JPH04338626A - 位置決めステージ装置 - Google Patents
位置決めステージ装置Info
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- JPH04338626A JPH04338626A JP3138684A JP13868491A JPH04338626A JP H04338626 A JPH04338626 A JP H04338626A JP 3138684 A JP3138684 A JP 3138684A JP 13868491 A JP13868491 A JP 13868491A JP H04338626 A JPH04338626 A JP H04338626A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、水平面内を回転可能で
あるとともにこの回転面に対する垂直方向に上下動可能
な位置決めステージに関するもので特に半導体製造装置
の露光装置の分野でウエハにマスクパタ−ンを露光させ
る際に使用する位置決めステ−ジに関するものである。
あるとともにこの回転面に対する垂直方向に上下動可能
な位置決めステージに関するもので特に半導体製造装置
の露光装置の分野でウエハにマスクパタ−ンを露光させ
る際に使用する位置決めステ−ジに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造装置において、ウエハ上にマ
スクパタ−ンを露光させる場合、水平面内における１方
向（Ｘ方向）とこれに直交する他方向（Ｙ方向）に駆動
可能なＸＹステ−ジ上方の載置台にウエハを載置する。 さらにこのＸＹステ−ジの上に水平面内における回転方
向（Θ方向）と、この水平面に直交する方向（Ｚ方向）
と、Ｘ軸に対する回転（α方向）、Ｙ軸に対する回転（
β方向）に調整移動可能なΘＺαβステ−ジを設けてウ
エハの適正位置を保持させて露光作業を行う。
スクパタ−ンを露光させる場合、水平面内における１方
向（Ｘ方向）とこれに直交する他方向（Ｙ方向）に駆動
可能なＸＹステ−ジ上方の載置台にウエハを載置する。 さらにこのＸＹステ−ジの上に水平面内における回転方
向（Θ方向）と、この水平面に直交する方向（Ｚ方向）
と、Ｘ軸に対する回転（α方向）、Ｙ軸に対する回転（
β方向）に調整移動可能なΘＺαβステ−ジを設けてウ
エハの適正位置を保持させて露光作業を行う。
【０００３】一般に露光装置は、図１２に示すようにＬ
字型ミラ−５０とレ−ザ干渉器５１とによって位置制御
が行われるＸステ−ジ５２、Ｙステ−ジ５３の上部中央
にΘＺステ−ジ５４を設け、レチクルに対してウエハの
位置を適正に位置合わせして露光するようになっている
。この場合、Θ方向の駆動機構は回転成分誤差を除去す
るためのものであり、粗動（分解能１０μｒａｄ 相当
） と微動（分解能１μｒａｄ 相当） 調整すること
により行う。また、Ｚ方向の駆動機構は投影レンズ５４
に対する高さ方向の位置合わせをするためのものであり
、やはり粗動（分解能１〜２μｍ）と微動（分解能０．
０１μｍ）調整することにより行う。なお、露光は反射
鏡５６を有する光源５６からの光を、コンデンサレンズ
５７、レチクル５８、投影レンズ５４を透過させて行う
。
字型ミラ−５０とレ−ザ干渉器５１とによって位置制御
が行われるＸステ−ジ５２、Ｙステ−ジ５３の上部中央
にΘＺステ−ジ５４を設け、レチクルに対してウエハの
位置を適正に位置合わせして露光するようになっている
。この場合、Θ方向の駆動機構は回転成分誤差を除去す
るためのものであり、粗動（分解能１０μｒａｄ 相当
） と微動（分解能１μｒａｄ 相当） 調整すること
により行う。また、Ｚ方向の駆動機構は投影レンズ５４
に対する高さ方向の位置合わせをするためのものであり
、やはり粗動（分解能１〜２μｍ）と微動（分解能０．
０１μｍ）調整することにより行う。なお、露光は反射
鏡５６を有する光源５６からの光を、コンデンサレンズ
