊控制第二滾珠螺桿驅動部530，控制基板保持平台110的升降之升降控制部540。

藉由基板保持平台控制裝置500如此構成，可控制基板保持平台110的行進及升降。例如，如下的控制為可能：使基板保持平台110僅下降規定量，在基板保持平台110下降後的狀態下往前方側僅行進規定量之後，使基板保持平台110僅上升規定量，在基板保持平台110上升後的狀態下再度往前方側僅行進規定量。

返回圖1進行說明。基板除塵機構部200具有：用以對基板W的感光面M1進行除塵之基板除塵部210；及用以安裝基板除塵部210之基板除塵部支撐板220。而且，基板除塵機構部200雖未圖示，但是具有去除基板W所帶的靜電之靜電去除部。

基板除塵部210與罩幕除塵部(罩幕除塵輥120)一樣，成在表面具有黏著力的輥狀，在與實施形態一有關的曝光裝置10A中使用將具有黏著力的構件(例如具有黏著力的橡膠等)形成為輥狀的構件。

如此，由於基板除塵部210成輥狀，因此也將基板除塵部210稱為[基板除塵輥210]。此外，雖然基板除塵輥210是具有黏著力的構件，但是與罩幕除塵輥120一樣，其黏著力為可黏著去除存在於基板W的感光面M1的塵埃的程度，是以不會給予基板W的感光面M1不良影響的程度的黏著力。

基板除塵部支撐板220支撐基板除塵輥210的兩端，以使基板除塵輥210旋轉自如且自在地上下運動規定量。使基板除塵輥210自在地上下運動規定量而支撐的方法，可舉例說明在基板除塵部支撐板220於沿著z軸的方向形成長的孔(稱為長孔)221，藉由該長孔221支撐基板除塵輥210的方法。此外，基板除塵輥210不是藉由動力進行旋轉，而是以空轉的方式被支撐於基板除塵部支撐板220。

由於基板除塵輥210被如此支撐於基板除塵部支撐板220，因此在基板除塵輥210該基板除塵輥210藉由自身的重量而要自由落下的力發生作用。基板除塵輥210藉由自身的重量而要自由落下的力是以緊壓基板W的感光面M1的方向(當作第二方向)的力(當作第二方向的力)而起作用。也就是說，基板除塵輥210在第二方向的力作用的狀態下被支撐於基板除塵部支撐板220。

據此，在基板除塵輥210接觸基板W的感光面M1的狀態下，該基板除塵輥210藉由第二方向的力(也稱為自身的重量)而接觸基板W的感光面M1。如此，由於基板除塵輥210藉由第二方向的力(自身的重量)而接觸基板W的感光面M1，因此可一邊吸收由基板W給予的抵抗第二方向的力的力，一邊伴隨基板保持平台110的行進而對基板W的感光面M1進行除塵而去。

此外，雖然該基板除塵輥210是藉由自身的重量而給予基板的感光面M1緊壓力的構件，但是例如與罩幕除塵輥120一樣，以給予基板除塵輥210由彈簧等產生的伸張力的構成，而給予基板W的感光面M1緊壓力也可以。

基板除塵輥210被安裝於基板除塵部支撐板220，以位於比曝光部300還靠沿著x軸的後方側。而且，在基板保持平台110位於初始位置(圖1所示的位置)時，位於比罩幕除塵輥120還靠沿著x軸的前方側。也就是說，罩幕除塵輥120與基板除塵輥210的配置關係成為如下的配置：在基板保持平台110位於初始位置(圖1所示的位置)時，罩幕除塵輥120位於比基板除塵輥210還靠沿著x軸的後方側。

如此，在基板保持平台110位於初始位置(圖1的位置)時，以罩幕除塵輥120位於比基板除塵輥210還靠沿著x軸的後方側之配置可舉出如下當作理由之一。

也就是說，藉由在基板保持平台110位於初始位置(圖1的位置)時，以罩幕除塵輥120位於比基板除塵輥210還靠沿著x軸的後方側之配置，使得突出部131之沿著x軸的方向的長度L無須過長。

相對於此，若在基板保持平台110位於初始位置(圖1的位置)時，以罩幕除塵輥120位於比基板除塵輥210還靠沿著x軸的前方側之配置，則需取較長的突出部131之沿著x軸的方向的長度L(參照圖1)。

若取較長的突出部131的長度L，則在成為基板保持平台110到達曝光部300的下方的狀態(基板W的感光面M1與罩幕板310的圖案面M2面對面的狀態)時，罩幕除塵輥120的位置成為更大地突出於沿著x軸的前方側的位置。因此，需更加大曝光裝置框體400之沿著x軸方向的長度，會產生曝光裝置全體大型化之不良狀況。這種不良狀況可藉由在基板保持平台110位於初始位置(圖1的位置)時，以罩幕除塵輥120位於比基板除塵輥210還靠沿著x軸的後方側之配置而防止。

可是，罩幕除塵輥120及基板除塵輥210對罩幕除塵部支撐板132及基板除塵部支撐板220裝卸自如。因此，可容易地進行附著於罩幕除塵輥120及基板除塵輥210的塵埃的除去、罩幕除塵輥120及基板除塵輥210的清洗、罩幕除塵輥120及基板除塵輥210本身的交換等。

曝光部300具有：未圖示的光源；罩幕板310；以圖案面M2與基板W的感光面M1面對面的方式安裝罩幕板310之曝光平台320；及將行進而來的罩幕除塵輥120導引至罩幕板310的圖案面M2之導引部340。而且，雖未圖示，但是在曝光部300配設有去除罩幕板310等所帶的靜電之靜電去除部。

