CN101470357A - 曝光装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种不需要复杂的结构就能够一边使粘着辊与转印辊接触一边对掩模表面和载物台表面或者工件表面同时进行除尘的曝光装置。对于各曝光部(2、4)内的清洁单元(12)，使粘着辊(57、57)突出并旋转自如地枢轴支承在分别与掩模(10)和载物台(8)对置的一侧。这两个粘着辊(57、57)的外周面和平行于该粘着辊地枢轴支承的大径转印辊(58)的外周面彼此接触。进而，Y－Z载物台(40)使粘着辊(57)与掩模(10)接触并对该掩模(10)的表面进行除尘，使粘着辊(57)与载物台(8)的上表面接触并对该载物台(8)的上表面进行除尘。另外，反转装置(9)使吸附基座(30)以旋转轴为中心进行旋转，吸附基座(30)越过水平方向停止在倾斜的位置，在利用清洁单元(13)对工件(W)的表面进行除尘之后，使所述吸附基座(30)朝向水平方向。
Description
技术领域
本发明涉及一种曝光装置，该曝光装置在电子电路基板、液晶元件用玻璃基板、PDP(Plasma Display Panel，等离子显示器)用玻璃元件基板等的表面上形成有光刻胶层的平面基板上曝光成像。
背景技术
为了在电子电路基板(印刷电路基板)等基板上形成图像而使用光刻(photolithography)法。所谓光刻法是如下的方法：在基板上的光刻胶层的表面上形成光图像，由此使光刻胶层选择性地感光，并通过浸在蚀刻处理液中使光刻胶层溶解，进而对由该部分所覆盖的基板表面进行蚀刻。在所述光刻法中，作为使基板曝光的方式之一，存在接触曝光方式，该接触曝光方式使掩模与基板的曝光对象面重叠，并透过该掩模利用光使涂敷在基板上的感光材料层曝光。本申请的发明与接触曝光方式的曝光装置有关，但是，在不利用掩模的直接曝光装置中也可以应用于清洁曝光台等。
在所述的接触曝光方式的曝光装置中，当在外部环境中被尘埃污染了的基板被输入时，附着在该基板的各面上的尘埃通过与该掩模接触而转印在该掩模上造成污染。这样，如果掩模被污染，则在对该被污染了的基板进行曝光时附着在掩模的透光部上的尘埃遮蔽光，从而该尘埃的影子映在基板的光刻胶层上，因此在显影处理后，在图像中会产生缺失等缺陷。
因此，在各曝光部中，需要分别用于对掩模的表面(与基板接触的面)或者被导入的基板的曝光对象面(与掩模接触的面)进行除尘的除尘构件。现有的除尘构件具有在外周面上形成有粘着层的粘着辊和使粘着力比该粘着辊的粘着层还强的粘着层朝向外侧卷绕而成的转印辊，通过使粘着辊在除尘对象面上旋转，使尘埃附着在粘着辊的粘着层上，之后使粘着辊与转印辊的外周面相互接触并使转印辊从动旋转，使尘埃进一步转印到转印辊上从而将尘埃收集起来。在该方式中，通过剥去转印辊的粘着层一周的量，能够简单地将收集在转印辊的粘着层上的尘埃废弃掉。
例如，在参考文献1所记载的曝光装置中，预先将除尘辊以能够上下摆动的方式设置在将基板搬运到载物台上的搬运架的前端，伴随着将基板搬运到载物台上的动作对原版的表面进行除尘，同时，伴随着从载物台上退避的动作对基板的曝光对象面进行除尘，然后，将尘埃转印到转印辊17上。
因此，当被搬运到曝光装置中的基板是已被污染的，因为将基板牢固地固定在载物台表面上的固定工序中，光刻胶材料、基体材料片等不可避免地从基板自身剥落。这样，在载物台上产生的尘埃附着在该基板以及以后固定在该载物台上的基板的背面。如果以尘埃附着在该背面上的状态将基板移动至下一个工序中，则会成为在形成基板图像时引起重大缺陷的原因，因此必须对载物台的上表面也进行除尘。
在参考文献1所记载的装置中，在不将基板固定在载物台上的状态下使搬运架和除尘辊动作，对掩模的表面和载物台的表面进行除尘。
并且，参考文献2示出了将除尘构件设置在曝光载物台的正前方、对基板的曝光对象面进行除尘的结构。如果将该除尘构件设置在第一面用的曝光部和反转装置之间、或者设置在反转构件和第二面用的曝光部之间以用于对基板的第二面进行除尘，则能够对上述的基板的第二面进行除尘。
【参考文献1】日本专利第3533380号公报
【参考文献2】日本专利第2847808号公报
