JPH04109251A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPH04109251A JPH04109251A JP2227910A JP22791090A JPH04109251A JP H04109251 A JPH04109251 A JP H04109251A JP 2227910 A JP2227910 A JP 2227910A JP 22791090 A JP22791090 A JP 22791090A JP H04109251 A JPH04109251 A JP H04109251A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mirror
- exposure apparatus
- stage
- wafer
- original plate
- Prior art date
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- Granted
Links
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 6
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は露光装置に関し、特に半導体メモリや演算装置
等の高密度集積回路チップの製造の際に回路パターンの
焼付を行なうべきウェハ等の被露光体の姿勢を適確に保
持して高精度な露光を行なうことができる露光装置に関
する。
等の高密度集積回路チップの製造の際に回路パターンの
焼付を行なうべきウェハ等の被露光体の姿勢を適確に保
持して高精度な露光を行なうことができる露光装置に関
する。
［従来の技術］
従来この種の装置、例えはレチクル上に描かれたパター
ンをウェハ上に投影するステッパ等の露光装置ては、レ
チクルとウェハとの位置合せを行なう機能が備えられて
おり、それにより位置合せを行なった後に露光を行なっ
ていた。
ンをウェハ上に投影するステッパ等の露光装置ては、レ
チクルとウェハとの位置合せを行なう機能が備えられて
おり、それにより位置合せを行なった後に露光を行なっ
ていた。
そして、このような位置合せは、−Ｍ的には、投影すべ
きパターンが描かれたレチクル等の原板とウェハ等の被
露光体とのすれ量を計測し、その結果に基ついて被露光
体をレーザ測長制御により移動したり、または原板と被
露光体とを移動したりすることにより、行なわれていた
。
きパターンが描かれたレチクル等の原板とウェハ等の被
露光体とのすれ量を計測し、その結果に基ついて被露光
体をレーザ測長制御により移動したり、または原板と被
露光体とを移動したりすることにより、行なわれていた
。
［発明が解決しようとする課題］
ところか、このような露光装置においては、レサ測長光
をウェハまたはウェハを真空吸着したチャック面に直接
光てることか構成上難しいためにミラーをＸＹステージ
上に置いていた。このためウェハ上下、回転駆動時のＸ
Ｙ方向以外（リニア成分以外）の他成分の移動や、温度
によるウェハチャック、ミラー搭載板の伸縮等で、ミラ
ーとウェハチャック間の相対ズレか発生し、結果として
位置合せをしたレチクルとウエノ＼と力）すれてしまう
ことかあった。例えはステ・ンノ＼におり）でウェハチ
ャック駆動時の他成分変動やＸＹ方向ステ・ノブ中に、
Ｘ、 Ｙステージ上に搭載されたウエノ＼上下、回転機
構（θＺステージ）内の機械的ズレないしは熱的要因に
よりウエノ＼とミラー間のイ立置力）変化するという問
題点かあり、その重ね合せ精度および他の装置との融通
性等に難点かあった。
をウェハまたはウェハを真空吸着したチャック面に直接
光てることか構成上難しいためにミラーをＸＹステージ
上に置いていた。このためウェハ上下、回転駆動時のＸ
Ｙ方向以外（リニア成分以外）の他成分の移動や、温度
によるウェハチャック、ミラー搭載板の伸縮等で、ミラ
ーとウェハチャック間の相対ズレか発生し、結果として
位置合せをしたレチクルとウエノ＼と力）すれてしまう
ことかあった。例えはステ・ンノ＼におり）でウェハチ
ャック駆動時の他成分変動やＸＹ方向ステ・ノブ中に、
Ｘ、 Ｙステージ上に搭載されたウエノ＼上下、回転機
構（θＺステージ）内の機械的ズレないしは熱的要因に
よりウエノ＼とミラー間のイ立置力）変化するという問
題点かあり、その重ね合せ精度および他の装置との融通
性等に難点かあった。
本発明は、上述の問題点に鑑み、ステ・ンブ動作等の動
作時にウェハ等の被露光体とミラーとの相対位置ズレ（
Ｘ、Ｙおよび回転）を計測し補正することで、極めて高
い重ね合せ精度、高生産性および高融通性を有する露光
装置を提供することを目的としている。
作時にウェハ等の被露光体とミラーとの相対位置ズレ（
Ｘ、Ｙおよび回転）を計測し補正することで、極めて高
い重ね合せ精度、高生産性および高融通性を有する露光
装置を提供することを目的としている。
［課題を解決するための手段および作用］上記目的を達
成するため、本発明は、レチクル等の原板とウェハ等の
被露光体のずれ量を計損１］する計測手段と、計測結果
に応じて原板や被露光体を移動させる制御手段とを備え
た露光装置において、被露光体（ウェハチャック）とレ
ーザ測長用ミラーとの相対位置変化を計測し、補正する
ことで、被露光体の他成分ズレ、位置ズレ変化の影響を
無くすことを可能としている。
成するため、本発明は、レチクル等の原板とウェハ等の
被露光体のずれ量を計損１］する計測手段と、計測結果
に応じて原板や被露光体を移動させる制御手段とを備え
た露光装置において、被露光体（ウェハチャック）とレ
