JP3086006B2 - 位置決めステージ装置 - Google Patents
位置決めステージ装置Info
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- JP3086006B2 JP3086006B2 JP13868491A JP13868491A JP3086006B2 JP 3086006 B2 JP3086006 B2 JP 3086006B2 JP 13868491 A JP13868491 A JP 13868491A JP 13868491 A JP13868491 A JP 13868491A JP 3086006 B2 JP3086006 B2 JP 3086006B2
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- stage
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- plate
- shaft
- bearing
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、水平面内を回転可能で
あるとともにこの回転面に対する垂直方向に上下動可能
な位置決めステージに関するもので特に半導体製造装置
の露光装置の分野でウエハにマスクパタ−ンを露光させ
る際に使用する位置決めステ−ジに関するものである。
あるとともにこの回転面に対する垂直方向に上下動可能
な位置決めステージに関するもので特に半導体製造装置
の露光装置の分野でウエハにマスクパタ−ンを露光させ
る際に使用する位置決めステ−ジに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造装置において、ウエハ上にマ
スクパタ−ンを露光させる場合、水平面内における１方
向（Ｘ方向）とこれに直交する他方向（Ｙ方向）に駆動
可能なＸＹステ−ジ上方の載置台にウエハを載置する。
さらにこのＸＹステ−ジの上に水平面内における回転方
向（Θ方向）と、この水平面に直交する方向（Ｚ方向）
と、Ｘ軸に対する回転（α方向）、Ｙ軸に対する回転
（β方向）に調整移動可能なΘＺαβステ−ジを設けて
ウエハの適正位置を保持させて露光作業を行う。
スクパタ−ンを露光させる場合、水平面内における１方
向（Ｘ方向）とこれに直交する他方向（Ｙ方向）に駆動
可能なＸＹステ−ジ上方の載置台にウエハを載置する。
さらにこのＸＹステ−ジの上に水平面内における回転方
向（Θ方向）と、この水平面に直交する方向（Ｚ方向）
と、Ｘ軸に対する回転（α方向）、Ｙ軸に対する回転
（β方向）に調整移動可能なΘＺαβステ−ジを設けて
ウエハの適正位置を保持させて露光作業を行う。
【０００３】一般に露光装置は、図12に示すようにＬ字
型ミラ−50とレ−ザ干渉器51とによって位置制御が行わ
れるＸステ−ジ52、Ｙステ−ジ53の上部中央にΘＺステ
−ジ54を設け、レチクルに対してウエハの位置を適正に
位置合わせして露光するようになっている。この場合、
Θ方向の駆動機構は回転成分誤差を除去するためのもの
であり、粗動（分解能10μrad 相当) と微動（分解能１
μrad 相当) 調整することにより行う。また、Ｚ方向の
駆動機構は投影レンズ55に対する高さ方向の位置合わせ
をするためのものであり、やはり粗動（分解能１〜２μ
m)と微動（分解能0.01μm)調整することにより行う。な
お、露光は反射鏡55a を有する光源56からの光を、コン
デンサレンズ57、レチクル58、投影レンズ55を透過させ
て行う。
型ミラ−50とレ−ザ干渉器51とによって位置制御が行わ
れるＸステ−ジ52、Ｙステ−ジ53の上部中央にΘＺステ
−ジ54を設け、レチクルに対してウエハの位置を適正に
位置合わせして露光するようになっている。この場合、
Θ方向の駆動機構は回転成分誤差を除去するためのもの
であり、粗動（分解能10μrad 相当) と微動（分解能１
μrad 相当) 調整することにより行う。また、Ｚ方向の
