JPH08241849A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPH08241849A JPH08241849A JP7066683A JP6668395A JPH08241849A JP H08241849 A JPH08241849 A JP H08241849A JP 7066683 A JP7066683 A JP 7066683A JP 6668395 A JP6668395 A JP 6668395A JP H08241849 A JPH08241849 A JP H08241849A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- surface plate
- lens barrel
- exposure apparatus
- fine movement
- Prior art date
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- Granted
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 鏡筒定盤の剛性やステージ定盤基準面の平面
加工精度や経時変化が露光性能に直接影響せず、露光性
能の高い露光装置を提供する。 【構成】 原板上に形成されているパターンを投影レン
ズ４を介してステージ８上に載置された基板１２に露光
する露光装置において、前記ステージと構造が一体とな
っていて、前記投影レンズを保持する鏡筒定盤３の下面
と前記ステージ上面間の距離を計測する位置検出器１
３，１４と、該位置検出器の出力をフィードバックして
前記ステージのＺ方向目標位置にサーボをかける制御手
段を設ける。
加工精度や経時変化が露光性能に直接影響せず、露光性
能の高い露光装置を提供する。 【構成】 原板上に形成されているパターンを投影レン
ズ４を介してステージ８上に載置された基板１２に露光
する露光装置において、前記ステージと構造が一体とな
っていて、前記投影レンズを保持する鏡筒定盤３の下面
と前記ステージ上面間の距離を計測する位置検出器１
３，１４と、該位置検出器の出力をフィードバックして
前記ステージのＺ方向目標位置にサーボをかける制御手
段を設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置やＬＣＤパ
ネル等の製造に用いられる露光装置に関する。
ネル等の製造に用いられる露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の半導体露光装置のＸＹステージお
よび微動ステージ部の構成を図５に示す。同図の装置
は、マウント１と、マウント１によって支持された定盤
２および鏡筒定盤３と、鏡筒定盤３と構造が一体となっ
ている投影レンズ４と、定盤２上に配置され上面に基準
面を有するステージ定盤５と、ステージ定盤５の上に配
置されＹ方向に移動可能なＹステージ６と、Ｙステージ
６の上に配置されＸ方向に移動可能なＸステージ７と、
Ｘステージ７上に配置された微動ステージ８と、微動ス
テージ８の上に配置されたＸステージ位置計測用ミラー
９およびＹステージ位置計測用ミラー（図示せず）と、
鏡筒定盤３に固定されたＸステージ用レーザー干渉計１
０およびＹステージ用レーザー干渉計（図示せず）と、
前記微動ステージ８に固定され、前記Ｘステージ７上面
を基準とした前記微動ステージ８のＺ方向位置とチルト
量を検出する微動ステージ位置検出器３個（図示せず）
と、ステージ定盤５と構造が一体となっているＹステー
ジ駆動用アクチュエータ（図示せず）と、Ｙステージ６
と構造が一体となっているＸステージ駆動用アクチュエ
ータ１１と、Ｘステージ７上に配置された微動ステージ
駆動用アクチュエータ３個（図示せず）とより構成され
ている。ウエハ１２は前記微動ステージ８の上面に載置
される。マウント１は、ＸＹステージ６，７が移動した
時に定盤２への加振による振動を緩和させ、かつ床振動
の影響を少なくするためのものである。
よび微動ステージ部の構成を図５に示す。同図の装置
は、マウント１と、マウント１によって支持された定盤
２および鏡筒定盤３と、鏡筒定盤３と構造が一体となっ
ている投影レンズ４と、定盤２上に配置され上面に基準
面を有するステージ定盤５と、ステージ定盤５の上に配
置されＹ方向に移動可能なＹステージ６と、Ｙステージ
６の上に配置されＸ方向に移動可能なＸステージ７と、
Ｘステージ７上に配置された微動ステージ８と、微動ス
テージ８の上に配置されたＸステージ位置計測用ミラー
９およびＹステージ位置計測用ミラー（図示せず）と、
