CN102132216B - 掩膜保持机构 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种掩膜保持机构，其能利用所集成的机构在X、Y、Z、θ方向驱动用于保持掩膜的掩膜保持部，并能够使掩膜保持部的驱动机构小型化且轻量化，还能提高应答性。所述掩膜保持机构具备：一对第一驱动机构，其具有第一驱动部(20)和第一引导部(23)，其中，该第一驱动部(20)在X方向、Z方向驱动掩膜保持部(16)，该第一引导部(23)在Y方向引导掩膜保持部(16)；第二驱动机构(12)，其具有：第二驱动部(50)和第二引导部(53)，其中，该第二驱动部在Y方向、Z方向驱动掩膜保持部(16)，该第二引导部(53)在X方向引导掩膜保持部(16)；该掩膜保持机构以能沿X、Y、Z、θ方向驱动和倾斜驱动的方式支撑掩膜保持部(16)。

Description

掩膜保持机构

技术领域

本发明涉及掩膜保持机构，更为详细地涉及如下的掩膜保持机构：利用集成了X、Y、Z、θ方向的驱动的单元机构进行掩膜与基板的对位、间隙调整以及掩膜从基板退出的动作。 

背景技术

在以往的曝光装置中，作为进行掩膜位置调整的装置公开了如下的装置：用并列配置的两个驱动装置不需要转动可动平台而使其向一个方向移动(例如参照专利文献1)。在专利文献1所述的工作台装置的驱动方法、工作台装置中，事先用预定的驱动电力驱动了驱动电动机并测定移动速度，然后对驱动电动机进行驱动电力修正，以使实际的移动速度达到目标速度。 

专利文献1：日本特开平10-202453号公报 

发明内容

在曝光装置中曝光时需要进行掩膜与基板的对位以及掩膜与基板的间隙调整。并且，在更换掩膜等维护时需要进行使保持掩膜的掩膜保持部和基板大幅度地分开的退出动作。专利文献1所述的工作台装置的驱动方法、工作台装置用于在水平面内移动可动平台的驱动方法，没有记载上下方向移动(间隙调整、退出动作)。 

以往一般的曝光装置中的掩膜与基板的对位、间隙调整以及掩膜退出动作是，由为了沿X、Y、Z以及θ方向驱动而分别独立设置的机构来进行的。所以，驱动机构变得复杂的同时，调整时移动的被驱动体的质量变大。其结果是，各驱动装置要求输出的功率变大而导致驱动装置大型化，从而出现了应答性降低的问题。 

本发明是鉴于上述问题提出来的，其目的在于，提供一种掩膜保持机构，该掩膜保持机构能够利用集成的机构在X、Y、Z以及θ方向上驱动保持掩膜的掩膜保持部，使得掩膜保持部的驱动机构小型化且轻量化，并能提高应答性。 

通过下述的构成达到本发明的上述目的。 

(1)一种掩膜保持机构，具有： 

掩膜保持部，其保持掩膜； 

第一驱动机构，其具有：第一驱动部，能在水平面上的一个方向即X方向以及垂直方向即Z方向驱动该掩膜保持部；第一引导部，能在该水平面上与该X方向正交的方向即Y方向引导该掩膜保持部； 

第二驱动机构，其具有：第二驱动部，能在上述Y方向以及Z方向驱动上述掩膜保持部；第二引导部，能在上述X方向引导上述掩膜保持部， 

该掩膜保持机构能在上述X方向、上述Y方向以及与绕该水平面正交的轴转动θ方向将上述掩膜保持部驱动，且还能将其倾斜驱动， 

上述掩膜保持机构，其特征在于，利用上述第一驱动部在X方向或者θ方向驱动上述掩膜保持部时，利用上述第二引导部吸收上述掩膜保持部的移动量， 

利用上述第二驱动部在Y方向驱动上述掩膜保持部时，利用上述第一引导部吸收上述掩膜保持部的移动量， 

利用上述第一、第二驱动部中的至少一个倾斜驱动上述掩膜保持部时，利用上述第一、第二引导部中的至少一个来吸收因上述掩膜保持部的倾斜而导致的、在上述第一、第二驱动机构的俯视图中的间隙变化量。 

(2)根据上述(1)所述的掩膜保持机构，其特征在于，利用上述第一、第二驱动部在Z方向的驱动，上述掩膜保持部能在靠近基板 的动作位置和离开上述基板的退出位置之间移动。 

(3)根据上述(1)或者(2)所述的掩膜保持机构，其特征在于，上述第一驱动部具备：X轴电动机；安装有该X轴电动机的X轴电动机基台；第一引导板，其利用该X轴电动机的驱动而相对于上述X轴电动机基台在相对于X方向倾斜预定的角度的第一倾斜方向被驱动；第三引导部，其相对于上述X轴电动机基台在上述第一倾斜方向引导上述第一引导板， 

上述第二驱动部具备：Y轴电动机；安装有该Y轴电动机的Y轴电动机基台；第二引导板，其利用该Y轴电动机的驱动而相对于上述Y轴电动机基台在相对于Y方向倾斜预定的角度的第二倾斜方向被驱动；第四引导部，其相对于上述Y轴电动机基台在上述第二倾斜方向引导上述第二引导板， 

当由上述X轴电动机向上述第一倾斜方向驱动上述第一引导板，则上述掩膜保持部在X方向移动，上述掩膜保持部被上述第一引导部引导为能够相对于上述第一引导板向Y方向进行相对移动， 

当由上述Y轴电动机向上述第二倾斜方向驱动上述第二引导板时，则上述掩膜保持部在Y方向移动，该上述掩膜保持部能被上述第二引导部引导为能够相对于上述第二引导板向X方向进行相对移动。 

(4)根据上述(3)所述的掩膜保持机构，其特征在于，分别配置在上述一对第一驱动机构的上述X轴电动机的驱动方向，相对于上述一对第一驱动机构之间的X方向中心线成线对称。 

(5)根据上述(3)或者(4)所述的掩膜保持机构，其特征在于，上述第一驱动部还具备：第一Z轴电动机；第一Z轴可动平台，其能利用该第一Z轴电动机在Z方向移动；和第一万向接头，其支撑上述X轴电动机基台能够相对于该第一Z轴可动平台自由转动； 

上述第二驱动部还具备：第二Z轴电动机；第二Z轴可动平台，其能利用该第二Z轴电动机在Z方向移动；和第二万向接头，其支撑 上述Y轴电动机基台能够相对于该第二Z轴可动平台自由转动；当由上述第一、第二Z轴电动机中的至少一个倾斜驱动上述第一、第二Z轴可动平台时，利用上述第一、第二万向接头中的至少一个允许上述掩膜保持部的倾斜，同时利用上述第一、第二引导部中的至少一个来吸收因上述掩膜保持部的倾斜而导致的、上述第一和第二驱动机构间的间隙变化量。 

(6)根据上述(1)所述的掩膜保持机构，其特征在于，上述第二驱动机构具备：Z轴驱动机构，其支撑着与上述第一驱动机构所支撑的上述掩膜保持部的一边相对的一边，并作为上述第二驱动部能在Z方向驱动上述掩膜保持部；Y轴驱动机构，其支撑着与上述第一驱动机构所支撑的上述掩膜保持部的一边相对的一边，并作为上述第二驱动部能在Y方向驱动上述掩膜保持部， 

上述第二引导部具有：Z轴侧引导部，其设在上述Z轴驱动机构；Y轴侧引导部，其设在上述Y轴驱动机构。 

(7)根据上述(6)所述的掩膜保持机构，其特征在于，上述Y驱动机构具备：Y轴电动机；安装有该Y轴电动机的Y轴电动机基台；第二引导板，其利用该Y轴电动机的驱动而相对于上述Y轴电动机基台在第二倾斜方向被驱动，该第二倾斜方向相对于Y方向倾斜预定的角度；第四引导部，其相对于上述Y轴电动机基台在上述第二倾斜方向引导上述第二引导板， 

上述Y轴侧引导部的固定部和可动部中的一个安装在上述第二引导板上，该固定部和可动部中的另一个设在配对部件上， 

在上述配对部件和上述掩膜保持部之间配置有Y轴侧万向接头、上述向Z方向延伸的引导装置。 

(8)根据上述(6)或者(7)所述的掩膜保持机构，其特征在于，上述Z轴驱动机构具备：第二Z轴电动机；第二Z轴可动平台，其利用该第二Z轴电动机能在Z方向移动；上述第二万向接头，其支撑安 装有上述Z轴侧引导部的固定部和可动部中的一个基台能够相对于该第二Z轴可动平台自由转动；转动支撑机构，其支撑安装有上述Z轴侧引导部的固定部和可动部中的另一个的转动台能够相对于上述掩膜保持部自由转动。 

(9)根据上述(3)或者(4)所述的掩膜保持机构，其特征在于，上述第一驱动部还具备：第一Z轴电动机；安装有该第一Z轴电动机的第一Z轴电动机基台；第一Z轴可动平台，其利用上述第一Z轴电动机能在Z方向移动；第一连接板，其利用上述第一引导部能相对于上述第一引导板在Y方向移动；和第一万向接头，其支撑上述第一Z轴电动机能够相对于上述第一连接板自由转动； 

上述第二驱动部还具备：第二Z轴电动机；安装有该第二Z轴电动机的第二Z轴电动机基台；第二Z轴可动平台，其利用上述第二Z轴电动机能在Z方向移动；第二连接板。其利用上述第二引导部能相对于上述第二引导板在X方向移动；和第二万向接头，其支撑上述第二Z轴电动机能够相对于上述第二连接板自由转动； 