駆動機構は投影レンズ55に対する高さ方向の位置合わせ
をするためのものであり、やはり粗動（分解能１〜２μ
m)と微動（分解能0.01μm)調整することにより行う。な
お、露光は反射鏡55a を有する光源56からの光を、コン
デンサレンズ57、レチクル58、投影レンズ55を透過させ
て行う。
【０００４】ウエハを載置した台を水平面内のＸ、Ｙ、
Θ方向に動作させる場合の動作量は、レチクルとウエハ
のマ−クを用いたアライメント法によって決定される。
また、Ｚ方向及びα, β方向に動作させる場合は、投影
レンズ55とウエハ間の距離をオ−トフォ−カス検出器に
よって検出し、検出信号に基づいてフィ−ドバックし駆
動量を調整する。なお、これらの位置決め手段の具体的
構成についての説明は省略する。以上のごとくして、ウ
エハを適正位置にセットした後に露光過程に入り、Ｘ方
向、Ｙ方向の移動動作を繰り返しながら各チップが順次
焼きつけ露光されるのである。
Θ方向に動作させる場合の動作量は、レチクルとウエハ
のマ−クを用いたアライメント法によって決定される。
また、Ｚ方向及びα, β方向に動作させる場合は、投影
レンズ55とウエハ間の距離をオ−トフォ−カス検出器に
よって検出し、検出信号に基づいてフィ−ドバックし駆
動量を調整する。なお、これらの位置決め手段の具体的
構成についての説明は省略する。以上のごとくして、ウ
エハを適正位置にセットした後に露光過程に入り、Ｘ方
向、Ｙ方向の移動動作を繰り返しながら各チップが順次
焼きつけ露光されるのである。
【０００５】図13以降に示したものは、上記位置決め手
段のうちのΘ方向、Ｚ方向に移動調整するための従来例
である。これは、刊行物「自動化技術」（1987, 第19巻
第９号）に開示されているものである。図13はΘ、Ｚス
テ−ジの縦断面図であり、図14は平面図である。Θ回転
板59は円柱状の回転軸60により回転するようになってお
り、さらにこの回転軸60は傾きを防止するために、外周
面に対して３方向から摩擦するように支持する部材が設
けられている（接合個所が線状である３線摩擦方式）。
また、その内の１方向からの支持部材は、バネ性を有し
ており、この支持部材に付設されているネジにより、傾
きとラジアル方向のガタが生じないように与圧調整され
ている。また、Θ回転板59の外周部の３個所には、ベ−
ス61との平行面を保持するための平面受けピン62が設け
られているとともに、Θ回転板59の上面はスプリング63
で押さえてあり浮き上がりを防止するようになってい
る。
段のうちのΘ方向、Ｚ方向に移動調整するための従来例
である。これは、刊行物「自動化技術」（1987, 第19巻
第９号）に開示されているものである。図13はΘ、Ｚス
テ−ジの縦断面図であり、図14は平面図である。Θ回転
板59は円柱状の回転軸60により回転するようになってお
り、さらにこの回転軸60は傾きを防止するために、外周
面に対して３方向から摩擦するように支持する部材が設
けられている（接合個所が線状である３線摩擦方式）。
また、その内の１方向からの支持部材は、バネ性を有し
ており、この支持部材に付設されているネジにより、傾
きとラジアル方向のガタが生じないように与圧調整され
ている。また、Θ回転板59の外周部の３個所には、ベ−
ス61との平行面を保持するための平面受けピン62が設け
られているとともに、Θ回転板59の上面はスプリング63
で押さえてあり浮き上がりを防止するようになってい
る。
【０００６】Θ回転板59を粗・微動させるには、Θ回転
板59の外周部の一部にレバ−部64を形成し、このレバ−
部64を送りナット65とその移動を受ける微動用ＰＺＴ66
を介して進退動させながら行う。そして、粗動はステッ
ピングモ−タ67と高精度リ−ドネジ68の動作によって行
わせ、微動はＰＺＴホルダ69内に設けられた微動用ＰＺ
Ｔ66の動作によって行わせるようになっている。
板59の外周部の一部にレバ−部64を形成し、このレバ−
部64を送りナット65とその移動を受ける微動用ＰＺＴ66
を介して進退動させながら行う。そして、粗動はステッ