罩幕板310由透明玻璃等的透光性構件構成，具有規定的厚度。此外，雖然罩幕板310的厚度未被特別限定，但是例如具有2mm~7mm左右的厚度。

而且，罩幕板310安裝於曝光平台320的底面側。具體而言，罩幕板310藉由沿著x軸平行配設的兩根L字配件330(在圖1中僅顯示一方的L字配件)而使罩幕板310的端部(沿著x軸看時的左右兩側的端部)支撐於曝光平台320的底面側。據此，罩幕板310在藉由L字配件330由曝光平台320懸掛的狀態下被安裝。

若罩幕板310被如此安裝於曝光平台320，則罩幕板310成為如下的狀態：在由曝光平台320以罩幕板310的厚度部分以上的突出量突出於罩幕板310的厚度方向(下方)的狀態下被安裝。

而且，罩幕板310在對曝光平台320的底面被定位的狀態下被安裝於L字配件330。此時，雖然罩幕板310以不容易位置偏移的方式被安裝於L字配件330，但若假設規定以上的力朝行進方向施加於罩幕板310的後方側的端部，則罩幕板310也可能有在行進方向位置偏移的情形。

導引部340以沿著y軸的方式配設於罩幕板310的後方側的端部。導引部340將行進而來的罩幕除塵輥120導引至罩幕板310的圖案面M2，具有：由水平片341a與傾斜片341b構成之導板341；及用以將導板341安裝於曝光平台320之導板安裝部342。

這種構成的導引部340若在將導板341的水平片341a固定於導板安裝部342的狀態下，在罩幕板310的後方側的端部以沿著y軸的方式將導板安裝部342安裝於曝光平台320，則導板341的傾斜片341b成為由導板安裝部342突出於斜上方的狀態。

若由後方側沿著x軸看如此安裝的導引部340的話，則導板341的傾斜片341b以覆蓋罩幕板310的後方側的端部的方式沿著y軸被安裝。

此外，導引部340被安裝為成為水平片341a突出於下方的狀態，以在導板341的水平片341a與罩幕板310之間形成0.1mm~0.3mm左右的段差。

這種構成的導引部340是用以在罩幕除塵輥120朝罩幕板310行進而來時，罩幕除塵輥120不會直接抵接罩幕板310的後方側的端部，而是將罩幕除塵輥120導引至罩幕板310的圖案面M2之構件。

此外，導引部340中的導板341既可以是由覆蓋罩幕板310的後方側的端部全體之一片板構成的構件，也可以是由水平片341a與傾斜片341b構成的細的板狀的構件沿著y軸隔開規定間隔排列複數個的構件。

圖3及圖4是為了說明與實施形態一有關的曝光裝置10A的動作而顯示之圖。圖3(a)~圖3(c)及圖4(a)~圖4(c)是各程序圖。此外，圖3及圖4主要是為了說明與實施形態一有關的曝光裝置10A的罩幕除塵輥120及基板除塵輥210的動作而顯示之圖。因此，在圖1所示的構成元件中也有省略符號的構件，而且，圖1所示的構成元件之中基板保持平台驅動機構部140等省略圖示。而且，用以使基板保持平台110行進及升降的控制可藉由圖2所示的基板保持平台控制裝置500來進行。

圖3(a)是顯示成為處理對象的基板W被定位並被保持於基板保持平台110的狀態之圖，此與圖1一樣，是基板保持平台110位於初始位置時的狀態。

在基板保持平台110位於初始位置時，基板保持平台110之沿著x軸的位置位於比基板除塵輥210還靠後方側，沿著z軸方向的位置被設定為使基板保持平台110的頂面110a與罩幕板310的底面310a的間隔d1成為5mm~15mm左右的範圍。在與實施形態一有關的曝光裝置10A中，間隔d1被設定為9mm。

如此，在基板保持平台110位於初始位置時，罩幕除塵輥120之沿著x軸的位置(以罩幕除塵輥120的旋轉軸之沿著x軸的位置)x1位於比基板除塵輥210還靠後方側。 

而且，罩幕除塵輥120之沿著z軸的位置(以罩幕除塵輥120中的圓周上的上方側頂點P1之沿著z軸的位置)z1成為比罩幕板310中的底面310a之沿著z軸的位置z2稍(例如0.3mm~2mm左右)高的位置。

另一方面，基板除塵輥210沿著x軸的位置係固定，沿著z軸的位置(以基板除塵輥210中的圓周上的下方側頂點P2之沿著z軸的位置)位於與基板保持平台110的頂面110a的位置z3成為大致相同的高度。

而且，罩幕除塵輥120與基板除塵輥210的位置關係成為如下的位置關係：若在基板保持平台110位於初始位置時之下沿著x軸往前方側行進，則由圖3(a)也得知，罩幕除塵輥120抵接基板除塵輥210。

基板保持平台110由如圖3(a)所示的初始位置開始動作。首先，基板保持平台110一時沿著z軸僅下降規定量(參照圖3(b))。也就是說，基板保持平台110沿著x軸往前方側行進時，基板保持平台110下降至成為罩幕除塵輥120不抵接基板除塵輥210的位置(參照圖3(b))。

由圖3(b)的狀態基板保持平台110沿著x軸往前方側行進而去。然後，在罩幕除塵輥120通過基板除塵輥210的下側後的規定位置使基板保持平台110上升(參照圖3(c))。也就是說，使基板保持平台110沿著x軸行進並且使基板保持平台110沿著z軸上升，以使基板除塵輥210接觸基板W的感光面M1中的前方側的端部(稱為頂端部)附近的平面部(頂面部)。

基板保持平台110用以進行這種動作之對基板保持平台110的控制是藉由基板保持平台控制裝置500而進行。藉由基板保持平台110進行這種動作，而成為基板W的感光面M1接觸基板除塵輥210的狀態(參照圖3(c))。