当由于上述第一、第二Z轴电动机中的至少一个而导致上述第一、第二Z轴可动平台倾斜驱动时，利用上述第一、第二万向接头中的至少一个允许上述掩膜保持部的倾斜，同时利用上述第一、第二引导部中的至少一个来吸收因上述掩膜保持部的倾斜而导致的、上述第一以及第二驱动机构间的间隙变化量。 

(10)根据上述(1)或者(2)所述的掩膜保持装置，其特征在于，上述第一驱动部具备：X轴电动机；安装有该X轴电动机的X轴电动机基台；第一引导板，其利用上述X轴电动机的驱动而相对于上述X轴电动机基台能在X方向被驱动；和第三引导部，其相对于上述X轴电动机基台能在X方向引导上述第一引导板， 

上述第二驱动部具备：Y轴电动机；安装有该Y轴电动机的Y轴电动机基台；第二引导板，其利用上述Y轴电动机的驱动而相对于上述Y轴电动机基台能在Y方向被驱动；和第四引导部，其相对于上述 Y轴电动机基台能在Y方向引导上述第二引导板； 

当上述第一引导板被上述X轴电动机沿X方向驱动时，被上述第二驱动部的第二引导部沿X方向引导的上述掩膜保持部在X方向移动， 

当上述第二引导板被上述Y轴电动机沿Y方向驱动时，被上述第一驱动部的第一引导部沿Y方向引导的上述掩膜保持部在Y方向移动。 

(11)根据上述(10)所述的掩膜保持装置，其特征在于，上述第一驱动部还具备：第一Z轴电动机；安装有该第一Z轴电动机的第一Z轴电动机基台；第一Z轴可动平台，其利用上述第一Z轴电动机能在Z方向移动；第一连接板，其利用上述第一引导部能相对于上述第一引导板在Y方向移动；和第一万向接头，其支撑上述第一Z轴电动机能够相对于上述第一连接板自由转动， 

上述第二驱动部还具备：第二Z轴电动机；安装有该第二Z轴电动机的第二Z轴电动机基台；第二Z轴可动平台，其利用上述第二Z轴电动机能在Z方向移动；第二连接板，其利用上述第二引导部能相对于上述第二引导板在X方向移动；和第二万向接头，其支撑上述第二Z轴电动机能够相对于上述第二连接板自由转动， 

当由上述第一、第二Z轴电动机中的至少一个倾斜驱动上述第一、第二Z轴可动平台时，利用上述第一、第二万向接头中的至少一个允许上述掩膜保持部的倾斜，同时利用上述第一、第二引导部中的至少一个来吸收因上述掩膜保持部的倾斜而导致的、上述第一以及第二驱动机构间的间隙变化量。 

(12)根据上述(9)至(11)中任何一项所述的掩膜保持机构，其特征在于，上述X轴电动机基台和上述Y电动机基台分别配置在支架的上表面上， 

上述第一、第二Z轴可动平台固定在上述掩膜保持部上。 

根据本发明的掩膜保持机构，具备：一对第一驱动机构，其分别具有第一驱动部以及第一引导部；第二驱动机构，其具有第二驱动部、第二引导部，利用第一驱动部在X方向、θ方向上驱动掩膜保持部时， 由第二引导部吸收掩膜保持部的移动量，利用第二驱动部向Y方向驱动时，由第一引导部吸收掩膜保持部的移动量，而且，当倾斜驱动掩膜保持部时，利用第一、第二引导部中的至少一个来吸收因掩膜保持部的倾斜而导致的、第一、第二驱动机构间的俯视图中的间距变化量，因此能够用集成的机构进行了掩膜保持部在X、Y、Z、θ方向上的驱动以及倾斜驱动。这样一来，能够使掩膜保持部的驱动机构小型化的同时，还能使其轻量化，并能提高应答性。 

并且，掩膜保持部利用第一、第二驱动部在Z方向的驱动，能够在靠近基板的动作位置与离开基板的退出位置之间移动，因此掩膜更换等维护作业变得容易，提高了工作效率。 

再有，第一驱动部具备：X轴电动机；第一引导板，其在相对于X方向倾斜预定的角度的第一倾斜方向被驱动，第二驱动部具备：Y轴电动机；第二引导板，其在相对于Y方向倾斜预定的角度的第二倾斜方向被驱动，当第一引导板被X轴电动机在第一倾斜方向驱动时，则通过第一引导部的作用向X方向移动掩膜保持部；当第二引导板被Y轴电动机在第二倾斜方向驱动时，则通过第二引导部的作用向Y方向移动掩膜保持部；因此能够使第一、第二引导板在第一、第二倾斜方向上的移动量分别转换为掩膜保持部在X、Y方向上的小移动量，由此能够高精度地控制掩膜保持部在X、Y方向的移动。 

并且，分别配置在一对第一驱动机构的X轴电动机的驱动方向相对于一对第一驱动机构之间的X方向中心线成线对称，因此通过同步转动各X轴电动机，就能使掩膜保持部向X方向移动。 

再有，第一驱动部还具备：第一Z轴电动机；第一万向接头，其相对于第一Z轴可动平台能自由转动地支撑X轴电动机基台，第二驱动部还具备：第二Z轴电动机；第二万向接头，其支撑Y轴电动机基台能相对于第二Z轴可动平台自由转动，当由第一、第二Z轴电动机 中的至少一个而驱动了第一、第二Z轴可动平台时，则运转第一、第二万向接头中的至少一个，并倾斜驱动掩膜保持部，同时利用第一、第二引导部中的至少一个来吸收因掩膜保持部倾斜而导致的、在第一和第二驱动机构间的俯视图中的间距变化量，因此能顺利进行集成机构的倾斜驱动。 

并且，第二驱动机构具备：Z轴驱动机构，其支撑与第一驱动机构支撑的上述掩膜保持部的一边相对的一边，并作为第二驱动部能在Z方向驱动掩膜保持部；Y轴驱动机构，其支撑与第二驱动机构支撑的上述掩膜保持部的一边相对的一边，并作为第二驱动部能在Y方向驱动掩膜保持部，第二引导部具有设在Z轴驱动机构中的Z轴侧引导部、设在Y轴驱动机构中的Y轴侧引导部，因此能在Y方向上驱动大型的、大重量的掩膜保持部而不发生倾斜。 

而且，第一驱动部还具备：第一Z轴电动机、第一Z轴电动机基台、第一Z轴可动平台、利用第一引导部能在Y方向移动的第一连接板、和支撑第一Z轴电动机基台能够相对于第一连接板自由转动的第一万向接头，第二驱动部还具备：第二Z轴电动机、第二Z轴电动机基台、第二Z轴可动平台、利用第二引导部能在X方向移动的第二连接板、和支撑第二Z轴电动机基台能够相对于第二连接板自由转动的第二万向接头，当利用第一、第二Z轴电动机倾斜驱动上述第一、第二Z轴可动平台时，则利用第一、第二万向接头允许掩膜保持部的倾斜，同时还能利用第一、第二引导部吸收因掩膜保持部的倾斜导致的、第一、第二驱动机构间的间距变化量，因此能够在集成的机构中进行掩膜保持部的X、Y、Z、θ方向驱动以及倾斜驱动。由此，能够使掩膜保持部的驱动机构小型化的同时，还能使其轻量化，能提高应答性。 

并且，第一驱动部具备：X轴电动机；X轴电动机基台；第一引导板，利用X轴电动机的驱动在X方向驱动；第三引导部，其在X方向引导第一引导板，第二驱动部具备：Y轴电动机；Y轴电动机基台； 第二引导板，利用Y轴电动机的驱动在Y方向驱动；第四引导部，其在Y方向引导第二引导板，如果利用X轴电动机在X方向驱动第一引导板，则在X方向引导的掩膜保持部利用第二驱动部的第二引导部向X方向移动，如果利用Y轴电动机在Y方向驱动第二引导板，则在Y方向引导的掩膜保持部利用第一驱动部的第一引导部向Y方向移动，因此能够顺利地进行集成机构的XY驱动。 

再有，第一驱动部还具备：第一Z轴电动机；第一Z轴电动机基台、第一Z轴可动平台；第一连接板，其利用第一引导部能在Y方向移动；第一万向接头，其相对于第一连接板能够自由转动地支撑第一Z轴电动机基台，第二驱动部还具备：第二Z轴电动机；第二Z轴电动机基台；第二Z轴可动平台；第二连接板，其利用第二引导部能在X方向移动；第二万向接头，其支撑第二Z轴电动机基台能够相对于第二连接板自由转动，当第一、第二Z轴可动平台利用第一、第二Z轴电动机倾斜驱动时，则通过第一、第二万向接头允许掩膜保持部的倾斜，同时利用第一、第二引导部来吸收因掩膜保持部的倾斜而导致的、第一、第二驱动机构间的间距变化量，因此能够用集成的机构进行掩膜保持部的X、Y、Z、θ方向驱动以及倾斜驱动。由此，能够使掩膜保持部的驱动机构小型化的同时还能使其轻量化，能提高应答性。 

并且，由于X轴电动机基台和Y轴电动机基台配置在支架的上表面，第一、第二Z轴可动平台固定在掩膜保持部，因此不需要大型的掩膜保持机构也能确保掩膜保持部内部的空间，同时还能顺利地完成集成机构的X、Y、Z、θ方向驱动以及倾斜驱动。 