鏡筒定盤３に固定されたＸステージ用レーザー干渉計１
０およびＹステージ用レーザー干渉計（図示せず）と、
前記微動ステージ８に固定され、前記Ｘステージ７上面
を基準とした前記微動ステージ８のＺ方向位置とチルト
量を検出する微動ステージ位置検出器３個（図示せず）
と、ステージ定盤５と構造が一体となっているＹステー
ジ駆動用アクチュエータ（図示せず）と、Ｙステージ６
と構造が一体となっているＸステージ駆動用アクチュエ
ータ１１と、Ｘステージ７上に配置された微動ステージ
駆動用アクチュエータ３個（図示せず）とより構成され
ている。ウエハ１２は前記微動ステージ８の上面に載置
される。マウント１は、ＸＹステージ６，７が移動した
時に定盤２への加振による振動を緩和させ、かつ床振動
の影響を少なくするためのものである。
【０００３】図５の装置においては、Ｘステージ用レー
ザー干渉計１０によりＸステージ位置情報をフィードバ
ックし、図示しない制御器によりＸステージ駆動用アク
チュエータ１１の電流指令を作り、モータドライバーに
よりＸステージ駆動用アクチュエータ１１を駆動してＸ
ステージ７を目標位置に位置決めする。
ザー干渉計１０によりＸステージ位置情報をフィードバ
ックし、図示しない制御器によりＸステージ駆動用アク
チュエータ１１の電流指令を作り、モータドライバーに
よりＸステージ駆動用アクチュエータ１１を駆動してＸ
ステージ７を目標位置に位置決めする。
【０００４】また、Ｙステージ用レーザー干渉計（図示
せず）によりＹステージ位置情報をフィードバックし、
前記制御器よりＹステージ駆動用アクチュエータ（図示
せず）の電流指令を作り、モータドライバーによりＹス
テージ駆動用アクチュエータ（図示せず）を駆動してＹ
ステージ６を目標位置に位置決めする。
せず）によりＹステージ位置情報をフィードバックし、
前記制御器よりＹステージ駆動用アクチュエータ（図示
せず）の電流指令を作り、モータドライバーによりＹス
テージ駆動用アクチュエータ（図示せず）を駆動してＹ
ステージ６を目標位置に位置決めする。
【０００５】さらに、微動ステージ位置検出器３個（図
示せず）により微動ステージＺ方向位置情報をフィード
バックし、前記制御器により微動ステージ駆動用アクチ
ュエータ（図示せず）の電流指令を作り、ドライバーに
より微動ステージ駆動用アクチュエータ３個（図示せ
ず）を駆動して微動ステージ８を目標位置に位置決めす
る。その場合、例えば微動ステージ駆動用アクチュエー
タ３個（図示せず）としてピエゾ素子を用い、この３個
のピエゾ素子により微動ステージ８のＺ方向駆動および
チルト駆動を行なう。そして、微動ステージ位置検出器
（図示せず）として前記ピエゾ素子の付近にそれぞれ静
電容量式非接触微小変位計を配置し、微動ステージ８の
Ｚ方向駆動量およびチルト駆動量を計測して微動ステー
ジ８の位置決め制御を行なっていた。
示せず）により微動ステージＺ方向位置情報をフィード
バックし、前記制御器により微動ステージ駆動用アクチ
ュエータ（図示せず）の電流指令を作り、ドライバーに
より微動ステージ駆動用アクチュエータ３個（図示せ
ず）を駆動して微動ステージ８を目標位置に位置決めす
る。その場合、例えば微動ステージ駆動用アクチュエー
タ３個（図示せず）としてピエゾ素子を用い、この３個
のピエゾ素子により微動ステージ８のＺ方向駆動および
チルト駆動を行なう。そして、微動ステージ位置検出器
（図示せず）として前記ピエゾ素子の付近にそれぞれ静
電容量式非接触微小変位計を配置し、微動ステージ８の
Ｚ方向駆動量およびチルト駆動量を計測して微動ステー
ジ８の位置決め制御を行なっていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例では、ＸＹステージ６，７がステップ駆動した際に
定盤２は反力を受けるため、もし鏡筒定盤３の剛性が低
いと、鏡筒定盤３と構造が一体となっている投影レンズ
４が定盤２の振動に追従せず、装置の露光性能を左右す
る要因の１つである露光時の投影レンズ下面からウエハ
面までの距離の再現性が悪くなってしまう。よって、鏡
筒定盤の剛性を高くしなければならないという欠点があ
った。また、ステージ定盤５の基準面の平面加工精度や
経時変化が露光性能に悪影響を与えるという欠点があっ
た。
来例では、ＸＹステージ６，７がステップ駆動した際に
定盤２は反力を受けるため、もし鏡筒定盤３の剛性が低
いと、鏡筒定盤３と構造が一体となっている投影レンズ
４が定盤２の振動に追従せず、装置の露光性能を左右す
る要因の１つである露光時の投影レンズ下面からウエハ
面までの距離の再現性が悪くなってしまう。よって、鏡
筒定盤の剛性を高くしなければならないという欠点があ
