JPH085767A - 駆動テーブル - Google Patents

駆動テーブル

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JPH085767A
JPH085767A JP15642994A JP15642994A JPH085767A JP H085767 A JPH085767 A JP H085767A JP 15642994 A JP15642994 A JP 15642994A JP 15642994 A JP15642994 A JP 15642994A JP H085767 A JPH085767 A JP H085767A
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JP
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JP15642994A
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English (en)
Inventor
Toshiya Otomo
俊弥 大友
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
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Priority to US09/327,621 priority patent/US6721034B1/en
Priority to US11/033,130 priority patent/US7202936B2/en
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70358Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716Stages

Abstract

(57)【要約】 【目的】 原点出しを容易とし、原点出しにおける誤差
も極力少なくした駆動テーブルを得る。 【構成】 テーブルのX方向,Y方向,及び,X,Y方
向に直交するθ軸回りの回転量θの3つの変移各々につ
いて、テーブル上に予め定められた位置が基準座標上に
予め定められた基準位置に達したことを検知する基準位
置検知手段と;この基準位置検知手段から得られた検知
信号が発せられた時点の位置検出手段の検出値を、基準
座標における座標値に換算する演算手段と;を備えたも
の。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は例えばリニアモータ等で
駆動される駆動テーブルの原点出しを容易に行うことの
できる駆動テーブルに関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体素子製造のリソグラフィ工
程では、レチクルパターンを高分解能でウエハ上に転写
する装置として、ステップ・アンド・リピート方式の縮
小投影型露光装置(所謂、ステッパー)が多用されるよ
うになった。この種のステッパーでは半導体素子の高集
積化に伴って、露光光の短波長化や高開口数(N.
A.)の投影レンズの開発が行われ、最近ではウエハ上
での解像線数がサブミクロン(0.5〜0.7μm程
度)に達している。このような高解像パターンを転写す
るには、その解像力に見合ったアライメント(重ね合
せ)精度が必要となる。
【0003】ところで、超LSI等の微細パターンの座
標位置を高精度で測定し、寸法管理を行うには、サンプ
ルパターンの位置を高分解、高精度で読み取る機構が必
要であると同時に、装置全体のシステムが、測定の絶対
値をある程度保証しながら、長期間安定に働くことが必
要である。例えば、デザインルールが0.5μmといわ
れる16MDRAMを作成する場合には、使用するマス
クの座標位置精度を0.05μm以下に抑える必要が生
じる。これに対応した高精度で安定な測定機を想定する
と、パターンのエッジ検出は、光又は電子ビームを使用
して可能と思われるが、座標位置測定の精度と再現性を
実現するため、駆動テーブル、干渉計等で構成される装
置全体のシステムの高精度化と安定化が大きな鍵とな
る。