５７、レチクル５８、投影レンズ５４を透過させて行う
。
【０００４】ウエハを載置した台を水平面内のＸ、Ｙ、
Θ方向に動作させる場合の動作量は、レチクルとウエハ
のマ−クを用いたアライメント法によって決定される。 また、Ｚ方向及びα， β方向に動作させる場合は、投
影レンズ５４とウエハ間の距離をオ−トフォ−カス検出
器によって検出し、検出信号に基づいてフィ−ドバック
し駆動量を調整する。なお、これらの位置決め手段の具
体的構成についての説明は省略する。以上のごとくして
、ウエハを適正位置にセットした後に露光過程に入り、
Ｘ方向、Ｙ方向の移動動作を繰り返しながら各チップが
順次焼きつけ露光されるのである。
Θ方向に動作させる場合の動作量は、レチクルとウエハ
のマ−クを用いたアライメント法によって決定される。 また、Ｚ方向及びα， β方向に動作させる場合は、投
影レンズ５４とウエハ間の距離をオ−トフォ−カス検出
器によって検出し、検出信号に基づいてフィ−ドバック
し駆動量を調整する。なお、これらの位置決め手段の具
体的構成についての説明は省略する。以上のごとくして
、ウエハを適正位置にセットした後に露光過程に入り、
Ｘ方向、Ｙ方向の移動動作を繰り返しながら各チップが
順次焼きつけ露光されるのである。
【０００５】図１３以降に示したものは、上記位置決め
手段のうちのΘ方向、Ｚ方向に移動調整するための従来
例である。これは、刊行物「自動化技術」（１９８７，
第１９巻第９号）に開示されているものである。図１
３はΘ、Ｚステ−ジの縦断面図であり、図１４は平面図
である。Θ回転板５９は円柱状の回転軸６０により回転
するようになっており、さらにこの回転軸６０は傾きを
防止するために、外周面に対して３方向から摩擦するよ
うに支持する部材が設けられている（接合個所が線状で
ある３線摩擦方式）。 また、その内の１方向からの支持部材は、バネ性を有し
ており、この支持部材に付設されているネジにより、傾
きとラジアル方向のガタが生じないように与圧調整され
ている。また、Θ回転板５９の外周部の３個所には、ベ
−ス６１との平行面を保持するための平面受けピン６２
が設けられているとともに、Θ回転板５９の上面はスプ
リング６３で押さえてあり浮き上がりを防止するように
なっている。
手段のうちのΘ方向、Ｚ方向に移動調整するための従来
例である。これは、刊行物「自動化技術」（１９８７，
第１９巻第９号）に開示されているものである。図１
３はΘ、Ｚステ−ジの縦断面図であり、図１４は平面図
である。Θ回転板５９は円柱状の回転軸６０により回転
するようになっており、さらにこの回転軸６０は傾きを
防止するために、外周面に対して３方向から摩擦するよ
うに支持する部材が設けられている（接合個所が線状で
ある３線摩擦方式）。 また、その内の１方向からの支持部材は、バネ性を有し
ており、この支持部材に付設されているネジにより、傾
きとラジアル方向のガタが生じないように与圧調整され
ている。また、Θ回転板５９の外周部の３個所には、ベ
−ス６１との平行面を保持するための平面受けピン６２
が設けられているとともに、Θ回転板５９の上面はスプ
リング６３で押さえてあり浮き上がりを防止するように
なっている。
【０００６】Θ回転板５９を粗・微動させるには、Θ回
転板５９の外周部の一部にレバ−部６４を形成し、この
レバ−部６４を送りナット６５とその移動を受ける微動
用ＰＺＴ６６を介して進退動させながら行う。そして、
粗動はステッピングモ−タ６７と高精度リ−ドネジ６８
の動作によって行わせ、微動はＰＺＴホルダ６９内に設
けられた微動用ＰＺＴ６６の動作によって行わせるよう
になっている。
転板５９の外周部の一部にレバ−部６４を形成し、この
レバ−部６４を送りナット６５とその移動を受ける微動
用ＰＺＴ６６を介して進退動させながら行う。そして、
粗動はステッピングモ−タ６７と高精度リ−ドネジ６８
の動作によって行わせ、微動はＰＺＴホルダ６９内に設
けられた微動用ＰＺＴ６６の動作によって行わせるよう
になっている。
【０００７】次に、Ｚ方向の粗動はインチワ−ムモ−タ
