JP2008218769A - マスク保持装置、マスク調整方法、露光装置及び露光方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1マスク及び第2マスクを保持するマスク保持装置において、マスク保持装置は第1マスクを保持する第1マスク保持部と第2マスクを保持する第2マスク保持部とを有し、第1マスク保持部及び第2マスク保持部は第1マスクの保持位置及び第2マスクの保持位置を調整するマスク調整部を有する。さらに、第1マスク保持部及び第2マスク保持部は互いに同一平面上に隣接して配置される。また、そのマスク保持装置を備える露光装置によって、マスク上のパターンを基板上に転写する。
【選択図】図1
Description
Claims (22)
- 第1マスク及び第2マスクを含む複数のマスクを保持するマスク保持装置であって、
前記マスク保持装置の第1面内の第1領域に前記第1マスクが位置するように、前記第1マスクを保持する第1マスク保持部と、
前記マスク保持装置の第2面内の第2領域に前記第2マスクが位置するように、前記第2マスクを保持する第2マスク保持部とを備え、
前記第1マスク保持部は、前記第1面の法線方向における前記第1マスクの保持位置を調整する第1調整部を備え、
前記第2マスク保持部は、前記第2面の法線方向における前記第2マスクの保持位置を調整する第2調整部を備え、
前記第1マスク保持部と前記第2マスク保持部とは、互いに同一平面上に隣接して配置され、
前記第1面の法線方向と前記第2面の法線方向とは、互いにほぼ平行であることを特徴とするマスク保持装置。 - 前記第1調整部は、前記第1マスクの所定位置に関する調整情報に応じて、前記第1面の法線方向における前記第1マスクの保持位置を調整する第1調整手段を有し、
前記第2調整部は、前記第2マスクの所定位置に関する調整情報に応じて、前記第2面の法線方向における前記第2マスクの保持位置を調整する第2調整手段を有することを特徴とする請求項1に記載のマスク保持装置。 - 前記第1面の法線方向における前記第1マスクの所定位置の変位に関する第1変位情報を計測する第1計測手段と、
計測した前記第1変位情報に基づいて前記第1マスクの所定位置に関する前記調整情報を算出する第1算出手段と、
前記第2面の法線方向における前記第2マスクの所定位置の変位に関する第2変位情報を計測する第2計測手段と、
計測した前記第2変位情報に基づいて前記第2マスクの所定位置に関する前記調整情報を算出する第2算出手段とを有することを特徴とする請求項2に記載のマスク保持装置。 - 前記第1マスク保持部及び前記第2マスク保持部は、それぞれ第1方向に長い長尺形であって、
前記第1調整部及び前記第2調整部は、複数の前記第1調整部及び複数の前記第2調整部で構成され、
前記第1調整部及び前記第2調整部は、前記第1マスク保持部及び前記第2マスク保持部の第1方向に沿った2辺にそれぞれ所定の間隔で配置されることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載のマスク保持装置。 - 前記第1マスク保持部と前記第2マスク保持部とは、前記第1方向と直交する第2方向に沿って、互いに隣接した位置に配置されることを特徴とする請求項4に記載のマスク保持装置。
- 前記マスクと基板とを走査方向に移動させつつ前記マスクのパターンを前記基板上に露光する露光装置に用いられ、
前記第1方向は前記走査方向であることを特徴とする請求項4又は5に記載のマスク保持装置。 - 前記第1マスク保持部及び前記第2マスク保持部は、それぞれ第1開口部及び第2開口部を有することを特徴とする請求項1乃至6の何れか一項に記載のマスク保持装置。
- 前記マスクと基板とを走査方向に移動させつつ前記マスクのパターンを前記基板上に露光する露光装置に用いられ、
前記マスク保持装置は、前記走査方向に移動可能なように構成されることを特徴とする請求項1乃至7の何れか一項に記載のマスク保持装置。 - 前記第1マスク保持部と前記第2マスク保持部とは、一体的に形成されていることを特徴とする請求項1乃至8の何れか一項に記載のマスク保持装置。
- 前記第1マスク保持部を備える第1マスク保持モジュールと、
該第1マスク保持モジュールとは別体に構成されて前記第2マスク保持部を備える第2マスク保持モジュールとを有することを特徴とする請求項1乃至8の何れか一項に記載のマスク保持装置。 - 第1投影光学モジュール及び第2投影光学モジュールを含む複数の投影光学モジュールを介して、前記マスクのパターンを基板上に投影露光する露光装置に用いられ、
前記第1マスク保持部及び前記第2マスク保持部は、前記第1投影光学モジュール及び前記第2投影光学モジュールのそれぞれの視野領域に合わせて配置されることを特徴とする請求項1乃至10の何れか一項に記載のマスク保持装置。 - マスク上のパターンを基板上に露光する露光装置であって、