【0004】そこで、装置全体のシステムの高精度化を
達成するため、リニアモータを駆動源とした駆動テーブ
ルが、用いられている。これは、リニアモータによって
ダイレクトドライブ方式としたものである。このリニア
モータ方式の駆動テーブルでは、ボールネジ等の回転か
ら直線変換機構が不要となり、構造が簡単であること、
ボールネジに起因するバックラッシュがないこと、ボー
ルネジのDN値に起因する速度限界がないこと等の特徴
がある。これにより、テーブルステージの高速化、高精
度化が可能である特徴を更に有する。
【0005】ところで、駆動テーブルの高精度化を達成
するためには、例えばレーザ干渉計等を用いて、駆動テ
ーブルの正確な位置を検出することが重要である。この
ためには、駆動テーブルが絶対座標系の予め定められた
位置での原点出しを正確に行わなければ、干渉計から得
られたデータ自体が正確なものとならなくなる。
【0006】従来この種の装置における駆動テーブル原
点出しの方法は以下のようであった。図4は従来の駆動
テーブルの構成を模式的に説明する平面図である。図に
示すように、駆動テーブルのステージ(40)には、X方向
の壁面に2つ、Y方向の壁面に1つの合計3つのリンク
機構(41)が設けられている。
【0007】これらリンク機構(41)は、ステージ(40)に
一端をボールジョイント(42)で連結されたリンク(43)
と、リンク(43)の末端に連結され、1軸駆動アクチュエ
ータ(44)によって駆動されるボールネジ(45)の先端に連
結されたボールジョイント(46)と、このボールジョイン
ト(46)に付設されたセンサ遮光板(47)と、このセンサ遮
光板(47)の位置を検出する位置検出センサ(48)とからな
る。
【0008】このリンク(43)によって、ステージ(40)は
基準座標上を自在に動くことができ、しかも、ステージ
(40)の微小な移動が、センサ遮光板(47)の明確な移動と
して位置検出センサ(48)で検出されるものである。従っ
て、各位置検出センサ(48)の計測値は、駆動テーブルの
イニシャライズ時等に一定値、例えば零にリセットさ
れ、このリセット値を基準位置として駆動テーブルの
X,Y方向の座標値及び、回転量θが検出される。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなリンク機構による原点出し機構では、1軸駆動アク
チュエータによるリンク機構をなさないテーブル駆動系
では駆動テーブルの位置を検出することができず、原点
出しが不可能となる。
【0010】また、前述のように、テーブルステージの
高速化、高精度化を可能としたリニアモータを駆動源と
した駆動テーブルが、用いられているが、原点出し自体
に高い誤差を生じた場合には、装置自体の誤差は全く解
消されるものではない。
【0011】そこで、本発明ではリンク機構をなさない
駆動テーブルであっても、原点出しを容易とする駆動テ
ーブルを得ることを目的とし、原点出しにおける誤差も
極力少なくした駆動テーブルを得ることを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】本請求項1に記載された
発明に係る駆動テーブルでは、互いに直交するX方向と
Y方向に沿ってテーブルを2次元的に移動させる駆動系
と、前記テーブルのX方向の位置を検出するX位置検出
手段と、前記テーブルのY方向の位置を検出するY位置
検出手段と、前記テーブルのX,Y方向に直交するθ軸
回りの回転量θを検出するθ検出手段とを備えた駆動テ
ーブルにおいて、前記テーブル上に予め定められた第1
の位置が、X基準座標上に予め定められたX基準位置に
達したことを検知するX基準位置検知手段と、前記テー
ブル上に予め定められた第2の位置が、Y基準座標上に
予め定められたY基準位置に達したことを検知するY基
準位置検知手段と、前記テーブル上に予め定められた第
3の位置が、別のX基準座標又はY基準座標上に予め定
められたθ基準位置に達したことを検知するθ基準位置
検知手段と、前記X基準位置検知手段,Y基準位置検知
手段,及び,θ基準位置検知手段から得られた検知信号
と、該検知信号が発せられた時点の前記X位置検出手
段,Y位置検出手段,及び,θ検出手段の検出値とか