った。また、ステージ定盤５の基準面の平面加工精度や
経時変化が露光性能に悪影響を与えるという欠点があっ
た。
【０００７】本発明は、上述の従来例における問題点に
鑑みてなされたもので、鏡筒定盤の剛性やステージ定盤
基準面の平面加工精度や経時変化が露光性能に直接影響
しない露光装置を提供することを目的とする。
鑑みてなされたもので、鏡筒定盤の剛性やステージ定盤
基準面の平面加工精度や経時変化が露光性能に直接影響
しない露光装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明では、原板上に形成されているパターンを投
影レンズを介してステージ上に載置された基板に露光す
る露光装置において、前記ステージと構造が一体となっ
ていて、前記投影レンズを保持する鏡筒定盤の下面と前
記ステージ上面間の距離を計測する位置検出器を具備す
ることを特徴とする。この露光装置においては、さらに
前記位置検出器の出力をフィードバックして前記ステー
ジのＺ方向目標位置にサーボをかける制御手段を設ける
ことが好ましい。これにより、前記位置検出器で前記鏡
筒定盤下面と前記ステージ上面間の距離を常に計測し、
その位置情報をフィードバックして前記ステージのＺ方
向目標位置にサーボをかける。
め、本発明では、原板上に形成されているパターンを投
影レンズを介してステージ上に載置された基板に露光す
る露光装置において、前記ステージと構造が一体となっ
ていて、前記投影レンズを保持する鏡筒定盤の下面と前
記ステージ上面間の距離を計測する位置検出器を具備す
ることを特徴とする。この露光装置においては、さらに
前記位置検出器の出力をフィードバックして前記ステー
ジのＺ方向目標位置にサーボをかける制御手段を設ける
ことが好ましい。これにより、前記位置検出器で前記鏡
筒定盤下面と前記ステージ上面間の距離を常に計測し、
その位置情報をフィードバックして前記ステージのＺ方
向目標位置にサーボをかける。
【０００９】本発明の実施の態様の一つにおいては、前
記基板を載置するステージと前記投影レンズを保持する
鏡筒定盤とをともに支持する防振マウントを具備する。
これにより、前記位置検出器で前記鏡筒定盤下面と前記
ステージ上面間の距離を常に計測し、その位置情報をフ
ィードバックして前記ステージをＺ方向目標位置にサー
ボをかける。また、本発明の第２の態様においては、前
記基板を載置するステージと前記投影レンズを保持する
鏡筒定盤とをそれぞれ支持する別々の防振マウントを具
備する。これにより、前記位置検出器で前記鏡筒定盤下
面と前記ステージ上面間の距離を常に計測し、その位置
情報をフィードバックして前記ステージをＺ方向目標位
置にサーボをかける。
記基板を載置するステージと前記投影レンズを保持する
鏡筒定盤とをともに支持する防振マウントを具備する。
これにより、前記位置検出器で前記鏡筒定盤下面と前記
ステージ上面間の距離を常に計測し、その位置情報をフ
ィードバックして前記ステージをＺ方向目標位置にサー
ボをかける。また、本発明の第２の態様においては、前
記基板を載置するステージと前記投影レンズを保持する
鏡筒定盤とをそれぞれ支持する別々の防振マウントを具
備する。これにより、前記位置検出器で前記鏡筒定盤下
面と前記ステージ上面間の距離を常に計測し、その位置
情報をフィードバックして前記ステージをＺ方向目標位
置にサーボをかける。
【００１０】本発明の第３の態様においては、前記位置
検出器をレーザー干渉計とし、前記鏡筒定盤の下面に位
置検出用ミラーを配置する。これにより、前記位置検出
用ミラーを前記投影レンズの近くの前記鏡筒定盤下面に
配置し、前記レーザー干渉計から出射するレーザービー
ムを前記位置検出用ミラーにあて前記レーザー干渉計と
前記位置検出用ミラー間の距離を常に計測し、その位置
情報をフィードバックして前記ステージをＺ方向目標位
置にサーボをかける。また、本発明の第４の態様におい
ては、前記位置検出器を静電容量式非接触微小変位計と
する。これにより、前記静電容量式非接触微小変位計の
基準面を前記投影レンズの近くの前記鏡筒定盤下面に配
置し、前記静電容量式非接触微小変位計で前記静電容量
式非接触微小変位計の基準面までの距離を常に計測し、
その位置情報をフィードバックして前記ステージをＺ方
向目標位置にサーボをかける。
検出器をレーザー干渉計とし、前記鏡筒定盤の下面に位
置検出用ミラーを配置する。これにより、前記位置検出
用ミラーを前記投影レンズの近くの前記鏡筒定盤下面に
配置し、前記レーザー干渉計から出射するレーザービー
ムを前記位置検出用ミラーにあて前記レーザー干渉計と
前記位置検出用ミラー間の距離を常に計測し、その位置