ピングモ−タ67と高精度リ−ドネジ68の動作によって行
わせ、微動はＰＺＴホルダ69内に設けられた微動用ＰＺ
Ｔ66の動作によって行わせるようになっている。
【０００７】次に、Ｚ方向の粗動はインチワ−ムモ−タ
70を用いて行う。図15Ａ、Ｂはインチワ−ムの概要図と
動作説明図である。このようにインチワ−ムモ−タ70
は、上下２個の円筒部を弾性ヒンジバネで接続した圧電
アクチュエ−タ・ホルダ部71、保持レバ−72、73でホル
ダ円筒部に対して押圧保持する可動部74と、ホルダと保
持レバ−を駆動する圧電アクチュエ−タを有している。
図15Ｂに示すように、各圧電アクチュエ−タへの電圧印
加を順次切り換えることによって、円筒部を尺取り虫が
動くように上下変位を繰り返させるのである。この場
合、上昇、下降のそれぞれの変位は2.5 μm/ステップと
なっている。以上のごとくして、トッププレ−ト上のウ
エハ75の適正な位置決めができるのである。
70を用いて行う。図15Ａ、Ｂはインチワ−ムの概要図と
動作説明図である。このようにインチワ−ムモ−タ70
は、上下２個の円筒部を弾性ヒンジバネで接続した圧電
アクチュエ−タ・ホルダ部71、保持レバ−72、73でホル
ダ円筒部に対して押圧保持する可動部74と、ホルダと保
持レバ−を駆動する圧電アクチュエ−タを有している。
図15Ｂに示すように、各圧電アクチュエ−タへの電圧印
加を順次切り換えることによって、円筒部を尺取り虫が
動くように上下変位を繰り返させるのである。この場
合、上昇、下降のそれぞれの変位は2.5 μm/ステップと
なっている。以上のごとくして、トッププレ−ト上のウ
エハ75の適正な位置決めができるのである。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記従来例は、Θ回転
板59を微動させる場合に圧電素子（ストロ−ク10μm)を
用いて行うように構成してあるので、回転軸60のガタ
（傾きとラジアル）及び高精度リ−ドネジ68のバックラ
ッシュ等スラスト方向のガタ成分をできるだけとらなけ
ればならず、回転軸60に対する与圧圧力を高めに設定し
なければならない。すると、ステッピングモ−タ67の回
転負荷が大となりステッピングモ−タ67の発熱原因とな
ってしまう。この発熱は、装置の周辺部材の膨張を招
き、ウエハを数μm 上方に変位させてしまうこととな
り、投影レンズが有している焦点深度を遙かに超えてし
まい適正な露光ができないという不具合があった。ま
た、３線摩擦方式により支持された軸の傾きと、Θ回転
板外周部３個所の平面受けピンにより形成された面の軸
に対する傾きが合っていないと、スプリングあるいは全
体の荷重による力で軸部あるいは平面受けピンにかかる
力のバランスがくずれ、回転動作中に荷重変動が発生
し、軸の傾き（平面）が変動してしまう。
板59を微動させる場合に圧電素子（ストロ−ク10μm)を
用いて行うように構成してあるので、回転軸60のガタ
（傾きとラジアル）及び高精度リ−ドネジ68のバックラ
ッシュ等スラスト方向のガタ成分をできるだけとらなけ
ればならず、回転軸60に対する与圧圧力を高めに設定し
なければならない。すると、ステッピングモ−タ67の回
転負荷が大となりステッピングモ−タ67の発熱原因とな
ってしまう。この発熱は、装置の周辺部材の膨張を招
き、ウエハを数μm 上方に変位させてしまうこととな
り、投影レンズが有している焦点深度を遙かに超えてし
まい適正な露光ができないという不具合があった。ま
た、３線摩擦方式により支持された軸の傾きと、Θ回転
板外周部３個所の平面受けピンにより形成された面の軸
に対する傾きが合っていないと、スプリングあるいは全
体の荷重による力で軸部あるいは平面受けピンにかかる
力のバランスがくずれ、回転動作中に荷重変動が発生
し、軸の傾き（平面）が変動してしまう。
【０００９】また、Ｚ方向の移動をさせるための構成に
おけるインチワ−ムモ−タは、圧電アクチュエ−タ・ホ
ルダ部71のＰＺＴホルダ71a と可動部74との３個所の接