７０を用いて行う。図１５Ａ、Ｂはインチワ−ムの概要
図と動作説明図である。このようにインチワ−ムモ−タ
７０は、上下２個の円筒部を弾性ヒンジバネで接続した
圧電アクチュエ−タ・ホルダ部７１、保持レバ−７２、
７３でホルダ円筒部に対して押圧保持する可動部７４と
、ホルダと保持レバ−を駆動する圧電アクチュエ−タを
有している。 図１５Ｂに示すように、各圧電アクチュエ−タへの電圧
印加を順次切り換えることによって、円筒部を尺取り虫
が動くように上下変位を繰り返させるのである。この場
合、上昇、下降のそれぞれの変位は２．５ μｍ／ステ
ップとなっている。以上のごとくして、トッププレ−ト
上のウエハ７５の適正な位置決めができるのである。
７０を用いて行う。図１５Ａ、Ｂはインチワ−ムの概要
図と動作説明図である。このようにインチワ−ムモ−タ
７０は、上下２個の円筒部を弾性ヒンジバネで接続した
圧電アクチュエ−タ・ホルダ部７１、保持レバ−７２、
７３でホルダ円筒部に対して押圧保持する可動部７４と
、ホルダと保持レバ−を駆動する圧電アクチュエ−タを
有している。 図１５Ｂに示すように、各圧電アクチュエ−タへの電圧
印加を順次切り換えることによって、円筒部を尺取り虫
が動くように上下変位を繰り返させるのである。この場
合、上昇、下降のそれぞれの変位は２．５ μｍ／ステ
ップとなっている。以上のごとくして、トッププレ−ト
上のウエハ７５の適正な位置決めができるのである。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記従来例は、Θ回転
板５９を微動させる場合に圧電素子（ストロ−ク１０μ
ｍ）を用いて行うように構成してあるので、回転軸６０
のガタ（傾きとラジアル）及び高精度リ−ドネジ６８の
バックラッシュ等スラスト方向のガタ成分をできるだけ
とらなければならず、回転軸６０に対する与圧圧力を高
めに設定しなければならない。すると、ステッピングモ
−タ６７の回転負荷が大となりステッピングモ−タ６７
の発熱原因となってしまう。この発熱は、装置の周辺部
材の膨張を招き、ウエハを数μｍ 上方に変位させてし
まうこととなり、投影レンズが有している焦点深度を遙
かに超えてしまい適正な露光ができないという不具合が
あった。また、３線摩擦方式により支持された軸の傾き
と、Θ回転板外周部３個所の平面受けピンにより形成さ
れた面の軸に対する傾きが合っていないと、スプリング
あるいは全体の荷重による力で軸部あるいは平面受けピ
ンにかかる力のバランスがくずれ、回転動作中に荷重変
動が発生し、軸の傾き（平面）が変動してしまう。
板５９を微動させる場合に圧電素子（ストロ−ク１０μ
ｍ）を用いて行うように構成してあるので、回転軸６０
のガタ（傾きとラジアル）及び高精度リ−ドネジ６８の
バックラッシュ等スラスト方向のガタ成分をできるだけ
とらなければならず、回転軸６０に対する与圧圧力を高
めに設定しなければならない。すると、ステッピングモ
−タ６７の回転負荷が大となりステッピングモ−タ６７
の発熱原因となってしまう。この発熱は、装置の周辺部
材の膨張を招き、ウエハを数μｍ 上方に変位させてし
まうこととなり、投影レンズが有している焦点深度を遙
かに超えてしまい適正な露光ができないという不具合が
あった。また、３線摩擦方式により支持された軸の傾き
と、Θ回転板外周部３個所の平面受けピンにより形成さ
れた面の軸に対する傾きが合っていないと、スプリング
あるいは全体の荷重による力で軸部あるいは平面受けピ
ンにかかる力のバランスがくずれ、回転動作中に荷重変
動が発生し、軸の傾き（平面）が変動してしまう。
【０００９】また、Ｚ方向の移動をさせるための構成に
おけるインチワ−ムモ−タは、圧電アクチュエ−タ・ホ
ルダ部７１のＰＺＴホルダ７１ａ と可動部７４との３
個所の接触部（３線接触部）において磨耗が生じ、動作
中に滑り現象が起こり一定の変位量を得られないという
不具合があった。さらに、可動部７４の保持レバ−７２
、７３の強度が十分でない時、或いは上下の保持レバ−
