JPH0653116A - マスク交換装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は、マスク交換装置において、マスク交
換を高い精度かつ短時間で実行する。 【構成】複数のマスク保持手段によつて複数のマスクを
それぞれ保持すると共に、マスク保持手段に各別に設け
られたアライメント手段によつてそれぞれ各別に基板に
対して位置決めし、複数のマスク保持手段及び対応する
複数のアライメント手段が一体に支持された移動手段に
よつて、露光に用いるマスクが保持されたマスク保持手
段を、所定の露光位置に移動させるようにしたことによ
り、マスクの受渡しや露光直前のマスクの位置決めに必
要なアライメントマークのサーチを省略し得、かくして
マスク交換を高い精度かつ短時間で実行し得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【目次】以下の順序で本発明を説明する。 産業上の利用分野 従来の技術（図６及び図７） 発明が解決しようとする課題（図６及び図７） 課題を解決するための手段（図１） 作用（図１及び図２） 実施例（図１〜図５） 発明の効果

【０００２】

【産業上の利用分野】本発明はマスク交換装置に関し、
例えば液晶又は半導体集積回路製造用の投影露光装置の
レチクルを交換するものに適用し得る。

【０００３】

【従来の技術】従来、液晶や半導体集積回路を製造する
際には、投影露光装置を用いて所定のレチクルパターン
を有するレチクルを照明し、そのレチクルパターンを感
光基板に焼付転写するようになされている。またかかる
半導体集積回路の製造工程においては、同一の投影露光
装置に複数のレチクルを載せ替えて、感光基板上に複数
のレチクルパターンを焼き付け転写するようになされ、
このためレチクル交換装置が用いられている。

【０００４】ここで例えば図６に示すように、３枚のレ
チクルＲ１〜Ｒ３を交換し得るようになされたレチクル
交換装置１においては、レチクルＲ１〜Ｒ３を保持し上
下方向でなるＺ方向に移動し得るようになされたＺ移動
部２と、Ｚ移動部２が載置されて横方向でなるＸ方向に
移動させられるＸ移動部３と、レチクルステージ４上に
配置されたレチクルホルダ５より構成されている。

【０００５】Ｚ移動部２はレチクルＲ１〜Ｒ３に応じた
形状の３つ開口２Ａを有し、各開口２ＡにはレチクルＲ
１〜Ｒ３を保持すると共に真空吸着し得るようになされ
た爪部２Ｂが配設され、この爪部２Ｂ上にレチクルＲ１
〜Ｒ３が載置される。またＺ移動部２はＸ移動部３に対
してＺ方向に移動し得るようになされ、上側位置と下側
位置で停止し位置決めされる。

【０００６】レチクルホルダ５はレチクルＲ１〜Ｒ３及
び投影レンズＰＬに応じた形状の開口５Ａを有し、この
開口５Ａの周囲にレチクルＲ１〜Ｒ３を保持すると共に
真空吸着する４つの突起部５Ｂが設けられている。

【０００７】実際上Ｚ移動部２が下側位置のとき爪部２
Ｂが、レチクルホルダ５の突起部５Ｂより下側位置にな
り、これによりＺ移動部２よりレチクルホルダ５に対し
てレチクルＲ１〜Ｒ３を受渡しし得るようになされ、逆
にＺ移動部２が上側位置のときベース６に対してＸ移動
部３が移動し得るようになされている。

【０００８】このＸ移動部３はベース６に対してニード
ルベアリング（不図示）及びボールネジ７とＤＣモータ
８によりＸ方向に移動し得るようになされ、このＸ移動
部３の移動中、第１〜第３のレチクルＲ１〜Ｒ３はＺ移
動部２の爪部２Ｂに真空吸着されている。

【０００９】またＺ移動部２に受渡される第１〜第３の
レチクルＲ１〜Ｒ３は、その前にレチクルホルダ５の突
起部５Ｂに真空吸着された状態で、光学アライメント系
（図示せず）によつてアライメントマークがサーチさ
れ、Ｘ方向、Ｙ方向及びθ方向に移動可能な駆動系９
Ｘ、９Ｙ、９θによつてアライメントされる。

【００１０】このレチクル交換装置１によるレチクルＲ
１〜Ｒ３のローデイングから露光に至るまでの流れは、
レチクルＲ１〜Ｒ３がそれぞれＺ移動部２に配置された
状態で、図７に示すレチクル交換処理手順ＳＰ０で表さ
れる。