ら、前記X位置検出手段,Y位置検出手段,及び,θ検
出手段の検出値の各々を、X−Y基準座標における座標
値に換算する演算装置とを備えたものである。
【0013】本請求項2に記載された発明に係る駆動テ
ーブルでは、請求項1に記載の駆動系は非接触式駆動装
置であるものである。
【0014】本請求項3に記載された発明に係る駆動テ
ーブルでは、請求項1又は2に記載の駆動テーブルにお
いて、前記X基準位置検知手段が、前記テーブル上の予
め定められた第1の位置に設けられたX位置検知用遮光
板と、予め定められたX基準位置に設けられ、前記遮光
板が該X基準位置に達した場合に信号を発するX基準位
置検知用センサとからなり、前記Y基準位置検知手段
が、前記テーブル上の予め定められた第2の位置に設け
られたY位置検知用遮光板と、予め定められたY基準位
置に設けられ、前記遮光板が該Y基準位置に達した場合
に信号を発するY基準位置検知用センサとからなり、前
記θ基準位置検知手段が、前記テーブル上の予め定めら
れた第3の位置に設けられたθ位置検知用遮光板と、予
め定められた別のX基準位置又はY基準位置に設けら
れ、前記遮光板が該別のX基準位置又はY基準位置に達
した場合に信号を発するθ基準位置検知用センサとから
なり、前記演算手段が、前記θ基準位置検知用センサか
らの検知信号と、前記X基準位置検知手段又はY基準位
置検知手段からの検知信号とのズレから、前記テーブル
のX−Y基準座標に直交する軸に対する基準回転量を求
める基準回転量演算手段を含むものである。
【0015】本請求項4に記載された発明に係る駆動テ
ーブルでは、請求項1又は2に記載の駆動テーブルにお
いて、前記X基準位置検知手段が、基準座標上に予め設
けられたX基準ストッパに前記テーブルのX方向側縁を
押し当てるX方向駆動手段と、前記X方向側縁がX基準
ストッパに押し当ったことを検知するX押当検知手段と
からなり、前記Y基準位置検知手段が、基準座標上に予
め設けられたY基準ストッパに前記テーブルのY方向側
縁を押し当てるY方向駆動手段と、前記Y方向側縁がY
基準ストッパに押し当ったことを検知するY押当検知手
段とからなり、前記θ基準位置検知手段が、基準座標上
の前記X基準ストッパ又はY基準ストッパと予め定めら
れた距離隔てて設けられたθ基準ストッパに前記テーブ
ルのX方向側縁又はY方向側縁を押し当てるθ方向駆動
手段と、前記X方向側縁又はY方向側縁がθ基準ストッ
パに押し当ったことを検知するθ押当検知手段と、前記
演算手段が、前記θ押当検知手段の検知信号と、前記X
押当検知手段又はY押当検知手段の検知信号とによっ
て、前記回転量検出手段の検出値を予め定められた基準
回転量とする回転量リセット手段を含むものである。
【0016】
【作用】本発明1においては、テーブルのX方向,Y方
向,及び,X,Y方向に直交するθ軸回りの回転量θの
3つの変移各々について、テーブル上に予め定められた
位置が基準座標上に予め定められた基準位置に達したこ
とを検知する基準位置検知手段と;この基準位置検知手
段から得られた検知信号が発せられた時点の位置検出手
段の検出値を、基準座標における座標値に換算する演算
手段と;を備えたものであるため、駆動するテーブルの
基準座標に対する精密な原点出しが可能となる。
【0017】即ち、1軸駆動アクチュエータによるリン
ク機構等に付設された検出機構を用いず、テーブル上の
予め定められた位置と、この位置が基準座標上の予め定
められた基準位置とを検知するものであるため、リンク
機構等のモータ等の軸回転運動をテーブルの直線運動と
する機構に付設させる必要がなく、直接的に検知するこ
とができる。従って、テーブルの基準座標に対する精密
な原点出しが可能となる。
【0018】従って、本発明2に示すように、駆動テー
ブルの駆動系が非接触式駆動装置であるもの、例えばリ
ニアモータを利用した駆動テーブルであっても、リニア
モータ駆動テーブルが有する、テーブルステージの高速
化,高精度化等々の特徴を損なうことがなく、精密な原
点出しが可能となる。
【0019】尚、X,Y,及び,θ、各々の基準位置検
知手段としては、テーブル上に予め定めた位置が基準座
標上に予め定めた基準位置に達したことを検知するもの
であればよい。
【0020】例えば、X,Yの基準位置検知手段として
