JPH0536582A

JPH0536582A - 位置決めステージ装置

Info

Publication number: JPH0536582A
Application number: JP3214264A
Authority: JP
Inventors: Jun Hane; 潤羽根; Takumi Mori; 工毛利
Original assignee: Olympus Optical Co Ltd
Current assignee: Olympus Corp
Priority date: 1991-08-01
Filing date: 1991-08-01
Publication date: 1993-02-12

Abstract

(57)【要約】【目的】高精度な位置決めを行うことができる位置決
めステージ装置を提供する。【構成】試料を載置するステージの位置を、水平面内
で回転方向に粗動調整する機構（２、２０、２１）と、
水平面内で回転方向に微動調整する機構（２、２１、２
３）と、水平面に垂直な方向に粗動調整する機構（３、
６、７）と、水平面に垂直な方向に微動調整する機構
（３、５）と、振動発生機構（５、２３、４０）とを具
え、これらの調整機構を構成する部材に振動を与えて、
これらの部材の接続部分に発生する弾性歪を振動によっ
て解放できるように構成した位置決めステージ装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、水平面内で回転可能に
構成すると共に、この回転面に対して垂直方向に移動可
能に構成した位置決めステージ装置に関するものであ
り、特に半導体装置の製造における露光工程で、半導体
ウエハにマスクパターンを露光する際に好適に使用する
ことができる位置決めステージ装置に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置の製造工程において、ウエハ
上にマスクパターンを露光する場合、水平面内における
一方向（Ｘ方向）、及びこれに直交する他の一方向（Ｙ
方向）に駆動可能に構成したＸＹステージをもうけ、さ
らにこのＸＹステージの上に水平面内における回転方向
（θ方向）、この水平面に直交する方向（Ｚ方向）、Ｘ
軸に関する回転方向（α方向）及びＹ軸に関する回転方
向（β方向）に移動調整可能に構成したθＺαβステー
ジを設けて、これらのステージの上にウエハを載置し、
これらのステージを移動調整してマスクパターンに対す
るウエハの適性位置を確保し、露光作業を行うようにし
ている。

【０００３】一般に、露光装置は、図３に示すように、
Ｌ字型ミラー５０と、レーザ干渉器５１とによってＸス
テージ５２及びＹステージ５３の位置制御を行い、この
ＸＹステージの上部中央にθＺステージ５４を設けてθ
Ｚ方向の位置制御を行ってレチクル５８に対するウエハ
５９の位置を適正に合わせた後露光を行うようにしてい
る。θＺステージ５４のθ方向の駆動機構は回転成分誤
差を除去するためのものであり、粗動調整機構（分解能
１０μrad 相当）と微動調整機構（分解能１μrad 相
当）とを具えている。また、Ｚ方向の駆動機構は投影レ
ンズ５５に対するウエハ５９の高さ方向の位置合わせを
するものであり、やはり粗動調整機構（分解能１〜２μ
ｍ）と微動調整機構（分解能０．０１μｍ）とを具えて
いる。なお、露光は反射鏡５６ａを具える光源５６から
発せられた光を、コンデンサレンズ５７、レチクル５
８、投影レンズ５５を介してウエハ５９に照射して行
う。

【０００４】ウエハ５９の水平面内の位置を、ウエハ５
９をＸ，Ｙ，θ方向に移動させて調整する場合、ウエハ
５９の動作量はレチクル５８とウエハ５９に形成したマ
ークとの間のアラインメント法によって決定される。ま
た、Ｚ方向及びα、β方向に動作させる場合は、投影レ
ンズ５５とウエハ５９間の距離をオートフォーカス検出
器によって検出し、この検出信号をそれぞれの駆動機構
へフィードバックさせて駆動量の調整を行う。このよう
にして、ウエハ５９を適性位置にセットした後、Ｘ方向
及びＹ方向の移動を繰り返しながら、マスクパターンを
各チップ毎に順次焼き付けてゆく。