触部（３線接触部）において磨耗が生じ、動作中に滑り
現象が起こり一定の変位量を得られないという不具合が
あった。さらに、可動部74の保持レバ−72、73の強度が
十分でない時、或いは上下の保持レバ−の押圧バランス
が異なっていると動作中にＺ軸が傾いてしまい、いわゆ
る首振り現象を生じさせてしまうという不具合があっ
た。この首振りは、ウエハの位置合わせ精度に極めて大
きな影響を与えてしまうのである。
おけるインチワ−ムモ−タは、圧電アクチュエ−タ・ホ
ルダ部71のＰＺＴホルダ71a と可動部74との３個所の接
触部（３線接触部）において磨耗が生じ、動作中に滑り
現象が起こり一定の変位量を得られないという不具合が
あった。さらに、可動部74の保持レバ−72、73の強度が
十分でない時、或いは上下の保持レバ−の押圧バランス
が異なっていると動作中にＺ軸が傾いてしまい、いわゆ
る首振り現象を生じさせてしまうという不具合があっ
た。この首振りは、ウエハの位置合わせ精度に極めて大
きな影響を与えてしまうのである。
【００１０】本発明は、上記不具合を解決すべく提案さ
れるもので、ΘＺステ−ジの操作によりウエハをレチク
ルに対して適正な位置決めをし、精度の高い位置合わせ
を実現できる位置決めステージ装置を提供することを目
的としたものである。
れるもので、ΘＺステ−ジの操作によりウエハをレチク
ルに対して適正な位置決めをし、精度の高い位置合わせ
を実現できる位置決めステージ装置を提供することを目
的としたものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため、水平面内を回転可能であるとともにこの回転
面に対する垂直方向に上下動可能な位置決めステ−ジに
おいて、位置決めステ−ジを支持するステ−ジ支軸の軸
受け部との接合部分を球面形成し、接合する一方向から
ラジアル方向のガタを除去するように予圧をかけながら
軸受け部を球面と３点接合させて、回転動および上下動
および水平面に垂直方向の軸に対するアキシャルふれの
動きを可能とする構成にし、ステ−ジ支軸を中心とする
放射状位置に連結部材を介してステ−ジ支軸に連結する
３個の位置決めステ−ジの平面保持用ピンを配設したこ
とを特徴とする位置決めステージ装置とした。
するため、水平面内を回転可能であるとともにこの回転
面に対する垂直方向に上下動可能な位置決めステ−ジに
おいて、位置決めステ−ジを支持するステ−ジ支軸の軸
受け部との接合部分を球面形成し、接合する一方向から
ラジアル方向のガタを除去するように予圧をかけながら
軸受け部を球面と３点接合させて、回転動および上下動
および水平面に垂直方向の軸に対するアキシャルふれの
動きを可能とする構成にし、ステ−ジ支軸を中心とする
放射状位置に連結部材を介してステ−ジ支軸に連結する
３個の位置決めステ−ジの平面保持用ピンを配設したこ
とを特徴とする位置決めステージ装置とした。
【００１２】
【作用】以上のごとく、ステ−ジ支軸は軸受けに球面の
３点で支持されるようになっているので、摩擦面を最小
にしながらラジアル方向の運動のみが抑制され、他の方
向への自由度は確保される。さらに、平面保持用ピン３
点で形成される面によりステ−ジ支軸の傾きが抑制され
る。さらにＺ軸粗動は、３個所に設けられたカムとピン
で形成される面を保ちながら上下に移動することができ
る。したがって、ウエハを適正な位置に保持できるよう
になる。
３点で支持されるようになっているので、摩擦面を最小
にしながらラジアル方向の運動のみが抑制され、他の方
向への自由度は確保される。さらに、平面保持用ピン３
点で形成される面によりステ−ジ支軸の傾きが抑制され
る。さらにＺ軸粗動は、３個所に設けられたカムとピン
で形成される面を保ちながら上下に移動することができ
る。したがって、ウエハを適正な位置に保持できるよう
になる。
【００１３】
【実施例】以下図面を参照しながら、本発明の実施例を
説明していく。図１は、本発明に係る装置の全体概要図
であり、図２以下は各構成部分を示したものである。図
１には示されていないが、図２に示すようにウエハ１は