【００１１】すなわちこの場合、まずＸ移動部３が受渡
し可能な位置で、かつＺ移動部２が下側位置にて待機し
ているものとする。この状態でステツプＳＰ１でまずレ
チクルＲ１〜Ｒ３の何れかをロードするものとし、次の
ステツプＳＰ２でレチクルホルダ５のバキユームをオン
にして、レチクルＲ１〜Ｒ３をレチクルホルダ５に真空
吸着する。

【００１２】続いてステツプＳＰ３でレチクルホルダ５
に真空吸着したレチクルＲ１〜Ｒ３について、光学アラ
イメント系によつてアライメントマークをサーチしてア
ライメントし、次のステツプＳＰ４でＺ移動部２を上昇
させると共にレチクルホルダ５のバキユームをオフに
し、レチクルＲ１〜Ｒ３を爪部２Ｂで保持した後、続く
ステツプＳＰ５でＺ移動部２を上側位置に位置決めす
る。

【００１３】次にステツプＳＰ６ではＺ移動部２のバキ
ユームをオンにしてレチクルＲ１〜Ｒ３をＺ移動部２側
に真空吸着させ、続くステツプＳＰ７で全てのレチクル
Ｒ１〜Ｒ３のロードが終了したか否か判断する。

【００１４】ここで残りのレチクルＲ１〜Ｒ３をロード
するため否定結果を得ると、次のステツプＳＰ８に移つ
てＸ移動部３を移動させて新たなレチクルＲ１〜Ｒ３を
レチクルホルダ５の位置に位置決めする。続いてステツ
プＳＰ９及びステツプＳＰ１０ではＺ移動部２のバキユ
ームをオフにし、Ｚ移動部２を下側位置に位置決めして
待機させた後、上述のステツプＳＰ１−ＳＰ２−ＳＰ３
−ＳＰ４−ＳＰ５−ＳＰ６の処理ループを実行して新た
なレチクルＲ１〜Ｒ３をロードする。

【００１５】やがて全てのレチクルＲ１〜Ｒ３のロード
が終了したことにより、上述のステツプＳＰ７で肯定結
果を得ると、ステツプＳＰ１１に移つてＸ移動部３を移
動して使用するレチクルＲ１〜Ｒ３をレチクルホルダ５
の位置に位置決めする。このときＺ移動部２をダウンし
た後、レチクルホルダ５のバキユームをオンにし、これ
により使用するレチクルＲ１〜Ｒ３がレチクルホルダ５
に受渡される。

【００１６】続いてステツプＳＰ１２において、光学ア
ライメント系によつて再度アライメントマークをサーチ
して正しくアライメントし、次のステツプＳＰ１３で実
際の露光を行う。この後次のステツプＳＰ１４で続いて
別のレチクルＲ１〜Ｒ３を使用するか否か判断する。

【００１７】ここで肯定結果を得ると上述のステツプＳ
Ｐ１１に戻り、新たなレチクルＲ１〜Ｒ３をアライメン
トして露光し、否定結果を得ると次のステツプＳＰ１５
に移つてこのレチクル交換処理手順を終了し、このよう
にしてレチクル交換装置１においてレチクルＲ１〜Ｒ３
のローデイングから露光を実行するようになされてい
る。

【００１８】

【発明が解決しようとする課題】ところがかかる構成の
レチクル交換装置１においては、レチクルＲ１〜Ｒ３の
交換をＺ移動部２で行い、レチクルＲ１〜Ｒ３の露光を
レチクルホルダ５で行つていたため、必ずＺ移動部２及
びレチクルホルダ５間でレチクルＲ１〜Ｒ３の受渡しが
必要となり、その分余分に処理時間を要する問題があつ
た。

【００１９】またこのようにＺ移動部２及びレチクルホ
ルダ５間でレチクルＲ１〜Ｒ３を受渡す際、精度が必ら
ずしも十分でない場合があるため、露光直前のアライメ
ントを行うときにもアライメントマークをサーチしなけ
ればならない場合が多く、その分レチクルの交換及びア
ライメントに時間が必要になる問題があつた。

【００２０】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、マスク交換を高い精度かつ短時間で実行し得るマス
ク交換装置を提案しようとするものである。