附图说明

图1是将配置有本发明的第一实施方式的掩膜保持机构的接近式扫描曝光装置在取下照射部的状态下示出的俯视图。 

图2是图1中的接近式扫描曝光装置的主视图。 

图3是图1中的掩膜保持机构的立体图。 

图4是图1中的掩膜保持机构的俯视图。 

图5是沿图4中的V-V线的剖视图。 

图6是图5中的第一驱动机构的放大图。 

图7是图4中的Ⅶ-Ⅶ剖视图。 

图8是变形例的掩膜保持机构的纵剖视图。 

图9是本发明的第二实施方式的掩膜保持机构的立体图。 

图10是本发明的第三实施方式的掩膜保持机构的立体图。 

图11是图10中第一驱动机构的放大剖视图。 

图12的(a)和(b)分别是图10中的用椭圆Ⅻ、Ⅻ′围起来部分的放大图。 

图13是本发明的第四实施方式的掩膜保持机构的立体图。 

图14是图13中的掩膜保持机构的俯视图。 

图15是图13中的掩膜保持机构的侧视图。 

图16是图13中的掩膜保持机构的主视图。 

图17的(a)是图13中的驱动机构的主要部分俯视图，(b)是其主视图，(c)是其侧视图。 

标号说明： 

10、10A、10B、10C  掩膜保持机构 

11A、11B  第一驱动机构 

12  第二驱动机构 

13  支架 

16  掩膜保持部 

20  第一驱动部 

21  第一Z轴电动机 

22、22A  X轴电动机 

23  直线导轨(第一引导部) 

24  第一Z轴电动机基台 

31  第一Z轴可动平台 

34  十字接头(第一万向接头) 

35、47  X轴电动机基台 

38  第一引导板 

39  直线导轨(第三引导部) 

42  第一转动支撑机构 

43  第一连接板 

46  直线导轨(第三引导部) 

48  定子 

49  可动元件 

50  第二驱动部 

51  第二Z轴电动机 

52、52A  Y轴电动机 

53、53a、53b  直线导轨(第二引导部) 

54  第二Z轴电动机基台 

61  第二Z轴可动平台 

64  十字接头(第二万向接头) 

65、77  Y轴电动机基台 

68  第二引导板 

69  直线导轨(第四引导部) 

72  第二转动支撑机构 

73  第二连接板76直线导轨(第四引导部) 

M  掩膜 

W  基板 

α  相对于X方向的预定角度(第一倾斜方向) 

β  相对于Y方向的预定角度(第二倾斜方向) 

具体实施方式

下面，根据附图详细说明本发明涉及的掩膜保持机构的实施方式。其中，在本实施方式中，分别将基板的搬送方向定义为水平面状的一个方向即X方向，将在水平面上与X方向正交的方向定义为Y方向，将与X方向、Y方向正交的垂直方向定义为Z方向，将绕与X方向、 Y方向分别正交的轴转动的方向定义为θ方向。 

(第一实施方式) 

如图1以及图2所示，本实施方式的接近式曝光装置1主要具备：基板搬送机构2，其能使基板(例如作为液晶显示器用基板的滤色器基板)W上浮并对其支撑，同时将其向预定方向(图1的X方向)搬送；两列多个(在图1所示的实施方式中，左右分别有三个)掩膜保持机构10，其沿着和预定方向交叉的方向(图1的Y方向)呈锯齿状配置，用于分别保持多个掩膜M；多个照射部4(参照图2)，其分别配置在多个掩膜保持部16的上部，用于照射曝光用光；控制部5，其控制扫描曝光装置1的各动作部分的动作。 

基板搬送机构2具备：上浮单元80，其设在将基板W沿X方向搬送的区域；和基板驱动单元81，其保持基板W的Y方向一侧(图1中的上边)而向X方向搬送。上浮单元80具备多个气垫83，其设在多个基台82上，并只进行排气或者同时进行排气和吸气。并且，基板驱动单元81通过驱动电动机85，搬送保持着由上浮单元80上浮和支撑的基板W的一端的吸附垫84，并利用滚珠丝杠机构86将基板W向X方向搬送。 

如图1所示，在分别沿Y方向直线状配置的上游侧、下游侧的各掩膜保持机构10之间，配置有可同时更换各掩膜保持部16的掩膜M的掩膜变换器87，在掩膜变换器87的周围配置有掩膜储料器88以及掩膜装载机89。 

如图2所示配置在掩膜保持部16的上部的照射部4具备：用于发射含紫外线的曝光用光EL，例如由超高压水银灯构成的光源91；凹面镜92；光学积分仪93；用于改变光路方向的平面反射镜94以及球面反射镜95；和开闭控制照射光路的快门96。 

在各掩膜保持部16的下方配置有用于检测基板W与掩膜M的相对位置的线阵相机97。并且，在各掩膜M的有效曝光区域设有用于测定掩膜M和基板W间的间隙的间隙传感器(图未示出)。 

如图3-图7所示，掩膜保持机构10具备：大致矩形状的掩膜保持部16，其保持掩膜M；一对第一驱动机构11A、11B；和第二驱动机构12。一对第一驱动机构11A、11B以及第二驱动机构12配置在大致矩形框状的支架13上，该支架14固定在接近式曝光装置1的基台82。一对第一驱动机构11A、11B在沿着支架13的Y方向的一边13a上沿Y方向分开固定，在从该一边16a的中间位置等间隔分离开处分别支撑掩膜保持部16的沿Y方向的一边16a。第二驱动机构12固定在支架13的沿Y方向的另一边13b，并支撑与一对第一驱动机构11A、11B所支撑的掩膜保持部16的一边16a相对的一边16b的中间位置。 

第一以及第二驱动机构11A、11B、12能将下表面上保持有掩膜M的掩膜保持部16保持为能够在支架13的框内沿X、Y、Z、θ方向自由移动。另外，一对第一驱动机构11A、11B除了后述的X轴电动机22的安装方向不同之外具有相同的结构，因此在下面的说明中主要对第一驱动机构11A进行说明。 

参照图6，第一驱动机构11A具备第一驱动部20和第一引导部即一对Y方向的直线导轨23，第一驱动部20具有能使掩膜保持部16在Z方向驱动的第一Z轴电动机21以及能在X方向驱动的X轴电动机22，第一引导部在Y方向引导掩膜保持部16。第一Z轴电动机21以转动轴25朝向Z轴方向下方的方式固定在第一Z轴电动机基台24上，该基台24固定在支架13的一边13a。在转动轴25上连接有丝杠28，该丝杠28能够自由转动地支撑在第一Z轴电动机基台24上，并和螺合在丝杠28上的螺母27一起构成了滚珠丝杠机构。 

在螺母27上固定有第一Z轴可动平台31，其被Z轴方向的直线 导轨29所引导并能向Z方向移动。这样一来，当第一Z轴电动机21转动时，则第一Z轴可动平台31向Z方向移动。 

在自第一Z轴可动平台31的上部向支架13的内侧(X方向)突出出形成的突出部31a上固定有作为第一万向接头的十字接头34的一个 

字部件32a。十字接头34由一对 字部件32a、32b和十字轴33构成，其中，上述一对 

字部件32a、32b由设在两端的轴支撑部在互相正交的方向组合配置而成，上述十字轴33能够自由转动地嵌合在各轴支撑部中。由此，另一个 

字部件32b以在XZ面以及YZ面内自由转动的方式和一个 

字部件32a连接。其中，在图4中省略图示了十字接头34和后述的十字接头64等。 

十字接头34的另一个 字部件32b固定在X轴电动机基台35上。在X轴电动机基台35上固定有X轴电动机22，X轴电动机22在第一倾斜方向，即在水平面内(XY面)相对于X方向倾斜预定的角度α(参照图4)。在丝杠36上螺合有螺母37，该丝杠36固定在X轴电动机22的转动轴上，该螺母37固定在第一引导板38上。另外，一对第一驱动机构11A、11B的各X轴电动机22的轴芯安装角度相对于一对第一驱动机构11A、11B之间的X方向中心线X(在本实施方式中指通过掩膜保持部16的重心G的X方向中心线)呈轴对称地配置。 

在第一引导板38的上表面和X轴电动机基台35的下表面之间，以与丝杠36的轴芯平行的方式配置有作为第三引导部的一对直线导轨39，该直线导轨39由导轨39a和滑块39b构成，并向第一倾斜方向引导第一引导板38。 

并且，在第一引导板38的下表面设有作为第一引导部的一对直线导轨23，该直线导轨23由向Y方向延伸的导轨23a、滑块23b构成，并向Y方向引导固定在一对滑块23b上的转动台41。在转动台41安装有转动轴41a，在该转动轴41a的周围配置滚动轴承40，从而构成了 支撑掩膜保持部16能够在水平面内自由转动的转动支撑机构42。 

第二驱动机构12具备：第二驱动部50，其具有能将掩膜保持部16在向Z方向驱动的第二Z轴电动机51、能在Y方向将其驱动的Y轴电动机52；以及作为在X方向引导掩膜保持部16的第二引导部的X方向的直线导轨53。 

第二Z轴电动机51以转动轴55朝向Z轴方向下方的方式固定在第二Z轴电动机基台54上，该基台54固定在支架13的一边13b。在转动轴55上连接有丝杠58，该丝杠58以可自由转动的方式支撑在第二Z轴电动机基台54上，并和螺合在丝杠58上的螺母57一起构成了滚珠丝杠机构。 

在螺母57上固定有第二Z轴可动平台61，该第二Z轴可动平台61被Z轴方向的直线导轨59引导而能够在Z方向移动。由此，当第二Z轴电动机51转动时，则第二Z轴可动平台61向Z方向移动。 

在从Z轴可动平台61的上部向支架13的内侧(X方向)突出形成的突出部61a上固定有第二万向接头即十字接头64的另一个 

字部件62a。十字接头64包括一对 

字部件62a、62b和十字轴63，该一对 字部件62a、62b由设在两端的轴支撑部在彼此正交的方向上组合配置而成，该十字轴63以自由转动的方式嵌合在各轴支撑部中。由此，另一个 