ウエハチャック２にセットされる。該ウエハチャック２
は、トッププレ−ト３にビス止め等により固定されるよ
うになっている。トッププレ−ト３は、図３の平面図に
示すように抑え部材５によりＺ方向（上下方向）に可動
であるが、Θ方向（回転方向）に固定状態に設けられて
いる。そして、Ｚ方向への微動とレベリングは、後述す
るＺ微動用ＰＺＴ６によりなされる。
説明していく。図１は、本発明に係る装置の全体概要図
であり、図２以下は各構成部分を示したものである。図
１には示されていないが、図２に示すようにウエハ１は
ウエハチャック２にセットされる。該ウエハチャック２
は、トッププレ−ト３にビス止め等により固定されるよ
うになっている。トッププレ−ト３は、図３の平面図に
示すように抑え部材５によりＺ方向（上下方向）に可動
であるが、Θ方向（回転方向）に固定状態に設けられて
いる。そして、Ｚ方向への微動とレベリングは、後述す
るＺ微動用ＰＺＴ６によりなされる。
【００１４】また、トッププレ−ト３は、図４の平面図
に示すようなほぼ三角形状の本体と三角形の頂点に相当
する個所に脚部を有するＺ板７に固定されている。この
Ｚ板７の脚部には、前記のＺ微動用ＰＺＴ６がトッププ
レ−ト３を上下動させることができるように設けられて
いる。Ｚ微動用ＰＺＴ６は、図５の正面図に示すように
ＰＺＴ８の内部にＰＺＴ９が配設されており、ＰＺＴ９
に電圧を印加することにより矢印方向に伸縮動するよう
になっている。そして、Ｚ板７の脚部３個所に設けられ
たＺ微動用ＰＺＴ６を各々伸縮動させることにより、前
記トッププレ−ト３をベ−ス４に対して傾き調整するこ
とができるとともに、３個のＺ微動用ＰＺＴ９が同時に
変位することによりトッププレ−ト３は、上下方向に平
行移動できる。
に示すようなほぼ三角形状の本体と三角形の頂点に相当
する個所に脚部を有するＺ板７に固定されている。この
Ｚ板７の脚部には、前記のＺ微動用ＰＺＴ６がトッププ
レ−ト３を上下動させることができるように設けられて
いる。Ｚ微動用ＰＺＴ６は、図５の正面図に示すように
ＰＺＴ８の内部にＰＺＴ９が配設されており、ＰＺＴ９
に電圧を印加することにより矢印方向に伸縮動するよう
になっている。そして、Ｚ板７の脚部３個所に設けられ
たＺ微動用ＰＺＴ６を各々伸縮動させることにより、前
記トッププレ−ト３をベ−ス４に対して傾き調整するこ
とができるとともに、３個のＺ微動用ＰＺＴ９が同時に
変位することによりトッププレ−ト３は、上下方向に平
行移動できる。
【００１５】また、図６Ａの軸受け部断面図に示すよう
に、Ｚ板７の中心に軸10がほぼ垂直に配設されている。
この軸10には、上部軸受け11aと下部軸受け11b が嵌合
されている。軸10の軸受け11との接合個所には、上部球
面部10a と下部球面部10b が形成されており、それぞれ
図６Ｂ、図６Ｃに示すように３点で接合している。しか
も、一つの接合点を形成する押圧部材11a-1 は、ビス11
a-2 を介して他の接合点に向かってラジアル方向のガタ
を無くすように予圧がかけられている。下部球面部10b
の周辺においても同様である。
に、Ｚ板７の中心に軸10がほぼ垂直に配設されている。
この軸10には、上部軸受け11aと下部軸受け11b が嵌合
されている。軸10の軸受け11との接合個所には、上部球
面部10a と下部球面部10b が形成されており、それぞれ
図６Ｂ、図６Ｃに示すように３点で接合している。しか
も、一つの接合点を形成する押圧部材11a-1 は、ビス11
a-2 を介して他の接合点に向かってラジアル方向のガタ
を無くすように予圧がかけられている。下部球面部10b
の周辺においても同様である。
【００１６】また、Θ回転板16の外周部で軸10を中心と
する放射状位置３個所には平面形成ピン13が設けられて
いる。また、軸10には軸芯に直交する方向に突起部が設
けられており、Θ回転板16と固定されているので、平面
形成ピン13による上下方向の調整動は軸10に伝達される
ようになる。したがって、平面形成ピン13の調整により