【０００５】図４は、上述の位置決め手段のうちの、θ
方向及びＺ方向の位置合わせを行う装置の一例を示す斜
視図、図５はその断面図である。図４、図５に明らかな
通り、基板１の上に、θ方向に回転可能に構成された回
転板２を設け、この回転板２の上に更に、Ｚ方向に移動
可能に構成されたＺ板３が設けられている。Ｚ板３は、
平面がほぼ３角形状の本体と、この三角形状の各頂部に
下方に延在するように設けられたＬ字型脚部３ｂとを具
え、各脚部３ｂの側面にはそれぞれＺ方向微動調整用Ｐ
ＺＴ５が設けられている。

【０００６】トッププレート４は、図５の断面図に明ら
かな通り、３個のＺ方向微動調整用ＰＺＴ５を介してＺ
板３の上に配設されている。トッププレート４のＺ方向
の粗調整はモータ６を駆動して、このモータ６とＺ板３
とを連結するカム機構７を介して行う（図４参照）。図
６は、図４に示す位置決め装置の平面図である。図６に
破線で示すように、Ｚ板７の下方にカム板８を配設して
いる。カム板８は三方に突出部８ａが形成されており、
それぞれ突出部８ａの上にカム機構７が形成されてい
る。図７にカム機構７の詳細な構成を示す。３つの突出
部８ａのひとつには、更に腕部１０が形成されており、
この腕部１０の先端にモータ６の出力軸６ａが接触して
おり、モータ６の動力をカム板８に伝える。すなわち、
モータ６の回転に応じて腕部１０を図６に於ける左右方
向に移動させ、図７に示すカム機構７を介してＺ板３を
上下方向に平行移動させる。図７に詳細に示すとおり、
カム板８の上には、カム面７ａを水平方向に対して傾斜
させて形成したカム７ｂがそれぞれ設けられている。一
方、Ｚ板３の各辺の中央部には、Ｌ字型の突出部３ａが
下方に延在するように設けられており（図４参照）この
突出部３ａの下面が、ボール付ねじ１１を介して前記カ
ム面７ａに対向して、カム機構７を構成している。Ｚ板
３のそれぞれの突出部３ａの上面には、更に調整板１２
を配設し、図７に示すように調整板１２の一端をねじ１
３で固定し、他端にボール付ねじ１４を設けて、トップ
プレート４のレベリングを粗調整できるように構成して
いる。尚、カム板８に設けた腕部１０の先端にはさら
に、ピン１０ａが設けられており、このピン１０ａにコ
イルばね１０ｂを付設して、腕部１０をモータ６の方向
に付勢して腕部１０とモータ６の出力軸６ａ間のガタを
なくすようにしている。

【０００７】上述のＺ方向微動用ＰＺＴ５を調整するこ
とにより、トッププレート４の位置を上下方向に徴調整
することができる。ＰＺＴ５の構成を図８に示す。ＰＺ
Ｔホルダ５ａの内部にＰＺＴ５ｂがそれぞれ配設されて
おり、ＰＺＴ５に電圧を印加することにより、ＰＺＴ５
ｂはＺ方向に伸縮するように構成されている。これらの
Ｚ方向微動用ＰＺＴ５を別個に伸縮させることにより、
トッププレート４のベース１に対する傾き（レベリン
グ）を調整することができる。また、３個のＺ方向微動
用ＰＺＴ５を同時に変位させることにより、トッププレ
ート４を上下方向に平行移動させることができる。

【０００８】トッププレート４の回転方向の移動調整
は、モータ２０及びＰＺＴ２３を用いて行う。図５に明
らかな通り、Ｚ板３の下方にθ方向回転板２が設けられ
ており、このθ方向回転板２はベアリング９を介してカ
ム板８に連結されており、この回転板２の回転がカム板
８を介してＺ板３に伝達されるように構成されている。
θ方向における粗調整は、モータ２０を用いて回転板２
を回転させて行う。図４に示すように、回転板２には、
腕部２１が突出形成されており、この腕部２１の先端部
が、ＰＺＴ受け２２にボール（図示せず）を介して当接
されている。ＰＺＴ受け２２は、ＰＺＴホルダ２３ａ内
に保持されたＰＺＴ２３を受けるものである。モータ２
０の出力軸２０ａはナット２４に連結されており、ナッ
ト２４は前記ＰＺＴ受け２２に固定されている。モータ
２０の出力は、減速機２５、カップリング２６を介して
出力軸２０ａに伝達され、さらに、ナット２４、ＰＺＴ
ホルダ２３ａ、ＰＺＴ受け２２を介して腕部２１に伝わ
り、回転板２をθ方向に回転させる。尚、ナット２４の
モータ２０と反対側の面には、コイルばね２７が連結さ
れており、いわゆるバックラッシュの低減を図るように
している。一方、θ方向における徴調整は、ＰＺＴ２３
に適当な電圧を印加することによって行う。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】半導体チップの露光装
置においては、ステージ上における半導体チップとマス
クパターンとの相対的な位置決めを精度良く行うことが
重要な課題であることは言うまでもない。この位置決め
精度を劣化させる主な要因としては、ステージの移動方
向を反転させたときの機構の遊びであるバックラッシュ
と、ステージの移動方向に平行な向きに発生するステー
ジを構成する部材の弾性歪を上げることができる。