如此，當藉由成為基板W的感光面M1抵接基板除塵輥210的狀態，然後基板保持平台110往前方行進時，不會產生基板除塵輥210將基板W的頂端部推向後方側的動作。因此，可防止基板W的位置偏移，而且也能防止基板W的頂端部破損。

而且，基板保持平台110上升時的上升量以基板W將基板除塵輥210稍微往上推的程度。據此，基板除塵輥210成為藉由自身的重量接觸基板W的狀態。而且，此時罩幕除塵輥120如圖3(c)所示，成為抵接配設於曝光部300的導引部340中的導板341的傾斜片341b的狀態。

然後，若基板保持平台110由圖3(c)所示的狀態往前方行進而去，則基板除塵輥210在基板W的感光面M1上進行旋轉的動作。此時的動作與基板除塵輥210一邊旋轉一邊朝基板W的後方側移動而去的動作相同，若基板保持平台110進一步行進的話，結果基板除塵輥210進行一邊旋轉一邊朝基板W的更後方側移動而去的動作。據此，基板W的感光面M1藉由基板除塵輥210而被除塵。 此外，雖然基板除塵輥210是具有黏著力的構件，但是由於其黏著力為可黏著去除存在於基板W的感光面M1的塵埃的程度，因此不會給予基板W的感光面M1不良影響。

可是，在基板除塵輥210接觸基板W的感光面M1的狀態下，該基板除塵輥210藉由第二方向的力(自身的重量)而接觸基板W的感光面M1，且由於自在地上下運動規定量，因此可一邊吸收由基板W給予的抵抗第二方向的力的力，一邊伴隨基板保持平台110的行進而對基板W的感光面M1進行除塵而去。因此，無須特別進行基板除塵輥210接觸基板W的感光面M1時之對基板W的緊壓力等的控制。

另一方面，罩幕除塵輥120與基板保持平台110的行進一起行進。因此，由抵接導板341的傾斜片341b的狀態，在藉由導板341的傾斜片341b壓住的狀態下往前方側行進而去。也就是說，由於罩幕除塵輥120藉由彈簧134的伸張力而被給予朝上方向的力(第一方向的力)，因此在緊壓導板341的傾斜片341b的狀態下一邊旋轉一邊往前方側行進而去，不久到達罩幕板310的圖案面M2。

如此，由於罩幕除塵輥120藉由導引部340的導引而被導引至罩幕板310的圖案面M2，因此罩幕除塵輥120不會直接抵接罩幕板310的後方側的端部而被導引至罩幕板310的圖案面M2。因此，罩幕除塵輥120沒有將罩幕板310推向行進方向，可防止罩幕板310的位置偏移，並且可防止罩幕板310的後方側的端部破損。

然後，罩幕除塵輥120在第一方向的力作用的狀態下如圖4(a)所示，在接觸罩幕板310的圖案面M2的狀態下一邊旋轉一邊進一步行進而去。據此，可使存在於罩幕板310的圖案面M2的塵埃附著於罩幕除塵輥120的側，據此，可對罩幕板310的圖案面M2進行除塵。

此外，雖然罩幕除塵輥120是具有黏著力的構件，但是由於其黏著力為黏著去除存在於罩幕板310的圖案面M2的塵埃的程度，因此不會給予形成於罩幕板310的圖案面M2的圖案等不良影響。

可是，由於在罩幕除塵輥120接觸罩幕板310的圖案面M2的狀態下，該罩幕除塵輥120藉由第一方向的力(彈簧134的伸張力)而接觸罩幕板310的圖案面M2，因此可一邊吸收由罩幕板310給予的抵抗第一方向的力的力，一邊伴隨基板保持平台110的行進而對罩幕板310的圖案面M2進行除塵而去。因此，無須特別進行罩幕除塵輥120接觸罩幕板310的圖案面M2時之對罩幕板310的緊壓力等的控制。

藉由罩幕除塵輥120及基板除塵輥210進行圖3(c)及圖4(a)所示的動作，可對罩幕板310的圖案面M2進行除塵，並且可對基板W的感光面M1進行除塵。此外，藉由罩幕除塵輥120進行之對罩幕板310的圖案面M2的除塵以及藉由基板除塵輥210進行之對基板W的感光面M1的除塵大致同時進行。

然後，基板保持平台110到達預先設定的規定位置(曝光位置)(參照圖4(b))。此時，成為在基板W的感光面M1與罩幕板310的圖案面M2之間設有規定的間隔的狀態。接著，基板保持平台110由該狀態上升，如圖4(c)所示，基板W的感光面M1與罩幕板310的圖案面M2的間隔成為所希望的間隔。此外，在與實施形態一有關的曝光裝置10A中，不會使基板W的感光面M1與罩幕板310的圖案面M2密著，而是設置存在些微的空隙(例如1/100mm~4/100mm左右)的程度的間隔。

如此，藉由在基板W的感光面M1與罩幕板的圖案面之間設置些微的空隙(例如1/100mm~4/100mm左右)，即使在基板W側的除塵後還殘留些微的塵埃，也可防止殘留的塵埃附著於罩幕板310的圖案面M2。其相反的情形也一樣。

然後，在圖4(c)的狀態下照射光進行曝光。此外，在進行曝光時，基板W對罩幕板310的圖案面M2的位置被適當地設定而構成。曝光結束後，在該曝光位置基板保持平台110下降至規定位置(例如圖4(b)所示的位置)，沿著x軸往後方側行進，返回到規定位置(例如罩幕除塵輥120的旋轉軸沿著x軸的x1的位置)，並在x1的位置上升，成為初始位置(與圖3(a)相同的位置)。然後，由基板保持平台110卸下曝光結束後的基板W，在該基板保持平台110放置接著應進行曝光的基板W，依次進行如下的動作：圖3(a)~圖3(c)及圖4(a)~圖4(c)的程序，返回到圖3(a)。