【００２１】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、基板に対する露光に用いる複数の
マスクＲ１〜Ｒ３をそれぞれ保持する複数のマスク保持
手段１２Ａ〜１２Ｃと、複数のマスク保持手段１２Ａ〜
１２Ｃをそれぞれ駆動して、複数のマスクＲ１〜Ｒ３を
それぞれ基板に対して位置決めするアライメント手段１
１、１４Ａ〜１４Ｃ、１５Ａ〜１５Ｃと、複数のマスク
保持手段１２Ａ〜１２Ｃに保持された複数のマスクＲ１
〜Ｒ３のうち、露光に用いるマスクＲ１〜Ｒ３が保持さ
れたマスク保持手段１２Ａ〜１２Ｃを所定の露光位置に
移動させる移動手段１１とを設けるようにした。

【００２２】また本発明においては、移動手段１１に複
数のマスク保持手段１２Ａ〜１２Ｃを一体に支持すると
共に、複数のマスク保持手段１２Ａ〜１２Ｃを所定の露
光位置に選択的に移動するようにした。

【００２３】さらに本発明においては、移動手段１１に
よつて所定の露光位置に移動されたマスク保持手段１２
Ａ〜１２Ｃに保持されたマスクＲ１〜Ｒ３の基準位置か
らの変位量を測定する変位量測定手段２１、２２を設
け、変位量測定手段２１、２２の測定結果に基づいて、
マスクＲ１〜Ｒ３を基準位置に位置決めするようにし
た。

【００２４】

【作用】複数のマスク保持手段１２Ａ〜１２Ｃによつて
複数のマスクＲ１〜Ｒ３をそれぞれ保持すると共に、マ
スク保持手段１２Ａ〜１２Ｃに各別に設けられたアライ
メント手段１１、１４Ａ〜１４Ｃ、１５Ａ〜１５Ｃによ
つてそれぞれ各別に基板に対して位置決めし、複数のマ
スク保持手段１２Ａ〜１２Ｃ及び対応する複数のアライ
メント手段１１、１４Ａ〜１４Ｃ、１５Ａ〜１５Ｃが一
体に支持された移動手段１１によつて、露光に用いるマ
スクＲ１〜Ｒ３が保持されたマスク保持手段１２Ａ〜１
２Ｃを、所定の露光位置に移動させるようにしたことに
より、マスクＲ１〜Ｒ３の受渡しや露光直前のマスクＲ
１〜Ｒ３の位置決めに必要なアライメントマークのサー
チを省略し得、かくしてマスク交換を高い精度かつ短時
間で実行し得る

【００２５】さらに移動手段１１によつて所定の露光位
置に移動されたマスク保持手段１２Ａ〜１２Ｃに保持さ
れたマスクＲ１〜Ｒ３の基準位置からの変位量を変位量
測定手段２１、２２で測定して、マスクＲ１〜Ｒ３を基
準位置に位置決めするようにしたことにより、一段と高
い精度で露光を実行し得る。

【００２６】

【実施例】以下図面について、本発明の一実施例を詳述
する。

【００２７】図６との対応部分に同一符号を付した図１
及び図２において、１０は全体として本発明によるレチ
クル交換装置を示し、Ｘ移動部１１上にそれぞれレチク
ルＲ１〜Ｒ３を真空吸着し得るようになされたレチクル
ホルダ１２Ａ〜１２Ｃが載置されている。このレチクル
ホルダ１２Ａ〜１２Ｃはそれぞれ一対のベアリング１３
Ａ〜１３Ｃをガイドとし、Ｙ駆動系１４Ａ〜１４Ｃ及び
θ駆動系１５Ａ〜１５ＣによつてＹ方向及びθ方向に可
動し得るようになされている。

【００２８】Ｘ移動部１１はニードルベアリング１６を
介してベース１７に組合され、ボールネジ１８とＤＣモ
ータ１９により、ニードルベアリング１６とＶ溝面１７
Ａ及びフラットガイド面１７Ｂとに案内されてＸ方向に
移動可能なＶ−Ｆ型ステージで構成されている。またこ
のＸ移動部１１のベース１７に対する移動量が、リニア
スケール２０によつて測定し得るようになされている。

【００２９】このレチクル交換装置１０によるレチクル
Ｒ１〜Ｒ３のローデイング及び交換から露光に至るまで
の流れは、まずレチクルホルダ１２Ａ〜１２Ｃ上にレチ
クルＲ１〜Ｒ３が存在せずＸ方向にレチクルＲ１〜Ｒ３
の受渡しが可能な状態で、図３に示すレチクル交換処理
手順ＳＰ２０で表される。