但是，由于专利文献1所记载的装置将一根粘着辊兼用于对存在于上方的掩模表面进行除尘和对存在于下方的载物台上表面进行除尘，因此需要使这一根粘着辊在垂直方向摆动。因此，在专利文献1所记载的装置中，无法始终使粘着辊与转印辊接触。因此，在该装置中，将转印辊设置在载物台以外的固定位置上，并使粘着辊能够独立地移动，但是，在这样的结构中，存在附着于该粘着辊的粘着层上的尘埃蓄积，使得粘着辊的除尘能力急剧降低的问题。
发明内容
因此，本发明提供一种如下的除尘构件：在曝光装置的曝光部中，使直径比粘着辊大的转印辊始终与在除尘对象面上滚动的粘着辊接触，通过该作用将附着在粘着辊上的尘埃直接转印到该转印辊上，以此能够延长粘着辊的寿命，并能够通过一个除尘装置的一系列移动对掩模的表面和载物台的表面一起进行除尘。
为了解决上述课题而提出的本发明的曝光装置的第一方式是使光图像透过掩模曝光在基板的表面上的曝光装置，所述曝光装置的特征在于，该曝光装置中设有用于保持所述掩模的掩模保持构件。在与保持在所述掩模保持构件上的该掩模对置的一侧，在框体内载置有：载物台，其具有用于与该掩模平行地固定基板的固定面；和移动机构，其使由所述掩模保持构件所保持的掩模与所述载物台的固定面相对接近和离开。并且，所述曝光装置包括：
光源，其透过保持在所述掩模保持构件上的掩模，朝保持在所述载物台的固定面上的基板照射光；
清洁单元，所述清洁单元具有框架、转印辊、第一粘着辊和第二粘着辊，其中，转印辊通过与保持在所述掩模保持构件上的掩模的表面以及所述固定面平行的旋转轴枢轴支承在所述框架内，且在外周面形成有粘着层，第一粘着辊以外周面与所述转印辊的外周面彼此接触的同时比该转印辊更接近所述掩模的方式通过与所述旋转轴平行的旋转轴枢轴支承在所述框架内，并在所述外周面上形成有粘着层，第二粘着辊以外周面与所述转印辊的外周面彼此接触的同时比该转印辊更接近所述载物台的方式通过与所述各旋转轴平行的旋转轴枢轴支承在所述框架内，并在所述外周面上形成有粘着层；以及
移动工作台，其使所述清洁单元在与所述旋转轴正交的平面内移动。
并且，本发明的曝光装置的第二方式是使光图像透过掩模曝光在基板的表面上的曝光装置，其特征在于，
所述曝光装置包括：
掩模保持构件，其用于保持所述掩模；
载物台，其在与保持在所述掩模保持构件上的掩模对置的一侧，具有用于与该掩模平行地固定基板的固定面；
移动机构，其使由所述掩模保持构件所保持的掩模和所述载物台的固定面相对接近和离开；
光源，其透过保持在所述掩模保持构件上的掩模，朝保持在所述载物台的固定面上的基板照射光；
清洁单元，所述清洁单元具有：框架、转印辊、第一粘着辊、中间辊和第二粘着辊，其中，转印辊通过与保持在所述掩模保持构件上的掩模的表面以及所述固定面平行的旋转轴枢轴支承在所述框架内，并在外周面形成有粘着层，第一粘着辊以外周面与所述转印辊的外周面彼此接触的同时比该转印辊更接近所述掩模的方式通过与所述旋转轴平行的旋转轴枢轴支承在所述框架内，并在所述外周面上形成有粘着层，中间辊以外周面与所述转印辊的外周面彼此接触的方式通过与所述各旋转轴平行的旋转轴枢轴支承在所述框架上，并在所述外周面上形成有粘着层，第二粘着辊以外周面与所述中间辊的外周面彼此接触的同时比该中间辊更接近所述载物台的方式通过与所述各旋转轴平行的旋转轴枢轴支承在所述框架上，并在所述外周面上形成有粘着层；
移动工作台，其使所述清洁单元在与所述旋转轴正交的平面内移动；以及
控制构件，其对所述移动机构和所述移动工作台进行控制，在所述第一粘着辊与保持在所述掩模保持构件上的掩模接触、同时所述第二粘着辊与所述载物台的固定面接触的状态下，使所述清洁单元朝与所述掩模的表面和所述固定面平行且与所述各旋转轴正交的方向移动。
根据如上构成的本发明，掩模专用的第一粘着辊和载物台的固定面专用的第二粘着辊一起以外周面始终与转印辊的外周面接触的方式枢轴支承在清洁单元的框架上。因此，尽管以当第一粘着辊与掩模接触时转印辊不与该掩模接触的方式将该第一粘着辊的位置配置成比转印辊的位置更接近掩模，同时，以当第二粘着辊与载物台的固定面接触时转印辊不与该固定面接触的方式将该第二粘着辊的位置配置成比转印辊的位置更接近载物台，但是不需要复杂的机构，并且，由于能够使转印辊的外径比各粘着辊的外径大，因此转印辊的寿命比粘着辊的寿命长，即使尘埃的量很大也能够充分地进行除尘。
进一步，根据上述本发明的第二方式，能够同时对掩模和载物台的固定面进行除尘，能够缩短除尘所需的作业时间。