此外，進行圖3(a)~圖3(c)及圖4(a)~圖4(c)的程序而返回到圖3(a)的一連串的動作被連續進行，該一連串的動作所需的時間是秒單位(例如幾秒到十幾秒左右)的時間。

如以上說明的，依照與實施形態一有關的曝光裝置10A，可藉由基板除塵輥210進行基板W的感光面M1的除塵，並且可藉由罩幕除塵輥120進行罩幕板310的圖案面M2的除塵。而且，對基板W的感光面M1進行除塵的動作以及對罩幕板310的圖案面M2進行除塵的動作在基板保持平台110朝曝光部300行進的過程中大致同時自動地進行。因此，幾乎不會給予位於初始位置的基板保持平台110朝曝光部300行進並進行曝光後，返回到初始位置此一本來進行的曝光動作影響，可大致維持本來的曝光動作速度。

而且，在與實施形態一有關的曝光裝置10A中，罩幕除塵輥120及基板除塵輥210成為藉由一方向的推迫力而接觸罩幕板310的圖案面M2及基板W的感光面M1的結構。也就是說，罩幕除塵輥120成為藉由彈簧134的伸張力而接觸罩幕板310的圖案面M2的結構，基板除塵輥210成為藉由自身的重量而接觸基板W的表面的結構。

因此，無須用以使罩幕除塵輥120及基板除塵輥210升降的驅動機構。而且，由於無須進行使罩幕除塵輥120及基板除塵輥210升降時的時序控制或緊壓力的控制等，因此也無須用以進行這種控制的控制裝置。據此，依照與實施形態一有關的曝光裝置10A，可簡化用以對罩幕板310的圖案面M2及基板W的感光面M1進行除塵的機構全體。

而且，由於是這種結構，因此罩幕除塵輥120及基板除塵輥210的高度方向(沿著z軸的方向)的位置無須高精度地進行調整，可減輕罩幕除塵輥120及基板除塵輥210的調整作業。

而且，依照與實施形態一有關的曝光裝置10A，由於基板保持平台110在保持了基板W的狀態下行進而去，因此在基板保持平台110行進而去的過程中，無須進行解除基板W的保持或保持基板W此一動作而能將基板W運送至曝光平台320。據此，依照與實施形態一有關的曝光裝置10A，可縮短將基板W運送至曝光平台320所需的時間，可使大量的基板高速曝光。

而且，依照與實施形態一有關的曝光裝置10A，配設有將罩幕除塵輥120導引至罩幕板310的圖案面M2之導引部340。因此，能以罩幕除塵輥120不直接抵接罩幕板310的後方側的端部的方式而將罩幕除塵輥120導引至罩幕板310的圖案面M2。因此，罩幕除塵輥120不會將罩幕板310推向前方側，可防止罩幕板310的位置偏移，並且可防止罩幕板310的後方側的端部破損。

而且，在與實施形態一有關的曝光裝置10A中，在曝光部300中使基板W的感光面M1曝光時，於在基板W的感光面M1與罩幕板310的圖案面M2的間隔設有些微的空隙的狀態下進行曝光。因此，例如即使在基板W的感光面M1殘留未除去的塵埃，也可防止該塵埃附著於罩幕板310的圖案面M2的不良狀況。

[實施形態二] 圖5是為了說明與實施形態二有關的曝光裝置10B而顯示之圖。與實施形態二有關的曝光裝置10B和與實施形態一有關的曝光裝置10A的不同之處如圖5所示，在於配設除去附著於基板除塵輥210的塵埃之輔助基板除塵部240(稱為輔助基板除塵輥240)。因此在圖5中，對和與實施形態一有關的曝光裝置10A同一的構成元件附加同一符號，省略同一構成元件的說明。

由於輔助基板除塵輥240是用以除去附著於基板除塵輥210的塵埃的構件，因此藉由黏著力比基板除塵輥210大的構件形成較佳。輔助基板除塵輥240例如可適合使用將黏膠帶捲成輥狀者。

這種輔助基板除塵輥240被旋轉自如地支撐於基板除塵部支撐板220，以成為始終接觸基板除塵輥210的狀態。具體而言，在基板除塵部支撐板220形成長孔222，藉由該長孔222而旋轉自如地支撐輔助基板除塵輥240。

此外，輔助基板除塵輥240也與罩幕除塵輥120及基板除塵輥210一樣，不是藉由動力進行旋轉，而是以空轉的方式被支撐於基板除塵部支撐板220。因此，輔助基板除塵輥240藉由基板除塵輥210的旋轉而旋轉。據此，可使附著於基板除塵輥210的塵埃附著於輔助基板除塵輥240側，可某種程度地除去附著於基板除塵輥210的塵埃。

也就是說，如圖4(a)所示，由於若進行基板除塵輥210一邊旋轉一邊對基板W的感光面M1進行除塵的動作，則輔助基板除塵輥240一邊接觸基板除塵輥210一邊伴隨基板除塵輥210的旋轉而旋轉，因此可使附著於基板除塵輥210的塵埃附著於輔助基板除塵輥240。

由於與實施形態二有關的曝光裝置10B具有這種輔助基板除塵輥240，因此除了在與實施形態一有關的曝光裝置10A中得到的功效之外，還可使附著於基板除塵輥210的塵埃某種程度地附著於輔助基板除塵輥240側。據此，可長時間使用基板除塵輥210，可使基板除塵輥210的維修保養變得容易。