の押圧バランスが異なっていると動作中にＺ軸が傾いて
しまい、いわゆる首振り現象を生じさせてしまうという
不具合があった。この首振りは、ウエハの位置合わせ精
度に極めて大きな影響を与えてしまうのである。
おけるインチワ−ムモ−タは、圧電アクチュエ−タ・ホ
ルダ部７１のＰＺＴホルダ７１ａ と可動部７４との３
個所の接触部（３線接触部）において磨耗が生じ、動作
中に滑り現象が起こり一定の変位量を得られないという
不具合があった。さらに、可動部７４の保持レバ−７２
、７３の強度が十分でない時、或いは上下の保持レバ−
の押圧バランスが異なっていると動作中にＺ軸が傾いて
しまい、いわゆる首振り現象を生じさせてしまうという
不具合があった。この首振りは、ウエハの位置合わせ精
度に極めて大きな影響を与えてしまうのである。
【００１０】本発明は、上記不具合を解決すべく提案さ
れるもので、ΘＺステ−ジの操作によりウエハをレチク
ルに対して適正な位置決めをし、精度の高い位置合わせ
を実現できる位置決めステージ装置を提供することを目
的としたものである。
れるもので、ΘＺステ−ジの操作によりウエハをレチク
ルに対して適正な位置決めをし、精度の高い位置合わせ
を実現できる位置決めステージ装置を提供することを目
的としたものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため、水平面内を回転可能であるとともにこの回転
面に対する垂直方向に上下動可能な位置決めステ−ジに
おいて、位置決めステ−ジを支持するステ−ジ支軸の軸
受け部との接合部分を球面形成し、接合する一方向から
ラジアル方向のガタを除去するように予圧をかけながら
軸受け部を球面と３点接合させて、回転動および上下動
および水平面に垂直方向の軸に対するアキシャルふれの
動きを可能とする構成にし、ステ−ジ支軸を中心とする
放射状位置に連結部材を介してステ−ジ支軸に連結する
３個の位置決めステ−ジの平面保持用ピンを配設したこ
とを特徴とする位置決めステージ装置とした。
するため、水平面内を回転可能であるとともにこの回転
面に対する垂直方向に上下動可能な位置決めステ−ジに
おいて、位置決めステ−ジを支持するステ−ジ支軸の軸
受け部との接合部分を球面形成し、接合する一方向から
ラジアル方向のガタを除去するように予圧をかけながら
軸受け部を球面と３点接合させて、回転動および上下動
および水平面に垂直方向の軸に対するアキシャルふれの
動きを可能とする構成にし、ステ−ジ支軸を中心とする
放射状位置に連結部材を介してステ−ジ支軸に連結する
３個の位置決めステ−ジの平面保持用ピンを配設したこ
とを特徴とする位置決めステージ装置とした。
【００１２】
【作用】以上のごとく、ステ−ジ支軸は軸受けに球面の
３点で支持されるようになっているので、摩擦面を最小
にしながらラジアル方向の運動のみが抑制され、他の方
向への自由度は確保される。さらに、平面保持用ピン３
点で形成される面によりステ−ジ支軸の傾きが抑制され
る。さらにＺ軸粗動は、３個所に設けられたカムとピン
で形成される面を保ちながら上下に移動することができ
る。したがって、ウエハを適正な位置に保持できるよう
になる。
３点で支持されるようになっているので、摩擦面を最小
にしながらラジアル方向の運動のみが抑制され、他の方
向への自由度は確保される。さらに、平面保持用ピン３
点で形成される面によりステ−ジ支軸の傾きが抑制され
る。さらにＺ軸粗動は、３個所に設けられたカムとピン
で形成される面を保ちながら上下に移動することができ
る。したがって、ウエハを適正な位置に保持できるよう
になる。
【００１３】
【実施例】以下図面を参照しながら、本発明の実施例を
説明していく。図１は、本発明に係る装置の全体概要図
であり、図２以下は各構成部分を示したものである。図
１には示されていないが、図２に示すようにウエハ１は
ウエハチャック２にセットされる。該ウエハチャック２
は、トッププレ−ト３にビス止め等により固定されるよ
うになっている。トッププレ−ト３は、図３の平面図に