軸10は傾きを抑制されるので、軸10によって支持されて
いるＺ板７は水平面を維持できることとなる。
する放射状位置３個所には平面形成ピン13が設けられて
いる。また、軸10には軸芯に直交する方向に突起部が設
けられており、Θ回転板16と固定されているので、平面
形成ピン13による上下方向の調整動は軸10に伝達される
ようになる。したがって、平面形成ピン13の調整により
軸10は傾きを抑制されるので、軸10によって支持されて
いるＺ板７は水平面を維持できることとなる。
【００１７】また、軸10には、Θ回転板16が中央部に形
成されている立ち上がり部17を介してビスにより固定さ
れている。立ち上がり部17の外周には、玉軸受け18を介
してカムリング19が設けられている。カムリング19の外
周３方には、フランジが等間隔に形成されており、フラ
ンジの上面にそれぞれカム20が設けられている。 図７
は、カム20近傍の拡大断面を示したものであり、カム20
の上面は傾斜面に形成されている。さらに、カム20の上
方には、カム軸板21とＺ板22とを固定ビス23で重ね合わ
せ、粗調用ボ−ル付ネジ24と微調用ボ−ル付ネジ25とを
有する調整体が設けられている。図８は、カム20周辺の
断面図であり、粗調用ボ−ル付ネジ24の先端に形成され
ているボ−ルがカム20の傾斜面に当接しており、カムリ
ング19とともにカム20が移動することにより、Ｚ板７が
３個所に設けられたカムとボールの接点によって形成さ
れる面を保持しながら上下動することとなる。つまり、
カム20の傾斜面の高い部分とボ−ルが当接するとＺ板７
は上昇し、傾斜面の低い部分と当接すると下降するよう
になるのである。なお、図４に示すようにカムリングの
フランジの一つには腕部26が突出形成されており、この
腕部26はＺ方向アクチュエ−タ27の出力軸に設けられた
ネジ機構にカムリングバネ28を介して圧接されており、
Ｚ方向アクチュエ−タ27の駆動によってカム20を有する
カムリング19が前記玉軸受け18の周囲を回動する。この
ような回動により前記のようにＺ板７の上下動が可能と
なるのである。
成されている立ち上がり部17を介してビスにより固定さ
れている。立ち上がり部17の外周には、玉軸受け18を介
してカムリング19が設けられている。カムリング19の外
周３方には、フランジが等間隔に形成されており、フラ
ンジの上面にそれぞれカム20が設けられている。 図７
は、カム20近傍の拡大断面を示したものであり、カム20
の上面は傾斜面に形成されている。さらに、カム20の上
方には、カム軸板21とＺ板22とを固定ビス23で重ね合わ
せ、粗調用ボ−ル付ネジ24と微調用ボ−ル付ネジ25とを
有する調整体が設けられている。図８は、カム20周辺の
断面図であり、粗調用ボ−ル付ネジ24の先端に形成され
ているボ−ルがカム20の傾斜面に当接しており、カムリ
ング19とともにカム20が移動することにより、Ｚ板７が
３個所に設けられたカムとボールの接点によって形成さ
れる面を保持しながら上下動することとなる。つまり、
カム20の傾斜面の高い部分とボ−ルが当接するとＺ板７
は上昇し、傾斜面の低い部分と当接すると下降するよう
になるのである。なお、図４に示すようにカムリングの
フランジの一つには腕部26が突出形成されており、この
腕部26はＺ方向アクチュエ−タ27の出力軸に設けられた
ネジ機構にカムリングバネ28を介して圧接されており、
Ｚ方向アクチュエ−タ27の駆動によってカム20を有する
カムリング19が前記玉軸受け18の周囲を回動する。この
ような回動により前記のようにＺ板７の上下動が可能と
なるのである。
【００１８】さらに、図９の平面図に示すようにΘ回転
板16には腕31が突出形成されており、この腕31は図10の
断面図に示すようにＰＺＴ受け32に設けられたボ−ル33
に当接している。ＰＺＴ受け32は、ＰＺＴホルダ34に保
持されたＰＺＴ35を受けており、ＰＺＴホルダ34はボ−
ルネジのナット36に固定されている。ナット36には、バ
ックラッシュが低減されるようにコイルバネ37が連結さ