は、テーブルのX,Y方向の側壁の予め定められた位置
に遮光板と、X,Y基準座標上の予め定められた位置に
フォトセンサーとを配し、遮光板がフォトセンサーを横
切ることを検知するものである。この場合、θ基準位置
検知手段としては、X,Y何れか一方の座標において、
配置された遮光板から予め定められた距離に別の遮光板
を設け、2つの遮光板の検知のずれから、テーブルのθ
軸回りの回転量θを求めればよい。
【0021】従って、本発明3に示すように、各X,
Y,及び,θ基準位置検知手段が、テーブル上の予め定
められた第1,第2,及び,第3の位置に設けられた各
X,Y,及び,θ位置検知用遮光板と、予め定められた
各X,Y,及び,θ基準位置に設けられ前記遮光板が各
X,Y,及び,θ基準位置に達した場合に信号を発する
各X,Y,及び,θ基準位置検知用センサとからなり、
前記演算手段が、前記θ基準位置検知用センサからの検
知信号と、前記X基準位置検知手段又はY基準位置検知
手段からの検知信号とのズレから、前記テーブルのX−
Y基準座標に直交する軸に対する基準回転量を求める基
準回転量演算手段を含むものである。
【0022】このため、駆動テーブルをX方向及びY方
向に操作するだけで、各X,Y,及び,θの各々で、精
密な原点出しが可能となる。テーブルのイニシャライズ
時のみならず、ステッピングの途中でも原点出しが可能
となり、必要ならばリアルタイムの補正処理が可能とな
る。
【0023】また、別の基準位置検知手段としては、基
準座標上の予め定められた位置に基準ストッパを配置
し、このストッパにテーブルを押し当てて、この押し当
て位置を基準位置とすればよい。
【0024】従って、本発明4では、各X,Y,及び,
θ基準位置検知手段が、基準座標上に予め設けられた各
X,Y,及び,θ基準ストッパに前記テーブルの各X,
Y,及び,θ方向側縁を押し当てる各X,Y,及び,θ
方向駆動手段と、前記各X,Y,及び,θ方向側縁が各
X,Y,及び,θ基準ストッパに押し当ったことを検知
する各X,Y,及び,θ押当検知手段とからなり、前記
演算手段が、前記θ押当検知手段の検知信号と、前記X
押当検知手段又はY押当検知手段の検知信号とによっ
て、前記回転量検出手段の検出値を予め定められた基準
回転量とする回転量リセット手段を含むものである。
【0025】このように機械的な駆動手段を備えること
によって、良好に原点出しを行うことができる。
【0026】
【実施例】図1は本発明の駆動テーブルの一実施例の構
成を説明する平面図である。図2は図1の原点出しの構
成を説明する平面図である。図1に示すように、駆動テ
ーブルのステージ(10)の2次元的な位置(回転方向も含
む)は、3組の干渉計から構成される干渉計ユニットに
よって、例えば0.02μmの分解能で常時検出される
ように構成される。
【0027】ここで、干渉計ユニットはX干渉計(1A)、
Y干渉計(1B)、及びθ干渉計(1C)からなり、この3本の
測長軸(例えば、レーザ光束の中心線)を含む平面は、
駆動テーブルのステージ(10)と平行になるように配され
ている。また、X干渉計(1A)の測長軸と、Y干渉計(1B)
の測長軸とは正確に直交するように配され、更にθ干渉
計(1C)は直交座標系XYのY軸に関して軸対称に配置さ
れている。
【0028】また、ステージ(10)は一組のXリニアモー
タ(2A)によりX方向に移動するXステージと、このXス
テージ上に設けられた一組のYリニアモータ(2B)により
Y方向に移動するYステージとから構成されると共に、
Yステージの端部には、Y,X方向に伸びたX干渉計用
の反射鏡(移動鏡)(3A)とY及びθ干渉計用の移動鏡(3
B)とが設けられている。
【0029】さて、X,Y及びθ干渉計(1A)(1B)(1C)
は、移動鏡(3A)(3B)にレーザ光束を照射し、移動鏡(3A)
(3B)からの反射光束を、不図示の固定鏡からの反射光束
を同軸に合成することによって、受光面に生じる干渉縞
の変化を検出し、各々の移動鏡(3A)(3B)の位置変化に応
じた信号を作り出し、座標変換器(4) へ出力される。
【0030】この座標変換器(4) は、各干渉計(1A)(1B)
(1C)の計測値に基づいて、ステージ(10)のX,Y方向の