【００１０】通常、所望する位置決め精度が低い場合に
は、バックラッシュの低減のみを考慮すれば良く、この
ための対策としては、遊びの原因となる各嵌合部、及び
摺動部の隙間を小さくすることが考えられる。このため
には、これらの嵌合部や摺動部にあらかじめ隙間調整部
分を設けておき、上述の従来例で説明したようにコイル
ばねを設けて予圧を加えるという方法が取られる。ま
た、制御面での対策としては、バックラッシュを予め測
定しておき、ステージの移動方向を反転させた後の位置
決めの際に、このバックラッシュの量を補正して位置決
めするようにする方法がある。

【００１１】しかしながら、今日、半導体装置の製造工
程においては、ミクロン・オーダー以下の位置決め精度
が求められ、しかも小型化、軽量化されたステージ上に
この高い位置決め精度を実現することが求めらている。
このため、コイルバネを使って予圧をかける対策では、
加えようとする予圧がステージを構成する部材の剛性を
上回る場合も生じる。このような場合、ステージを移動
させる際に、ステージを構成する部材に変形が生じて位
置決め精度が上がらなくなってしまう。また、位置決め
機構は通常粗動調整部と微動調整部とからなるが、制御
面での対策においても、粗動調整部でのバックラッシュ
が微動調整部の位置決め精度に比べて大きいと、微動調
整部の動作が粗動調整部のバックラッシュに吸収され
て、うまく動作しない場合もある。

【００１２】上述した通り、半導体装置の露光工程にお
いては、通常、ステージの上に半導体ウエハを載置し
て、レーザ干渉器を利用してＸ方向及びＹ方向の位置制
御を行い、このＸＹ方向における位置制御を終えた後、
例えばＡＦセンサ等を使って高さ方向の調整を行い、更
に回転方向の位置調整を行ってマスクパターンとウエハ
の相対位置を適正に合わせて、露光を行うようにしてい
る。しかしながら、複数の露光領域を順次焼き付ける必
要があるため、一枚のウエハを露光するためにはＸＹ方
向の位置制御を複数回繰り返すこととなり、このＸＹ方
向の位置制御の繰り返しによって、最初に調整した高さ
方向の位置にずれが生じることとなる。これは、最初に
高さ方向の調整を行ったときに、高さ方向及び回転方向
の調整機構を構成する部材の嵌合部あるいは摺動部に弾
性歪が生じ、ＸＹ方向に繰り返して移動させたときにこ
の弾性歪が解放されて高さ方向及び回転方向の位置にず
れが生じるためと考えられる。

【００１３】本発明は、このような位置決め精度の劣化
要因のうち、ステージを構成する部材の弾性により生じ
る歪を振動によって解放して低減することにより、小型
化かつ軽量化されたステージ上で高精度に位置決するこ
とができる位置決めステージ装置を提供することを目的
とするものである。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の位置決めステージ装置は、試料を載置する
ステージと、該ステージの位置を水平面内で回転方向に
調整する手段と、水平面に対して垂直方向に調整する手
段と、振動発生手段とを具え、この振動発生手段により
前記回転方向調整手段及び前記垂直方向調整手段の各々
を構成する部材のすくなくともひとつに振動を与え、こ
れらの部材に生じた弾性歪を解放し得るように構成した
ことを特徴とするものである。