れており、またカップリング38、減速機39を介してΘ回
転駆動モ−タ40が連結され駆動するようになっている。
なお、Θ回転板16は図１および図11に示すように、Θ抑
え５に設けられたボ−ル付プランジャ−ネジ41により上
下動が規制されるようになっている。
板16には腕31が突出形成されており、この腕31は図10の
断面図に示すようにＰＺＴ受け32に設けられたボ−ル33
に当接している。ＰＺＴ受け32は、ＰＺＴホルダ34に保
持されたＰＺＴ35を受けており、ＰＺＴホルダ34はボ−
ルネジのナット36に固定されている。ナット36には、バ
ックラッシュが低減されるようにコイルバネ37が連結さ
れており、またカップリング38、減速機39を介してΘ回
転駆動モ−タ40が連結され駆動するようになっている。
なお、Θ回転板16は図１および図11に示すように、Θ抑
え５に設けられたボ−ル付プランジャ−ネジ41により上
下動が規制されるようになっている。
【００１９】また、カムリング19には図10に示すよう
に、同軸で回転するセンサ遮光板42が取りつけられてお
り、このセンサ遮光板42の扇型開角部にカムリング回転
角左回り終点検出用の光電式リミットセンサ43が設けら
れ、カムリング19の回転情報を前記Ｚ回転駆動モ−タ45
に供給して制御するようになっている。なお（図示しな
い）右回り終点センサについても同様である。
に、同軸で回転するセンサ遮光板42が取りつけられてお
り、このセンサ遮光板42の扇型開角部にカムリング回転
角左回り終点検出用の光電式リミットセンサ43が設けら
れ、カムリング19の回転情報を前記Ｚ回転駆動モ−タ45
に供給して制御するようになっている。なお（図示しな
い）右回り終点センサについても同様である。
【００２０】以上のごとく構成されているので、トップ
プレ−ト３のΘ方向、Ｚ方向の粗動と微動調整は次のよ
うにして行われる。先ず、Θ方向の調整をするには、Θ
回転駆動用モ−タ40によりΘ回転板16の腕31を移動させ
て粗動調整をする。また、ＰＺＴ35の駆動により微動調
整をする。次にＺ方向の調整をするには、図10に示すよ
うにモ−タ受け44に保持されたＺ方向駆動用モ−タ45と
カムリング19とによって粗動が行われる。また、図５に
示すようにＺ微動用ＰＺＴ６により直接トッププレ−ト
３を上下方向に微動調整する。さらに、３個のＰＺＴに
印加する電圧それぞれを変えることによりレベリングを
行う。
プレ−ト３のΘ方向、Ｚ方向の粗動と微動調整は次のよ
うにして行われる。先ず、Θ方向の調整をするには、Θ
回転駆動用モ−タ40によりΘ回転板16の腕31を移動させ
て粗動調整をする。また、ＰＺＴ35の駆動により微動調
整をする。次にＺ方向の調整をするには、図10に示すよ
うにモ−タ受け44に保持されたＺ方向駆動用モ−タ45と
カムリング19とによって粗動が行われる。また、図５に
示すようにＺ微動用ＰＺＴ６により直接トッププレ−ト
３を上下方向に微動調整する。さらに、３個のＰＺＴに
印加する電圧それぞれを変えることによりレベリングを
行う。
【００２１】
【発明の効果】以上のごとく本発明によれば、Θ回転板
に固定した軸を軸受けに３点接触状態にラジアル方向の
ガタを無くすように接合させるとともに、平面形成ピン
により軸の傾きを抑制するようにしているので、Θ方向
の回転負荷が軽減しモ−タの発熱を減少させることがで
きる。また、Ｚ方向の移動においてもガタ無く安定させ
ることができる。
に固定した軸を軸受けに３点接触状態にラジアル方向の
ガタを無くすように接合させるとともに、平面形成ピン
により軸の傾きを抑制するようにしているので、Θ方向
の回転負荷が軽減しモ−タの発熱を減少させることがで
きる。また、Ｚ方向の移動においてもガタ無く安定させ
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】装置の全体概要図である。
【図２】ウエアを載置した状態の平面図である。
【図３】トッププレ−トの平面図である。
【図４】Ｚ板の平面図である。