如上构成的本发明的曝光装置不采用复杂的结构就能够使在除尘对象面上滚动的粘着辊始终与直径比该粘着辊大的转印辊接触，能够通过一个除尘构件的一系列移动有效地对掩模表面和载物台表面进行除尘。
附图说明
图1是作为本发明的第一实施方式的曝光装置的侧面透视示意图。
图2是示出曝光装置的控制系统的电路结构的框图。
图3是各曝光部的清洁单元的正面透视图。
图4是各曝光部的清洁单元的动作说明图。
图5是各曝光部的清洁单元的动作说明图。
图6是各曝光部的清洁单元的动作说明图。
图7是各曝光部的清洁单元的动作说明图。
图8是各曝光部的清洁单元的动作说明图。
图9是各曝光部的清洁单元的动作说明图。
图10是示出各清洁单元分别进行除尘的状态的图。
图11是示出作为本发明的第二实施方式的曝光装置的侧面透视示意图。
图12是各曝光部的清洁单元的正面透视图。
图13是各曝光部的清洁单元的动作说明图。
图14是各曝光部的清洁单元的动作说明图。
图15是各曝光部的清洁单元的动作说明图。
图16是各曝光部的清洁单元的动作说明图。
图17是各曝光部的清洁单元的动作说明图。
图18是各曝光部的清洁单元的动作说明图。
图19是各曝光部的清洁单元的动作说明图。
图20是各曝光部的清洁单元的动作说明图。
图21是反转装置的后视图。
图22是示出各清洁单元分别进行除尘的状态的图。
图23是反转装置以及清洁单元的动作说明图。
图24是反转装置以及清洁单元的动作说明图。
图25是反转装置以及清洁单元的动作说明图。
图26是反转装置以及清洁单元的动作说明图。
图27是反转装置以及清洁单元的动作说明图。
图28是反转装置以及清洁单元的动作说明图。
图29是反转装置以及清洁单元的动作说明图。
图30是反转装置以及清洁单元的动作说明图。
标号说明
2：第一曝光部；
3：反转部；
4：第二曝光部；
8：载物台；
9：反转装置；
10：掩模；
14：光源；
21：清洁单元；
22：中间辊；
30：吸附基座；
34：旋转驱动电动机；
37：旋转电动机；
40：Y—Z工作台；
49：反转部控制器；
60：反转装置；
64：固定载物台；
65：驱动电动机；
66：Y载物台。
具体实施方式
以下，基于附图对本发明的实施方式进行说明。
<曝光装置的整体结构>
图1是示出本实施方式的曝光装置的概略结构的侧面透视图。如该图1所示，该曝光装置通过在水平方向(从图1的左侧朝向右侧)上配置投入部1、第一曝光部2、反转部3、第二曝光部4以及运出部5而构成。并且本曝光装置整体由图2所示的控制系统进行控制。
投入部1具有载物台1a，该载物台1a用于使操作者或者未图示的机械手将未曝光的基板W拾取到第一输送装置(handler)6上而进行载置用。
第一输送装置6具有沿图1的左右方向延伸的臂，在该臂的两端分别以能够升降的方式具有装卸自如地吸附基板W的衬垫。进而，通过利用未图示的直行部件(linear slide)使第一输送装置6整体沿着图1的左右方向移动，从而将由图中左端的衬垫所吸附的基板W从投入部1输送至第一曝光部2并放置在载物台8上，将由图中右端的衬垫所吸附的基板W从第一曝光部2输送至反转部3并载置在该反转装置9内以退避。
第一曝光部2是如下这样的装置：使掩模10与从投入部1输送来的基板W的第一面重叠，并通过透过该掩模10照射使光刻胶层感光的紫外光以将作为掩模10的透光部所描绘的图像曝光在第一面上的光刻胶层上。因此，该第一曝光部2由以下部件构成：载置由第一输送装置6输送来的基板W的载物台8；以使该基板W朝向掩模10接近并接触和使其离开的方式使载物台8升降的上升机构55；作为保持掩模10的掩模保持构件的保持器11；以及发出用于使光刻胶层感光的光的光源14。
光源14例如能够根据基板W的光刻胶层的反应条件从短弧灯等或者高压灯等各种UV灯、或者敷设在平面上的LED等中选择。另外，也可以具有将从光源14发出的光线高效地引导至基板的反射镜、透镜等。并且，掩模10是在被保持于矩形的晒版架(框架)中的玻璃、丙烯等上以将光应透过的部位作为透光部的方式贴附或者描绘遮光部件而形成的。另外，载物台8的上表面与由保持器11所保持的掩模10的表面平行，且开设有与未图示的抽吸泵连通的多个抽吸口。通过这些抽吸口抽吸空气，从而以与掩模10的表面平行的方式将基板W吸附固定在该载物台8的上表面上，即、以该上表面作为固定面发挥功能的方式进行固定。另外，与上述相反，也可以通过上升机构55使保持掩模10的保持器11下降而使其接近载物台8。因此，该上升机构55相当于使由保持器11所保持的掩模10和载物台8的固定面相对接近或者离开的移动机构。