示すように抑え部材５によりＺ方向（上下方向）に可動
であるが、Θ方向（回転方向）に固定状態に設けられて
いる。そして、Ｚ方向への微動とレベリングは、後述す
るＺ微動用ＰＺＴ６によりなされる。
説明していく。図１は、本発明に係る装置の全体概要図
であり、図２以下は各構成部分を示したものである。図
１には示されていないが、図２に示すようにウエハ１は
ウエハチャック２にセットされる。該ウエハチャック２
は、トッププレ−ト３にビス止め等により固定されるよ
うになっている。トッププレ−ト３は、図３の平面図に
示すように抑え部材５によりＺ方向（上下方向）に可動
であるが、Θ方向（回転方向）に固定状態に設けられて
いる。そして、Ｚ方向への微動とレベリングは、後述す
るＺ微動用ＰＺＴ６によりなされる。
【００１４】また、トッププレ−ト３は、図４の平面図
に示すようなほぼ三角形状の本体と三角形の頂点に相当
する個所に脚部を有するＺ板７に固定されている。この
Ｚ板７の脚部には、前記のＺ微動用ＰＺＴ６がトッププ
レ−ト３を上下動させることができるように設けられて
いる。Ｚ微動用ＰＺＴ６は、図５の正面図に示すように
ＰＺＴ８の内部にＰＺＴ９が配設されており、ＰＺＴ９
に電圧を印加することにより矢印方向に伸縮動するよう
になっている。そして、Ｚ板７の脚部３個所に設けられ
たＺ微動用ＰＺＴ６を各々伸縮動させることにより、前
記トッププレ−ト３をベ−ス４に対して傾き調整するこ
とができるとともに、３個のＺ微動用ＰＺＴ９が同時に
変位することによりトッププレ−ト３は、上下方向に平
行移動できる。
に示すようなほぼ三角形状の本体と三角形の頂点に相当
する個所に脚部を有するＺ板７に固定されている。この
Ｚ板７の脚部には、前記のＺ微動用ＰＺＴ６がトッププ
レ−ト３を上下動させることができるように設けられて
いる。Ｚ微動用ＰＺＴ６は、図５の正面図に示すように
ＰＺＴ８の内部にＰＺＴ９が配設されており、ＰＺＴ９
に電圧を印加することにより矢印方向に伸縮動するよう
になっている。そして、Ｚ板７の脚部３個所に設けられ
たＺ微動用ＰＺＴ６を各々伸縮動させることにより、前
記トッププレ−ト３をベ−ス４に対して傾き調整するこ
とができるとともに、３個のＺ微動用ＰＺＴ９が同時に
変位することによりトッププレ−ト３は、上下方向に平
行移動できる。
【００１５】また、図６Ａの軸受け部断面図に示すよう
に、Ｚ板７の中心に軸１０がほぼ垂直に配設されている
。 この軸１０には、上部軸受け１１ａと下部軸受け１１ｂ
が嵌合されている。軸１０の軸受け１１との接合個所
には、上部球面部１０ａ と下部球面部１０ｂ が形成
されており、それぞれ図６Ｂ、図６Ｃに示すように３点
で接合している。しかも、一つの接合点を形成する押圧
部材１１ａ−１ は、ビス１１ａ−２ を介して他の接
合点に向かってラジアル方向のガタを無くすように予圧
がかけられている。下部球面部１０ｂ の周辺において
も同様である。
に、Ｚ板７の中心に軸１０がほぼ垂直に配設されている
。 この軸１０には、上部軸受け１１ａと下部軸受け１１ｂ
が嵌合されている。軸１０の軸受け１１との接合個所
には、上部球面部１０ａ と下部球面部１０ｂ が形成
されており、それぞれ図６Ｂ、図６Ｃに示すように３点
で接合している。しかも、一つの接合点を形成する押圧
部材１１ａ−１ は、ビス１１ａ−２ を介して他の接
合点に向かってラジアル方向のガタを無くすように予圧
がかけられている。下部球面部１０ｂ の周辺において
も同様である。
【００１６】また、Θ回転板１６の外周部で軸１０を中
心とする放射状位置３個所には平面形成ピン１３が設け
られている。また、軸１０には軸芯に直交する方向に突
起部が設けられており、Θ回転板１６と固定されている
ので、平面形成ピン１３による上下方向の調整動は軸１
０に伝達されるようになる。したがって、平面形成ピン
１３の調整により軸１０は傾きを抑制されるので、軸１
０によって支持されているＺ板７は水平面を維持できる
こととなる。
心とする放射状位置３個所には平面形成ピン１３が設け