【００１５】

【作用】本発明の装置は、振動発生手段を具えているた
め、この振動発生手段により、回転方向調整手段及び垂
直方向調整手段の各々を構成する部材に振動を与え、こ
れらの部材の弾性歪を解放し得るように構成しているた
め、垂直方向及び回転方向の調整を行った後、垂直方向
及び回転方向の調整機構を構成する部材に振動を与え
て、これらの部材の接続部分に生じる弾性歪をこの振動
によって解放して、弾性歪によって発生する垂直方向、
回転方向におけるずれを無くすことができる。したがっ
て、本発明のステージ位置決め装置では、より高精度に
位置決めを行うことが可能となると共に、位置決めの後
に、ステージの停止位置がドリフトする現象も低減する
ことができる。

【００１６】振動発生手段は、圧電素子で構成すること
が好ましい。例えば圧電素子を各々の調整手段を構成す
る部材の接続部近傍に取り付けるようにしてもよく、ま
た、Ｚ方向の微動調整あるいはθ方向の微動調整に使用
している圧電素子を振動発生手段として利用するように
しても良い。

【００１７】

【実施例】図１は、本発明のステージ位置決め装置の第
１実施例を示す斜視図である。ステージの構造、及びＺ
方向粗動調整機構、Ｚ方向微動調整機構、θ方向粗動調
整機構、θ方向微動調整機構のそれぞれの構成は、上述
の図４で説明した従来の装置と同様であるので、同じ符
号を付すとともに、その説明は省略する。

【００１８】図１に示す装置においては、それぞれの調
整機構を構成する部材は、カム機構７で連結されてお
り、弾性歪は主にカム機構７に発生するものと考えられ
る。したがって、第１実施例では、Ｚ方向微動調整機構
を構成する３つのＰＺＴ５のうちの一つに、交流電圧を
印加できるように構成して、Ｚ板３に振動を与え、この
振動によりカム機構７で発生した弾性歪を解放するよう
にしている。交流電圧は、ＰＺＴ５に印加するＺ方向徴
調整用の直流電圧を供給する回路に、スイッチ３０を設
け、直流電源３１と交流電源３２とを切り換え可能に構
成して印加する。このスイッチ３０の切り換えは、モー
タ６を駆動してＺ方向の粗動調整を行った後、ＰＺＴ５
に交流電圧を一定時間印加してＰＺＴ５を振動させ、交
流電圧の印加を停止してこの振動が停止した時点で直流
電源３１に切り換えて、Ｚ方向の微動調整を行うよう
に、切り換え制御手段３３によって制御するようにす
る。

【００１９】振動のストロークは、約１２μｍ、動作
（振動）スピードは、２〜３往復／１００ｍｓ程度とす
る。また、振動の停止位置は、振動によるＰＺＴ５の振
れの中央位置になるようにする。

【００２０】上述の第１実施例では、３個の微動調整用
のＰＺＴ５のうちのひとつを振動させるように構成した
が、２個、あるいは３個のＰＺＴ５全部を振動させるよ
うにしても良い。

【００２１】また、回転板２をθ方向に駆動させる時に
回転板２とＺ板３の間の接合部（ベアリング９等）に生
じる弾性歪を、θ方向微動調整機構に設けたＰＺＴ２３
に、第１実施例と同様に交流電圧を印加して、ＰＺＴ２
３を振動させることによって解放するようにすることが
できる。この場合、モータ２０を駆動させてθ方向の粗
調整を行った後、ＰＺＴ２３を振動させて、弾性歪を解
放し、さらにＰＺＴ２３に直流電圧を印加してθ方向の
徴調整を行うようにする。

【００２２】上述の第１実施例では、Ｚ方向の調整機構
に生じた弾性歪を、Ｚ方向の微動調整機構であるＰＺＴ
５を振動させることによって解放するようにしたが、θ
方向の微動調整機構であるＰＺＴ２３を振動させること
によっても、Ｚ方向の調整機構に生じた弾性歪をある程
度解放させることが可能である。ＰＺＴ２３を振動させ
ることによって、Ｚ方向の調整機構に生じた弾性歪を解
放するようにすれば、交流電圧を印加できる回路を一か
所に設けるだけで、Ｚ方向、θ方向の調整機構に生じた
弾性歪の双方を解放することができることとなる。