字部件62b以在XZ面以及YZ面内自由转动的方式与一个 

字部件62a相连接。 

十字接头64的另一个 

字部件62b固定在Y轴电动机基台65。在Y轴电动机基台65固定有Y轴电动机52，Y轴电动机52在第二倾斜方向，即在水平面内(XY面)相对于Y方向倾斜预定的角度β(参照图4)。在丝杠66上螺合有螺母67，该丝杠66固定在Y轴电动机52的转动轴，该螺母67固定在第一引导板68。 

在第二引导板68的上表面和Y轴电动机基台65的下表面之间，以和丝杠66的轴芯平行的方式配置有作为第四引导部的一对直线导轨69，该直线导轨69由导轨69a、滑块69b构成，并在第二倾斜方向引导第二引导板68。 

并且，在第二引导板68的下表面设有作为第二引导部的一对直线导轨53，该直线导轨53由向X方向延伸的导轨53a、滑块53b构成，并沿X方向引导固定在一对滑块53b上的转动台71。在转动台71安装有转动轴71a，在该转动轴71a的周围配置有滚动轴承70，从而构成了在水平面内能以自由转动的方式支撑掩膜保持部16的转动支撑机构72。 

如上所述，由于掩膜保持部16经由三个十字接头34、34、64支撑在Z轴可动平台31、31、61，因此都会使在一对第一驱动机构11A、11B的第一Z轴电动机21、21和第二驱动机构12的第二Z轴电动机51中的任一个电动机进行动作时产生的Z轴可动平台31、31、61(支架13)和掩膜保持部16之间的倾斜，被三个十字接头34、34、64的转动所吸收。 

并且，由于掩膜保持部16经由一对第一驱动机构11A、11B的滚动轴承40、40以及第二驱动机构12的滚动轴承70支撑在Z轴可动平台31、31、61上，因此都会使在一对第一驱动机构11A、11B的X轴电动机22、22以及第二驱动机构12的Y轴电动机52中的任何一个电动机进行动作时产生的支架13和掩膜保持部16之间的相对转动(围绕Z轴的转动)θ，被三个滚动轴承40、40、70所吸收。 

下面，说明本实施方式的掩膜保持机构10的作用。一对第一驱动机构11A、11B以及第二驱动机构12根据由线阵相机97摄像到的基板W的图案和掩膜M的标记(mark)，在X、Y、θ方向上驱动掩膜保 持部16，以修正掩膜M与基板W的相对错位，同时根据由图未示出的间隙传感器测定的掩膜M和基板W之间的间隙，在Z方向驱动掩膜保持部16来进行间隙调整，以使掩膜M和基板W之间的间隙成为预定的均一间隙。然后，来自照射部4的曝光用光EL经由掩膜M向基板W照射，使掩膜M的图案转印到基板W。并且，一对第一驱动机构11A、11B以及第二驱动机构12能使掩膜保持部16在靠近基板W的动作位置与大幅度离开基板的退出位置之间移动。 

(X方向移动) 

掩膜保持部16的X方向移动是通过彼此反方向同步转动一对第一驱动机构11A、11B的X轴电动机22、22而进行的。如图3以及图4所示，转动两个X轴电动机22、22，经由和丝杠36螺合的螺母37用直线导轨39引导第一引导板38，以向第一倾斜方向(箭头A方向)移动。 

由于一对直线导轨39相对于X轴倾斜角度α，因此第一引导板38向第一倾斜方向的一定量的Y方向成分(第一引导板38的第一倾斜方向移动量Xsinα)被第一引导部23的导轨23a和滑块23b之间的相对移动吸收。所以，转动台41即掩膜保持部16不会在Y方向移动。 

另一方面，由于第一引导板38在第一倾斜方向的移动量的X方向成分(第一引导板38的第一倾斜方向移动量Xcosα)和第一引导部23的引导方向(Y方向)正交，因此移动量的X方向成分经由转动台41向掩膜保持部16传递，并使掩膜保持部16向X方向移动。这时，导轨53a和滑块53b发生相对移动，以使第二驱动机构12的第二引导部53允许掩膜保持部16向X方向移动。 

如上所述，同步转动一对第一驱动机构11A、11B的X轴电动机22、22，使得两个第一引导板38、38在第一倾斜方向的移动量的X方向成分长度相同，由此掩膜保持部16在X方向水平移动而不会转动(θ 方向)。 

并且，由于一对直线导轨39相对于X轴倾斜角度α，因此第一引导板38在第一倾斜方向的移动量的cosα成为掩膜保持部16的X方向移动量，该移动量相比第一引导板38的第一倾斜方向移动量还小。即，第一引导板在第一倾斜方向上的大的移动量转换为掩膜保持部16小的X方向移动量。因此，通过相对于X轴倾斜角度α的方向上驱动第一引导板38，以使第一引导部23作为位移缩小机构起作用。由此，能够高精度控制掩膜保持部16的X方向移动。 

(θ方向转动) 

掩膜保持部16的θ方向转动是通过使一对第一驱动机构11A、11B的X轴电动机22、22以不同的转速转动而进行的。如图3以及图4所示，例如第一驱动机构11A的X轴电动机22的转速相比第一驱动机构11B的X轴电动机22的转速还大时，第一驱动机构11A在转动台41的X方向移动量(X1)相比第一驱动机构11B在转动台41的X方向移动量(X2)更大，掩膜保持部16向逆时针方向转动。并且，第一驱动机构11A的X轴电动机22的转速相比第一驱动机构11B的X轴电动机22的转速还小时，掩膜保持部16向顺时针方向转动。 

这时，固定在支架13上的一对第一驱动机构11A、11B以及第二驱动机构12和掩膜保持部16之间的相对转动(θ)，能被配置在转动台41、41、71和掩膜保持部16间配合部的转动支撑机构42、42、72吸收。并且，有时会由于掩膜保持部16的θ方向转动，会出现掩膜保持部16相对于支架13向XY方向相对移动的情况(掩膜保持部16在θ方向转动的同时向XY方向移动)，该XY方向移动被第一引导部23、第二引导部53吸收。 

(Y方向移动) 

掩膜保持部16的Y方向移动是通过转动第二驱动机构12的Y轴 电动机52而进行的。如图3、图4所示，转动Y轴电动机52，利用Y轴电动机基台65的第四引导部69且经由与丝杠66相螺合的螺母67引导第二引导板68，以向第二倾斜方向(箭头B方向)移动。 

由于第四引导部69相对于Y轴倾斜角度β，因此第二引导板68在第二倾斜方向的移动量的X方向成分(第二引导板68的第二倾斜方向移动量Xsinβ)被直线导轨53的导轨53a和滑块53b之间的相对移动吸收。因此，转动台71即掩膜保持部16不会向X方向移动。 

另一方面，由于第二引导板68在第二倾斜方向的移动量的Y方向成分(第二引导板68的第二倾斜方向移动量Xcosβ)和第二引导部53的引导方向(X方向)正交，因此经由转动台71向掩膜保持部16传递，并向Y方向移动掩膜保持部16。这时，导轨23a和滑块23b发生相对移动，一对第一驱动机构11A、11B的一对直线导轨23允许掩膜保持部16的Y方向移动。 

并且，由于第四引导部69相对于Y轴倾斜角度β，因此第二引导板68在第二倾斜方向的移动量的cosβ成为掩膜保持部16的Y方向移动量，该移动量比第二引导板68的第二倾斜方向移动量还小。即，第二引导板68在第二倾斜方向的大的移动量转换为掩膜保持部16的小的Y方向移动量。因此，通过相对于Y轴倾斜角度β的方向上驱动第一引导板68，以使第二引导部53作为位移缩小机构起作用。由此，能够高精度地控制掩膜保持部16的Y方向移动。 

(Z方向移动) 

掩膜保持部16的Z方向移动是通过转动一对第一驱动机构11A、11B的第一Z轴电动机21、21以及第二驱动机构12的第二Z轴电动机51而进行的。如图5所示，转动第一Z轴电动机21、21以及第二Z轴电动机51，使第一Z轴可动平台31、31以及第二Z轴可动平台61经由与丝杠28、28、58相螺合的螺母27、27、57向Z方向移动。该Z 方向移动经由十字接头34、34、64、作为第一引导部的一对直线导轨23、23以及作为第二引导部的一对直线导轨53、转动支撑机构42、72而向掩膜保持部16传递，以向Z方向移动掩膜保持部16。 

(掩膜在动作位置与退出位置之间的移动) 

通过增加第一Z轴电动机21、21以及第二Z轴电动机51的转速，掩膜保持部16能够向Z方向大幅度地移动，并能在靠近基板W的动作位置与从基板W离开的退出位置之间移动。这时，通过同步转动第一Z轴电动机21、21以及第二Z轴电动机51，就能够使掩膜保持部16在维持水平状态下向Z方向大幅度地移动，使得掩膜M的更换等维护作业变得容易。 

(掩膜与基板的间隙调整) 

掩膜M和基板W的间隙调整是通过微小转动第一Z轴电动机21、21以及第二Z轴电动机51而进行的。即，基板W和掩膜M已经是平行状态时进行如下的间隙调整：使第一Z轴电动机21、21和第二Z轴电动机51同步并且稍微旋转，由此使掩膜保持部16在维持了水平状态的状态下靠近或者离开基板W，以成为预定的间隙。其中，掩膜M和基板W之间的间隙是通过图未示的间隙传感器测定的，根据该测定值控制第一Z轴电动机21、21以及第二Z轴电动机51的旋转。 

在基板W与掩膜M不平行的情况下，通过使第一Z轴电动机21、21和第二Z轴电动机51中的任一个电动机的转速比另一个电动机转速更多或者更少，以使掩膜保持部16的倾斜程度和基板W平行(倾斜修正)。这时，掩膜保持部16在XZ以及YZ面内相对于支架13的倾斜能通过三个十字接头34、34、64的自由转动而被允许。 

并且，如果掩膜保持部16相对于支架13的倾斜(XZ以及YZ面内)发生变化，则第一、第二驱动机构11A、11B、12间在俯视图中的间距变化量发生变化。例如，当基于第一Z轴电动机21、21的Z方向 移动量相比基于第二Z轴电动机51的Z方向移动量(在图5中的上方移动)还多的情况下，如图5所示掩膜保持部16在XZ平面内以一对第一驱动机构11A、11B侧(严格来说是十字接头34的十字轴33的轴芯)为中心转动，并倾斜角度γ。这时，如果将第一驱动机构11A、11B和第二驱动机构12之间的间隙长度设为C，则第一驱动机构11A、11B与第二驱动机构12间在俯视图中的间隙缩短为CXcosγ。在掩膜保持部16倾斜前后的第一驱动机构11A、11B和第二驱动机构12之间的间距变化量(C(1-cosγ))被作为第二引导部的直线导轨53的导轨53a和滑块53b在X方向的相对移动所吸收。 

同样地，如果第一驱动机构11A、11B间的长度设为D，则掩膜保持部16在YZ平面内从水平状态倾斜角度γ时(参照图7)，例如在俯视图中的第一驱动机构11A、11B间的间距缩短为DXcosγ。掩膜保持部16的第一驱动机构11A、11B间基于该倾斜的间距变化量(D(1-cosγ))被作为各第一引导部的直线导轨23的导轨23a和滑块23b在Y方向的相对移动所吸收。 

如上所述，，根据本实施方式的掩膜保持机构10，通过使用集成了X、Y、Z以及θ方向驱动的机构即一对第一驱动机构11A、11B以及第二驱动机构12，能够使X、Y以及θ驱动掩膜保持部16时掩膜保持部16的移动量、倾斜驱动时各驱动机构11A、11B、12之间在俯视图中的间距变化量被作为第一以及第二引导部的直线导轨23、53所吸收。这样一来，能够使掩膜保持部16的驱动机构11A、11B、12小型化的同时还能使其轻量化，能提高应答性。 

图8是变形例的掩膜保持机构的对应于图5的剖视图。在该变形例中，各突出部31a、61a是从Z轴可动平台31、61的下部向支架13的内侧(X方向)突出而形成的。而且，在突出部31a、61a上从下方开始依次配置有十字接头34、64、X轴电动机基台35以及Y轴电动机基台65、作为第三、第四引导部的直线导轨39、69、第一、第二引导 板38、68、作为第一以及第二引导部的直线导轨23、53、转动台41、71，以从上方支撑掩膜保持部16。这样一来，和图5所示配置例相比较，能够使掩膜保持机构10的高度方向尺寸更小且更加紧凑。 

(第二实施方式) 

图9是表示本发明的第二实施方式的掩膜保持机构的立体图。其中，在本实施方式中由于只有第二驱动机构和第一实施方式不同，因此对该部分以外的部分标注和第一实施方式相同或相应的符号，以省略说明。 

本实施方式的掩膜保持机构10A的第二驱动机构12的构成为：作为第二驱动部且能向Z方向驱动掩膜保持部16的Z轴驱动机构101和能向Y方向驱动掩膜保持部16的Y轴驱动机构102相互分离。Z轴驱动机构101固定在支架13的一边13b，并支撑和第一驱动机构11A、11B支撑的掩膜保持部16的一边16a相对的一边16b(向Y方向延伸的一边)的中间位置。并且，Y轴驱动机构102固定在和支架13的一边13b正交的一边13c，并支撑和第一驱动机构11A、11B支撑的掩膜保持部的一边16a正交的一边16c(向X方向延伸的一边)的中间位置。所以，第二引导部具有：作为设在Z轴驱动机构101中的Z轴侧引导部的直线导轨53a，和作为设在Y轴驱动机构102中的Y轴侧引导部的直线导轨53b。 

Z轴驱动机构101中的第二Z轴电动机51固定在设于支架13的一边15的第二Z轴电动机基台54上。第二Z轴电动机51具备和第一实施方式的掩膜保持机构10相同的滚珠丝杠机构(图未示出)，该滚珠丝杠机构的螺母和Z轴可动平台61相连接。Z轴可动平台61经由第二万向接头即十字接头64和安装有直线导轨53a的滑块53a1的X轴基台103相连接，X轴基台103能够自由转动地支撑在Z轴可动平台61。 

在转动台71的上表面安装有直线导轨53a的导轨53a2，在X轴基台103与转动台71之间具有直线导轨53a，该直线导轨53a向X方向引导转动台71。并且，在转动台71与L型厚板106的上表面之间配置有允许掩膜保持部16的转动的滚动轴承(图未示出)，从而构成了和第一实施方式相同的转动支撑机构(图未示出)，其中L型厚板106是从掩膜保持部16向水平方向延伸而形成的。这样一来，如果使第二Z轴电动机51旋转，则掩膜保持部16向Z方向移动。并且，掩膜保持部16的X方向移动能被直线导轨53a吸收，同时掩膜保持部16的转动被转动支撑机构吸收，掩膜保持部16的倾斜利用十字接头64而被允许。 

另一方面，在Y轴驱动机构102中从支架13的一边13c向支架13的内侧延伸设置的L型厚板108上安装有Y轴电动机基台65，在Y轴电动机基台65上固定有相对于Y轴倾斜角度β的Y轴电动机52。在由Y轴电动机52旋转驱动的滚珠丝杠机构的丝杠66上螺合了螺母67，该螺母67固定在第二引导板68。在第二引导板68上，经由向X方向引导的直线导轨53b配置有作为配对部件的Y轴可动平台109。设在Y轴可动平台109的侧面的作为Y轴侧万向接头的十字接头110经由作为向Z方向延伸的引导装置的直线导轨111，固定在Z轴基台112，该Z轴基台112与掩膜保持部16的一边16c相连接。 

第二驱动机构被分割为Z轴驱动机构101、Y轴驱动机构102，在图3所示第一实施方式的掩膜保持机构10中向Y方向驱动掩膜保持部16的向Y方向延伸的一边16b，与此相反地本实施方式的掩膜保持机构10A向Y方向驱动掩膜保持部16的向X方向延伸的一边16c。这样一来，能够在掩膜保持部16的X方向中心附近驱动，换句话说能够在掩膜保持部16的重心G的延长线上驱动。 

因此，在掩膜保持部16为大型且大重量的情况下，如果向Y方向驱动离开掩膜保持部16的重心G且向Y方向延伸的一边(参照图3)， 则掩膜保持部16会有变形的可能性(变形成平行四边形)，与此相反，根据本实施方式的掩膜保持机构10A，能够向Y方向驱动而不发生掩膜保持部16的变形。并且，由于与第一实施方式同样地，一对第一驱动机构11A，11B能够用集成的机构进行掩膜保持部的X、Y、Z、θ方向驱动以及倾斜驱动，因此能够使掩膜保持部的驱动机构小型化，同时还能使其轻量化，能提高应答性。其他结构以及作用与第一实施方式的掩膜保持机构10相同。 

(第三实施方式) 

图10是表示本发明的第三实施方式的掩膜保持机构的立体图，图11是第一驱动机构的放大剖视图。其中，在本实施方式中，第一驱动机构以及第二驱动机构具备有着和第一实施方式相同功能的各结构部件，另一方面在各结构部件的配置上和第一实施方式不同。所以，对与第一实施方式相同或者对应的部分标注相同或者对应的附图标记，以简化或省略说明。 

如图10以及图11所示，本实施方式的掩膜保持机构108具备：保持掩膜M的大致矩形状的掩膜保持部16、一对第一驱动机构11A、11B、以及第二驱动机构12。 

掩膜保持机构108的第一驱动机构11(11A、11B)具备：第一驱动部20，其具有将掩膜保持部16向Z方向驱动的第一Z轴电动机21和将其向X方向驱动的X轴电动机22；和作为向Y方向引导掩膜保持部16的第一引导部的一对Y方向的直线导轨23。固定在支架13的一边13a的上表面的X轴电动机基台35上固定有X电动机22，固定的方式和第一实施方式同样地在第一倾斜方向即水平面内(XY面)相对于X方向倾斜预定的角度α(参照图4)。固定在X轴电动机22的转动轴的丝杠36和螺母37螺合，该螺母37固定在第一引导板38。其中，一对第一驱动机构11A、11B的各X轴电动机22被配置为：其轴芯的安装角度α相对于一对第一驱动机构11A、11B间的X方向中心线X (在本实施方式中，通过掩膜保持部16的重心G的X方向中心线)成线对称(参照图4)。 

在第一引导板38的下表面和X轴电动机基台35的上表面之间配置有作为第三引导部的一对直线导轨39，该直线导轨39由导轨39a和滑块39b构成，用于向第一倾斜方向引导第一引导板38。 

并且，在第一引导板38的上表面设有作为第一引导部的一对直线导轨23，并向Y方向引导固定在一对滑块23b的转动台41，该第一引导部由向Y方向延伸的导轨23a和滑块23b构成。在转动台41上，安装有转动轴41a，并构成有经由配置在该转动轴41a周围的滚动轴承40支撑第一连接板43能在水平面内自由转动的转动支撑机构42。 

在从第一连接板43向支架13的内侧(X方向)突出形成的突出部43a的下表面，固定有作为第一万向接头的十字接头34的一个 字部件32a。十字接头34由一对 字部件32a、32b和十字轴33构成，其中，上述一对 字部件32a、32b由设在两端的轴支撑部在彼此正交的方向组合配置而成，上述十字轴33能够自由转动地嵌合在各轴支撑部中。这样一来，另一个 

