KR0136427B1 - 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정장치 및 그 방법 - Google Patents

평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정장치 및 그 방법

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Abstract

평면 스텝 모터와 링 스텝 모터를 포함하는 노광 장치에 있어서, 레티클이나 웨이퍼가 놓여지는 스테이지의 Y축 방향의 좌표를 측정하는 Y축 좌표 감기 수단과; 상기 스테이지의 X축 방향의 좌표를 측정하는 X축 좌표 감지 수단과 상기에서 측정되는 스테이지의 Y축 좌표와 X축 좌표에 따라 실질적인 스테이지의 X축 좌표와 Y축 좌표 그리고 회전축에 해당하는 회전각을 산출한 다음, 산출된 스테이지의 위치에 따라 허용 오차 범위 밖의 변위 발생여부를 판단하여, 회전축 방향으로 변위가 발생한 경우에는 발생된 변위량에 따른 정보량을 산출한 다음, 발생된 변위각이 설정각보다 작은 경우에 산출된 보정량에 따라 스테이지를 회전축을 중심으로 회전시키기 위한 제1모커 구동신호를 출력하고, X축과 Y축 방향으로 변위가 발생한 경우에는 발생된 변위량에 따른 보정량을 산출한 다음, 산출된 보정량에 따라 각각 해당 방향으로 스테이지를 이동시키기 위한 제2모터 구동 신호를 출력하는 동작 제어 수단과 평면 스텝 모터를 X축 및 Y축 그리고 회전축 방향으로 이동시키는 평면 스텝 모터 구동 수단과 링스텝 모터를 구동하여 스테이지를 회전축을 중심으로 회전시키는 링 스텝 모터 구동 수단으로 이루어지는 평면 스텝모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정 장치는, 별도의 고정밀 장치를 사용하지 않고 기존의 평면 스텝 모터를 이용하여 스테이지의 회전축 방향의 미소 각도를 보정할 수 있으며, 그 제어 방법을 제공할 수 있다.

Description

평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정장치 및 그 방법
제1도는 이 발명의 실시예에 따른 노광 장비 스테이지의 전반적인 구성도이고,
제2도는 이 발명의 실시예에 따른 노광 장비의 스테이지를 X축 및 Y축 방향으로 구동하는 평면 스텝 모터의 구성도이고,
제3도는 이 발명의 실시예에 따른 노광 장비의 스테이지를 회전 방향으로 구동하는 링스텝 모터의 구성도이고,
제4도는 이 발명의 실시예에 따른 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정 장치의 구성 블록도이고
제5도는 이 발명의 실시예에 따른 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정 방법의 동작 순서도이다.
이 발명은 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지(stage)의 미소 각도 보정 장치에 관한 것으로 더욱 상세하게 말하자면, 노광 장비에 있어서, 레티클(reticle)이나 마스크(mask)를 노광시키기 위하여 올려놓는 스테이지의 미소 변위를 평면 스텝 모터를 이용하여 직각 방향 및 회전 방향으로 보정하는 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비를 스테이지의 미소 각도 보정 장치 및 그 방법에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 웨이퍼위에 전자 회로를 생성하거나 액정 표시 장치 기판위에 전자 회로를 생성시키기 위해서는 전자 회로를 새긴 패턴이 필요한데, 상기와 같은 패턴이 새겨져 있는 유리 원판을 레티클이라고 한다.
상기 레티클 상의 패턴을 반도체 웨이퍼위나 액정 표시 장치 기판윙 새기는 장치를 노광 장비라고 한다.
반도체 및 액정 표시 장치에 사용되는 노광 장비에서는 레티클이나 웨이퍼를 각각의 스테이지의 원하는 위치에 얼마나 정확하게 위치시킬 수 있는지가 장비의 정밀도에 큰 영향을 미친다
종래에는 노광 장비의 스테이지의 정확한 위치를 제어하기 위하여, 여러 정령 센서를 이용하여 스테이지의 위치값을 측정한 다음, 스테이지의 직각 방향 및 회전 방향에 대한 위치 에러량을 계산하게 되는데, 이 때의 위치 에러 허용 오차는 수 ㎛ 정도가 되어야 하므로 에러량을 보정하는 구동 메카니즘 또한 아주 정밀하다.
따라서, 종래에는 상기와 같이 측정되는 위치 에러량에 따라 스테이지의 직각 방향을 보정하기 위한 고정밀 구동 장치와 회전 방향을 보정하기 위한 고정밀 구동장치가 각각 사용되었다.
다시 말하자면, 상기에서 스테이지의 직각 방향을 보정하기 위한 고정밀 구동장치로서 평면 스텝 모터를 이용하여 스테이지를 X축, Y축으로 이동시키고, 스테이지의 회전 방향을 보정하기 위한 고정밀 구동 장치로서 링스텝 모터를 이용하여 스테이지를 θ축 방향으로 이동시켜 제어하였다.
상기의 평면 스텝 모터를 이용하는 경우에 레이져 인터페로미터(interferometer)를 사용하여 스테이지의 정확한 위치를 피이드백하는 페루프제어를 통하여 0.01㎛ 까지 정밀 제어가 가능하지만, 링스텝 모터를 이용하는 경우에는 스테이지의 위치를 측정하여 피이드백하는 센서가 별도로 부착되어 있지 않으므로 개루프 제어를 하게 된다.
그러나, 개루프 제어를 하는 경우에는 스테이지 정령시에 필요한 회전 위치 허용오차를 만족할 수 없다.
따라서, 종래에는 일정각 이상으로 스테이지를 회전시켜 보정해야 하는 경우에는 링스텝 모터를 사용할 수 있으나, 그 이하의 회전각도로 스테이지를 보정해야 하는 경우에는 보다 위치 정밀도가 뛰어난 모터를 사용하거나 센서를 통한 폐루트 제어를 해야 하는 문제점이 있다.
그러므로, 이 발명의 목적은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 일정 각도 이상으로 스테이지의 회전 방향을 보정하는 경우에는 링스텝 모터를 이용하고, 일정 각도 미만으로 스테이지의 회전 방향을 보정하는 경우에는 평면스텝 모터를 이용하여 보정하므로써, 보다 정밀하게 스테이지의 위치를 보정할 수 있는 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정 장치 및 그 방법을 제공하고자 하는데 있다.
상기의 목적을 달성하기 위한 이발명의 구성은, 평면 스텝 모터와 링 스텝 모터를 포함하는 노광 장치에 있어서, 레티클이나 웨이퍼가 놓여지는 스테이지의 Y축 방향의 좌표를 측정하여 그에 해당하는 전기적인 신호를 출력하는 Y축 좌표 감지 수단과;
상기 스테이지의 X축 방향의 좌표를 측정하여 그에 해당하는 전기적인 신호를 출력하는 X축 좌표 감지 수단과;
상기에서 측정되는 스테이지의 Y축 좌표와 X축 좌표에 따라 실질적인 스테이지의 X축 좌표와 Y축 좌표 그리고 회전축에 해당하는 회전각을 산출한 다음, 산출된 스테이지의 위치에 따라 허용 오차 범위 밖의 변위 발생 여부를 판단하여, 회전축 방향으로 변위가 발생한 경우에는 발생된 변위량에 따른 보정량을 산출한 다음, 발생된 변위각이 설정각보다 작은 경우에 산출된 보정량에 따라 스테이지를 회전축을 중심으로 회전시키기 위한 제1모터 구동 신호를 출력하고, X축과 Y축 방향으로 변위가 발생한 경우에는 발생된 변위량에 따른 보정량을 산출한 다음, 산출된 보정량에 따라 각각 해당 방향으로 스테이지를 이동시키기 위한 제2모터 구동 신호를 출력하는 동작 제어수단과;
상기 동작 제어 수단에서 출력되는 제1모터 구동 신호에 따라 평면 스텝 모터의 동축상의 인덕터로 각각 다른 방향의 전압을 인가하고, 제2모터 구동 신호에 따라 평면 스텝 모터의 동축상의 인덕터로 같은 방향의 전압을 인가하여 평면 스텝 모터를 X축 및 Y축 그리고 회전축 방향으로 이동시키는 평면 스텝모터 구동 수단과;
상기 동작 제어 수단에서 출력되는 신호에 따라 링스텝 모터를 구동하여 스테이지를 회전축을 중심으로 회전시키는 링 스텝 모터 구동 수단으로 이루어진다.
상기의 목적을 달성하기 위한 이 발명의 다른 구성은,
전원이 인가되면 사용되는 모든 변수를 초기화한 다음, 스테이지의 X축 좌표와 Y축 좌표를 감지하는 단계와;
상기 감지되는 스테이지의 X 축, Y축 좌표에 따라 실질적인 스테이지의 X축과 Y축 그리고 회전축에 따른 회전각을 산출하는 단계와;
상기에서 산출되는 실질적인 스테이지의 위치의 변위 발생 여부를 판단하여, 스테이지 위치가 X축 이나 Y축 그리고 회전축 방향으로 변위가 발생한 경우에, 발생된 변위가 허용 오차 범위내에 포함되는지를 판단하는 단계와;
상기에서 발생된 변위가 허용 오차 범위밖에 해당하는 경우에, 변위가 발생한 방향이 회전축인 경우에는 변위 발생에 따른 회전각에 해당하는 보정량을 산출한 다음, 회전각이 설정각이하인 경우에 산출된 보정량에 따라 평면 스텝 모터를 구동하여 스테이지의 회전축 변위를 보정하는 단계와;
상기에서 발생된 변위가 허용 오차 범위 밖에 해당하는 경우에, 변위가 발생한 방향이 X축이나 Y축인 경우에, 각 방향의 변위 발생에 해당하는 보정량을 산출한 다음, 산출된 보정량에 따라 변위가 발생한 X축 또는 Y축 방향으로 평면 스텝 모터를 구동하여 스테이지의 X축 또는 Y축 방향의 변위를 보정하는 단계로 이루어진다.
상기 구성에 의한 이 발명을 용이하게 실시할 수 있는 가장 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조로 하여 설명하면 다음과 같다.
제1도는 이 발명의 실시예에 따른 노광 장비 스테이지의 전반적인 구성도이고, 제2도는 이 발명의 실시예에 따른 노광 장비의 스테이지를 X축 및 Y축 방향으로 구동하는 평면 스텝 모터의 구성도이고, 제3도는 이 발명의 실시예에 따른 노광 장비의 스테이지를 회전 방향으로 구동하는 링스텝 모터의 구성도이고, 제4도는 이 발명의 실시예에 따른 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정 장치의 구성 블록도이고, 제5도는 이 발명의 실시예에 따른 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정 방법의 동작 순서도이다.
첨부한 제4도에 도시되어 있듯이 이 발명의 실시예에 따른 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지 미소 각도 보정 장치의 구성은, 노광 장비의 스테이지(1)의 Y축 방향의 좌표를 감지하는 Y축 좌표 감지부(11)와, 스테이지(1)의 X축 방향의 좌표를 감지하는 X축 좌표 감지부(13)로 이루어진 위치 감지주(10)와, 상기 위치 감지부(10)의 출력단에 연결되어 인가되는 신호를 증폭 필터링 처리하여 해당하는 디지탈 신호를 출력하는 신호 처리부(20)와, 상기 신호 처리부(20)의 출력단에 연결되어 인가되는 신호에 따라 현재 스테이지(1)의 위치 상태를 감지한 다음, 감지되는 스테이지(1)의 위치 상태에 따른 X축, Y측,θ축 방향의 보정량을 산출한 다음, 산출되는 보정량에 따라 스테이지(1)의 위치를 해당 방향의 적정 위치로 보정하기 위한 모터 구동 신호를 출력하는 동작 제어부(30)와, 상기 동작 제어부(30)의 출력단에 연결되어 인가되는 모터 구동 신호에 따라 스테이지(1)를 X축, Y축 방향으로 구동시켜 위치를 보정하는 평면 스텝 모터 구동부(41)와, 모터 구동 신호에 따라 스테이지(1)를 θ축 방향으로 구동시켜 위치를 보정하는 링스텝 모터 구동부(43)로 이루어진 모터 구동부(40)로 이루어진다.
이 발명의 실시예에 따른 상기 위치 감지부(10)는 인터페로미터(interferometer)로 이루어지며, 상기 스테이지(1) 상에 미러(mirror)가 장착되어 있다.
상기 구성한 의한 이 발명의 실시예에 따른 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지 미소 각도 보정 장치의 작용은 다음과 같다.
상기 동작 제어부(30)에 전원이 인가되면 모든 사용 변수를 초기화한 다음(S110), 현재 노광 장비 스테이지(1)의 위치를 감지하기 위한 구동 신호를 위치 감지부(10)로 출력한다.
반도체 및 액정 표시 소자에 사용하는 노광 장비에서 레티클, 플레이트를 스테이지(1)의 원하는 위치에 정확히 위치시키기 위해서는, 기본적으로 스테이지(1)의 위치가 정확하게 정렬되어 있어야 한다.
그러므로, 초기의 스테이지(1) 위치를 감지한 다음, 감지되는 스테이지(1)의 위치에 따라 X축, Y축 그리고 θ축 방향의 보정량을 산출하여 그에 따라 스테이지(1)의 위치를 해당 방향으로 보정한다.
이 발명의 실시에에 따른 상기 위치 감지부(10)는 인터페로미터(interferometer)로 이루어지며, 상기 스테이지(1) 상에 미러(mirror)가 장착되어 있다.
상기에서 스테이지(1)의 Y축 방향의 좌표를 감지하기 위한 Y축 좌표 감지부(11)는 두 개의 인터페로미터 즉, Y1 좌표를 측정하는 감지부와 Y2좌표를 측정하는 감지부로 이루어진다.
첨부한 제1도에 도시되어 있듯이 Y축 좌표 감지부(11)가 스테이지(1)의 Y축 좌표를 감지하기 위하여 레이저를 발사하게 되면, 상기 스테이지(1)상에 장착된 미러에 반사되어 다시 Y축 좌표 감지부(11)로 수광된다(S120).
상기 Y축 좌표 감지부(11)는 수광되는 레이저에 해당하는 전기적인 신호를 신호 처리부(20)로 출력하면, 상기 신호 처리부(20)는 Y축 좌표 감지부(11)에서 출력되는 신호를 증폭, 필터링 처리하여 그에 해당하는 디지탈 신호를 동작 제어부(30)로 출력한다.
상기에서 스테이지(1)의 X축 방향의 좌표를 감지하기 위한 X축 좌표 감지부(13)의 동작도 상기와 동일하다(S130)
상기 동작 제어부(30)는 위치 감지부(10)에서 출력되는 2개의 Y축 좌표(Y1, Y2)와 하나의 X축 좌표(X1)에 따라, 다음의 관계식에 의하여 스테이지(1)의 X, Y 방향의 실제 좌표값을 결정하고 회전 변위량 즉, θ축 방향의 변위량을 계산한다(S140)
X = X1
Y = (Y1+Y2) /2
θ = tan-1{(Y1-Y2)}/d}
상기의 d는 두 개의 Y축 좌표 감지부 사이의 거리를 나타내며 이 값은 동작 제어부(30)의 도시하지 않은 메모리상에 저장되어 있다.
상기 동작 제어부(30)는 레티클이나 플레이트를 각각의 스테이지(1)에 위치시켜 정렬을 할 경우, 스테이지(1)를 움직이는 동시에 정렬 센서 즉, Y축, X축 방향의 감지부에서 출력되는 신호를 프로세싱하여, 감지되는 신호가 최고점에 이를 때 그 때의 스테이지(1) 좌표를 기억하게 된다.
상기와 같은 방법으로 X축과 X축에 대하여 정렬을 수행하게 되면, 세 개의 레이저 인터페로미터로부터 스테이지(1) 위에 레티클이나 플레이트의 위치 상태를 확인할 수 있다.
상기에서 산출되는 실질적인 스테이지(1)의 위치에 따라 동작 제어부(30)는 각각 해당 방향의 변위량이 허용 오차 범위내에 포함되는지 판단한다(S150-160) 상기에서 측정되는 변위량이 허용 오차 범위를 벗어나는 경우에는 스테이지의 위치를 보정해야 하는 것으로 판단한 다음, θ축 방향의 변위량인 회전각과 설정각과의 관계를 판단하여 해당하는 스텝 모터를 구동한다(S170).
다시 말하자면, 상기에서 산출되는 θ축 방향의 회전각이 설정각 즉, 1분(1/60도) 이상인 경우에는 종래와 같은 링스텝 모터를 구동하여 스테이지를 정렬하고, 회전각이 설정각인 1분 이하인 경우에는 이 발명의 실시예에 따라 평면 스텝 모터를 구동하여 스테이지를 정렬한다.
상기에서 측정되는 θ축 방향의 변위량이 1분 이하인 미소 각도인 경우에, 동작 제어부(30)는 평면 스텝 모터를 구동하기 위한 제1모터 구동 신호를 평면 스텝 모터 구동부(41)로 출력한다.
상기 평면 스텝 모터 구동부(41)는 동작 제어부(30)에서 인가되는 제어 신호에 따라 첨부한 제2도에 도시되어 있는 평면 스텝 모터의 각각의 인덕터(411)를 독립적으로 제어할 수 있다.
상기에서 평면 스텝 모터 구동부(41)는 θ측 방향의 변위량에 따른 제1모터 구동 신호가 입력되면, 첨부한 제2도에 도시되어 있는 바와 같은 평면 스텝 모터의 대각선 축상에 장착되어 있는 두 개의 인덕터(411)를 각각 다른 방향으로 전압을 가한다.
상기에서 평면 스텝 모터의 대각선 축상에 장착되어 있는 두 개의 인덕터(411)로 각기 다른 방향의 전압이 가해지면, 평면 스텝 모터가 일정각 회전하게 된다(S180∼S190).
상기에서 측정되는 θ축 방향의 변위량이 1분 이상인 경우에는 평면 스텝 모터의 회전량으로는 보정이 불가능하므로, 링스텝 모터를 구동하여 스테이지의 회전축 방향의 변위량을 보정한다(S200∼S210).
상기에서 회전축 방향의 보정이 수행된 다음 동작 제어부(30)는 X축과 Y축 방향의 변위량 발생 여부를 판단하여, X축과 Y축 방향으로 변위가 발생한 경우에는 해당 방향의 변위량에 따른 보정량을 산출한다(S220∼S230).
상기 동작 제어부(30)는 산출되는 보정량에 따라 X축 또는 Y축 방향으로 스테이지의 위치를 보정하기 위한 제2모터 구동 신호를 평면 스텝 모터 구동부(41)로 출력한다.
상기에서 X축 또는 Y축 방향으로 변위가 발생한 경우에 해당하는 제2모터 구동 신호가 출력이 되면, 평면 스텝 모터 구동부(41)는 X축과 Y축 방향의 서로 마주보는 두 개의 인덕터로 각각 같은 방향의 전압을 가한다.
상기한 평면 스텝 모터 구동부(41)로부터 해당하는 방향의 인덕터로 전압이 가해지면, 평면 스텝 모터가 X축 또는 Y축 방향으로 이동되어 스테이지의 위치가 보정된다(S240).