ーザ測長用ミラーとの相対位置変化を計測し、補正する
ことで、被露光体の他成分ズレ、位置ズレ変化の影響を
無くすことを可能としている。
この計測センサとしては、種々のものが考えられるが、
レーザ測長もしくは、静電容量、渦電流またはこれらの
組合せ等を用いても良い。
レーザ測長もしくは、静電容量、渦電流またはこれらの
組合せ等を用いても良い。
又、検出手段としてウェハチャックとミラー間を直接計
測する方法と第３点からそれぞれを計測して差分をとら
えて補正することも可能である。
測する方法と第３点からそれぞれを計測して差分をとら
えて補正することも可能である。
［実施例］
第１図は、本発明の実施例の概念図であり、縮小投影露
光装置を示している。図において、１はレーザ干渉計、
２は非接触変位検出センサ、３はミラー、４はＸＹテー
ブル、５はθ回転テーブル、６と１３は回転駆動機構、
７はＸＹ駆動部（モータ）、８はレンズ、９はレチクル
、１０は制御ボックス、１１はウェハである。１２はウ
ェハチャックでチャック内にも回転機能を持つ。
光装置を示している。図において、１はレーザ干渉計、
２は非接触変位検出センサ、３はミラー、４はＸＹテー
ブル、５はθ回転テーブル、６と１３は回転駆動機構、
７はＸＹ駆動部（モータ）、８はレンズ、９はレチクル
、１０は制御ボックス、１１はウェハである。１２はウ
ェハチャックでチャック内にも回転機能を持つ。
レチクルとウェハのズレを計測後、レチクルおよびウェ
ハの移動制御を行なう。このときウェハチャック１２内
部に組入れた、上下機構によりウェハを上下フォーカス
駆動した際の他成分くＸＹ、θ）およびＸＹステージを
ＸＹ力方向ステップ中の計測用ミラーとウェハ（ウェハ
チャック）との相対位置ズレを２つのセンサにより計測
する。この時Ｙ軸に配置した２個のセンサで回転変動成
分を検出し、ＸＹ力方向変動成分は各軸最低１個のセン
サで検出する。この検出値をＸＹステージ制御系やθ回
転機構（θ回転テーブル５またはウェハチャック１２）
に補正値としてフィードバックする。
ハの移動制御を行なう。このときウェハチャック１２内
部に組入れた、上下機構によりウェハを上下フォーカス
駆動した際の他成分くＸＹ、θ）およびＸＹステージを
ＸＹ力方向ステップ中の計測用ミラーとウェハ（ウェハ
チャック）との相対位置ズレを２つのセンサにより計測
する。この時Ｙ軸に配置した２個のセンサで回転変動成
分を検出し、ＸＹ力方向変動成分は各軸最低１個のセン
サで検出する。この検出値をＸＹステージ制御系やθ回
転機構（θ回転テーブル５またはウェハチャック１２）
に補正値としてフィードバックする。
前記実施例はウェハステージ側について述へているが、
レチクル側についても同様である。第２図はレチクルス
テージ側に第１図と同様の位置計測手段を設けた構成例
を示す。又レーザ測長ではない他の制御系であったとし
ても、変動成分という意味では、固定物をベースとして
変動成分を検出して補正することも可能である。
レチクル側についても同様である。第２図はレチクルス
テージ側に第１図と同様の位置計測手段を設けた構成例
を示す。又レーザ測長ではない他の制御系であったとし
ても、変動成分という意味では、固定物をベースとして
変動成分を検出して補正することも可能である。
さらに、前記実施例では、ウェハチャック側からミラー
を計測しているが、この逆でも可能であり、また第３の
点からミラー、ウェハチャックをそれぞれ独立に計測す
ることも可能である。
を計測しているが、この逆でも可能であり、また第３の
点からミラー、ウェハチャックをそれぞれ独立に計測す
ることも可能である。
［発明の効果コ
以上説明したように、本発明によれは露光装置において
被露光体駆動時の他成分、および、ステップ中の被露光
体とミラーの相対変位（Ｘ、 Ｙθ酸成分を計測、補正
することが可能となるため、極めて重ね合わせ精度の高
い、高生産性および高融通性を有するステッパ等の高精
度露光装置を提供することができる。
被露光体駆動時の他成分、および、ステップ中の被露光
体とミラーの相対変位（Ｘ、 Ｙθ酸成分を計測、補正
することが可能となるため、極めて重ね合わせ精度の高
い、高生産性および高融通性を有するステッパ等の高精
度露光装置を提供することができる。
第１図は、本発明の実施例に係る露光装置の構成説明図
、 第２図は、本発明の別の実施例の構成説明図である。 １：レーサ干渉計、 ２：非接触タイプ変位計測センサ、 レーザ測長用ミラー ＸＹステージ、 ：θ回転テーブル、 １３：θ駆動部、 ：ｘＹ駆動部、 ：レンズ、 ニレチクル、 二制御ボックス１ 、ウェハ、 ２：ウェハチャックである。
、 第２図は、本発明の別の実施例の構成説明図である。 １：レーサ干渉計、 ２：非接触タイプ変位計測センサ、 レーザ測長用ミラー ＸＹステージ、 ：θ回転テーブル、 １３：θ駆動部、 ：ｘＹ駆動部、 ：レンズ、 ニレチクル、 二制御ボックス１ 、ウェハ、 ２：ウェハチャックである。
Claims (5)
- （１）露光転写すべきパターンを有する原板と、該パタ
ーンを投影する被露光体と、該原板と被露光体を相互に
位置合わせする位置決め手段とを具備し、該位置決め手
段は原板または被露光体の支持ステージ上に設けたレー
ザ反射ミラーを有するレーザ測長手段と、前記支持ステ
ージの駆動手段と、前記レーザ測長手段の測定結果に基
づいて前記駆動手段を動作させる制御手段とを含み、前
記支持ステージに対する前記ミラーの位置変化を検出す
るためのミラー位置検出手段を備えたことを特徴とする
露光装置。 - （２）前記ミラー位置検出手段は、非接触式センサから
なることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の露光
装置。 - （３）前記センサは、支持ステージまたはミラーの一方
に設けて他方の位置を検出する構成としたことを特徴と
する特許請求の範囲第２項記載の露光装置。 - （４）前記センサは、支持ステージおよびミラー以外の
位置に固定され、該位置から支持ステージおよびミラー
の位置を測定しその差から該ミラーの位置変化を検出す
る構成としたことを特徴とする特許請求の範囲第２項記
載の露光装置。 - （５）前記支持ステージはＸＹステージを含み、前記駆
動手段はＸＹ方向の移動手段とともにＺ方向移動手段、
傾斜制御手段および回転手段とを有し、前記制御手段は
前記ミラー位置検出手段の検出結果に基づいて該駆動手
段のＸＹ方向、Ｚ方向、傾斜および回転の各動作をフィ
ードバック制御することを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2227910A JP2777931B2 (ja) | 1990-08-30 | 1990-08-30 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2227910A JP2777931B2 (ja) | 1990-08-30 | 1990-08-30 | 露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04109251A true JPH04109251A (ja) | 1992-04-10 |
| JP2777931B2 JP2777931B2 (ja) | 1998-07-23 |
Family
ID=16868219
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2227910A Expired - Fee Related JP2777931B2 (ja) | 1990-08-30 | 1990-08-30 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2777931B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0684753A (ja) * | 1992-09-04 | 1994-03-25 | Nikon Corp | 露光方法 |
| JP2012182467A (ja) * | 2006-04-21 | 2012-09-20 | Kla-Encor Corp | 動的に駆動されるステージミラー及びチャック組立体を備えるｚステージ |
| US9141002B2 (en) | 2006-04-21 | 2015-09-22 | Kla-Tencor Corporation | Z-stage with dynamically driven stage mirror and chuck assembly having constraint |
| US10533251B2 (en) | 2015-12-31 | 2020-01-14 | Lam Research Corporation | Actuator to dynamically adjust showerhead tilt in a semiconductor processing apparatus |
-
1990
- 1990-08-30 JP JP2227910A patent/JP2777931B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0684753A (ja) * | 1992-09-04 | 1994-03-25 | Nikon Corp | 露光方法 |
| JP2012182467A (ja) * | 2006-04-21 | 2012-09-20 | Kla-Encor Corp | 動的に駆動されるステージミラー及びチャック組立体を備えるｚステージ |
| JP2014007425A (ja) * | 2006-04-21 | 2014-01-16 | Kla-Encor Corp | 動的に駆動されるステージミラー及びチャック組立体を備えるｚステージ |
| US9141002B2 (en) | 2006-04-21 | 2015-09-22 | Kla-Tencor Corporation | Z-stage with dynamically driven stage mirror and chuck assembly having constraint |
| US10533251B2 (en) | 2015-12-31 | 2020-01-14 | Lam Research Corporation | Actuator to dynamically adjust showerhead tilt in a semiconductor processing apparatus |
| US11230765B2 (en) | 2015-12-31 | 2022-01-25 | Lam Research Corporation | Actuator to adjust dynamically showerhead tilt in a semiconductor-processing apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2777931B2 (ja) | 1998-07-23 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |