JPH11218941A - ステージ装置およびこれを用いた露光装置 - Google Patents
ステージ装置およびこれを用いた露光装置Info
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- JPH11218941A JPH11218941A JP10038029A JP3802998A JPH11218941A JP H11218941 A JPH11218941 A JP H11218941A JP 10038029 A JP10038029 A JP 10038029A JP 3802998 A JP3802998 A JP 3802998A JP H11218941 A JPH11218941 A JP H11218941A
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Auxiliary Devices For Machine Tools (AREA)
- Machine Tool Sensing Apparatuses (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ワークステージの高さ位置を検出するオプテ
ィカルエンコーダの計測エラーを防ぐ。 【解決手段】 ガラス基板を保持するプレートチャック
１０の高さ位置とチルトは、３個のリニアモータ１４に
よって制御される。各リニアモータ１４の近傍には、セ
ンサ部１５ａとスケール部１５ｂからなるオプティカル
エンコーダ１５が配設され、それぞれプレートチャック
１０の高さ位置を計測する。３個の計測値に基づいて各
オプティカルエンコーダ１５のスケール部１５ｂのロー
リング量とピッチング量を算出し、これらが所定のしき
い値を超えたときに警告を発するように構成する。
ィカルエンコーダの計測エラーを防ぐ。 【解決手段】 ガラス基板を保持するプレートチャック
１０の高さ位置とチルトは、３個のリニアモータ１４に
よって制御される。各リニアモータ１４の近傍には、セ
ンサ部１５ａとスケール部１５ｂからなるオプティカル
エンコーダ１５が配設され、それぞれプレートチャック
１０の高さ位置を計測する。３個の計測値に基づいて各
オプティカルエンコーダ１５のスケール部１５ｂのロー
リング量とピッチング量を算出し、これらが所定のしき
い値を超えたときに警告を発するように構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶パネル等を製
造するための露光装置等においてガラス基板等を保持す
るステージ装置およびこれを用いた露光装置に関するも
のである。
造するための露光装置等においてガラス基板等を保持す
るステージ装置およびこれを用いた露光装置に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】液晶パネル等を製造するための露光装置
のステージ装置は、ガラス基板等のワークを保持する保
持盤をワーク保持面に対して垂直な方向（Ｚ軸方向）に
駆動して露光光学系に対する焦点合わせ等を行なうＺ軸
駆動機構と、保持盤のＺ軸方向の位置を検出して前記Ｚ
軸駆動機構を制御（Ｚ軸サーボ制御）するためのオプテ
ィカルエンコーダ等を備えている。
のステージ装置は、ガラス基板等のワークを保持する保
持盤をワーク保持面に対して垂直な方向（Ｚ軸方向）に
駆動して露光光学系に対する焦点合わせ等を行なうＺ軸
駆動機構と、保持盤のＺ軸方向の位置を検出して前記Ｚ
軸駆動機構を制御（Ｚ軸サーボ制御）するためのオプテ
ィカルエンコーダ等を備えている。
【０００３】ところが、このようなワークステージがガ
ラス基板等を受け取るとき、あるいはワークステージか
らガラス基板を回収する際には、上記のＺ軸サーボ制御
系に外乱が生じ、オプティカルエンコーダ等による位置
計測に大きな誤差（エンコーダエラー）を発生して、制
御の信頼性が損われる。そこで従来は、オプティカルエ
ンコーダのアナログ出力であるリサージュ波形の振幅を
検出する電子回路等を設けて、これによってオプティカ
ルエンコーダの可動範囲を監視することで、計測エラー
の発生を未然に防ぐのが一般的であった。
ラス基板等を受け取るとき、あるいはワークステージか
らガラス基板を回収する際には、上記のＺ軸サーボ制御
系に外乱が生じ、オプティカルエンコーダ等による位置
計測に大きな誤差（エンコーダエラー）を発生して、制
御の信頼性が損われる。そこで従来は、オプティカルエ
ンコーダのアナログ出力であるリサージュ波形の振幅を
検出する電子回路等を設けて、これによってオプティカ
ルエンコーダの可動範囲を監視することで、計測エラー
の発生を未然に防ぐのが一般的であった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、前述のように、オプティカルエンコー
ダの出力波形からその可動範囲を監視するための電子回
路等を付加しただけでは、計測エラーの原因を特定でき
ず、また、計測エラー検出用の電子回路を設けることに
よって装置コストが上昇する等の不都合があった。
の技術によれば、前述のように、オプティカルエンコー
ダの出力波形からその可動範囲を監視するための電子回
路等を付加しただけでは、計測エラーの原因を特定でき
ず、また、計測エラー検出用の電子回路を設けることに
よって装置コストが上昇する等の不都合があった。
【０００５】本発明は上記従来の技術の有する未解決の
課題に鑑みてなされたものであり、ワークステージ等の
保持盤の高さ位置を光学的に検出するためのオプティカ
ルエンコーダ等の姿勢変化を簡単かつ高精度で検出し
て、計測エラーの発生を防ぎ、ワークの位置制御の信頼
性を大幅に向上できる安価で高性能なステージ装置およ
びこれを用いた露光装置を提供することを目的とするも
のである。
課題に鑑みてなされたものであり、ワークステージ等の
保持盤の高さ位置を光学的に検出するためのオプティカ
ルエンコーダ等の姿勢変化を簡単かつ高精度で検出し
て、計測エラーの発生を防ぎ、ワークの位置制御の信頼
性を大幅に向上できる安価で高性能なステージ装置およ
びこれを用いた露光装置を提供することを目的とするも
のである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明のステージ装置は、ワーク保持面を有する保
持板と、該保持板を所定の高さに支持する支持手段と、
前記ワーク保持面に沿って互いに離間した３点において
それぞれ前記保持板の高さ位置を計測する３個の光学的
位置検出手段と、該３個の光学的位置検出手段のそれぞ
れの出力に基づいて各光学的位置検出手段の姿勢変化を
算出する演算手段を有することを特徴とする。
めに本発明のステージ装置は、ワーク保持面を有する保
持板と、該保持板を所定の高さに支持する支持手段と、
前記ワーク保持面に沿って互いに離間した３点において
それぞれ前記保持板の高さ位置を計測する３個の光学的
位置検出手段と、該３個の光学的位置検出手段のそれぞ
れの出力に基づいて各光学的位置検出手段の姿勢変化を
算出する演算手段を有することを特徴とする。
【０００７】演算手段の出力が予め設定されたレベルを
超えたときに警告を発生する警告手段が設けられている
とよい。
超えたときに警告を発生する警告手段が設けられている
とよい。
【０００８】
【作用】ワーク保持面に対するワークの受け渡し行程等
において保持板に振動等の外乱が生じると、光学的位置
検出手段の姿勢が著しく変化して計測エラーを発生し、
保持板の高さ位置を制御する位置制御系の信頼性が損わ
れる。そこで、保持板の高さ位置をワーク保持面に沿っ
て互いに離間した３点においてそれぞれ光学的位置検出
手段によって計測し、３個の計測値から各光学的位置検
出手段の姿勢変化すなわち、ローリング量やピッチング
量を算出して、予め設定されたレベルを超えたら警告を
発して計測エラーの発生を未然に防ぐシステムを設け
る。
において保持板に振動等の外乱が生じると、光学的位置
検出手段の姿勢が著しく変化して計測エラーを発生し、
保持板の高さ位置を制御する位置制御系の信頼性が損わ
れる。そこで、保持板の高さ位置をワーク保持面に沿っ
て互いに離間した３点においてそれぞれ光学的位置検出
手段によって計測し、３個の計測値から各光学的位置検
出手段の姿勢変化すなわち、ローリング量やピッチング
量を算出して、予め設定されたレベルを超えたら警告を
発して計測エラーの発生を未然に防ぐシステムを設け
る。
【０００９】これによって、保持板の高さ位置を制御す
る位置制御系の信頼性を改善し、焦点ぼけ等のない極め
て高精度な露光を行なうことができる。
る位置制御系の信頼性を改善し、焦点ぼけ等のない極め
て高精度な露光を行なうことができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。
いて説明する。
【００１１】図１は一実施の形態による露光装置を示
す。これは、ワーク（プレート）である液晶パネル用の
ガラス基板Ｗにマスクパターンを焼き付けるための装置
であって、まず図示しない搬送系からガラス基板Ｗを保
持板であるプレートチャック１０のワーク保持面上に受
け取り、プレートチャック１０をステージ装置であるワ
ークステージ１１のＺ軸駆動機構によってチルトさせて
露光光学系２１に対する焦点合わせを行なう。次いで、
マスクＭを保持するマスクステージ３０と、プレートチ
ャック１０を保持するワークステージ１１をそれぞれ、
リニアモータ４１，４２によって同期的に走査させ、光
源光学系２０から発生される露光光によってマスクＭの
パターンをガラス基板Ｗに転写する。
す。これは、ワーク（プレート）である液晶パネル用の
ガラス基板Ｗにマスクパターンを焼き付けるための装置
であって、まず図示しない搬送系からガラス基板Ｗを保
持板であるプレートチャック１０のワーク保持面上に受
け取り、プレートチャック１０をステージ装置であるワ
ークステージ１１のＺ軸駆動機構によってチルトさせて
露光光学系２１に対する焦点合わせを行なう。次いで、
マスクＭを保持するマスクステージ３０と、プレートチ
ャック１０を保持するワークステージ１１をそれぞれ、
リニアモータ４１，４２によって同期的に走査させ、光
源光学系２０から発生される露光光によってマスクＭの
パターンをガラス基板Ｗに転写する。
【００１２】ワークステージ１１とリニアモータ４２を
支持する本体定盤１は、除振台２を介して床面に支持さ
れ、また、マスクステージ３０とリニアモータ４１は、
本体定盤１上に立設されたやぐら３上のマスクステージ
定盤４に支持されている。
支持する本体定盤１は、除振台２を介して床面に支持さ
れ、また、マスクステージ３０とリニアモータ４１は、
本体定盤１上に立設されたやぐら３上のマスクステージ
定盤４に支持されている。
【００１３】図２はワークステージ１１を示す模式断面
図である。ワークステージ１１は、走査方向の駆動装置
であるリニアモータ４２の可動部と一体的に設けられた
支持手段であるＺ軸ガイド１１ａと、これに対して相対
的に上下動自在であるＺ軸スライダ１１ｂによって構成
される。Ｚ軸ガイド１１ａは、円筒状の静圧案内面１２
ａを有する円筒部１２と、これを支持する支持部１３
と、該支持部１３に立設された３個のリニアモータ固定
部１４ａおよび光学的位置検出手段であるオプティカル
エンコーダ１５のセンサ部１５ａ等を有する。他方、Ｚ
軸スライダ１１ｂは、各リニアモータ固定部１４ａに対
向してリニアモータ１４を構成する３組のリニアモータ
可動部１４ｂと、各オプティカルエンコーダ１５のセン
サ部１５ａに対向するスケール部１５ｂとを懸下する天
板１６と、該天板１６上に支持された静圧軸受１７を有
し、ガラス基板Ｗを保持するプレートチャック１０は静
圧軸受１７と一体である。すなわち、３個のリニアモー
タ１４によって構成されるＺ軸駆動機構によって、天板
１６と静圧軸受１７とプレートチャック１０からなるＺ
軸スライダ１１ｂが上下動するように構成されている。
図である。ワークステージ１１は、走査方向の駆動装置
であるリニアモータ４２の可動部と一体的に設けられた
支持手段であるＺ軸ガイド１１ａと、これに対して相対
的に上下動自在であるＺ軸スライダ１１ｂによって構成
される。Ｚ軸ガイド１１ａは、円筒状の静圧案内面１２
ａを有する円筒部１２と、これを支持する支持部１３
と、該支持部１３に立設された３個のリニアモータ固定
部１４ａおよび光学的位置検出手段であるオプティカル
エンコーダ１５のセンサ部１５ａ等を有する。他方、Ｚ
軸スライダ１１ｂは、各リニアモータ固定部１４ａに対
向してリニアモータ１４を構成する３組のリニアモータ
可動部１４ｂと、各オプティカルエンコーダ１５のセン
サ部１５ａに対向するスケール部１５ｂとを懸下する天
板１６と、該天板１６上に支持された静圧軸受１７を有
し、ガラス基板Ｗを保持するプレートチャック１０は静
圧軸受１７と一体である。すなわち、３個のリニアモー
タ１４によって構成されるＺ軸駆動機構によって、天板
１６と静圧軸受１７とプレートチャック１０からなるＺ
軸スライダ１１ｂが上下動するように構成されている。
【００１４】リニアモータ１４とオプティカルエンコー
ダ１５は、Ｚ軸スライダ１１ｂの中心軸Ｚ0 のまわりに
所定の間隔で３個ずつ配設されており、Ｚ軸スライダ１
１ｂ全体の自重は、天板１６と各リニアモータ固定部１
４ａの上端の間に配設された３個の自重補償用のベロフ
ラム１８によって支えられており、走査方向駆動用のリ
ニアモータ４２が駆動されると、Ｚ軸ガイド１１ａとＺ
軸スライダ１１ｂが一体となって走査方向に移動する。
ダ１５は、Ｚ軸スライダ１１ｂの中心軸Ｚ0 のまわりに
所定の間隔で３個ずつ配設されており、Ｚ軸スライダ１
１ｂ全体の自重は、天板１６と各リニアモータ固定部１
４ａの上端の間に配設された３個の自重補償用のベロフ
ラム１８によって支えられており、走査方向駆動用のリ
ニアモータ４２が駆動されると、Ｚ軸ガイド１１ａとＺ
軸スライダ１１ｂが一体となって走査方向に移動する。
【００１５】Ｚ軸ガイド１１ａとＺ軸スライダ１１ｂの
間は、静圧軸受１７の静圧ギャップによって非接触に保
たれており、各リニアモータ１４の駆動量を制御するこ
とで、プレートチャック１０のＺ軸方向の位置（高さ位
置）とチルト（姿勢）が制御される。また、各リニアモ
ータ１４の駆動量は、各オプティカルエンコーダ１５の
位置情報によってモニタされ、Ｚ軸サーボ制御（位置制
御）が行なわれる。
間は、静圧軸受１７の静圧ギャップによって非接触に保
たれており、各リニアモータ１４の駆動量を制御するこ
とで、プレートチャック１０のＺ軸方向の位置（高さ位
置）とチルト（姿勢）が制御される。また、各リニアモ
ータ１４の駆動量は、各オプティカルエンコーダ１５の
位置情報によってモニタされ、Ｚ軸サーボ制御（位置制
御）が行なわれる。
【００１６】このような、Ｚ軸サーボ系に対して外乱が
加えられるのは、ガラス基板Ｗの受け取り時と回収時お
よび露光中に走査するワークステージ１１の加速・減速
時である。特にガラス基板Ｗの回収時は、ガラス基板Ｗ
がプレートチャック１０と真空吸着された状態で露光さ
れた後であるため、真空状態が残っている可能性があ
る。この場合は、ガラス基板Ｗの引き剥がし時にプレー
トチャック１０に力が発生し、Ｚ軸サーボ系にとって外
乱となり姿勢変化を招く。そこで、ワークステージ１１
のＺ軸座標（各オプティカルエンコーダ１５の読み値）
ｚ１，ｚ２，ｚ３を用いてプレートチャック１０の姿勢
変化を計算する演算手段を設けて、各オプティカルエン
コーダ１５についてピッチング量α、ローリング量βを
算出すれば、外乱による姿勢変化がオプティカルエンコ
ーダ１５の動作保証に及ぼす影響について明らかにな
る。
加えられるのは、ガラス基板Ｗの受け取り時と回収時お
よび露光中に走査するワークステージ１１の加速・減速
時である。特にガラス基板Ｗの回収時は、ガラス基板Ｗ
がプレートチャック１０と真空吸着された状態で露光さ
れた後であるため、真空状態が残っている可能性があ
る。この場合は、ガラス基板Ｗの引き剥がし時にプレー
トチャック１０に力が発生し、Ｚ軸サーボ系にとって外
乱となり姿勢変化を招く。そこで、ワークステージ１１
のＺ軸座標（各オプティカルエンコーダ１５の読み値）
ｚ１，ｚ２，ｚ３を用いてプレートチャック１０の姿勢
変化を計算する演算手段を設けて、各オプティカルエン
コーダ１５についてピッチング量α、ローリング量βを
算出すれば、外乱による姿勢変化がオプティカルエンコ
ーダ１５の動作保証に及ぼす影響について明らかにな
る。
【００１７】詳しく説明すると、図３の（ａ）に示すよ
うに、まず、ステージ中心Ｚ0 を通る上下方向（高さ方
向）をＺ軸、３個のオプティカルエンコーダ１５のうち
の一つのスケール部１５ｂ（スケールＳ１）とステージ
中心Ｚ0 を通る軸をＹ軸、Ｙ軸とＺ軸に直交する軸をＸ
軸と定める。
うに、まず、ステージ中心Ｚ0 を通る上下方向（高さ方
向）をＺ軸、３個のオプティカルエンコーダ１５のうち
の一つのスケール部１５ｂ（スケールＳ１）とステージ
中心Ｚ0 を通る軸をＹ軸、Ｙ軸とＺ軸に直交する軸をＸ
軸と定める。
【００１８】
【数１】 ここで、法線ベクトルの変化はスケールＳ１の変化量で
あるから、図３の（ｂ）に示すように、Ｘ軸まわりの変
化量α（ピッチング量）、Ｙ軸まわりの変化量β（ロー
リング量）はそれぞれ角度で α＝ｔａｎ-1（ｄｙ／ｄｚ） β＝ｔａｎ-1（ｄｘ／ｄｚ） と求めることができる。ヨーイング量は円筒型の静圧ガ
イドであるから、原理的に発生しない。
あるから、図３の（ｂ）に示すように、Ｘ軸まわりの変
化量α（ピッチング量）、Ｙ軸まわりの変化量β（ロー
リング量）はそれぞれ角度で α＝ｔａｎ-1（ｄｙ／ｄｚ） β＝ｔａｎ-1（ｄｘ／ｄｚ） と求めることができる。ヨーイング量は円筒型の静圧ガ
イドであるから、原理的に発生しない。
【００１９】上記は、一軸についての算出例であるが、
Ｘ軸およびＹ軸を別のオプティカルエンコーダ１５のス
ケール部１５ｂ（スケールＳ２，スケールＳ３）から設
定することにより、各オプティカルエンコーダ１５につ
いてピッチング量α、ローリング量βを同様に算出でき
る。
Ｘ軸およびＹ軸を別のオプティカルエンコーダ１５のス
ケール部１５ｂ（スケールＳ２，スケールＳ３）から設
定することにより、各オプティカルエンコーダ１５につ
いてピッチング量α、ローリング量βを同様に算出でき
る。
【００２０】オプティカルエンコーダの測定可能範囲に
対して小さめにα、βのしきい値を設定することによ
り、測定可能範囲内にあるエンコーダ読み値の信頼性を
強化できる。測定可能範囲を超えた場合は、外乱により
姿勢が著しく変化したと判別する。しきい値レベルを超
えたときに警告を発生して外部に知らせる警告手段を設
けておくことで、誤計測に至る可能性を事前に知ること
ができる。このようにして、ステージの姿勢を変化させ
る要因を早期に排除することで、確実な計測が保証され
る。また、万一エンコーダエラーが発生した場合でも、
どのような状態で発生したかがわかるので原因の解明が
容易である。
対して小さめにα、βのしきい値を設定することによ
り、測定可能範囲内にあるエンコーダ読み値の信頼性を
強化できる。測定可能範囲を超えた場合は、外乱により
姿勢が著しく変化したと判別する。しきい値レベルを超
えたときに警告を発生して外部に知らせる警告手段を設
けておくことで、誤計測に至る可能性を事前に知ること
ができる。このようにして、ステージの姿勢を変化させ
る要因を早期に排除することで、確実な計測が保証され
る。また、万一エンコーダエラーが発生した場合でも、
どのような状態で発生したかがわかるので原因の解明が
容易である。
【００２１】一変形例として、オプティカルエンコーダ
１５の読み値ｚ１，ｚ２，ｚ３から各オプティカルエン
コーダ１５のスケール部１５ｂ（スケールＳ１，スケー
ルＳ２，スケールＳ３）の姿勢の変化を検出する替わり
に、ステージ全体の走査方向（Ｘ軸まわり）に対する変
化量α（ピッチング量）、Ｙ軸まわりの変化量β（ロー
リング量）をそれぞれ以下のように算出してもよい。
１５の読み値ｚ１，ｚ２，ｚ３から各オプティカルエン
コーダ１５のスケール部１５ｂ（スケールＳ１，スケー
ルＳ２，スケールＳ３）の姿勢の変化を検出する替わり
に、ステージ全体の走査方向（Ｘ軸まわり）に対する変
化量α（ピッチング量）、Ｙ軸まわりの変化量β（ロー
リング量）をそれぞれ以下のように算出してもよい。
【００２２】 α＝ｔａｎ-1（（ｚ１−（ｚ２＋ｚ３）／２）ｓｐ１） β＝ｔａｎ-1（（ｚ２−ｚ３）／ｓｐ２） ここで、ｓｐ１：スケールＳ１よりスケールＳ２とスケ
ールＳ３を結ぶ直線までの距離 ｓｐ２：スケールＳ２とスケールＳ３の距離 上記の値を用いて外乱による姿勢変化をモニタし、エン
コーダエラーの発生を検知できる。
ールＳ３を結ぶ直線までの距離 ｓｐ２：スケールＳ２とスケールＳ３の距離 上記の値を用いて外乱による姿勢変化をモニタし、エン
コーダエラーの発生を検知できる。
【００２３】
【発明の効果】本発明は上述のように構成されているの
で、以下に記載するような効果を奏する。
で、以下に記載するような効果を奏する。
【００２４】ワークステージの高さ位置を検出するため
のオプティカルエンコーダ等の姿勢変化を、簡単かつ高
精度なシステムによって検出し、計測エラーの発生を未
然に防ぐことができる。これによって、ワークの高さ位
置を制御する位置制御系の信頼性を向上させ、焦点ぼけ
等のない極めて高精度な露光を行なうことができる。
のオプティカルエンコーダ等の姿勢変化を、簡単かつ高
精度なシステムによって検出し、計測エラーの発生を未
然に防ぐことができる。これによって、ワークの高さ位
置を制御する位置制御系の信頼性を向上させ、焦点ぼけ
等のない極めて高精度な露光を行なうことができる。
【図１】一実施の形態による露光装置を説明する図であ
る。
る。
【図２】図１の装置のワークステージを示す模式断面図
である。
である。
【図３】エンコーダエラーを算出する方法を説明する図
である。
である。
１ 本体定盤 ２ 除振台 ４ マスクステージ定盤 １０ プレートチャック １１ ワークステージ １１ａ Ｚ軸ガイド １１ｂ Ｚ軸スライダ １２ 円筒部 １４，４１，４２ リニアモータ １５ オプティカルエンコーダ １５ａ センサ部 １５ｂ スケール部 １６ 天板 １７ 静圧軸受 １８ ベロフラム ２０ 光源光学系 ２１ 露光光学系 ３０ マスクステージ
Claims (5)
- 【請求項１】 ワーク保持面を有する保持板と、該保持
板を所定の高さに支持する支持手段と、前記ワーク保持
面に沿って互いに離間した３点においてそれぞれ前記保
持板の高さ位置を計測する３個の光学的位置検出手段
と、該３個の光学的位置検出手段のそれぞれの出力に基
づいて各光学的位置検出手段の姿勢変化を算出する演算
手段を有するステージ装置。 - 【請求項２】 演算手段の出力が予め設定されたレベル
を超えたときに警告を発生する警告手段が設けられてい
ることを特徴とする請求項１記載のステージ装置。 - 【請求項３】 各光学的位置検出手段の近傍に保持板の
高さ位置を制御するリニアモータが配設されていること
を特徴とする請求項１または２記載のステージ装置。 - 【請求項４】 保持板を高さ方向に案内する静圧軸受が
設けられていることを特徴とする請求項１ないし３いず
れか１項記載のステージ装置。 - 【請求項５】 請求項１ないし４いずれか１項記載のス
テージ装置と、これに保持されたワークを露光する露光
光学系を有する露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10038029A JPH11218941A (ja) | 1998-02-04 | 1998-02-04 | ステージ装置およびこれを用いた露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10038029A JPH11218941A (ja) | 1998-02-04 | 1998-02-04 | ステージ装置およびこれを用いた露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11218941A true JPH11218941A (ja) | 1999-08-10 |
Family
ID=12514142
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10038029A Pending JPH11218941A (ja) | 1998-02-04 | 1998-02-04 | ステージ装置およびこれを用いた露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11218941A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1526408A1 (en) * | 2003-10-22 | 2005-04-27 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method, and measurement systems |
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