補正座標値及びθ回転補正量を発生し、アライメント信
号処理回路(ASC)(5) 及びX,Yリニアモータ(2A)
(2B)に所定の駆動指令を出力するステージコントローラ
(6) へ出力させる。主制御装置(7) はASC(5) と相互
に連絡し合い、ステージコントローラ(6) を制御する。
【0031】このステージコントローラ(6) は、補正座
標値に応じてX,Yリニアモータ(2A)(2B)を介してステ
ージを駆動し、所定位置に位置決めする。尚、θの回転
量の補正は、X,Yリニアモータ(2A)(2B)の一組の移動
量を微調整することによって補正する。
【0032】このような駆動テーブル(10)において、各
X,Y及びθ干渉計(1A)(1B)(1C)の計測値は、各X軸,
Y軸及びθ回転量の基準位置に対する計測値としなけれ
ば、各干渉計から得られたデータ自体が正確なものとな
らない。従って、各干渉計(1A)(1B)(1C)の基準位置を、
基準位置検知手段によって正確に決定する必要がある。
【0033】図2に示すように、破線で囲んだ領域を自
在に移動するテーブルステージ(10)の座標を計測する干
渉計ユニットの原点出しを行う基準位置検知手段とし
て、駆動テーブルの基準座標上に配されたX,Y及びθ
フォトセンサ(8A)(8B)(8C)と、これに対応するように駆
動テーブルのステージ(10)の3つの隅に設けられたX,
Y及びθ遮光板(9A)(9B)(9C)とを備える。
【0034】各フォトセンサ(8A)(8B)(8C)は、対応する
X,Y及びθ遮光板(9A)(9B)(9C)がX,Y及びθフォト
センサ(8A)(8B)(8C)の受光を遮った時に、信号を発し、
それを座標変換器(4) に出力するものである。
【0035】従って、座標変換器(4) 内では、X及びY
の基準位置検知は、ステージ(10)の移動にともないX及
びY遮光板(9A)(9B)が、X及びYフォトセンサの受光を
遮った時に、X及びY干渉計(1A)(1B)の計測値を例えば
零にリセットする。また、θ基準位置検知は、Y遮光板
(9B)に対するYフォトセンサ(8B)及びY遮光板(9B)から
予め定められた距離(ステージのY方向距離)に設けら
れたθ遮光板(9C)に対するθフォトセンサ(8C)の検知の
ずれを、座標変換器(4) 内部で演算し、ステージ(10)の
X−Y基準座標に直交する軸に対する基準回転量を求め
る。
【0036】これによって、駆動テーブルをX方向及び
Y方向に操作するだけで、リニアモータ駆動テーブルが
有するテーブルステージの高速化,高精度化等々の特徴
を損なうことがなく、駆動するテーブルの基準座標に対
する精密な原点出しが可能となる。
【0037】図3は別の原点出しの構成を説明する平面
図である。図3に示すように、駆動テーブルのステージ
(30)は、図1と同様に、X,Y及びθ干渉計を備えた干
渉計ユニットを有する駆動テーブルである。破線で囲ん
だ領域を自在に移動するテーブルステージ(30)の座標を
計測する干渉計ユニットの原点出しを行うため、テーブ
ルステージ(30)をX方向に押し当てるXエアーシリンダ
(31A) と、テーブルステージ(30)をY方向に押し当てる
Yエアーシリンダ(31B) と、Yエアーシリンダと同期し
てテーブルステージ(30)をY方向に押し当てるθエアー
シリンダ(31C)と、これらX,Y及びθエアーシリンダ
(31A)(31B)(31C) の対向位置に設けられた各々のX,Y
及びθ基準ストッパ(32A)(32B)(32C) とを備える。
【0038】具体的な原点出しを説明すると、例えば、
エアーシリンダの駆動を制御する制御手段(図示せず)
の指令によって、テーブルステージ(30)はXエアーシリ
ンダ(31A) によって、X基準ストッパ(32A) に押し当て
られる。ストッパ(32A) に押し当てられ、Xエアーシリ
ンダ(31A) の変移が終了したことを制御手段が検知して
座標変換器に信号を送り、この時点のX干渉計の計測値
を予め定められた値にして、X座標の原点出しを行う。
また、Yについても同様に、Y座標の原点出しを行う。
【0039】尚、ステージの回転量θについては、Yと
同期してθ基準ストッパー(32C) に押し当てることによ
り、Y座標(従って、X座標)に対する微小な回転量は