【図５】Ｚ微動用ＰＺＴの正面図である。
【図６】軸受け部近傍の断面図である。
【図７】カムの拡大断面図である。
【図８】カム近傍の断面図である。
【図９】Θ回転板の平面図である。
【図１０】Θ回転駆動用アクチュエ−タ近傍の断面図で
ある。
ある。
【図１１】Θ抑え近傍の断面図である。
【図１２】従来の露光装置の全体斜視図である。
【図１３】ΘＺステ−ジの断面図である。
【図１４】ΘＺステ−ジの平面図である。
【図１５】インチワームの概要図および動作説明図であ
る。
る。
３ トッププレ−ト ６ Ｚ微動用ＰＺＴ ７ Ｚ板 10 軸 11 軸受け 13 平面形成ピン 16 Θ回転板 17 カムリング 18 玉軸受け 30 大径玉軸受け
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027 G03F 9/00 H01L 21/68 G12B 5/00
Claims (1)
- 【請求項１】 水平面内を回転可能であるとともにこの
回転面に対する垂直方向に上下動可能な位置決めステ−
ジにおいて、 位置決めステ−ジを支持するステ−ジ支
軸の軸受け部との接合部分を球面形成し、接合する一方
向からラジアル方向のガタを除去するように予圧をかけ
ながら軸受け部を球面と３点接合させて、回転動および
上下動および水平面に垂直方向の軸に対するアキシャル
ふれの動きを可能とする構成にし、ステ−ジ支軸を中心
とする放射状位置に連結部材を介してステ−ジ支軸に連
結する３個の位置決めステ−ジの水平面保持用ピンを配
設したことを特徴とする位置決めステージ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13868491A JP3086006B2 (ja) | 1991-05-15 | 1991-05-15 | 位置決めステージ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13868491A JP3086006B2 (ja) | 1991-05-15 | 1991-05-15 | 位置決めステージ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04338626A JPH04338626A (ja) | 1992-11-25 |
| JP3086006B2 true JP3086006B2 (ja) | 2000-09-11 |
Family
ID=15227693
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13868491A Expired - Fee Related JP3086006B2 (ja) | 1991-05-15 | 1991-05-15 | 位置決めステージ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3086006B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100256085B1 (ko) * | 1997-01-24 | 2000-05-01 | 구자홍 | 미세칩 위치 결정장치 |
| JP5102358B2 (ja) * | 2008-06-03 | 2012-12-19 | 株式会社アルバック | アライメント機能付きステージ及びこのアライメント機能付きステージを備えた処理装置 |
| CN109533087B (zh) * | 2018-11-14 | 2020-12-25 | 南昌航空大学 | 一种四轮平衡装置 |
-
1991
- 1991-05-15 JP JP13868491A patent/JP3086006B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04338626A (ja) | 1992-11-25 |
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