情報をフィードバックして前記ステージをＺ方向目標位
置にサーボをかける。また、本発明の第４の態様におい
ては、前記位置検出器を静電容量式非接触微小変位計と
する。これにより、前記静電容量式非接触微小変位計の
基準面を前記投影レンズの近くの前記鏡筒定盤下面に配
置し、前記静電容量式非接触微小変位計で前記静電容量
式非接触微小変位計の基準面までの距離を常に計測し、
その位置情報をフィードバックして前記ステージをＺ方
向目標位置にサーボをかける。
【００１１】
【作用】本発明によれば、原板上に形成されているパタ
ーンを投影レンズを介してステージ上に載置された基板
に露光する露光装置において、前記ステージと構造が一
体となっていて、前記投影レンズを保持する鏡筒定盤の
下面と前記ステージ上面間の距離を計測する位置検出器
を具備することにより、前記位置検出器で前記鏡筒定盤
下面と前記ステージ上面間の距離を常に計測し、その位
置情報をフィードバックし前記ステージをＺ方向目標位
置にサーボをかけることができる。これにより、前記ス
テージ上面またはウエハ面と前記投影レンズ下面の距離
が常に一定になり、前記鏡筒定盤の剛性やステージ定盤
の基準面の平面加工精度や経時変化の影響を直接受けな
くなる。その結果、鏡筒定盤の剛性を高くする必要がな
くなり、定盤の材料費の削減や装置の軽量化ができる。
また、ステージ定盤の基準面の平面加工精度を高くする
必要がなくなりステージ定盤加工費が削減できる。
ーンを投影レンズを介してステージ上に載置された基板
に露光する露光装置において、前記ステージと構造が一
体となっていて、前記投影レンズを保持する鏡筒定盤の
下面と前記ステージ上面間の距離を計測する位置検出器
を具備することにより、前記位置検出器で前記鏡筒定盤
下面と前記ステージ上面間の距離を常に計測し、その位
置情報をフィードバックし前記ステージをＺ方向目標位
置にサーボをかけることができる。これにより、前記ス
テージ上面またはウエハ面と前記投影レンズ下面の距離
が常に一定になり、前記鏡筒定盤の剛性やステージ定盤
の基準面の平面加工精度や経時変化の影響を直接受けな
くなる。その結果、鏡筒定盤の剛性を高くする必要がな
くなり、定盤の材料費の削減や装置の軽量化ができる。
また、ステージ定盤の基準面の平面加工精度を高くする
必要がなくなりステージ定盤加工費が削減できる。
【００１２】
【実施例】以下、図面に基づいて本発明の実施例を説明
する。 （第１の実施例）図１は本発明の一実施例に係る露光装
置の構成を示す。同図において、１から１２までの符号
を付した部材は図５に示す従来例のものと共通である。
１３は微動ステージ８と構造が一体となっているＺ方向
位置測定用レーザー干渉計であり、１４は前記Ｚ方向位
置測定用レーザー干渉計１３から出射したレーザービー
ムを反射させて前記Ｚ方向位置測定用レーザー干渉計１
３に戻し、微動ステージ８のＺ方向位置を計測するため
のＺ方向位置測定用ミラーである。
する。 （第１の実施例）図１は本発明の一実施例に係る露光装
置の構成を示す。同図において、１から１２までの符号
を付した部材は図５に示す従来例のものと共通である。
１３は微動ステージ８と構造が一体となっているＺ方向
位置測定用レーザー干渉計であり、１４は前記Ｚ方向位
置測定用レーザー干渉計１３から出射したレーザービー
ムを反射させて前記Ｚ方向位置測定用レーザー干渉計１
３に戻し、微動ステージ８のＺ方向位置を計測するため
のＺ方向位置測定用ミラーである。
【００１３】図１の構成において、前記Ｚ方向位置測定
用ミラー１４は、ＸＹステージの可動範囲全域に渡って
前記Ｚ方向位置測定用レーザー干渉計１３から出射する
レーザービームを反射できる様に大きさと配置を決めら
れている。すなわち、Ｘステージ７の可動距離をＡとし
Ｙステージ６の可動距離をＢとすると、Ｚ方向位置測定
用ミラー１４としては大きさが最低Ｘ方向にＡ、Ｙ方向
にＢの長さの平面ミラーが必要になる。
用ミラー１４は、ＸＹステージの可動範囲全域に渡って
前記Ｚ方向位置測定用レーザー干渉計１３から出射する
レーザービームを反射できる様に大きさと配置を決めら
れている。すなわち、Ｘステージ７の可動距離をＡとし
Ｙステージ６の可動距離をＢとすると、Ｚ方向位置測定
用ミラー１４としては大きさが最低Ｘ方向にＡ、Ｙ方向
にＢの長さの平面ミラーが必要になる。
【００１４】また、図１の装置では、図５の従来装置に
おける微動ステージ位置検出器３個を廃止し、Ｘステー
ジ用レーザー干渉計１０の付近にＸ方向ピッチング計測
用レーザー干渉計（図示せず）を配置し、この干渉計か
ら出射するレーザービームをＸステージ位置計測用ミラ