이상에서와 같은 이 발명의 실시예에 따라, 일정 각도 이상으로 스테이지의 회전 방향을 보정하는 경우에는 링스텝 모터를 이용하고, 일정 각도 미만으로 스테이지 회전 방향을 보정하는 경우에는 평면 스텝 모터를 이용하여 보정하므로써, 보다 정밀하게 스테이지의 위치를 보정할 수 있다.
또한, 스테이지의 미소 각도를 별도의 고정밀 장치를 사용하지 않고 평면 스텝 모터를 이용하여 보정하므로써, 장치의 코스트 및 점유 면적을 감소시킬 수 있는 효과를 가지는 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정 장치 및 그 제어 방법을 제공할 수 있다.

Claims (10)

  1. 평면 스텝 모터와 링 스텝 모터를 포함하는 노광 장치에 있어서, 레티클이나 웨이퍼가 놓여지는 스테이지의 Y축 방향의 좌표를 측정하여 그에 해당하는 전기적인 신호를 출력하는 Y축 좌표감지 수단과; 상기 스테이지의 X축 방향의 좌표를 측정하여 그에 해당하는 전기적인 신호를 출력하는 X축 좌표 감지 수단과; 상기에서 측정되는 스테이지의 Y축 좌표와 X축 좌표에 따라 실질적인 스테이지의 X축 좌표와 Y축 좌표 그리고 회전축에 해당하는 회전각을 산출한 다음, 산출된 스테이지의 위치에 따라 허용 오차 범위 밖의 변위 발생 여부를 판단하여, 회전축 방향으로 변위가 발생한 경우에는 발생된 변위량에 따른 보정량을 산출한 다음, 발생된 변위각이 설정각보다 작은 경우에 산출된 보정량에 따라 스테이지를 회전축을 중심으로 회전시키기 위한 제1모터 구동 신호를 출력하고, X축과 Y축 방향으로 변위가 발생한 경우에는 발생된 변위량에 따른 보정량을 산출한 다음, 산출된 보정량에 따라 각각 해당 방향으로 스테이지를 이동시키기 위한 제2모터 구동 신호를 출력하는 동작 제어 수단과; 상기 동작 제어 수단에서 출력되는 제1모터 구동 신호에 따라 평면 스텝 모터의 동축상의 인덕터로 각기 다른 방향의 전압을 인가하고, 제2모터 구동 신호에 따라 평면 스텝 모터의 동축상의 인덕터로 같은 방향의 전압을 인가하여 평면 스텝 모터를 X축 및 Y축 그리고 회전축 방향으로 이동시키는 평면 스텝 모터 구동 수단과; 상기 동작 제어 수단에서 출력되는 신호에 따라 링스텝 모터를 구동하여 스테이지를 회전축을 중심으로 회전시키는 링 스텝 모터 구동 수단으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기한 Y축 좌표 감지 수단은 두 개의 Y축 좌표 감지 수단으로 이루어져, 스테이지 Y축 방향에 따른 Y1, Y2좌표에 해당하는 전기적인 신호를 출력하는 것을 특징으로 하는 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기한 동작 제어 수단은, 상기 X축 좌표 감지수단에서 출력되는 X1 좌표 신호와, Y축 감지 수단에서 출력되는 Y1, Y2 좌표 신호를 입력으로 하여, 다음의 식에 따라 스테이지의 실질적인 X축 좌표, Y축 좌표 그리고 회전축 좌표인 θ값을 산출하는 것을 특징으로 하는 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정장치.
    X = X1
    Y = Y(Y1 + Y2) /2
    θ = tan-1{(Y1-Y2)/d}
    d : 두 개의 Y축 좌표 감지 수단 사이의 거리.