【００２３】図２は、本発明のステージ位置決め装置の
第２の実施例を示す図である。この変形例では、各々の
調整機構に組み込まれたＰＺＴ５、２３とは別個に、Ｚ
方向の粗動調整用のカム板２の腕部１０の先端に振動発
生用ＰＺＴ４０を設置したものである。カム機構７の部
分で最も弾性歪が生じ易いものと考えられるため、この
例では振動発生用のＰＺＴ４０を腕部１０に取り付ける
ようにしたが、この位置に限るものではない。ＰＺＴの
設置は簡単に行うことができるため、このようにＰＺＴ
を別個に設ける場合は、それぞれの装置のくせを考慮し
て、弾性歪が最も生じる部分の近傍に取り付けるように
しても良い。但し、ＰＺＴ自体は非常に軽量であるた
め、ＰＺＴの振動を確実に調整機構に伝えるためには、
ＰＺＴの上に重石４１を配置することが望ましい。

【００２４】これに対して、上述した第１実施例、ある
いはその変形例のようにＺ方向あるいは回転方向の調整
機構を構成しているＰＺＴを利用して、調整機構に振動
を与えるように構成した場合は、振動を与えた後の位置
決め精度を高くする必要があるものの、調整機構を確実
に振動させることができるため、大きな効果が期待でき
る。調整機構を構成しているＰＺＴを利用する場合は、
振動後のステージの位置を、徴調整用駆動機構にフィー
ドバックさせる系を具えるようにすれば、より正確に位
置決めを行うことができる。

【００２５】

【発明の効果】上記に説明した通り、本発明の位置決め
ステージ装置によれば、Ｚ方向、θ方向に位置決めを行
うときに生じる位置決め機構を構成する部材の弾性歪
を、振動によって解放することができるため、より一層
高精度に位置決めを行うことが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の位置決めステージ装置の第１実施例を
示す図である。

【図２】本発明の位置決めステージ装置の第２実施例を
示す図である。

【図３】従来の位置決め装置の全体の構成を示す図であ
る。

【図４】従来のθＺ方向位置決め装置を示す図である。

【図５】図４に示す装置の断面図である。

【図６】図４に示す装置の平面図である。

【図７】図４に示す装置のカム機構の詳細を示す図であ
る。

【図８】図４に示す装置のＰＺＴの構成を示す図であ
る。

【符号の説明】

１基板２回転板３Ｚ板４トッププレート５Ｚ方向徴調整用ＰＺＴ６、２０モータ７カム機構８カム板１０、２１腕部２３ θ方向徴調整用ＰＺＴ３０スイッチ装置３１直流電源３２交流電源３３切り換え制御装置４０ＰＺＴ４１重石

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成４年１月３０日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００７

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００７】上述のＺ方向微動用ＰＺＴ５を調整するこ
とにより、トッププレート４の位置を上下方向に微調整
することができる。ＰＺＴ５の構成を図８に示す。ＰＺ
Ｔホルダ５ａの内部にＰＺＴ５ｂがそれぞれ配設されて
おり、ＰＺＴ５に電圧を印加することにより、ＰＺＴ５
ｂはＺ方向に伸縮するように構成されている。これらの
Ｚ方向微動用ＰＺＴ５を別個に伸縮させることにより、
トッププレート４のベース１に対する傾き（レベリン
グ）を調整することができる。また、３個のＺ方向微動
用ＰＺＴ５を同時に変位させることにより、トッププレ
ート４を上下方向に平行移動させることができる。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００８

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００８】トッププレート４の回転方向の移動調整
は、モータ２０及びＰＺＴ２３を用いて行う。図５に明
らかな通り、Ｚ板３の下方にθ方向回転板２が設けられ
ており、このθ方向回転板２はベアリング９を介してカ
ム板８に連結されており、この回転板２の回転がカム板
８を介してＺ板３に伝達されるように構成されている。
θ方向における粗調整は、モータ２０を用いて回転板２
を回転させて行う。図４に示すように、回転板２には、
腕部２１が突出形成されており、この腕部２１の先端部
が、ＰＺＴ受け２２にボール（図示せず）を介して当接
されている。ＰＺＴ受け２２は、ＰＺＴホルダ２３ａ内
に保持されたＰＺＴ２３を受けるものである。モータ２
０の出力軸２０ａはナット２４に連結されており、ナッ
ト２４は前記ＰＺＴ受け２２に固定されている。モータ
２０の出力は、減速機２５、カップリング２６を介して
出力軸２０ａに伝達され、さらに、ナット２４、ＰＺＴ
ホルダ２３ａ、ＰＺＴ受け２２を介して腕部２１に伝わ
り、回転板２をθ方向に回転させる。尚、ナット２４の
モータ２０と反対側の面には、コイルばね２７が連結さ
れており、いわゆるバックラッシュの低減を図るように
している。一方、θ方向における微調整は、ＰＺＴ２３
に適当な電圧を印加することによって行う。