ー９にあて、Ｘステージ用レーザー干渉計１０の計測値
との差を計算しＸ方向ピッチング量を計測する。またＹ
ステージ用レーザー干渉計（図示せず）の付近にＹ方向
ピッチング計測用レーザー干渉計（図示せず）を配置
し、この干渉計から出射するレーザービームをＹステー
ジ位置計測用ミラー（図示せず）にあて、Ｙステージ用
レーザー干渉計の計測値との差を計算しＹ方向ピッチン
グ量を計測する。Ｙステージ用レーザー干渉計の付近に
回転量計測用レーザー干渉計（図示せず）を配置し、こ
の干渉計から出射するレーザービームをＹステージ位置
計測用ミラーにあて、Ｙステージ用レーザー干渉計の計
測値との差を計算し回転量を計測する。さらに、前記Ｚ
方向位置計測用レーザー干渉計１３により、Ｚ方向の並
進量を計測し、ステージ系の６軸制御を可能にしてい
る。
おける微動ステージ位置検出器３個を廃止し、Ｘステー
ジ用レーザー干渉計１０の付近にＸ方向ピッチング計測
用レーザー干渉計（図示せず）を配置し、この干渉計か
ら出射するレーザービームをＸステージ位置計測用ミラ
ー９にあて、Ｘステージ用レーザー干渉計１０の計測値
との差を計算しＸ方向ピッチング量を計測する。またＹ
ステージ用レーザー干渉計（図示せず）の付近にＹ方向
ピッチング計測用レーザー干渉計（図示せず）を配置
し、この干渉計から出射するレーザービームをＹステー
ジ位置計測用ミラー（図示せず）にあて、Ｙステージ用
レーザー干渉計の計測値との差を計算しＹ方向ピッチン
グ量を計測する。Ｙステージ用レーザー干渉計の付近に
回転量計測用レーザー干渉計（図示せず）を配置し、こ
の干渉計から出射するレーザービームをＹステージ位置
計測用ミラーにあて、Ｙステージ用レーザー干渉計の計
測値との差を計算し回転量を計測する。さらに、前記Ｚ
方向位置計測用レーザー干渉計１３により、Ｚ方向の並
進量を計測し、ステージ系の６軸制御を可能にしてい
る。
【００１５】ステージ系の制御ブロック図を図２に示
す。微動ステージ８と構造が一体になっているＺ方向位
置計測用レーザー干渉計１３により常に鏡筒定盤３の下
面に配置したＺ方向位置測定用ミラー１４までの距離を
計測し、ステージ系の制御器２１にフィードバックをか
け、微動ステージドライバー２２に電流指令を出力し、
微動ステージドライバー２２は微動ステージアクチュエ
ータ２３を駆動し微動ステージを目標位置にサーボをか
ける。また、鏡筒定盤３の下面に配置したＸおよびＹリ
ニア、ＸおよびＹピッチならびにθ計測用のレーザー干
渉計群２４（前記Ｘステージ用レーザー干渉計１０、Ｙ
ステージ用レーザー干渉計、Ｘ方向ピッチング計測用レ
ーザー干渉計、Ｙ方向ピッチング計測用レーザー干渉
計、回転量計測用レーザー干渉計からなる）により常に
５軸を計測し、ステージ系の制御器２１にフィードバッ
クをかけ、ＸＹリニア成分はＸＹステージ用モータドラ
イバー２５に電流指令を出力し、ＸＹステージ用モータ
ドライバー２５はＸＹステージ用駆動モータ２６を駆動
しＸＹステージを目標位置にサーボをかける。またＸＹ
ピッチ成分とθ成分は微動ステージドライバー２２に電
流指令を出力し、微動ステージドライバー２２は微動ス
テージアクチュエータ２３を駆動し微動ステージを目標
位置にサーボをかける。
す。微動ステージ８と構造が一体になっているＺ方向位
置計測用レーザー干渉計１３により常に鏡筒定盤３の下
面に配置したＺ方向位置測定用ミラー１４までの距離を
計測し、ステージ系の制御器２１にフィードバックをか
け、微動ステージドライバー２２に電流指令を出力し、
微動ステージドライバー２２は微動ステージアクチュエ
ータ２３を駆動し微動ステージを目標位置にサーボをか
ける。また、鏡筒定盤３の下面に配置したＸおよびＹリ
ニア、ＸおよびＹピッチならびにθ計測用のレーザー干
渉計群２４（前記Ｘステージ用レーザー干渉計１０、Ｙ
ステージ用レーザー干渉計、Ｘ方向ピッチング計測用レ
ーザー干渉計、Ｙ方向ピッチング計測用レーザー干渉
計、回転量計測用レーザー干渉計からなる）により常に
５軸を計測し、ステージ系の制御器２１にフィードバッ
クをかけ、ＸＹリニア成分はＸＹステージ用モータドラ
イバー２５に電流指令を出力し、ＸＹステージ用モータ
ドライバー２５はＸＹステージ用駆動モータ２６を駆動
しＸＹステージを目標位置にサーボをかける。またＸＹ
ピッチ成分とθ成分は微動ステージドライバー２２に電
流指令を出力し、微動ステージドライバー２２は微動ス
テージアクチュエータ２３を駆動し微動ステージを目標
位置にサーボをかける。
【００１６】これにより、Ｚ方向位置計測用レーザー干
渉計１３で前記鏡筒定盤３下面と前記微動ステージ８間
の距離を常に計測し、その位置情報をフィードバックし