【００３０】すなわちこの場合、まずステツプＳＰ２１
でレチクルホルダ１２ＡにレチクルＲ１をロードし、次
のステツプＳＰ２２でレチクルホルダ１２Ａのバキユー
ムをオンにしレチクルＲ１を真空吸着する。

【００３１】次にステツプＳＰ２３において、光学アラ
イメント系（図示せず）によりレチクルＲ１のアライメ
ントマークをサーチして、Ｙ駆動系１４Ａ及びθ駆動系
１５ＡとＤＣモータ１９によつてボールネジ１８を駆動
し、これによりレチクルＲ１をアライメントし、次のス
テツプＳＰ２４で全てのレチクルＲ１〜Ｒ３がロードさ
れたか否か判断する。

【００３２】この場合続いてレチクルＲ２及びＲ３を順
次ロードするため、ステツプＳＰ２４で否定結果を得、
次のステツプＳＰ２５に移る。このステツプＳＰ２５で
はボールネジ１８とＤＣモータ１９により、レチクルホ
ルダ１２ＢがレチクルＲ２の受渡し可能な位置になるま
でＸ移動部１１を駆動し、ステツプＳＰ２１に戻る。

【００３３】このステツプＳＰ２１−ＳＰ２２−ＳＰ２
３−ＳＰ２４の処理を、必要数のレチクルＲ１〜Ｒ３の
ローデイングが完了するまで繰り返し、やがてレチクル
Ｒ１〜Ｒ３のローデイングが完了して、ステツプＳＰ２
４で肯定結果を得ると、ステツプＳＰ２６に移る。

【００３４】ステツプＳＰ２６においては、ボールネジ
１８とＤＣモータ１９によりＸ移動部１１を移動させ
て、露光に使用するレチクルＲ１〜Ｒ３を露光位置に位
置決めする。

【００３５】ここでこの実施例の場合には、レチクルＲ
１〜Ｒ３がレチクルホルダ１２Ａ〜１２Ｃに真空吸着さ
れた状態で保持されると共に、Ｘ方向の移動量をリニア
エンコーダ２０で制御するようになされているため、ア
ライメントマークをサーチする必要はなく、Ｙ駆動系１
４Ａ及びθ駆動系１５ＡとＤＣモータ１９によつてボー
ルネジ１８を駆動して直ちに露光位置に位置決めでき
る。

【００３６】ステツプＳＰ２７での露光に続いてステツ
プＳＰ２８で、別のレチクルＲ１〜Ｒ３を使用するか否
かを判断し、肯定結果を得ると上述のステツプＳＰ２６
に戻り、ステツプＳＰ２６−ＳＰ２７を実行して、新た
なレチクルＲ１〜Ｒ３を位置決めして露光し、否定結果
を得ると次のステツプＳＰ２９に移つて、このレチクル
交換処理手順を終了し、このようにしてレチクル交換装
置１０においてレチクルＲ１〜Ｒ３のローデイングから
露光を実行するようになされている。

【００３７】実際上このレチクル交換装置１０の場合、
Ｘ移動部１１上にそれぞれ各別にＹ及びθ方向に可動な
複数のレチクルホルダ１２Ａ〜１２Ｃを配置し、レチク
ルＲ１〜Ｒ３の交換やローデイングとアライメントをレ
チクルホルダ１２Ａ〜１２Ｃ上で実行するようにしたこ
とにより、従来のレチクル交換装置１に比してレチクル
交換に際してレチクルＲ１〜Ｒ３の受渡しを廃止するこ
とができる。

【００３８】さらにこのようにレチクルＲ１〜Ｒ３の受
渡しを廃止することにより、レチクル交換時のレチクル
Ｒ１〜Ｒ３の位置精度が向上し、露光時にアライメント
マークをサーチせず露光位置に位置決めすることがで
き、その分レチクルＲ１〜Ｒ３の交換に要する時間を短
縮できる。

【００３９】ここでこの実施例のレチクル交換装置１０
においては、レチクルＲ１〜Ｒ３の下面（パターン面）
の高さ、すなわち投影レンズＰＬのレチクル側焦点面か
らのずれ量を検出する斜入射式の投光部２１及び受光部
２２でなる高さ検出装置が、投影レンズＰＬの焦点面と
の高さ関係が変化しないように投影レンズＰＬの保持部
２３に固定されている。