并且，在图1中，描绘成输送装置6位于掩模10的正下方，但是，掩模10也可以配置在相对于第一输送装置6在与纸面正交的方向上离开的位置。在该情况下，载物台8除了需要具有升降的功能以外，还需要具有沿着与纸面正交的方向移动的功能。在所述结构中，当载物台8升降时不需要使第一输送装置6退避，并且，容易遮蔽来自光源14的漏光。另外，对于用于对第一曝光部2的掩模10的下表面和载物台8的上表面进行除尘的清洁单元12在后面详细说明。
反转部3中内置有：用于使利用第一输送装置6从第一曝光部2输送来的、第一面已曝光完毕的基板W反转的反转装置9以及用于对利用该反转装置9反转后的基板W的第二面进行除尘的清洁单元13。
第二曝光部4具有与第一曝光部2相同的结构。因此，在图1中，对与第一曝光部2相同的第二曝光部4的部件赋予与第一曝光部2的部件相同的标号，并省略说明。
第二输送装置7具有沿着图1的左右方向延伸的臂，在该臂的两端分别以能够升降的方式具有装卸自如地吸附基板W的衬垫。进而，通过利用未图示的直行部件使第二输送装置7整体沿图1的左右方向移动，将由图中左端的衬垫所吸附的基板W从反转部3输送至第二曝光部4并放置在其载物台8上，将由图中右端的衬垫所吸附的基板W从第二曝光部4输送至运出部5并放置在运出部5的载物台5a上。这样放置在运出部5的载物台5a上的曝光完毕的基板W被操作者或者未图示的机械手等取出，并移动至下一处理工序。另外，对于设置在第二曝光部4和运出部5之间、用于对第二曝光部4的掩模10的下表面和载物台8的上表面进行除尘的清洁单元12在后面说明。
<各曝光部的清洁单元>
在各图中，将各输送装置6、7输送基板W的方向称为“z方向”，将升降载物台8的方向(铅直方向)称为“y方向”，将与“z方向”和“y方向”分别正交的方向称为“x方向”。
在图4至图9中示出了用于对搭载在第二曝光部4中的掩模10的下表面和载物台8的上表面进行除尘的清洁单元12的动作。运出部5由使未图示的Y—Z工作台沿铅直方向移动的移动构件和使该清洁单元朝曝光部4方向移动的驱动部构成。该Y—Z工作台的驱动构件能够利用沿Y方向和Z方向移动的导轨和分别 内置的致动器使Y—Z工作台移动。
各清洁单元12收纳在箱形的框架12a中，该框架12a上游侧(图1中的左侧)的下边缘和上边缘被切口。图3示出除去框架后的状态。以能够以朝向x方向架设在框架12a内的各旋转轴57a、57a为中心旋转的方式枢轴支承着各粘着辊57、57，各粘着辊57、57的外周面的一部分分别从由这些切口所形成的各开口突出。这些各粘着辊57、57具有形成有粘着层的外周面。
图3是示出从上游侧观察各清洁单元12的状态的透视图，如该图3和上述的图1所示，两粘着辊57、57的外周面与转印辊58的外周面彼此接触，该转印辊58经由与这两粘着辊平行地架设在框架12a内的旋转轴58a旋转自如地被枢轴支承，且其直径比各粘着辊57、57大很多。进而，上侧的粘着辊(第一粘着辊)57配置成比转印辊58更接近掩模，下侧的粘着辊(第二粘着辊)57配置成比转印辊58接近载物台8。
粘着力比粘着辊57、57的外周面的粘着层强的粘着带以粘着面朝向外侧的方式卷绕在转印辊58的外周面上。进而，该转印辊58被驱动电动机53驱动进行旋转，该驱动电动机53固定在框架12a的侧面且与旋转轴58a直接连接。因此，转印辊58借助该驱动电动机53进行旋转，由此，各粘着辊57、57从动地旋转，清洁单元12整体通过Y—Z工作台40朝与各粘着辊57、57的旋转方向相反的方向移动，从而在除尘对象面上滚动，使附着在除尘对象面上的尘埃附着在粘着辊57的外周面上。这样，附着在粘着辊57的外周面上的尘埃通过被转印至转印辊58的表面上而被收集在该转印辊58上。这样，被转印辊58回收的尘埃在从转印辊58的外周面剥去粘着带一圈的量之后被废弃。
另外，驱动电动机53也可以不直接固定在转印辊58的旋转轴58a上，例如，也可以形成为经由固定在其他位置上的皮带等传递构件驱动转印辊58的结构。并且，驱动电动机53可以与任一个转印辊58连接。
<各曝光部的控制>