微動ステージ８をＺ方向目標位置にサーボをかけること
ができ、常に前記微動ステージまたはウエハ面と前記投
影レンズ下面の距離が目標距離と一致し、前記鏡筒定盤
の剛性やステージ定盤の基準面の平面加工精度や経時変
化の影響を直接受けなくなる。すなわち、鏡筒定盤の剛
性の影響を直接受けることなく、投影レンズ４とウエハ
１２の上面間の距離の再現性を維持することができる。
また、ステージ定盤５の基準面の平面加工精度や経時変
化の影響を微動ステージのＺ方向のサーボで補正でき
る。 （第２の実施例）図３は本発明の第２の実施例を説明す
る図面である。同図において１から１２までは図５の従
来例のものと同様である。１５は微動ステージ８と構造
が一体になっているＺ方向位置測定用の静電容量式非接
触微小変位計であり、１６は前記Ｚ方向位置測定用の静
電容量式非接触微小変位計１５の基準面である。
渉計１３で前記鏡筒定盤３下面と前記微動ステージ８間
の距離を常に計測し、その位置情報をフィードバックし
微動ステージ８をＺ方向目標位置にサーボをかけること
ができ、常に前記微動ステージまたはウエハ面と前記投
影レンズ下面の距離が目標距離と一致し、前記鏡筒定盤
の剛性やステージ定盤の基準面の平面加工精度や経時変
化の影響を直接受けなくなる。すなわち、鏡筒定盤の剛
性の影響を直接受けることなく、投影レンズ４とウエハ
１２の上面間の距離の再現性を維持することができる。
また、ステージ定盤５の基準面の平面加工精度や経時変
化の影響を微動ステージのＺ方向のサーボで補正でき
る。 （第２の実施例）図３は本発明の第２の実施例を説明す
る図面である。同図において１から１２までは図５の従
来例のものと同様である。１５は微動ステージ８と構造
が一体になっているＺ方向位置測定用の静電容量式非接
触微小変位計であり、１６は前記Ｚ方向位置測定用の静
電容量式非接触微小変位計１５の基準面である。
【００１７】本実施例と第１の実施例との違いは、本実
施例は第１の実施例で使用したＺ方向位置計測用レーザ
ー干渉計の代わりに静電容量式非接触微小変位計を使用
したことである。これによる効果は第１の実施例と同様
である。 （第３の実施例）図４は本発明の第３の実施例を説明す
る図面である。同図において、１ａは鏡筒定盤を支持す
る第１のマウントであり、１ｂはＸＹステージの移動に
より発生するステージ定盤５の振動を緩和させ、かつ床
振動の影響を少なくするための第２のマウントであり、
１ｃは第１のマウント１ａと第２のマウント１ｂとの相
対位置関係を位置決めしてこれらのマウントを設置する
位置決め定盤である。同図において３から１４までは第
１の実施例のものと同様である。
施例は第１の実施例で使用したＺ方向位置計測用レーザ
ー干渉計の代わりに静電容量式非接触微小変位計を使用
したことである。これによる効果は第１の実施例と同様
である。 （第３の実施例）図４は本発明の第３の実施例を説明す
る図面である。同図において、１ａは鏡筒定盤を支持す
る第１のマウントであり、１ｂはＸＹステージの移動に
より発生するステージ定盤５の振動を緩和させ、かつ床
振動の影響を少なくするための第２のマウントであり、
１ｃは第１のマウント１ａと第２のマウント１ｂとの相
対位置関係を位置決めしてこれらのマウントを設置する
位置決め定盤である。同図において３から１４までは第
１の実施例のものと同様である。
【００１８】上記構成において、第１の実施例との違い
は、定盤２がなくなり、投影レンズを保持する鏡筒定盤
３の支持とステージ定盤５の支持を別々のマウントによ
り行なっていることである。これによる効果は第１の実
施例と同様である。
は、定盤２がなくなり、投影レンズを保持する鏡筒定盤
３の支持とステージ定盤５の支持を別々のマウントによ
り行なっていることである。これによる効果は第１の実
施例と同様である。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
原板上に形成されているパターンを投影レンズを介して
ステージ上に載置された基板に露光する露光装置におい
て、前記ステージと構造が一体となっていて、前記投影
レンズを保持する鏡筒定盤の下面と前記ステージ上面間
の距離を計測する位置検出器を具備することにより、前
記位置検出器で前記鏡筒定盤下面と前記ステージ上面間
の距離を常に計測し、その位置情報をフィードバックし
前記ステージをＺ方向目標位置にサーボをかけることが
でき、前記ステージ上面またはウエハ面と前記投影レン
ズ下面の距離が常に一定になり、前記鏡筒定盤の剛性や
ステージ定盤の基準面の平面加工精度や経時変化の影響
を直接受けなくなる。その結果、鏡筒定盤の剛性を高く
する必要がなくなり、定盤の材料費の削減や装置の軽量