【００４０】またレチクルホルダ１２Ａ〜１２Ｃ及びＸ
移動部１１間には、レチクルホルダ１２Ａ〜１２Ｃの高
さを調整する部材２４が配置され、これにより上述の高
さ検出装置によつて検出されたレチクル下面の高さに応
じて、レチクルホルダ１２Ａ〜１２Ｃの高さを調整する
ようになされている。なおこのレチクルホルダ１２Ａ〜
１２Ｃの高さを調整する部材２４としては、Ｘ移動部１
１に対してレチクルホルダ１２Ａ〜１２Ｃを可動とする
ための転動又は摺動部材で代用するようになされてい
る。

【００４１】以上の構成によれば、Ｘ移動部１１上にそ
れぞれ各別にＹ及びθ方向に可動な複数のレチクルホル
ダ１２Ａ〜１２Ｃを配置し、レチクルＲ１〜Ｒ３の交換
やローデイングとアライメントをレチクルホルダ１２Ａ
〜１２Ｃ上で実行するようにしたことにより、レチクル
Ｒ１〜Ｒ３の受渡しや露光直前のアライメントに必要な
アライメントマークのサーチを省略し得、かくしてレチ
クル交換を高い精度かつ短時間で実行し得るレチクル交
換装置１０を実現できる。

【００４２】なお上述の実施例においては、レチクルＲ
１〜Ｒ３の下面の高さを高さ検出装置によつて検出し、
レチクルホルダ１２Ａ〜１２Ｃの高さを調整する場合に
ついて述べたが、これに限らず、レチクルＲ１〜Ｒ３の
投影レンズＰＬ焦点面よりのずれを検出するようにして
も良い。

【００４３】この場合、検出されたずれをプレートやウ
エハが載置されたステージＳＴの制御系にフイードバツ
クしてステージＳＴをＺ方向に上下させ、レチクルＲ１
〜Ｒ３の投影レンズＰＬの焦点からのずれを補正するこ
とができ、一段と高い精度での露光を実現できる。

【００４４】また上述の実施例においては、レチクルＲ
の下面に高さ検出装置を設けたが、これに代え、図１及
び図２との対応部分に同一符号を付した図４に示すよう
に、レチクルホルダ１２のレチクル吸着面３０をレチク
ルＲの外側まで拡大し、３個以上で１組の変位センサ３
１でレチクルホルダ１２のレチクル吸着面３０を測定し
投影レンズＰＬの焦点面に対するレチクルＲの下面の高
さ及び傾きを検出するようにしても良い。

【００４５】この場合、検出された傾きをプレートやウ
エハが載置されたステージＳＴの制御系にフイードバツ
クしてステージＳＴのレベリング機構でプレートやウエ
ハ面を傾けることにより、レチクル面の傾きによる収差
の発生を未然に防止することができ、さらに一段と高い
精度での露光を実現できる。

【００４６】ここで変位センサ３１が投影レンズＰＬ
や、投影レンズＰＬの保持部２３に固定されているなら
ば、変位センサ３１の出力値変化が投影レンズＰＬの焦
点面に対するレチクル吸着面の高さ及び姿勢の変化と考
えられるが、変位センサ３１がアライメント光学系（図
示せず）等に固定されている構造となつている場合、変
位センサ３１の出力値はアライメント光学系の投影レン
ズＰＬの焦点面に対する高さ及び姿勢の変化である場合
がある。

【００４７】この場合、投影レンズＰＬ又は投影レンズ
ＰＬの保持部２３に固定された固定部材３２とこの固定
部材３２に対してＹ方向に移動し得る移動部材３３から
なる校正機構を加えることにより、レチクル吸着面が投
影レンズＰＬの焦点面に対して高さ及び姿勢を変えてい
るのか、アライメント光学系のみが投影レンズＰＬの焦
点面に対して高さ及び姿勢を変えているのかを知ること
ができる。

【００４８】実際上固定部材３２に対して移動部材３３
においては、変位センサ３１で測定される位置にきたと
きＺ方向の再現性として１〔μｍ〕程度必要である。ま
た３３との干渉を防ぐため、校正時はレチクルホルダ１
２はＸ方向に移動させる。さらに変位センサ３１は静電
容量型やうず電流型さらには光学的の斜入射型等が採用
できる。さらにまた図４との対応部分に同一符号を付し
た図５に示すように、斜入射式の光学センサ３５、３６
によりレチクル上面を測定しても図４と同様の効果を得
ることができる。