如图2所示，上述的各曝光部2、4的载物台8的上升机构55、抽吸泵54、光源14、Y—Z工作台40以及驱动电动机53分别与作为控制各曝光部2、4整体动作的控制装置的第一曝光部控制器56和第二曝光部控制器51连接，从这些第一曝光部控制器56和第二曝光部控制器51供给控制信号和驱动电力，按照预定的顺序进行动作。另外，这些第一曝光部控制器56以及第二曝光部控制器51自身与作为控制曝光装置整体动作的控制装置的整体控制器50连接，通过该整体控制器50控制动作时刻等。
以下，利用图4至图9对各曝光部控制器51、56控制各曝光部2、4的清洁单元12的顺序进行说明。另外，第一曝光部控制器56所进行的控制和第二曝光部控制器51所进行的控制，仅动作时刻以及清洁单元12的退避位置(第一曝光部2的清洁单元12的退避位置在输入部1内，第二曝光部4的清洁单元12的退避位置在运出部5内)有所不同，除此之外完全相同。因此，以第二曝光部4为例进行以下的说明。
图4示出在第二曝光部4中，利用上升机构55使载物台8上升，由此使通过未图示的抽吸泵54吸附在该载物台8上的基板W与掩模10抵接的状态。在该状态下，第二曝光部控制器51通过使光源14发光而透过掩模10使基板W的第二面曝光，对描绘在掩模10上的图像进行曝光。此时，清洁单元12通过由第二曝光部控制器51控制的Y—Z工作台40退避至运出部5内。
接下来，第二曝光部控制器51对上升机构55进行控制，由此使载物台8下降至其上表面与通道高度(pass level)共面，并使抽吸泵54停止。在该状态下输送装置7把持载物台8上的工件W(参照图5)并将其移动至运出部5(参照图1)。
接下来，第二曝光部控制器51对Y—Z工作台40进行控制，从而将清洁单元12移动至图6所示的初始位置、即第一粘着辊57与掩模10的下表面的一端抵接的位置。另外，图6中所描绘的虚线是为了对Y—Z工作台40进行控制而预先设定在第二曝光部控制器51中的清洁单元12的移动轨迹(图中示出了第一粘着辊57的中心的移动轨迹)。即，第二曝光部控制器51以使清洁单元12沿着该虚线所示的移动轨迹移动的方式对Y—Z工作台40进行控制。清洁单元12首先从图6所示的位置沿z方向水平移动至图7所示的位置。其间，第二曝光部控制器51使驱动电动机53旋转，从而使上侧的粘着辊57以与清洁单元12自身的移动速度相同的圆周速度沿图中的顺时针方向旋转。由此，第一粘着辊57对掩模10的下表面加压并在掩模10的下表面上滚动，对掩模10的下表面(与基板抵接的面)进行除尘。
接下来，载物台8上升，清洁单元12从图7所示的位置下降至图8所示的位置，使第二粘着辊57与载物台8的上表面接触。
进一步，清洁单元12从图8所示的位置沿z方向水平移动至图9所示的位置。其间，由于驱动电动机53向相同的方向旋转，因此第二粘着辊57以与清洁单元12自身的移动速度相同的圆周速度沿图中的顺时针方向旋转。由此，第二粘着辊57在载物台8的上表面上滚动，对载物台8的上表面进行除尘。
另外，图10中示出了在第一曝光部2中对掩模10的下表面进行除尘、在反转部3中对基板W的第二面进行除尘、在第二曝光部4中对载物台8的上表面进行除尘的状态。
另外，在各曝光部2、4中进行除尘的时刻只要是在载物台8和掩模10之间形成空间(即，能够将该除尘构件12插入到载物台8的上表面和掩模10的下表面之间并使其沿掩模10的下表面移动的空间。)的时刻即可，可以在预先恒定的曝光循环中开始除尘，也可以在任意的曝光结束后、基板W被运出后的时刻开始除尘。
<本实施方式的优点>
在本实施例中，各曝光部2、4的清洁单元12在上下具有粘着辊57、57，且粘着辊57、57分别与同一个转印辊58接触。根据本实施方式，能够使一台清洁单元12沿z方向往复，并且能够在载物台8上往复一次期间内对掩模10的下表面和载物台8的上表面进行除尘。由于清洁单元12预先具有用于对掩模下表面除尘且设置在比转印辊58高的位置上的粘着辊57、和用于对载物台上表面除尘且设置在比转印辊58低的位置上的粘着辊57，因此不需要使粘着辊的直径比转印辊的直径大，不需要使粘着辊相对于转印辊自由公转，也不需要使粘着辊独立于转印辊地进行移动。
【第二实施方式】
<曝光装置的整体结构>