解消されるため、θエアーシリンダ(31C) の変移が終了
した時点で、θ干渉計の計測値を予め定められた値とし
て、θの原点出しを行う。
【0040】このように、ステージをエアーシリンダに
よって対向する位置に設けられた基準ストッパに押し当
てることによって、良好に原点出しを行うことができ
る。尚、各エアーシリンダの押し当てが終了したことを
エアーシリンダの変移によって決定したが、基準ストッ
パに押圧センサ等を配置して、このセンサの感知によっ
て行ってもよい。
【0041】以上のように本発明によれば、駆動テーブ
ルに位置検出センサを設ける機構や駆動テーブルを強制
的に移動させることのできる機構を設けることで、駆動
テーブルと駆動アクチュエータがリンク機構をなさない
駆動系における駆動テーブルの原点出しを行うことが可
能となる。尚、駆動テーブルについては、本実施例では
リニアモータのような駆動系が非接触式駆動装置のもの
を用いたが、接触式,非接触式の駆動系であってもよ
い。
【0042】
【発明の効果】本発明は以上説明したとおり、テーブル
のX方向,Y方向,及び,X,Y方向に直交するθ軸回
りの回転量θの3つの変移各々について、テーブル上に
予め定められた位置が基準座標上に予め定められた基準
位置に達したことを検知する基準位置検知手段と;この
基準位置検知手段から得られた検知信号が発せられた時
点の位置検出手段の検出値を、基準座標における座標値
に換算する演算手段と;を備えたものであるため、駆動
するテーブルの基準座標に対する精密な原点出しが可能
となる。
【0043】また、駆動テーブルの駆動系が非接触式駆
動装置であるもの、例えばリニアモータを利用した駆動
テーブルであっても、リニアモータ駆動テーブルが有す
る数々の特徴を損なうことがなく、精密な原点出しが可
能となる。即ち、テーブルのステージの高速化、高精度
化が可能である特徴を損なうことなく、精密な原点出し
が可能となる。
【0044】更に、X,Yの基準位置検知手段として
は、テーブルのX,Y方向の側壁の予め定められた位置
に遮光板と、X,Y基準座標上の予め定められた位置に
フォトセンサーとを配し、遮光板がフォトセンサーを横
切ることを検知するものである。この場合、θ基準位置
検知手段としては、X,Y何れか一方の座標において、
配置された遮光板から予め定められた距離に別の遮光板
を設け、2つの遮光板の検知のズレから、テーブルのθ
軸回りの回転量θを求めることによって、駆動テーブル
をX方向及びY方向に操作するだけで、各X,Y,及
び,θの各々で、精密な原点出しが可能となる。
【0045】また、別の基準位置検知手段としては、基
準座標上の予め定められた位置に基準ストッパを配置
し、このストッパにテーブルを押し当てて、この押し当
て位置を基準位置とすることによって、機械的な駆動手
段を備えることによって、良好に原点出しを行うことが
できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の駆動テーブルの一実施例の構成を説明
する平面図である。
【図2】図1の原点出しの構成を説明する平面図であ
る。
【図3】別の原点出しの構成を説明する平面図である。
【図4】従来の駆動テーブルの構成を模式的に説明する
平面図である。
【符号の説明】
(1A)(1B)(1C) …X,Y,θ干渉計、 (2A)(2B) …X,Yリニアモータ、 (3A)(3B) …移動鏡、 (4) …座標変換器、 (5) …アライメント信号処理回路(ASC)、 (6) …ステージコントローラ、 (7) …主制御装置、 (8A)(8B)(8C) …X,Y,θフォトセンサ, (9A)(9B)(9C) …X,Y,θ遮光板、 (10)(30) …ステージ、 (31A)(31B)(31C) …X,Y,θエアーシリンダ、 (32A)(32B)(32C) …X,Y,θ基準ストッパ、
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // B23Q 15/00 309 A 17/24 B

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 互いに直交するX方向とY方向に沿って
    テーブルを2次元的に移動させる駆動系と、前記テーブ