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１８

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１８】図１に示す装置においては、それぞれの調
整機構を構成する部材は、カム機構７で連結されてお
り、弾性歪は主にカム機構７に発生するものと考えられ
る。したがって、第１実施例では、Ｚ方向微動調整機構
を構成する３つのＰＺＴ５のうちの一つに、交流電圧を
印加できるように構成して、Ｚ板３に振動を与え、この
振動によりカム機構７で発生した弾性歪を解放するよう
にしている。交流電圧は、ＰＺＴ５に印加するＺ方向微
調整用の直流電圧を供給する回路に、スイッチ３０を設
け、直流電源３１と交流電源３２とを切り換え可能に構
成して印加する。このスイッチ３０の切り換えは、モー
タ６を駆動してＺ方向の粗動調整を行った後、ＰＺＴ５
に交流電圧を一定時間印加してＰＺＴ５を振動させ、交
流電圧の印加を停止してこの振動が停止した時点で直流
電源３１に切り換えて、Ｚ方向の微動調整を行うよう
に、切り換え制御手段３３によって制御するようにす
る。

【手続補正４】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２１

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２１】また、回転板２をθ方向に駆動させる時に
回転板２とＺ板３の間の接合部（ベアリング９等）に生
じる弾性歪を、θ方向微動調整機構に設けたＰＺＴ２３
に、第１実施例と同様に交流電圧を印加して、ＰＺＴ２
３を振動させることによって解放するようにすることが
できる。この場合、モータ２０を駆動させてθ方向の粗
調整を行った後、ＰＺＴ２３を振動させて、弾性歪を解
放し、さらにＰＺＴ２３に直流電圧を印加してθ方向の
微調整を行うようにする。

【手続補正５】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２４

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２４】これに対して、上述した第１実施例、ある
いはその変形例のようにＺ方向あるいは回転方向の調整
機構を構成しているＰＺＴを利用して、調整機構に振動
を与えるように構成した場合は、振動を与えた後の位置
決め精度を高くする必要があるものの、調整機構を確実
に振動させることができるため、大きな効果が期待でき
る。調整機構を構成しているＰＺＴを利用する場合は、
振動後のステージの位置を、微調整用駆動機構にフィー
ドバックさせる系を具えるようにすれば、より正確に位
置決めを行うことができる。

【手続補正６】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】図面の簡単な説明

【補正方法】変更

【補正内容】

【図面の簡単な説明】

【図４】従来のθＺ方向位置決め装置を示す図である。

【図５】図４に示す装置の断面図である。

【図６】図４に示す装置の平面図である。

【図８】図４に示す装置のＰＺＴの構成を示す図であ
る。

【符号の説明】１基板２回転板３Ｚ板４トッププレート５Ｚ方向微調整用ＰＺＴ６、２０モータ７カム機構８カム板１０、２１腕部２３ θ方向微調整用ＰＺＴ３０スイッチ装置３１直流電源３２交流電源３３切り換え制御装置４０ＰＺＴ４１重石

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】試料を載置するステージと、該ステージの
位置を水平面内で回転方向に調整する手段と、水平面に
対して垂直方向に調整する手段と、振動発生手段とを具
え、この振動発生手段により前記回転方向調整手段及び
前記垂直方向調整手段の各々を構成する部材のすくなく
ともひとつに振動を与え、これらの部材に生じた弾性歪
を解放し得るように構成したことを特徴とする位置決め
ステージ装置。
【請求項２】前記振動発生手段を圧電素子で構成したこ
とを特徴とする請求項１に記載の位置決めステージ装
置。