图11是示出本发明的第二实施方式的曝光装置的整体结构的侧面透视图。如该图11所示，与上述的第一实施方式的曝光装置相比，本发明的第二实施方式仅在各曝光部2、4中的清洁单元21的结构以及各曝光部控制器51、56对Y—Z工作台40和上升机构55的控制内容方面有所不同，其他的结构相同。因此，在图11中，对与第一实施方式中的图1所示的结构相同的要素赋予与图1相同的标号，并省略说明。
<各曝光部的清洁单元>
本实施方式的各曝光部2、4的清洁单元21也由未图示的Y—Z工作台进行支承，在Y—Z平面内以描绘预定轨迹的方式移动。
并且，各清洁单元21收纳在箱形的框架21a中，该框架21a上游侧(图11中的左侧)的下边缘和上边缘被切口。以能够以朝向x方向架设在框架21a内的各旋转轴57a、57a为中心旋转的方式枢轴支承着各粘着辊57、57，各粘着辊57、57的外周面的一部分分别从由这些切口所形成的各开口突出。这些粘着辊57、57具有形成有粘着层的外周面。
图12是示出从上游侧观察各清洁单元21的状态的透视图。
如该图12和上述的图11所示，上侧的粘着辊(第一粘着辊)57的外周面与经由平行于该粘着辊57地架设在框架21a内的旋转轴58a转动自如地被枢轴支承的转印辊58的外周面彼此直接接触。该转印辊58的直径比各粘着辊57、57的直径大，上侧的粘着辊(第一粘着辊)57配置成比该转印辊58更接近掩模。
粘着力比粘着辊57、57的外周面的粘着层强的粘着带以粘着面朝向外侧的方式卷绕在转印辊58的外周面上。进而，该转印辊58通过固定在框架21a的侧面且与旋转轴58a直接连接的驱动电动机53被驱动旋转。因此，转印辊58借助该驱动电动机53进行旋转，从而上侧的粘着辊(第一粘着辊)57从动地旋转，清洁单元21整体通过Y—Z工作台40朝与上侧的粘着辊57的旋转方向相反的方向移动，由此在除尘对象面上滚动，使附着在除尘对象面上的尘埃附着在上侧的粘着辊57的外周面上。这样附着在粘着辊57的外周面上的尘埃通过被转印至转印辊58的表面上而被收集在该转印辊58上。
并且，下侧的粘着辊57的外周面与中间辊22的外周面彼此接触，该中间辊22经由与该粘着辊57平行地架设在框架21a内的旋转轴22a转动自如地被枢轴支承。该中间辊22的外周面还与转印辊58的外周面彼此接触。进而，下侧的粘着辊(第二粘着辊)57比该转印辊58更接近载物台8。
上述中间辊22的外径比粘着辊57的直径大，并且比转印辊58的直径小，形成在其外周面上的粘着层的粘着力比粘着辊57的粘着层的粘着力强、并且比转印辊58的粘着带的粘着力弱。因此，当如上所述那样利用驱动电动机53驱动转印辊58旋转时，下侧的粘着辊(第二粘着辊)57经由中间辊22朝与上侧的粘着辊57相反的方向旋转。进而，清洁单元21整体通过Y—Z工作台40朝与上侧的粘着辊57的旋转方向相反的方向移动，从而下侧的粘着辊57在除尘对象面上滚动，由此，附着在下侧的粘着辊57的表面上的尘埃被转印至粘着力比该粘着辊57强的中间辊22上，并进一步被转印至粘着力更强的转印辊58上。
如上所述那样利用各粘着辊57、57从各除尘对象面上清除下来的尘埃都收集在转印辊58上。进而，收集来的尘埃在从转印辊58的外周面剥去粘着带一圈的量之后被废弃掉。
<各曝光部的控制>
接下来，利用图13至图20对在第二实施方式中各曝光部控制器51、56控制各曝光部2、4的清洁单元21的步骤进行说明。在本第二实施方式中，第一曝光部控制器56所进行的控制和第二曝光部控制器51所进行的控制仅在动作时刻以及清洁单元21的退避位置(第一曝光部2的清洁单元21的退避位置在输入部1内，第二曝光部4的清洁单元21的退避位置在运出部5内)有所不同，除此之外完全相同。因此，以第二曝光部控制器51为例进行以下的说明。
图13示出这样的状态：在第二曝光部4中，利用上升机构55使载物台8上升，由此使通过抽吸泵54吸附在载物台8上的基板W与掩模10抵接。在该状态下，第二曝光部控制器51通过使光源14发光而透过掩模10使基板W的第二面曝光，对描绘在掩模10上的图像进行曝光。此时，清洁单元21通过由第二曝光部控制器51控制的Y—Z工作台40退避至运出部5内。
接下来，第二曝光部控制器51对上升机构55进行控制，由此使载物台8下降至其上表面与通道高度共面，并使抽吸泵54停止。在该状态下，输送装置7把持载物台8上的工件W并将其移动至运出部5。参照图14。