此外，藉由輔助基板除塵輥240是將黏膠帶捲成輥狀的構件，而在輔助基板除塵輥240附著規定量的塵埃之後，僅將黏膠帶切下規定的長度(例如一周份)。據此，輔助基板除塵輥240可再度使附著於基板除塵輥210的塵埃附著於輔助基板除塵輥240側。

[實施形態三] 在上述各實施形態中，雖然藉由導引部340的導引而將罩幕除塵輥120導引至罩幕板310的圖案面M2，防止罩幕板310的位置偏移或罩幕板310的後方側的端部破損，但是在與實施形態三有關的曝光裝置10C中，不配設導引部340就能防止罩幕板310的位置偏移或罩幕板310的後方側的端部破損。以下，說明與實施形態三有關的曝光裝置10C。

圖6是為了說明與實施形態三有關的曝光裝置10C而顯示之圖。與實施形態三有關的曝光裝置10C基本上成為和與實施形態一有關的曝光裝置10A一樣的構成。因此，在與實施形態三有關的曝光裝置10C中對和與實施形態一有關的曝光裝置10A同一的構成元件附加同一符號。

與實施形態三有關的曝光裝置10C如圖6所示，未在曝光部300配設有導引部340。也就是說，在與實施形態三有關的曝光裝置10C中，不配設導引部340就能防止罩幕板310的位置偏移或罩幕板310的後方側的端部破損。

圖7是為了說明與實施形態三有關的曝光裝置10C的動作而顯示之圖。此外，在與實施形態三有關的曝光裝置10C中和與實施形態一有關的曝光裝置10A的不同點在於與實施形態一有關的曝光裝置10A中的由圖3(b)所示的狀態變成圖3(c)所示的狀態時的基板保持平台110的動作。因此在圖7中，就由圖3(b)所示的狀態變成圖3(c)所示的狀態時的基板保持平台110的動作進行說明。此外，圖7(a)對應圖3(b)，圖7(b)對應圖3(c)。

由圖7(a)所示的狀態，亦即罩幕板310的圖案面M2與罩幕除塵輥120離開，並且基板W的感光面M1與基板除塵輥210離開的狀態，基板保持平台110沿著x軸往前方側行進而去，在罩幕除塵輥120通過基板除塵輥210的下側後的規定位置上升(參照圖7(b))。

此時的基板保持平台控制裝置500的控制是以使基板保持平台110沿著x軸僅行進規定量並且沿著z軸僅上升規定量的方式控制基板保持平台驅動機構部140，以使罩幕除塵輥120接觸罩幕板310的圖案面M2中的後方側的端部附近的平面部(底面部)，且使基板除塵輥210接觸基板W的感光面M1中的前方側的端部附近的平面部(頂面部)。

藉由基板保持平台控制裝置500進行這種控制，而由罩幕板310的圖案面M2與罩幕除塵輥120離開的狀態變成罩幕除塵輥120直接接觸罩幕板310的圖案面的狀態，並且由基板W的感光面M1與基板除塵輥210離開的狀態變成基板除塵輥210直接接觸基板W的感光面M1的狀態。

如此，藉由成為罩幕除塵輥120直接接觸罩幕板310的圖案面的狀態，並且成為基板除塵輥210直接接觸基板W的感光面M1的狀態，然後當基板保持平台110進一步往前方行進時，不會產生罩幕除塵輥120將罩幕板310推向前方側的動作。而且，不會產生基板除塵輥210將基板W的頂端部推向後方側的動作。因此，可防止罩幕板310及基板W的位置偏移，而且也能防止罩幕板310的後方側的端部及基板W的前方側的端部破損。

此外，如圖7(b)所示，為了在成為罩幕除塵輥120接觸罩幕板310的圖案面的狀態時，使其成為基板W的感光面M1接觸基板除塵輥210的狀態，只要適宜設定基板除塵輥210與基板保持平台110的位置關係即可。也就是說，只要適宜設定基板除塵輥210與基板保持平台110的位置關係，以便在成為罩幕除塵輥120接觸罩幕板310的圖案面的狀態時，基板W的感光面M1抵接基板除塵輥210即可。

此外，在實施形態三中，雖然成為罩幕除塵輥120直接接觸罩幕板310的圖案面的狀態，並且成為基板除塵輥210直接接觸基板W的感光面M1的狀態，但是成為罩幕除塵輥120直接接觸罩幕板310的圖案面的狀態也可以。而且，雖然在實施形態三中就與實施形態一有關的曝光裝置10A的情形進行了說明，但是在與實施形態二有關的曝光裝置10B中也能適用。

此外，本發明不限於上述的實施形態，可在不脫離本發明的要旨的範圍內實施各種變形。例如，也可以實施如下所示的變形。

(1)、在上述各實施形態中，雖然罩幕除塵輥120及基板除塵輥210以由罩幕除塵輥120及基板除塵輥210全體具有黏著力的構件構成者而進行了說明，但是不限定於此，僅罩幕除塵輥120及基板除塵輥210的表面具有黏著力的構件也可以。例如，既可以是在由合成樹脂等構成的圓筒體的表面捲繞具有黏著力的構件者，且也可以是在圓筒體的表面形成有黏著層者。

(2)、在上述各實施形態中，雖然作為基板保持平台110的初始位置是以圖3(a)所示的位置當作基板保持平台的初始位置，但是不限定於此，基板保持平台110的初始位置可藉由曝光裝置全體的結構或動作而進行各種設定，未被特別限定。例如，也能以圖3(b)所示的位置當作基板保持平台110的初始位置。