【００４９】また上述の実施例においては、レチクルホ
ルダ１２Ａ〜１２Ｃをベース１７に一体に保持した例を
示したが、ベース１７の位置決め再現性が高い構成を採
るならば、これらレチクルホルダ１２Ａ〜１２Ｃを、そ
れぞれ独立して移動可能な複数のベース上に配置するよ
うにしても上述の実施例と同様の効果を実現できる。

【００５０】さらに上述の実施例においては、本発明を
投影露光装置のレチクルを交換するレチクル交換装置に
適用した場合について述べたが、本発明はこれに限ら
ず、交換可能な複数のマスクを用いて露光するプロキシ
ミテイ方式の露光装置等、種々の露光装置のマスク交換
装置にも広く適用して好適なものである。

【００５１】

【発明の効果】上述のように本発明によれば、複数のマ
スク保持手段によつて複数のマスクをそれぞれ保持する
と共に、マスク保持手段に各別に設けられたアライメン
ト手段によつてそれぞれ各別に基板間の位置決めを実行
し、複数のマスク保持手段及び対応する複数のアライメ
ント手段が一体に支持された移動手段によつて、露光に
用いるマスクが保持されたマスク保持手段を所定の露光
位置に移動させるようにしたことにより、マスクの受渡
しや露光直前の基板間との位置決めに必要なアライメン
トマークのサーチを省略し得、かくしてマスク交換を高
い精度かつ短時間で実行し得るマスク交換装置を実現で
きる。

【００５２】さらに本発明によれば、移動手段によつて
所定の露光位置に移動されたマスク保持手段に保持され
たマスクの基準位置からの変位量を測定して、マスクを
基準位置に位置決めするようにしたことにより、一段と
高い精度で露光を実行し得るマスク交換装置を実現でき
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明によるレチクル交換装置の一実施例を示
す斜視図である。

【図２】図１のレチクル交換装置をＡ−Ａ線でとつて示
す断面図である。

【図３】図１のレチクル交換装置におけるレチクル交換
の手順の説明に供するフローチヤートである。

【図４】レチクル表面の高さ及び傾きの測定方法の説明
に供する斜視図である。

【図５】レチクル裏面の高さ及び傾きの測定方法の説明
に供する斜視図である。

【図６】従来のレチクル交換装置を示す斜視図である。

【図７】図６のレチクル交換装置におけるレチクル交換
の手順の説明に供するフローチヤートである。

【符号の説明】

１、１０……レチクル交換装置、２……Ｚ移動部、３、
１１……Ｘ移動部、４……レチクルステージ、５、１２
Ａ〜１２Ｃ……レチクルホルダ、６、１７……ベース、
７、１８……ボールネジ、８、１９……ＤＣモータ、９
Ｙ、１４Ａ〜１４Ｃ……Ｙ方向駆動系、９θ、１５Ａ〜
１５Ｃ……θ方向駆動系、１３……ベアリング、１６…
…ニードルベアリング、２０……リニアエンコーダ。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板に対する露光に用いる複数のマスクを
   それぞれ保持する複数のマスク保持手段と、 前記複数のマスク保持手段をそれぞれ駆動して、前記複
   数のマスクをそれぞれ前記基板に対して位置決めするア
   ライメント手段と、 前記複数のマスク保持手段に保持された前記複数のマス
   クのうち、露光に用いる前記マスクが保持された前記マ
   スク保持手段を所定の露光位置に移動させる移動手段と
   を具えることを特徴とするマスク交換装置。
2. 【請求項２】前記移動手段に前記複数のマスク保持手段
   を一体に支持すると共に、前記複数のマスク保持手段を
   前記所定の露光位置に選択的に移動するようにしたこと
   を特徴とする請求項１に記載のマスク交換装置。
3. 【請求項３】前記移動手段によつて所定の露光位置に移
   動されたマスク保持手段に保持された前記マスクの基準
   位置からの変位量を測定する変位量測定手段を具え、前
   記変位量測定手段の測定結果に基づいて、前記マスクを
   前記基準位置に位置決めするようにしたことを特徴とす
   る請求項１又は請求項２に記載のマスク交換装置。