化ができる。また、ステージ定盤の基準面の平面加工精
度を高くする必要がなくなりステージ定盤加工費が削減
できる。
原板上に形成されているパターンを投影レンズを介して
ステージ上に載置された基板に露光する露光装置におい
て、前記ステージと構造が一体となっていて、前記投影
レンズを保持する鏡筒定盤の下面と前記ステージ上面間
の距離を計測する位置検出器を具備することにより、前
記位置検出器で前記鏡筒定盤下面と前記ステージ上面間
の距離を常に計測し、その位置情報をフィードバックし
前記ステージをＺ方向目標位置にサーボをかけることが
でき、前記ステージ上面またはウエハ面と前記投影レン
ズ下面の距離が常に一定になり、前記鏡筒定盤の剛性や
ステージ定盤の基準面の平面加工精度や経時変化の影響
を直接受けなくなる。その結果、鏡筒定盤の剛性を高く
する必要がなくなり、定盤の材料費の削減や装置の軽量
化ができる。また、ステージ定盤の基準面の平面加工精
度を高くする必要がなくなりステージ定盤加工費が削減
できる。
【図１】 本発明の第１の実施例を説明するための図で
ある。
ある。
【図２】 第１の実施例を説明するためのステージ系の
制御ブロック図である。
制御ブロック図である。
【図３】 本発明の第２の実施例を説明するための図で
ある。
ある。
【図４】 本発明の第３の実施例を説明するための図で
ある。
ある。
【図５】 従来例を説明するための図である。
１：マウント、１ａ：第１のマウント、１ｂ：第２のマ
ウント、１ｃ：位置決め定盤、２：定盤、３：鏡筒定
盤、４：投影レンズ、５：ステージ定盤、６：Ｙステー
ジ、７：Ｘステージ、８：微動ステージ、９：Ｘステー
ジ位置計測用ミラー、１０：Ｘステージ用レーザー干渉
計、１１：Ｘステージ駆動用アクチュエータ、１２：ウ
エハ、１３：Ｚ方向位置計測用レーザー干渉計、１４：
Ｚ方向位置計測用ミラー、１５：Ｚ方向位置計測用の静
電容量式非接触微小変位計、１６：Ｚ方向位置計測用の
静電容量式非接触微小変位計の基準面、２１：制御器、
２２：微動ステージドライバー、２３：微動ステージア
クチュエータ（θ、Ｚ、チルト）、２４：ＸＹリニア、
ＸＹピッチ、θ計測用レーザー干渉計、２５：ＸＹステ
ージ用モータドライバー、２６：ＸＹステージ用駆動モ
ータ。
ウント、１ｃ：位置決め定盤、２：定盤、３：鏡筒定
盤、４：投影レンズ、５：ステージ定盤、６：Ｙステー
ジ、７：Ｘステージ、８：微動ステージ、９：Ｘステー
ジ位置計測用ミラー、１０：Ｘステージ用レーザー干渉
計、１１：Ｘステージ駆動用アクチュエータ、１２：ウ
エハ、１３：Ｚ方向位置計測用レーザー干渉計、１４：
Ｚ方向位置計測用ミラー、１５：Ｚ方向位置計測用の静
電容量式非接触微小変位計、１６：Ｚ方向位置計測用の
静電容量式非接触微小変位計の基準面、２１：制御器、
２２：微動ステージドライバー、２３：微動ステージア
クチュエータ（θ、Ｚ、チルト）、２４：ＸＹリニア、
ＸＹピッチ、θ計測用レーザー干渉計、２５：ＸＹステ
ージ用モータドライバー、２６：ＸＹステージ用駆動モ
ータ。
Claims (6)
- 【請求項１】 原板上に形成されているパターンを投影
レンズを介してステージ上に載置された基板に露光する
露光装置において、前記ステージと構造が一体となって
いて、前記投影レンズを保持する鏡筒定盤の下面と前記
ステージ上面間の距離を計測する位置検出器を具備する
ことを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 前記位置検出器の出力をフィードバック
して前記ステージのＺ方向目標位置にサーボをかける制
御手段をさらに具備する請求項１記載の露光装置。 - 【請求項３】 前記ステージと前記鏡筒定盤をともに支
持する防振マウントをさらに具備することを特徴とする
請求項２記載の露光装置。 - 【請求項４】 前記ステージと前記鏡筒定盤とをそれぞ
れ支持する別々の防振マウントをさらに具備することを
特徴とする請求項２記載の露光装置。 - 【請求項５】 前記位置検出器が前記ステージと一体に
固定されたレーザー干渉計と、前記鏡筒定盤の下面に配
置された位置検出用ミラーとからなることを特徴とする
請求項１〜４のいずれかに記載の露光装置。 - 【請求項６】 前記位置検出器が静電容量式非接触微小
変位計であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか
に記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06668395A JP3258194B2 (ja) | 1995-03-02 | 1995-03-02 | 露光装置および露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06668395A JP3258194B2 (ja) | 1995-03-02 | 1995-03-02 | 露光装置および露光方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08241849A true JPH08241849A (ja) | 1996-09-17 |
| JP3258194B2 JP3258194B2 (ja) | 2002-02-18 |
Family
ID=13322984
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06668395A Expired - Fee Related JP3258194B2 (ja) | 1995-03-02 | 1995-03-02 | 露光装置および露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3258194B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000049066A (ja) * | 1998-07-27 | 2000-02-18 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法 |
| US6741358B1 (en) | 1999-09-20 | 2004-05-25 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and device production method in which position of reference plate provided on substrate stage is measured |
| US6819433B2 (en) | 2001-02-15 | 2004-11-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus including interferometer system |
| JPWO2017057465A1 (ja) * | 2015-09-30 | 2018-07-19 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法、並びに計測方法 |
-
1995
- 1995-03-02 JP JP06668395A patent/JP3258194B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000049066A (ja) * | 1998-07-27 | 2000-02-18 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法 |
| US6741358B1 (en) | 1999-09-20 | 2004-05-25 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and device production method in which position of reference plate provided on substrate stage is measured |
| US7471372B2 (en) | 1999-09-20 | 2008-12-30 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and production method of device using the same |
| US6819433B2 (en) | 2001-02-15 | 2004-11-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus including interferometer system |
| JPWO2017057465A1 (ja) * | 2015-09-30 | 2018-07-19 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法、並びに計測方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3258194B2 (ja) | 2002-02-18 |
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