(3)、在上述各實施形態中，雖然舉例說明了基板W的感光面M1朝上配置，罩幕板310的圖案面M2朝下配置的曝光裝置，但是不限定於此，相反的配置也可以。也就是說，也可以是基板W的感光面M1朝下配置，罩幕板310的圖案面M2朝上配置的曝光裝置，此情形，只要罩幕除塵輥120以藉由自身的重量而接觸罩幕板310的圖案面M2的結構，基板除塵輥210以藉由彈簧的推迫力而接觸基板W的感光面M1的結構即可。

(4)、在上述各實施形態中，雖然舉例說明了在曝光部300中使基板W的感光面M1曝光時，在基板W的感光面M1與罩幕板310的圖案面M2之間設有些微的空隙的狀態下進行曝光的情形，但是未必需在基板W的感光面M1與罩幕板310的圖案面M2之間設有些微的空隙，也可以在使基板W的感光面M1與罩幕板310的圖案面M2密著的狀態下進行曝光。

(5)、在上述實施形態二中，雖然在基板除塵輥210側配設輔助基板除塵輥240，但是如果空間有餘裕，則也可以在罩幕除塵輥120側配設輔助基板除塵輥240，而且，也可以在罩幕除塵輥120及基板除塵輥210的兩方分別配設輔助基板除塵輥240。

(6)、在上述各實施形態中，雖然舉例說明了分別使用由具有黏著力的構件構成的輥(罩幕除塵輥120及基板除塵輥210)當作罩幕除塵部及基板除塵部，並藉由罩幕除塵輥120及基板除塵輥210的黏著力對存在於罩幕板310的圖案面M2及基板W的感光面M1的塵埃進行除塵的情形，但是不限定於此。例如，罩幕除塵部及基板除塵部為透過真空吸引而進行除塵也可以。如此，以罩幕除塵部及基板除塵部透過真空吸引進行除塵的情形的曝光裝置當作本發明的曝光裝置的變形例而進行說明。

本發明的曝光裝置的變形例是一種曝光裝置是使基板的感光面與罩幕板的圖案面面對面並使前述基板的感光面曝光，包含：基板保持平台，在保持前述基板的狀態下，可沿著x軸往復運動於由x軸及y軸形成的xy平面，且可沿著正交於xy平面的z軸升降；曝光平台，在突出於該罩幕板的厚度方向的狀態下保持該罩幕板；以前述基板保持平台沿著x軸朝向前述罩幕板的側當作前方側，以與該前方側相反側當作後方側，以緊壓前述罩幕板的圖案面的方向當作第一方向，以緊壓前述基板的感光面的方向當作第二方向時，包含：罩幕除塵部，安裝於由前述基板保持平台的前方側的端部突出於前方側的突出部，藉由與前述基板保持平台一起往前方側行進，而在與前述罩幕板的圖案面之間具有規定的空隙的狀態下一邊吸引一邊對前述罩幕板的圖案面進行除塵而去；基板除塵部，安裝於基板除塵部支撐板，該基板除塵部支撐板配置於比前述基板保持平台位於初始位置時的該基板保持平台還靠前方側，且比前述曝光平台還靠後方側的規定位置，藉由前述基板保持平台由前述初始位置往前方側行進，而在與前述基板的感光面之間具有規定的空隙的狀態下一邊吸引一邊對前述基板的感光面進行除塵而去；基板保持平台驅動機構部，用以使前述基板保持平台可沿著x軸往復運動並且可沿著z軸升降；及基板保持平台控制裝置，藉由控制前述基板保持平台驅動機構部而控制前述基板保持平台的往復運動及升降。

此外，即使罩幕除塵部及基板除塵部是透過真空吸引而進行除塵的構件，曝光裝置的全體構成也能以與在上述各實施形態中說明的曝光裝置10A、10B、10C一樣的構成。此外，在下述的說明中，透過真空吸引而進行除塵的罩幕除塵部及基板除塵部是以吸引式罩幕除塵部及吸引式基板除塵部。

在將這種吸引式罩幕除塵部及吸引式基板除塵部例如適用於圖1所示的曝光裝置的情形下簡單地進行說明。 吸引式罩幕除塵部及吸引式基板除塵部在罩幕板310及基板W的寬度方向(在圖1中沿著軸的方向)具有細長的吸引口。該等吸引式罩幕除塵部及吸引式基板除塵部安裝於與罩幕除塵輥120及基板除塵輥210相同的位置。此時，吸引式罩幕除塵部的吸引口朝上，以能與罩幕板310的圖案面M2對向，吸引式基板除塵部的吸引口朝下，以能與基板W的感光面M1對向。

而且，在進行除塵時，只要進行與圖3及圖4大致同樣的動作即可。但是，由於吸引式罩幕除塵部及吸引式基板除塵部對罩幕板310的圖案面M2及基板W的感光面M1分別在非接觸的狀態下進行除塵，因此控制基板保持平台110，使吸引式罩幕除塵部及吸引式基板除塵部各自的吸引口對罩幕板310的圖案面M2及基板W的感光面M1具有規定的空隙。

此外，由於吸引式罩幕除塵部及吸引式基板除塵部對罩幕板310的圖案面M2及基板W的感光面M1分別在非接觸的狀態下進行除塵，因此無須如罩幕除塵輥120及基板除塵輥210那樣，藉由由彈簧134產生的伸張力而接觸罩幕板310的圖案面M2，或者藉由自身的重量而接觸基板W的感光面M1的結構。

即使藉由使用這種吸引式罩幕除塵部及吸引式基板除塵部，也能與上述各實施形態一樣，在保持基板W的基板保持平台110行進至曝光部300而去的過程中對罩幕板310的圖案面M2及基板W的感光面M1進行除塵。