    ルのX方向の位置を検出するX位置検出手段と、前記テ
    ーブルのY方向の位置を検出するY位置検出手段と、前
    記テーブルのX,Y方向に直交するθ軸回りの回転量θ
    を検出するθ検出手段とを備えた駆動テーブルにおい
    て、 前記テーブル上に予め定められた第1の位置が、X基準
    座標上に予め定められたX基準位置に達したことを検知
    するX基準位置検知手段と、 前記テーブル上に予め定められた第2の位置が、Y基準
    座標上に予め定められたY基準位置に達したことを検知
    するY基準位置検知手段と、 前記テーブル上に予め定められた第3の位置が、別のX
    基準座標又はY基準座標上に予め定められたθ基準位置
    に達したことを検知するθ基準位置検知手段と、 前記X基準位置検知手段,Y基準位置検知手段,及び,
    θ基準位置検知手段から得られた検知信号と、該検知信
    号が発せられた時点の前記X位置検出手段,Y位置検出
    手段,及び,θ検出手段の検出値とから、前記X位置検
    出手段,Y位置検出手段,及び,θ検出手段の検出値の
    各々を、X−Y基準座標における座標値に換算する演算
    装置とを備えたことを特徴とする駆動テーブル。
  2. 【請求項2】 前記駆動系は非接触式駆動装置であるこ
    とを特徴とする請求項1に記載の駆動テーブル。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2に記載の駆動テーブルに
    おいて、 前記X基準位置検知手段が、 前記テーブル上の予め定められた第1の位置に設けられ
    たX位置検知用遮光板と、 予め定められたX基準位置に設けられ、前記遮光板が該
    X基準位置に達した場合に信号を発するX基準位置検知
    用センサとからなり、 前記Y基準位置検知手段が、 前記テーブル上の予め定められた第2の位置に設けられ
    たY位置検知用遮光板と、 予め定められたY基準位置に設けられ、前記遮光板が該
    Y基準位置に達した場合に信号を発するY基準位置検知
    用センサとからなり、 前記θ基準位置検知手段が、 前記テーブル上の予め定められた第3の位置に設けられ
    たθ位置検知用遮光板と、 予め定められた別のX基準位置又はY基準位置に設けら
    れ、前記遮光板が該別のX基準位置又はY基準位置に達
    した場合に信号を発するθ基準位置検知用センサとから
    なり、 前記演算手段が、 前記θ基準位置検知用センサからの検知信号と、前記X
    基準位置検知手段又はY基準位置検知手段からの検知信
    号とのズレから、前記テーブルのX−Y基準座標に直交
    する軸に対する基準回転量を求める基準回転量演算手段
    を含むことを特徴とする駆動テーブル。
  4. 【請求項4】 請求項1又は2に記載の駆動テーブルに
    おいて、 前記X基準位置検知手段が、 基準座標上に予め設けられたX基準ストッパに前記テー
    ブルのX方向側縁を押し当てるX方向駆動手段と、 前記X方向側縁がX基準ストッパに押し当ったことを検
    知するX押当検知手段とからなり、 前記Y基準位置検知手段が、 基準座標上に予め設けられたY基準ストッパに前記テー
    ブルのY方向側縁を押し当てるY方向駆動手段と、 前記Y方向側縁がY基準ストッパに押し当ったことを検
    知するY押当検知手段とからなり、 前記θ基準位置検知手段が、 基準座標上の前記X基準ストッパ又はY基準ストッパと
    予め定められた距離隔てて設けられたθ基準ストッパに
    前記テーブルのX方向側縁又はY方向側縁を押し当てる
    θ方向駆動手段と、 前記X方向側縁又はY方向側縁がθ基準ストッパに押し
    当ったことを検知するθ押当検知手段と、 前記演算手段が、 前記θ押当検知手段の検知信号と、前記X押当検知手段
    又はY押当検知手段の検知信号とによって、前記回転量
    検出手段の検出値を予め定められた基準回転量とする回
    転量リセット手段を含むことを特徴とする駆動テーブ
    ル。
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