前記露光装置は、請求項1乃至10の何れか一項に記載のマスク保持装置を備えることを特徴とする露光装置。 - 複数の投影光学系を介して、マスクのパターンを基板上に投影露光する露光装置であって、
前記露光装置は、請求項1乃至11の何れか一項に記載のマスク保持装置を備えることを特徴とする露光装置。 - マスク保持装置に配置されるべき第1マスク及び第2マスクを含む複数のマスクの保持位置を調整するマスク調整方法であって、
前記マスク保持装置の第1面内の第1領域を基準面として、前記第1マスクの保持位置に関する第1調整情報を準備する第1準備工程と、
前記第1調整情報に基づいて、前記第1面の法線方向における前記第1マスクの保持位置を調整する第1調整工程とを含み、
前記マスク保持装置の第2面内の第2領域を前記第2マスクの基準面とするとき、前記第1領域と前記第2領域とは互いに同一平面上で隣接し、
前記第1面の法線方向と前記第2面の法線方向とは、互いにほぼ平行であることを特徴とするマスク調整方法。 - 前記第1準備工程は、前記第1面の法線方向における前記第1マスク上の所定位置の変位に関する第1変位情報を計測する第1計測工程と、
計測した前記第1変位情報に基づいて前記第1調整情報を算出する第1算出工程とを含むことを特徴とする請求項14に記載のマスク調整方法。 - 前記第1調整情報は、前記第1マスクの特性によって予め求められた調整情報を有することを特徴とする請求項14に記載のマスク調整方法。
- 前記第2マスクの保持位置に関する第2調整情報を準備する第2準備工程と、
前記第2調整情報に基づいて、前記第2面の法線方向における前記第2マスクの保持位置を調整する第2調整工程とをさらに含むことを特徴とする請求項14乃至16の何れか一項に記載のマスク調整方法。 - 前記第2準備工程は、前記第2面の法線方向における前記第2マスク上の所定位置の変位に関する第2変位情報を計測する第2計測工程と、
計測した前記第2変位情報に基づいて前記第2調整情報を算出する第2算出工程とを含むことを特徴とする請求項17に記載のマスク調整方法。 - 前記第2調整情報は、前記第2マスクの特性によって予め求められた調整情報を有することを特徴とする請求項17に記載のマスク調整方法。
- 前記第1領域及び前記第2領域は、それぞれ第1方向に長い長尺形であって、該第1方向と直交する第2方向に沿って、互いに隣接した位置に配置されることを特徴とする請求項14乃至19の何れか一項に記載のマスク調整方法。
- マスク上のパターンを基板上に露光する露光方法であって、
請求項14乃至20の何れか一項に記載のマスク調整方法を用いて、マスクの保持位置を調整し、該マスク上のパターンを基板上に露光することを特徴とする露光方法。 - 前記露光方法は、第1投影光学モジュール及び第2投影光学モジュールを含む複数の投影光学モジュールを介して、前記マスクのパターンを前記基板上に投影露光することを特徴とする請求項21に記載の露光方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007055086A JP5066948B2 (ja) | 2007-03-06 | 2007-03-06 | マスク保持装置、マスク調整方法、露光装置及び露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007055086A JP5066948B2 (ja) | 2007-03-06 | 2007-03-06 | マスク保持装置、マスク調整方法、露光装置及び露光方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008218769A true JP2008218769A (ja) | 2008-09-18 |
JP5066948B2 JP5066948B2 (ja) | 2012-11-07 |
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ID=39838443
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2007055086A Expired - Fee Related JP5066948B2 (ja) | 2007-03-06 | 2007-03-06 | マスク保持装置、マスク調整方法、露光装置及び露光方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP5066948B2 (ja) |
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Date | Code | Title | Description |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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