10A、10B、10C‧‧‧曝光裝置
100‧‧‧基板供給回收部
110‧‧‧基板保持平台
110a‧‧‧基板保持平台的頂面
120‧‧‧罩幕除塵輥（罩幕除塵部）
130‧‧‧罩幕除塵座
131‧‧‧突出部
132‧‧‧罩幕除塵部支撐板
133‧‧‧導軌
134‧‧‧彈簧
140‧‧‧基板保持平台驅動機構部
141‧‧‧x軸往復運動驅動機構部
142‧‧‧基板保持平台固定台
143‧‧‧第一滾珠螺桿
145‧‧‧z軸升降驅動機構部
146‧‧‧升降台
147‧‧‧第二滾珠螺桿
200‧‧‧基板除塵機構部
210‧‧‧基板除塵輥（基板除塵部）
220‧‧‧基板除塵部支撐板
221‧‧‧長孔
240‧‧‧輔助基板除塵輥（輔助基板除塵部）
300‧‧‧曝光部
310‧‧‧罩幕板
310a‧‧‧罩幕板的底面
320‧‧‧曝光平台
330‧‧‧L字配件
340‧‧‧導引部
341‧‧‧導板
341a‧‧‧導板的水平片
341b‧‧‧導板的傾斜片
342‧‧‧導板安裝部
400‧‧‧曝光裝置框體
500‧‧‧基板保持平台控制裝置
510‧‧‧第一滾珠螺桿驅動部
520‧‧‧行進控制部
530‧‧‧第二滾珠螺桿驅動部
540‧‧‧升降控制部
550‧‧‧儲存部
900‧‧‧曝光裝置
901‧‧‧基板供給平台
902‧‧‧定位平台
903‧‧‧曝光平台
904‧‧‧搬出平台
905‧‧‧基板保持平台
906‧‧‧基板
907‧‧‧基板除塵輥
908‧‧‧罩幕板
909‧‧‧罩幕除塵輥
910‧‧‧吸附板
d1‧‧‧間隔
L‧‧‧長度
M1‧‧‧感光面
M2‧‧‧圖案面
W‧‧‧基板
z1‧‧‧罩幕除塵輥之沿著z軸的位置
z2‧‧‧罩幕板中的底面之沿著z軸的位置

圖1是為了說明與實施形態一有關的曝光裝置10A而顯示之圖。 圖2是顯示控制與實施形態一有關的曝光裝置10A中的基板保持平台的基板保持平台控制裝置500的構成之圖。 圖3是為了說明與實施形態一有關的曝光裝置10A的動作而顯示之圖。 圖4是為了說明與實施形態一有關的曝光裝置10A的動作而顯示之圖。 圖5是為了說明與實施形態二有關的曝光裝置10B而顯示之圖。 圖6是為了說明與實施形態三有關的曝光裝置10C而顯示之圖。 圖7是為了說明與實施形態三有關的曝光裝置10A的動作的主要部分而顯示之圖。 圖8是為了說明專利文獻1所記載的曝光裝置900而顯示之圖。

10A‧‧‧曝光裝置

100‧‧‧基板供給回收部

110‧‧‧基板保持平台

120‧‧‧罩幕除塵輥(罩幕除塵部)

130‧‧‧罩幕除塵座

131‧‧‧突出部

132‧‧‧罩幕除塵部支撐板

133‧‧‧導軌

134‧‧‧彈簧

140‧‧‧基板保持平台驅動機構部

141‧‧‧x軸往復運動驅動機構部

142‧‧‧基板保持平台固定台

143‧‧‧第一滾珠螺桿

145‧‧‧z軸升降驅動機構部

146‧‧‧升降台

147‧‧‧第二滾珠螺桿

200‧‧‧基板除塵機構部

210‧‧‧基板除塵輥(基板除塵部)

220‧‧‧基板除塵部支撐板

221‧‧‧長孔

300‧‧‧曝光部

310‧‧‧罩幕板

310a‧‧‧罩幕板的底面

320‧‧‧曝光平台

330‧‧‧L字配件

340‧‧‧導引部

341‧‧‧導板

341a‧‧‧導板的水平片

341b‧‧‧導板的傾斜片

342‧‧‧導板安裝部

400‧‧‧曝光裝置框體

500‧‧‧基板保持平台控制裝置

d1‧‧‧間隔

M1‧‧‧感光面

M2‧‧‧圖案面

W‧‧‧基板

z1‧‧‧罩幕除塵輥之沿著z軸的位置

z2‧‧‧罩幕板中的底面之沿著z軸的位置

Claims (13)