  4. 제1항에 있어서, 상기한 동작 제어 수단은, 회전축 방향으로 발생된 변위량은 회전각인 설정각 이상인 경우에는 링스텝 모터를 구동하여 스테이지를 회전시키기 위한 모터 구동 신호를 출력하는 것을 특징으로 하는 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기한 스테이지의 위치를 측정하기 위한 X축 좌표 감지 수단과, Y축 좌표 감지 수단이 레이저 인터페로미터로 이루어지는 것을 특징으로 하는 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정 장치.
  6. 전원이 인가되면 사용되는 모든 변수를 초기화한 다음, 스테이지의 X축 좌표와 Y축 좌표를 감지하는 단계와; 상기 감지되는 스테이지의 X축, Y축 좌표에 따라 실질적인 스테이지의 X축과 Y축 그리고 회전축에 따른 회전각을 산출하는 단계와; 상기에서 산출되는 실질적인 스테이지의 위치의 변위 발생 여부를 판단하여, 스테이지 위치가 X축 이나 Y축 그리고 회전축 방향으로 변위가 발생한 경우에, 발생된 변위가 허용 오차 범위내에 포함되는지를 판단하는 단계와; 상기에서 발생된 변위가 허용 오차 범위밖에 해당하는 경우에, 변위가 발생한 방향이 회전축인 경우에는 변위 발생에 따른 회전각에 해당하는 보정량을 산출한 다음, 회전각이 설정각이하인 경우에 산출된 보정량에 따라 평면 스텝 모터를 구동하여 스테이지의 회전축 변위를 보정하는 단계와; 상기에서 발생된 변위가 허용 오차 범위 밖에서 해당하는 경우에, 변위가 발생한 방향이 X축이나 Y축인 경우에, 각 방향의 변위 발생에 해당하는 보정량을 산출한 다음, 산출된 보정량에 따라 변위가 발생한 X축 또는 Y축 방향으로 평면 스텝 모터를 구동하여 스테이지의 X축 또는 Y축 방향의 변위를 보정하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정 방법.
  7. 제6항에 있어서, 평면 스텝 모터를 이용하여 스테이지의 회전축 변위를 보정하는 단계에 있어서, 평면 스텝 모터의 동축상의 인덕터로 각기 다른 방향의 전압을 인가하여 일정 각도 평면 스텝 모터를 회전시켜, 스테이지의 회전축 변위를 보정하는 것을 특징으로 하는 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정 방법.
  8. 제6항에 있어서, 평면 스텝 모터를 이용하여 스테이지의 X축 및 Y축 변위를 보정하는 단계에 있어서, 평면 스텝 모터의 동축상의 인덕터로 각기 같은 방향의 전압을 인가하여 평면 스텝 모터를 해당하는 방향으로 이동시켜, 스테이지의 X축 및 Y축 변위를 보정한 것을 특징으로 하는 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정 방법.
  9. 제6항에 있어서, 상기한 실질적인 스테이지의 위치를 산출하는 단계에 있어서, 상기 X축 방향에 해당하는 X1 좌표와, Y축 방향에 해당하는 두 개의 Y1, Y2 좌표 신호를 입력으로 하여, 다음이 식에 따라 스테이지의 실질적인 X축 좌표, Y축 좌표 그리고 회전축 좌표인 θ값을 산출하는 것을 특징으로 하는 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정 방법.
    X = X1
    Y = (Y1 + Y2) /2
    θ = tan-1{(Y1 - Y2)/d}
    d : 두 개의 Y축 좌표 감지 수단 사이의 거리.
  10. 제6항에 있어서, 상기한 스테이지의 회전축 변위를 보정하는 단계에 있어서, 회전축 방향으로 발생된 변위량인 회전각인 설정각 이상인 경우에는 링스텝 모터를 구동하여 스테이지의 회전축 변위를 보정하는 것을 특징으로 하는 평면 스텝 모터를 이용한 노광 장비 스테이지의 미소 각도 보정 방법.
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KR100970243B1 (ko) * 2008-04-03 2010-07-16 코리아테크노(주) 반도체 웨이퍼 오염물질 측정장치의 스캔 스테이지

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