字部件32b和一个 

字部件32a以能在XZ面和YZ面内自由转动的方式相连接。十字接头34的另一个 

字部件32b固定在突出部24a，该突出部24a是从第一Z轴电动机基台24向支架13的外侧(X方向)突出而形成的。 

第一Z轴电动机21固定以转动轴25朝向Z方向下方的方式在Z轴电动机基台24上。在转动轴25连接有丝杠28，该丝杠58和螺合在丝杠28的螺母27一起构成了滚珠丝杠机构，其中该丝杠28是以可自由转动的方式支撑在Z轴电动机基台24上的。 

在螺母27上固定有第一Z轴可动平台31，该第一Z轴可动平台被Z轴方向的直线导轨29引导而向Z方向移动。这样一来，如果转动 第一Z轴电动机21，则第一Z轴可动平台31向Z方向移动。 

第二驱动机构12具备：第二驱动部50，其具有在Z方向驱动掩膜保持部16的第二Z轴电动机51、在Y方向驱动的Y轴电动机52；作为第二引导部的一对Y方向的直线导轨53，其在X方向引导掩膜保持部16。固定在支架13的一边13b的Y轴电动机基台65上固定有Y轴电动机52，固定的方式和第一实施方式同样地在第二倾斜方向即水平面内(XY面)相对于Y方向倾斜预定的角度β(参照图4)。丝杠66和螺母68螺合，该丝杠固定在Y轴电动机52的转动轴，该螺母67固定在第二引导板68上。 

在第二引导板68的下表面和Y轴电动机基台65的上表面之间，以平行于丝杠66的轴芯的方式配置有作为第四引导部的一对直线导轨69，并在第二倾斜方向引导第二引导板68。 

并且，在第二引导板68的上表面设有作为第二引导部的一对直线导轨，在X方向引导固定在一对滑块53b的转动台71，其中该第二引导部由向X方向延伸的导轨53a和滑块53b构成。转动台71利用由转动轴71a、滚动轴承70构成的转动支撑机构72，支撑第二连接板73能够在水平面内自由转动。 

在从第二连接板73向支架13的内侧(X方向)突出而形成的突出部73a的下表面，固定有作为第二万向接头的十字接头64的一端侧。十字接头64的另一端侧固定在突出部54a，该突出部54a是从Z轴电动机基台54向支架13的外侧(X方向)突出而形成的。在第二Z轴电动机51的转动轴55上连接有丝杠58，该丝杠58和螺合的螺母57一起构成了滚珠丝杠机构。 

在螺母57上固定有第二Z轴可动平台61，该第二Z轴可动平台被Z轴方向的直线导轨59引导，以在Z方向上移动。这样一来，当转 动第二Z轴电动机51时，则第二Z轴可动平台61在Z方向上移动。 

并且，同时参照图12的(a)以及(b)，在向掩膜保持部16的Y方向延伸的一边16b的外侧面(和支架13相对的面)的两端分别固定有基准块体44a、44b。并且，在支架13的内表面和基准块体44a相对地安装有位移仪45a，并且以与基准块体44b相对且在Z方向上分开的方式安装一对位移仪45b、45c。并且，在掩膜保持部16的向X方向延伸的一边16c的外侧面固定有基准块体44c。在支架13的内表面用和基准块体44c相对且在Z方向上分开的方式安装有一对位移仪45d、45e。 

位移仪45a-45e用于检测基准块体44a-44c的位置(距离)，例如由非接触式光学位移仪或者接触式光学位移仪等构成。 

下面，对本实施方式的掩膜保持机构10B的作用进行说明。将掩膜M的图案转印到基板W时，进行掩膜M和基板W之间相对的错位修正以及间隙调整。 

如图10、图12(a)以及(b)所示，安装在支架13的内表面的各位移仪45a-45e分别测定固定在相对的掩膜保持部16上的基准块体44a-44c的位置，并将测定的位置数据传输至控制装置5(参照图1)。在控制装置5的存储部中存储着适当的掩膜位置(最适合曝光的掩膜位置)，控制装置5利用各位移仪45a-45e测定的掩膜位置和存储的适当的掩膜位置进行比较后进行反馈控制，并运转掩膜保持机构10B的各动作部(X、Y、Z轴电动机)，以使掩膜保持部16位于适当位置，修正掩膜M和基板W的相对的错位的同时还进行间隙调整。通过用位移仪45测定3点基准块体44a～44c，以识别掩膜保持部16即掩膜M的平面，通过测定2点基准块体44a、44b，以识别掩膜保持部16相对于支架13的角度θ。 

另外，这些基准块体44a-44c和位移仪45a-45e也适用于其他的实施方式。 

下面，对本实施方式的掩膜保持机构10B的作用进行说明。 

掩膜保持部16的X方向移动是通过彼此相反的方向同步转动一对第一驱动机构11A、11B的X轴电动机22、22而进行的。在转动两个X轴电动机22、22，并一边以一对直线导轨39引导第一引导板38一边使该第一引导板38在第一倾斜方向上移动，则第一引导板38在第一倾斜方向的移动量的Y方向成分会被第一引导部23的相对移动所吸收。另一方面，在第一倾斜方向的移动量的X方向成分经由转动台41向第一连接板43传递，并经由十字接头34、Z轴电动机基台24在向X方向移动第一Z轴电动机21。这样一来，使与第一Z轴电动机21相连接的掩膜保持部16在X方向上移动。这时，第二驱动机构12的第二引导部53允许掩膜保持部16在X方向移动。 

掩膜保持部16的θ方向转动是通过以不同的转速转动一对第一驱动机构11A、11B的X轴电动机22、22而进行的。例如，如果第一驱动机构11A的X轴电动机22的转速相比第一驱动机构11B的X轴电动机22的转速更大，则第一驱动机构11A的转动台41在X方向移动量(X1)相比第一驱动机构11B的转动台41在X方向移动量(X2)更大，掩膜保持部16向逆时针方向转动。并且，如果第一驱动机构11A的X轴电动机22的转速相比第一驱动机构11B的X轴电动机22的转速还小，则掩膜保持部16向顺时针方向转动。 

这时，固定在支架13的一对第一驱动机构11A、11B以及第二驱动机构12与掩膜保持部16之间的相对转动(θ)被转动支撑机构42、42、72所吸收。并且，有时会由于掩膜保持部16的θ方向转动，会出现掩膜保持部16相对于支架13在XY方向相对移动的情况，该XY方向移动被第一引导部23以及第二引导部53所吸收。 

掩膜保持部16的Y方向移动是通过转动第二驱动机构12的Y轴电动机52而进行的。当转动Y轴电动机52，并一边以第四引导部69引导第二引导板68一边使该第二引导板68在第二倾斜方向移动时，则第二引导板68在第二倾斜方向的移动量的X方向成分被直线导轨53的相对移动所吸收。另一方面，第二引导板68在第二倾斜方向的移动量的Y方向成分经由转动台71传递至第二连接板73，并经由十字接头64、Z轴电动机向Y方向移动第二Z轴电动机51。这样一来，向Y方向移动了和第二Z轴电动机51相连接的掩膜保持部16。这时，第一驱动机构11的第一引导部23允许掩膜保持部16的Y方向移动。 

掩膜保持部16的Z方向移动是通过转动一对第一驱动机构11A、11B的第一Z轴电动机21、21以及第二驱动机构12的第二Z轴电动机51而进行的。如图10以及图11所示，使第一Z轴电动机21、21以及第二Z轴电动机51旋转，经由螺合在丝杠28、28、58的螺母27、27、57在Z方向移动第一Z轴可动平台31、31和第二Z轴可动平台61。这样一来，固定在第一、第二Z轴可动平台31、31、61的掩膜保持部16在Z方向移动。 

掩膜在动作位置和退出位置之间的移动是如下方式进行的：通过增加第一Z轴电动机21、21以及第二Z轴电动机51的转速，以使掩膜保持部16大幅度地在Z方向移动而在靠近基板W的动作位置与离开基板W的退出位置之间移动。 

掩膜M和基板W的间隙调整是通过微小转动第一Z轴电动机21、21以及第二Z轴电动机51而进行的。即，当基板W和掩膜M已经是平行状态时用如下方式进行间隙调整：使第一Z轴电动机21、21以及第二Z轴电动机51同步且稍微转动，在维持了水平状态的状态下使掩膜保持部16靠近或者离开基板W，以达到预定的间隙。并且，当基板W和掩膜M不平行的情况下，通过使第一Z轴电动机21、21和第二Z 轴电动机51中的任意一个电动机的旋转比其他电动机的旋转更快些或慢些，以使掩膜保持部16的倾斜程度与基板W平行(倾斜修正)。 

这时，在XZ、YZ面内掩膜保持部16相对于支架13的倾斜利用三个十字接头34、34、64的自由转动而被允许。并且，因掩膜保持部16相对于支架13的倾斜(XZ、YZ面内)的变化导致的、在俯视图中的第一、第二驱动机构11A、11B、12之间的间距变化量，通过作为各第一引导部的直线导轨23在Y方向相对移动而被吸收，或者通过作为第二引导部的直线导轨53在X方向相对移动而被吸收。 

由此在本实施方式中，由于掩膜保持部16是经由三个十字接头34、34、64被第一以及第二连接板43、73支撑的，因此在一对第一驱动机构11A、11B的第一Z轴电动机21、21和第二驱动机构12的第二Z轴电动机51中的任何一个电动机进行动作时产生的支架13和掩膜保持部16的相对倾斜，都会利用三个十字接头34、34、64的转动而吸收。 

并且，由于掩膜保持部16是经由一对第一驱动机构11A、11B的滚动轴承40、40以及第二驱动机构12的滚动轴承70支撑在X轴电动机基台35和Y轴电动机基台65上的，因此在一对第一驱动机构11A、11B的X轴电动机22、22以及第二驱动机构12的Y轴电动机52中任何一个电动机进行动作时产生的支架13和掩膜保持部16的相对转动(Z轴周围的转动)θ，都会被三个滚动轴承40、40、70吸收。 

并且，在本实施方式中，X轴电动机基台35、第一引导板38、转动台41、转动支撑机构42以及直线导轨23、39；或者Y轴电动机基台65、第二引导板68、转动台71、转动支撑机构72以及直线导轨53、69分别配置在支架13的上表面，而没有从支架13的内侧(X方向)突出。换句话说，在支架13的内侧除了掩膜保持部16，只配置了第一Z轴电动机基台24、第一Z轴电动机21、第一Z轴可动平台31以及 第二Z轴电动机基台54、第二Z轴电动机51以及第二Z轴可动平台61，因此不需要大型化的掩膜保持机构10B也能确保掩膜保持部16内的大空间。其他的结构以及作用和第一实施方式的掩膜保持机构10相同。 

(第四实施方式) 

图13是本发明的第四实施方式的掩膜保持机构的立体图，图14是掩膜保持机构的俯视图，图15是掩膜保持机构的侧视图，图16是掩膜保持机构的主视图，图17的(a)是图13中的驱动机构的主要部分俯视图，(b)是其主视图以及(c)是其侧视图。其中，在本实施方式中，由于只有X轴电动机、Y轴电动机的结构和第三实施方式的结构不同，因此对和第三实施方式相同或者对应的部分标注相同或者对应的附图标记，以简化或者省略说明。 

如图13至图17所示，本实施方式的掩膜保持机构10C具备：保持掩膜M的大致矩形状的掩膜保持部16；一对第一驱动机构11A、11B和第二驱动机构12。 

掩膜保持机构10C的第一驱动机构11(11A、11B)具备X轴电动机基台47(参照图17)，该X轴电动机基台47固定在支架13的一边13a的上表面，在X轴电动机基台47设有作为第三引导部的一对直线导轨46，该第三引导部由向X方向延伸的导轨46a以及滑块46b构成。一对直线导轨46的滑块46b固定在第一引导板38的下表面，并在X方向引导第一引导板38。 

如图17所示，在X轴电动机基台47的上表面和第一引导板38的下表面分别相对地配置有定子48以及可动元件49，由此X轴电动机22A构成了平面电动机。X轴电动机22A在X方向驱动第一引导板38，第一引导板38能在X方向引导直线导轨46。 

在第一引导板38的上表面和转动台41(参照图11)的下表面之间配置有作为第一引导部的一对直线导轨23，该第一引导部由导轨23、滑块23b构成，其中转动台41是利用转动支撑机构42能够自由转动地和第一连接板43相连接的，该一对直线导轨相对于第一引导板38在Y方向引导转动台41即第一连接板43。其中，直线导轨23和直线导轨46之间的配置位置也能够上下颠倒，或者也能够将定子48和可动元件49互换配置。 

掩膜保持机构10C的第二驱动机构12具备Y轴电动机基台77，该Y轴电动机基台77固定在支架13的一边13b的上表面，在Y轴电动机基台77设有作为第四引导部的一对直线导轨76，该第四引导部由向Y方向延伸的导轨76a以及滑块76b构成。一对直线导轨76的滑块76b固定在第二引导板68的下表面，并在Y方向引导第二引导板38。 

在Y轴电动机基台77的上表面和第二引导板68的下表面分别相对地配置有定子48以及可动元件49，由此Y轴电动机52A构成了平面电动机。Y轴电动机52A在Y方向驱动第二引导板68，第一引导板68能在Y方向引导直线导轨76。 

在第二引导板68的上表面和转动台71的下表面之间配置有作为第二引导部的一对直线导轨53，该第二引导部由导轨53、滑块53b构成，其中该转动台71以利用转动支撑机构72能够自由转动的方式与第二连接板73相连接，该一对直线导轨相对于第二引导板68在X方向引导转动台71即第二连接板73。其中，直线导轨53和直线导轨76之间的配置位置也能够上下颠倒，这种情况下在配置直线导轨76的一侧还配置Y轴电动机52A。 

连接第一驱动机构11的第一连接板43和掩膜保持部16的结构、连接第二驱动机构12的第二连接板73和掩膜保持部16的结构和第三实施方式的掩膜保持机构108相同，因此省略说明。 

另外，也能够通过在第一驱动机构11的第一引导板38的上表面和转动台41的下表面分别相对配置定子48、可动元件49，以使Y轴电动机52A配置在第一驱动机构11侧。 

掩膜保持部16的X方向移动是利用X轴电动机22A而进行的。如果X轴电动机22A运转，则在X方向被一对直线导轨46引导的第一引导板38在X方向移动，该移动经由第一引导部23、转动台41、第一连接板43、十字接头34、Z轴电动机基台24以及第一Z轴电动机21传递至掩膜保持部16，掩膜保持部16在X方向移动。这时，第二驱动机构12的第二引导部53允许掩膜保持部16的X方向移动。 

掩膜保持部16的Y方向移动是利用Y轴电动机52A而进行的。如果Y轴电动机52A运转，则在Y方向被一对直线导轨76引导的第二引导板68在Y方向移动，该移动经由第二引导部53、转动台71、第二连接板73、十字接头64、Z轴电动机基台54以及第二Z轴电动机51传递至掩膜保持部16，掩膜保持部16在Y方向移动。这时，第一驱动机构11A、11B的第一引导部23允许掩膜保持部16的Y方向移动。 

掩膜保持部16的θ方向转动是如下进行的：通过用不同的转速转动一对第一驱动机构11A、11B的X轴电动机22A、22A，驱动一对第一引导板38、38，使其移动不同的距离。例如，驱动第一驱动机构11(11A、11B)的X轴电动机22A、22A，使得第一驱动机构11A的第一引导板38在X方向的移动量比第一驱动机构11B的第一引导板38在X方向的移动量更大，则掩膜保持部16向逆时针方向转动。 

这时，固定在支架13的一对第一驱动机构11A、11B以及第二驱动机构12和掩膜保持部16之间的相对转动(θ)被转动支撑机构42、42、72所吸收。并且，有时由于掩膜保持部16的θ方向转动，会出现 掩膜保持部16相对于支架13在XY方向相对移动的情况，该XY方向移动被各平面直线电动机(X轴电动机22A、22A、Y轴电动机52A)的位置控制所吸收。并且，由于Z方向移动而产生的XY方向移动被各平面直线电动机的位置控制所吸收。 

掩膜保持部16的Z方向移动、掩膜在动作位置和退出位置之间的移动以及掩膜M和基板W的间隙调整和第三实施方式相同，因此省略说明。 

如上所述，根据本实施方式的掩膜保持机构10C，第一驱动部20具备：第一引导板38，其相对于X轴电动机基台47在X方向被驱动；第三引导部46，其在X方向引导第一引导板38；和第一连接板43，其利用第一引导部23在Y方向被引导；第二驱动部50具备：第二引导板68，其相对于Y轴电动机基台77在Y方向被驱动；第四引导部76，其在Y方向引导第二引导板38；以及第二连接板73，其利用第二引导部53在X方向被引导。而且，第一驱动机构11具备X轴电动机22A，该X轴电动机22A由相对配置在X轴电动机基台47、第一引导板38的相对面上的定子48、可动元件49构成，第二驱动机构12具备Y轴电动机52A，该Y轴电动机52A包括：Y轴电动机基台47、相对配置在第二引导板68的相对面的定子48以及可动元件49，因此能够使掩膜保持部16的驱动机构11A、11B、12小型化的同时还能使其轻量化，能提高应答性。 

并且，由于X轴电动机基台47以及Y轴电动机基台77配置在支架13的上表面，且第一、第二Z轴可动平台31、61固定在掩膜保持部16，因此不需要大型化的掩膜保持机构10，也能确保掩膜保持部16内的空间，同时能顺利地进行集成机构的X、Y、Z、θ方向驱动以及倾斜驱动。其他的结构以及作用和第三实施方式的掩膜保持机构108相同。 

另外，本发明不限定于上述的实施方式，能够适当地进行变形、改良。在上述的说明中，说明了接近式扫描曝光装置的的掩膜保持机构，但是不限定于此，同样适用于需要对位、间隙调整、退出动作等的各种机构，能起到相同的效果。本发明的掩膜保持部移动的X方向在本实施方式中是沿着基板的搬送方向的，但不限定于此，例如也能够是和基板的搬送方向正交的方向。 

并且，本发明的掩膜保持机构的各驱动机构也能够作为如的下基板保持机构使用：能将保持基板的基板保持部向X方向、Y方向、绕与水平面正交的轴转动的θ方向驱动，且能将其倾斜驱动的基板保持机构。这时，将权利要求的范围所述的掩膜保持部置换为基板保持部，同时将掩膜变换为基板，就能使用基板保持机构。 

即，能驱动基板保持部的基板保持机构(不是如上述实施方式所述的搬送基板的曝光方式)具备：一对第一驱动机构和第二驱动机构，其中，该一对第一驱动机构具有：第一驱动部，其能在水平面上的一个方向即X方向、垂直方向即Y方向引导基板保持部；和第一引导部，其在水平面上的X方向的正交方向即Y方向引导基板保持部；而第二驱动机构具有：第二驱动部，其在Y方向、Z方向驱动基板保持部；和第二引导部，其在X方向引导基板保持部；并且上述基板保持机构构成为：当利用第一驱动部在X方向或者θ方向驱动掩膜保持部时，利用第二引导部吸收基板保持部的移动量；当利用第二驱动部在Y方向驱动基板保持部时，利用上述第一引导部吸收基板保持部的移动量；当由于第一以及第二驱动部中至少一个而导致基板保持部倾斜驱动时，利用第一以及第二引导部中的至少一个来吸收因基板保持部的倾斜的、在俯视图中的第一以及第二驱动机构之间的间距变化量。 

本申请基于2009年11月9日申请的日本专利申请(专利申请2009-256209)，作为参考在此处导入该在先申请内容。 

Claims (12)

1.一种掩膜保持机构，具有：

掩膜保持部，其保持掩膜；

一对第一驱动机构，其具有：第一驱动部，其在水平面上的一个方向即X方向、以及垂直方向即Z方向驱动该掩膜保持部；和第一引导部，其在该水平面上与该X方向正交的方向即Y方向引导该掩膜保持部；

第二驱动机构，其具有：第二驱动部，其在上述Y方向、Z方向驱动上述掩膜保持部；和第二引导部，其在上述X方向引导上述掩膜保持部；

该掩膜保持机构能够在上述X方向、上述Y方向以及绕与该水平面正交的轴转动的θ方向上驱动上述掩膜保持部，且还能将上述掩膜保持部倾斜驱动，其特征在于，

在利用上述第一驱动部在X方向或者θ方向上驱动上述掩膜保持部时，利用上述第二引导部吸收上述掩膜保持部的移动量，

在利用上述第二驱动部在Y方向驱动上述掩膜保持部时，利用上述第一引导部吸收上述掩膜保持部的移动量，

在利用上述第一、第二驱动部中的至少一个倾斜驱动上述掩膜保持部时，利用上述第一、第二引导部中的至少一个来吸收因上述掩膜保持部的倾斜而导致的、在上述第一和第二驱动机构的俯视图中的间隙变化量。

2.根据权利要求1所述的掩膜保持机构，其特征在于，利用上述第一、第二驱动部在Z方向的驱动，上述掩膜保持部能够在靠近基板的动作位置和离开上述基板的退出位置之间移动。

3.根据权利要求1或者2所述的掩膜保持机构，其特征在于，上述第一驱动部具备：X轴电动机；安装有该X轴电动机的X轴电动机基台；第一引导板，其利用该X轴电动机的驱动而相对于上述X轴电动机基台沿着相对于X方向倾斜预定的角度的第一倾斜方向被驱动；以及第三引导部，其相对于上述X轴电动机基台在上述第一倾斜方向引导上述第一引导板；

上述第二驱动部具备：Y轴电动机；安装有该Y轴电动机的Y轴电动机基台；第二引导板，其利用该Y轴电动机的驱动而相对于上述Y轴电动机基台沿着相对于Y方向倾斜预定的角度的第二倾斜方向被驱动；以及第四引导部，其相对于上述Y轴电动机基台在上述第二倾斜方向引导上述第二引导板，

当利用上述X轴电动机向上述第一倾斜方向驱动上述第一引导板时，则上述掩膜保持部在X方向移动，该上述掩膜保持部被上述第一引导部引导为能相对于上述第一引导板向Y方向进行相对移动，

当利用上述Y轴电动机向上述第二倾斜方向驱动上述第二引导板时，则上述掩膜保持部在Y方向移动，该上述掩膜保持部被上述第二引导部引导为相对于上述第二引导板向X方向进行相对移动。

4.根据权利要求3所述的掩膜保持机构，其特征在于，分别配置在上述一对第一驱动机构上的上述X轴电动机的驱动方向相对于上述一对第一驱动机构之间的X方向中心线成线对称。

5.根据权利要求4所述的掩膜保持机构，其特征在于，上述第一驱动部还具备：第一Z轴电动机；第一Z轴可动平台，其利用该第一Z轴电动机在Z方向移动；和第一万向接头，其支撑上述X轴电动机基台能够相对于该第一Z轴可动平台自由转动，

第二驱动部还具备：第二Z轴电动机；第二Z轴可动平台，其利用该第二Z轴电动机在Z方向移动；和第二万向接头，其支撑上述Y轴电动机基台能够相对于该第二Z轴可动平台自由转动；当由上述第一、第二Z轴电动机中的至少一个倾斜驱动上述第一、第二Z轴可动平台时，利用上述第一、第二万向接头中的至少一个允许上述掩膜保持部的倾斜，同时利用上述第一、第二引导部中的至少一个来吸收因上述掩膜保持部的倾斜而导致的、上述第一和第二驱动机构间的间隙变化量。

6.根据权利要求1所述的掩膜保持机构，其特征在于，上述第二驱动机构具备：Z轴驱动机构，其支撑着与上述第一驱动机构所支撑的上述掩膜保持部的一边相对的一边，并作为上述第二驱动部能在Z方向驱动上述掩膜保持部；Y轴驱动机构，其支撑着与上述第一驱动机构支撑的上述掩膜保持部的一边相对的一边，并作为上述第二驱动部能在Y方向驱动上述掩膜保持部；

上述第二引导部具有：设在上述Z轴驱动机构的Z轴侧引导部；和设在上述Y轴驱动机构的Y轴侧引导部。

7.根据权利要求6所述的掩膜保持机构，其特征在于，上述Y驱动机构具备：Y轴电动机；安装有该Y轴电动机的Y轴电动机基台；第二引导板，其利用该Y轴电动机的驱动而相对于上述Y轴电动机基台沿第二倾斜方向被驱动，该第二倾斜方向相对于Y方向倾斜预定的角度；第四引导部，其相对于上述Y轴电动机基台沿上述第二倾斜方向引导上述第二引导板，

上述Y轴侧引导部的固定部和可动部中的一个安装在上述第二引导板上，该固定部和可动部中的另一个设在配对部件上，

在上述配对部件与上述掩膜保持部之间配置有Y轴侧万向接头和沿上述Z方向延伸的引导装置。

8.根据权利要求6或者7所述的掩膜保持机构，其特征在于，上述Z轴驱动机构具备：第二Z轴电动机；第二Z轴可动平台，其利用该第二Z轴电动机能在Z方向移动；上述第二万向接头，其支撑安装有上述Z轴侧引导部的固定部和可动部中的一个基台能够相对于该第二Z轴可动平台自由转动；转动支撑机构，其支撑安装有上述Z轴侧引导部的固定部和可动部中的另一个的转动台能够相对于上述掩膜保持部自由转动。

9.根据权利要求4所述的掩膜保持机构，其特征在于，上述第一驱动部还具备：第一Z轴电动机；安装有该第一Z轴电动机的第一Z轴电动机基台；第一Z轴可动平台，其利用上述第一Z轴电动机能在Z方向移动；第一连接板。其利用上述第一引导部能相对于上述第一引导板在Y方向移动；和第一万向接头，其支撑上述第一Z轴电动机能够相对于上述第一连接板自由转动；

上述第二驱动部还具备：第二Z轴电动机；安装有该第二Z轴电动机的第二Z轴电动机基台；第二Z轴可动平台，其利用上述第二Z轴电动机能在Z方向移动；第二连接板。其利用上述第二引导部能相对于上述第二引导板在X方向移动；和第二万向接头，其支撑上述第二Z轴电动机能够相对于上述第二连接板自由转动；

当由上述第一、第二Z轴电动机中的至少一个电动机倾斜驱动上述第一、第二Z轴可动平台时，利用上述第一、第二万向接头中的至少一个允许上述掩膜保持部的倾斜，同时利用上述第一、第二引导部中的至少一个来吸收因上述掩膜保持部的倾斜而导致的、上述第一以及第二驱动机构间的间隙变化量。

10.根据权利要求1或者2所述的掩膜保持装置，其特征在于，上述第一驱动部具备：X轴电动机；安装有该X轴电动机的X轴电动机基台；第一引导板，其利用上述X轴电动机的驱动而相对于上述X轴电动机基台沿X方向被驱动；第三引导部，其相对于上述X轴电动机基台在X方向引导上述第一引导板，

上述第二驱动部具备：Y轴电动机；安装有该Y轴电动机的Y轴电动机基台；第二引导板，其利用上述Y轴电动机的驱动而相对于上述Y轴电动机基台能在Y方向被驱动；第四引导部，其相对于上述Y轴电动机基台能在Y方向引导上述第二引导板，

当上述第一引导板被上述X轴电动机沿X方向驱动时，被上述第二驱动部的第二引导部沿X方向引导的上述掩膜保持部在X方向移动，

当上述第二引导板被上述Y轴电动机沿Y方向驱动时，被上述第一驱动部的第一引导部沿Y方向引导的上述掩膜保持部在Y方向移动。

11.根据权利要求10所述的掩膜保持装置，其特征在于，上述第一驱动部还具备：第一Z轴电动机；安装有该第一Z轴电动机的第一Z轴电动机基台；第一Z轴可动平台，其利用上述第一Z轴电动机在Z方向移动；第一连接板，其利用上述第一引导部能相对于上述第一引导板在Y方向移动；和第一万向接头，其支撑上述第一Z轴电动机能够相对于上述第一连接板自由转动；

上述第二驱动部还具备：第二Z轴电动机；安装有该第二Z轴电动机的第二Z轴电动机基台；第二Z轴可动平台，其利用上述第二Z轴电动机能在Z方向移动；第二连接板，其利用上述第二引导部相对于上述第二引导板在X方向移动；和第二万向接头，其支撑上述第二Z轴电动机能够相对于上述第二连接板自由转动，

当由上述第一、第二Z轴电动机中的至少一个倾斜驱动上述第一、第二Z轴可动平台时，利用上述第一、第二万向接头中的至少一个允许上述掩膜保持部的倾斜，同时利用上述第一、第二引导部中的至少一个来吸收因上述掩膜保持部的倾斜而导致的、上述第一以及第二驱动机构间的间隙变化量。

12.根据权利要求9所述的掩膜保持机构，其特征在于，上述X轴电动机基台和上述Y电动机基台分别配置在支架的上表面上，

上述第一、第二Z轴可动平台固定在上述掩膜保持部上。

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