接下来，第二曝光部控制器51对Y—Z工作台40进行控制，由此使清洁单元21进入掩模10和载物台8之间的空间(图15)，并将其移动至使上侧的粘着辊(第一粘着辊)57处于掩模10的下表面中的一端的正下方的位置。接着，第二曝光部控制器51对Y—Z工作台40进行控制，从而将清洁单元21移动至使上侧的粘着辊57与掩模10的下表面中的一端抵接的位置并对掩模10施加轻微的压力。并且，对应于清洁单元21上侧的粘着辊57与掩模10抵接的时刻，通过第二曝光部控制器51对上升机构55进行控制使载物台8上升，并使其上表面与清洁单元21下侧的粘着辊(第二粘着辊)57抵接，进而对该粘着辊57施加轻微的压力(图16)。
进一步，当第二曝光部控制器51通过对驱动电动机53进行驱动而使转印辊58朝图中的顺时针方向旋转时，上侧的粘着辊57朝图中逆时针方向旋转，下侧的粘着辊57通过夹设中间辊22以与上侧的粘着辊57相同的旋转速度朝图中的顺时针方向旋转。因此，通过第二曝光部控制器51对Y—Z工作台40进行控制，使清洁单元21以与各粘着辊57的圆周速度同步的速度从图16所示的位置沿z方向移动至图17所示的位置。在该移动过程中，上侧的粘着辊57一边与掩模10的下表面接触一边滚动，对掩模10的下表面进行除尘，同时，下侧的粘着辊57一边与载物台8的上表面接触一边滚动，对载物台8的上表面进行除尘。即，通过使清洁单元21朝一个方向移动来完成对上述两个面的除尘。
最后，当第二曝光部控制器51根据来自未图示的传感器的输出确认了清洁单元21已经到达载物台8的另一端的情况时，通过对上升机构55进行控制使载物台8下降至其上表面与通道高度共面(图18)，进一步，通过对Y—Z工作台40进行控制使清洁单元21下降若干量，使其朝释放对掩模10的压力的方向退避(参照图19)。进而，通过第二曝光部控制器51对Y—Z工作台40进行控制，使清洁单元21以与除尘时的移动速度不同的高速度沿z方向移动并回收至运出部5中。
另外，图10示出在第一曝光部2中对掩模10以及载物台8的除尘结束(图17的阶段)、在第二曝光部4中即将进行除尘之前的状态。
<本实施方式的优点>
根据如上所述构成的本实施方式的曝光装置，除了能够得到上述的第一实施方式的所有优点之外，能够同时完成对掩模10的下表面的除尘和对载物台8的上表面的除尘，由于使上侧的粘着辊57对掩模10加压、同时使载物台对下侧的粘着辊57加压的压力都能够通过载物台8的上升机构55赋予，因此不用增加新的机构就能够使清洁单元21从投入部1或者运出部5出发并完成一系列的除尘之后再次复位至投入部1或者运出部5的时间、即曝光步骤以外的停机时间(down time)抑制在最小限度。
<反转部的清洁单元>
图22示出曝光装置的整个外观，并示出在第一曝光部中清洁单元12对掩模表面进行清洁、在第二曝光部中清洁单元12对曝光工作台面进行清洁、在反转部中清洁单元13对基板W的第二面进行清洁的状态。
清洁单元13收纳在箱形的壳体内，该壳体的上游侧(图22中的左侧)的下边缘被切口，在由此形成的开口中旋转自如地安装有旋转轴朝向x方向的粘着辊46。该清洁单元13的粘着辊46与经由平行于该粘着辊46的旋转轴转动自如地被保持的转印辊47接触，并随着该转印辊47旋转而从动地旋转，并在除尘对象面上滚动，使附着在除尘对象面上的尘埃粘在该粘着辊46上，并将该尘埃转印至具有更强的粘着力的转印辊47的表面上。
<反转部的控制系统>
接下来，利用图22至图30对反转部控制器49、第一曝光部控制器56以及整体控制器50控制反转装置60、反转部3的清洁单元13以及第一曝光部2的载物台8的上升机构55的步骤进行说明。
上升机构55使曝光保持面64a上升(图24)，静止的反转部控制器49(图23)对驱动电动机65进行控制，由此使固定载物台64(朝图24中的顺时针方向)旋转，直至保持面64a从水平方向朝下游侧倾斜45度(图25)。当完成使保持面64a这样倾斜时，通过反转部控制器49对Y—Z工作台40进行控制，从而使清洁单元13在Y—Z平面内移动，接着使其粘着辊46在固定于保持面64a上的工件W的第二面上滚动。具体而言，使清洁单元13的粘着辊46的外周面与工件W的上游侧的端缘进行线接触(图26)，接着，一边借助驱动电动机48使粘着辊46(朝图26中的顺时针方向)经由转印辊47并与其同步旋转，一边使粘着辊46以与保持面64a平行地朝向下游侧倾斜下降的方式移动。在该移动的中途，粘着辊46一边对工件W的第二面加压一边在该第二面上滚动，以此对该第二面进行除尘(图27)。进而，当粘着辊46到达工件W的下游侧的端缘时，清洁单元13使粘着辊46从工件W的第二面离开，并复位至初始位置(图28)。