1. 一種曝光裝置，是使基板的感光面與罩幕板的圖案面面對面並使該基板的感光面曝光，其特徵在於包含： 基板保持平台，在保持該基板的狀態下，可沿著x軸往復運動於由x軸及y軸形成的xy平面，且可沿著正交於xy平面的z軸升降； 曝光平台，在突出於該罩幕板的厚度方向的狀態下保持該罩幕板； 以該基板保持平台沿著x軸朝向該罩幕板的側當作前方側，以與該前方側相反側當作後方側，以緊壓該罩幕板的圖案面的方向當作第一方向，以緊壓該基板的感光面的方向當作第二方向時，包含： 罩幕除塵部，安裝於由該基板保持平台的前方側的端部突出於前方側的突出部，藉由與該基板保持平台一起往前方側行進而在該第一方向的力作用的狀態下對該罩幕板的圖案面進行除塵而去； 基板除塵部，安裝於基板除塵部支撐板，該基板除塵部支撐板配置於比該基板保持平台位於初始位置時的該基板保持平台還靠前方側，且比該曝光平台還靠後方側的規定位置，藉由該基板保持平台由該初始位置往前方側行進而在該第二方向的力作用的狀態下對該基板的感光面進行除塵而去； 基板保持平台驅動機構部，用以使該基板保持平台可沿著x軸往復運動並且可沿著z軸升降；以及 基板保持平台控制裝置，藉由控制該基板保持平台驅動機構部而控制該基板保持平台的往復運動及升降。
2. 如申請專利範圍第1項之曝光裝置，其中若成為該罩幕除塵部接觸該罩幕板的圖案面的狀態，則一邊吸收由該罩幕板給予的抵抗該第一方向的力的力，一邊伴隨該基板保持平台的行進而對該罩幕板的圖案面進行除塵的動作， 若成為該基板除塵部接觸該基板的感光面的狀態，則一邊吸收由該基板給予的抵抗該第二方向的力的力，一邊伴隨該基板保持平台的行進而對該基板的感光面進行除塵而去的動作。
3. 如申請專利範圍第1項或第2項之曝光裝置，其中該罩幕除塵部成至少在表面具有黏著力的輥狀， 該罩幕除塵部對該罩幕板的圖案面進行除塵而去的動作是在接觸該罩幕板的圖案面的狀態下旋轉而去的動作。
4. 如申請專利範圍第3項之曝光裝置，其中成至少在表面具有比該罩幕除塵部所具有的黏著力強的黏著力的輥狀， 更包含：在接觸該罩幕除塵部的表面的狀態下與該罩幕除塵部的旋轉一起旋轉之輔助罩幕除塵部。
5. 如申請專利範圍第1項或第2項之曝光裝置，其中該基板除塵部成至少在表面具有黏著力的輥狀， 該基板除塵部對該基板的感光面進行除塵而去的動作是在接觸該基板的感光面的狀態下旋轉的動作。
6. 如申請專利範圍第5項之曝光裝置，其中成至少在表面具有比該基板除塵部所具有的黏著力強的黏著力的輥狀， 更包含：在接觸該基板除塵部的表面的狀態下與該基板除塵部的旋轉一起旋轉之輔助基板除塵部。
7. 如申請專利範圍第1項或第2項之曝光裝置，其中該基板保持平台以使該基板的感光面沿著z軸朝上方的方式保持該基板，該曝光平台以使該罩幕板的圖案面沿著z軸朝下方的方式保持該罩幕板。
8. 如申請專利範圍第7項之曝光裝置，其中該第一方向的力是由彈簧的伸張力產生的力，該罩幕除塵部被安裝於該基板保持平台的該突出部，以藉由該彈簧的伸張力而使該第一方向的力發生作用， 該第二方向的力是該基板除塵部藉由自身的重量而要自由落下的力，該基板除塵部被安裝於該基板除塵部支撐板，以在沿著z軸的方向自在地滑動規定量。
9. 如申請專利範圍第1項或第2項之曝光裝置，其中在由該基板的感光面與該基板除塵部離開的狀態到該基板除塵部開始該基板的感光面的除塵之間，該基板保持平台控制裝置進行的控制是 控制該基板保持平台驅動機構部，以使該基板保持平台沿著x軸僅行進規定量，並且沿著z軸僅移動規定量，而使該基板除塵部接觸該基板的感光面中的前方側的端部附近的平面部。
10. 如申請專利範圍第9項之曝光裝置，其中更包含：在該罩幕板的後方側的端部沿著y軸配設，一邊給予在第一方向的力作用的狀態下往前方側行進而來的該罩幕除塵部抵抗該第一方向的力的力，一邊將該罩幕除塵部導引至該罩幕板的圖案面之導引部。
11. 如申請專利範圍第9項之曝光裝置，其中在由該罩幕板的圖案面與該罩幕除塵部離開的狀態到該罩幕除塵部開始該罩幕板的圖案面的除塵之間，該基板保持平台控制裝置進行的控制是 控制該基板保持平台驅動機構部，以使該基板保持平台沿著x軸僅行進規定量，並且沿著z軸僅移動規定量，而使該罩幕除塵部接觸該罩幕板的圖案面中的後方側的端部附近的平面部。
12. 如申請專利範圍第1項或第2項之曝光裝置，其中該罩幕除塵部安裝於該基板保持平台，以在該基板保持平台位於該初始位置時，位於比該基板除塵部還靠後方側。
13. 一種曝光裝置，是使基板的感光面與罩幕板的圖案面面對面並使該基板的感光面曝光，其特徵在於包含： 基板保持平台，在保持該基板的狀態下，可沿著x軸往復運動於由x軸及y軸形成的xy平面，且可沿著正交於xy平面的z軸升降； 曝光平台，在突出於該罩幕板的厚度方向的狀態下保持該罩幕板； 以該基板保持平台沿著x軸朝向該罩幕板的側當作前方側，以與該前方側相反側當作後方側，以緊壓該罩幕板的圖案面的方向當作第一方向，以緊壓該基板的感光面的方向當作第二方向時，包含： 罩幕除塵部，安裝於由該基板保持平台的前方側的端部突出於前方側的突出部，藉由與該基板保持平台一起往前方側行進，而在與該罩幕板的圖案面之間具有規定的空隙的狀態下一邊吸引一邊對該罩幕板的圖案面進行除塵而去； 基板除塵部，安裝於基板除塵部支撐板，該基板除塵部支撐板配置於比該基板保持平台位於初始位置時的該基板保持平台還靠前方側，且比該曝光平台還靠後方側的規定位置，藉由該基板保持平台由該初始位置往前方側行進，而在與該基板的感光面之間具有規定的空隙的狀態下一邊吸引一邊對該基板的感光面進行除塵而去； 基板保持平台驅動機構部，用以使該基板保持平台可沿著x軸往復運動並且可沿著z軸升降；以及 基板保持平台控制裝置，藉由控制該基板保持平台驅動機構部而控制該基板保持平台的往復運動及升降。