接下来，反转部控制器49使驱动电动机65反转，使固定载物台64复位至保持面64a为水平的旋转位置(参照图29)。此时，固定载物台64的保持面64a被加工成与通道高度共面。因此，反转部控制器49使抽吸泵44的抽吸停止，在整体控制器50的控制下，上述的第二输送装置7拾取工件W并将其移动至第二曝光部4(参照图30)。
<本实施方式的优点>
对工件W的第二面进行除尘的清洁单元13在反转部3中设置在反转装置9的上方。因此，不需要在反转装置9和第二曝光部4之间确保除尘装置的设置空间，能够将曝光装置整体在z方向(工件W移动的方向)抑制为较短。并且，在对工件W的第二面进行除尘时，在固定工件W的吸附基座30相对于水平方向倾斜的状态下进行除尘。因此，清洁单元13在z方向的移动宽度是相对于工件宽度的倾斜角的余弦即可。即，与使吸附基座30朝向水平方向进行除尘的情况相比，能够减少清洁单元13在z方向上的移动空间，进一步，能够抑制反转部3的z方向上的宽度增大。另外，虽然吸附基座30的倾斜角越大上述效果越好，但是即使清洁单元13的移动空间比使吸附基座30朝向水平方向时反转装置9整体所占的z方向的区域还狭窄，也无法使反转部3在z方向上的宽度更加狭窄。并且，当倾斜角变大时，使除尘后的吸附基座30复位至水平方向所需的时间增加。因此，优选该倾斜角为30度以内的角度。
另外，上述效果是通过使吸附基座30从水平方向倾斜而得到的，因此使吸附基座30从初始状态旋转180度而到达水平方向之前停止并进行除尘的情况也包含在本发明的范围内。
Claims (4)
1、一种曝光装置，所述曝光装置在对基板的第一面进行曝光的第一曝光部和对第二面进行曝光的第二曝光部之间具有基板的反转构件，其特征在于，
在所述第一曝光部中设有：掩模；用于固定基板的载物台；载物台移动构件，其使所述掩模和所述载物台相对接近，进一步使二者接触；光源，其透过所述掩模对所述基板照射光；除尘构件，其对所述掩模的与所述基板接触的面以及所述载物台的与基板接触的面进行除尘；以及输送构件，其将所述基板从投入部经由第一曝光部输送至反转部，
在所述第二曝光部中设有：掩模；用于固定基板的载物台；载物台移动构件，其使所述掩模和所述载物台相对接近，进一步使二者接触；光源，其透过所述掩模对所述基板照射光；除尘构件，其对所述掩模的与所述基板接触的面以及所述载物台的与基板接触的面进行除尘；以及输送构件，其将所述基板从反转部经由第二曝光部输送至运出部，
所述曝光装置具有：
对第一曝光部的掩模和载物台进行除尘的第一除尘构件；
对第二曝光部的掩模和载物台进行除尘的第二除尘构件；以及
在位于第一曝光部和第二曝光部的中间的反转部，对所述基板的第二面进行除尘的第三除尘构件，
所述反转构件使第一面被所述第一曝光部曝光后的基板反转。
2、根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
所述第一除尘构件是与所述掩模表面接触并一边旋转一边移动以对掩模表面进行除尘的第一粘着辊，所述第二除尘构件是与所述载物台接触并一边旋转一边移动以对载物台表面进行除尘的第二粘着辊，
所述第三除尘构件是与基板的第二面接触并一边旋转一边移动以对基板的第二面进行除尘的第三粘着辊。
3、根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
所述除尘构件将外周面形成有粘着层的第一粘着辊、第二粘着辊以及第三粘着辊与在外周面形成有粘着层的转印辊组合起来，将尘埃转印至该转印辊上进行除尘。
4、根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
通过所述反转构件对所述基板进行如下控制：相对于水平方向倾斜所述基板使所述基板的第二面被除尘，之后使除尘后的所述基板复位至水平方向，并使所述基板能够在水平面内移动。
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