られている。また、軸１０には軸芯に直交する方向に突
起部が設けられており、Θ回転板１６と固定されている
ので、平面形成ピン１３による上下方向の調整動は軸１
０に伝達されるようになる。したがって、平面形成ピン
１３の調整により軸１０は傾きを抑制されるので、軸１
０によって支持されているＺ板７は水平面を維持できる
こととなる。
【００１７】また、軸１０には、Θ回転板１６が中央部
に形成されている立ち上がり部１７を介してビスにより
固定されている。立ち上がり部１７の外周には、玉軸受
け１８を介してカムリング１９が設けられている。カム
リング１９の外周３方には、フランジが等間隔に形成さ
れており、フランジの上面にそれぞれカム２０が設けら
れている。 図７は、カム２０近傍の拡大断面を示し
たものであり、カム２０の上面は傾斜面に形成されてい
る。さらに、カム２０の上方には、カム軸板２１とＺ板
２２とを固定ビス２３で重ね合わせ、粗調用ボ−ル付ネ
ジ２４と微調用ボ−ル付ネジ２５とを有する調整体が設
けられている。図８は、カム２０周辺の断面図であり、
粗調用ボ−ル付ネジ２４の先端に形成されているボ−ル
がカム２０の傾斜面に当接しており、カムリング１９と
ともにカム２０が移動することにより、Ｚ板７が３個所
に設けられたカムとボールの接点によって形成される面
を保持しながら上下動することとなる。つまり、カム２
０の傾斜面の高い部分とボ−ルが当接するとＺ板７は上
昇し、傾斜面の低い部分と当接すると下降するようにな
るのである。なお、図４に示すようにカムリングのフラ
ンジの一つには腕部２６が突出形成されており、この腕
部２６はＺ方向アクチュエ−タ２７の出力軸に設けられ
たネジ機構にカムリングバネ２８を介して圧接されてお
り、Ｚ方向アクチュエ−タ２７の駆動によってカム２０
を有するカムリング１９が前記玉軸受け１８の周囲を回
動する。このような回動により前記のようにＺ板７の上
下動が可能となるのである。
に形成されている立ち上がり部１７を介してビスにより
固定されている。立ち上がり部１７の外周には、玉軸受
け１８を介してカムリング１９が設けられている。カム
リング１９の外周３方には、フランジが等間隔に形成さ
れており、フランジの上面にそれぞれカム２０が設けら
れている。 図７は、カム２０近傍の拡大断面を示し
たものであり、カム２０の上面は傾斜面に形成されてい
る。さらに、カム２０の上方には、カム軸板２１とＺ板
２２とを固定ビス２３で重ね合わせ、粗調用ボ−ル付ネ
ジ２４と微調用ボ−ル付ネジ２５とを有する調整体が設
けられている。図８は、カム２０周辺の断面図であり、
粗調用ボ−ル付ネジ２４の先端に形成されているボ−ル
がカム２０の傾斜面に当接しており、カムリング１９と
ともにカム２０が移動することにより、Ｚ板７が３個所
に設けられたカムとボールの接点によって形成される面
を保持しながら上下動することとなる。つまり、カム２
０の傾斜面の高い部分とボ−ルが当接するとＺ板７は上
昇し、傾斜面の低い部分と当接すると下降するようにな
るのである。なお、図４に示すようにカムリングのフラ
ンジの一つには腕部２６が突出形成されており、この腕
部２６はＺ方向アクチュエ−タ２７の出力軸に設けられ
たネジ機構にカムリングバネ２８を介して圧接されてお
り、Ｚ方向アクチュエ−タ２７の駆動によってカム２０
を有するカムリング１９が前記玉軸受け１８の周囲を回
動する。このような回動により前記のようにＺ板７の上
下動が可能となるのである。
【００１８】さらに、図９の平面図に示すようにΘ回転
板１６には腕３１が突出形成されており、この腕３１は
図１０の断面図に示すようにＰＺＴ受け３２に設けられ
たボ−ル３３に当接している。ＰＺＴ受け３２は、ＰＺ
Ｔホルダ３４に保持されたＰＺＴ３５を受けており、Ｐ
ＺＴホルダ３４はボ−ルネジのナット３６に固定されて
いる。ナット３６には、バックラッシュが低減されるよ
うにコイルバネ３７が連結されており、またカップリン
グ３８、減速機３９を介してΘ回転駆動モ−タ４０が連
結され駆動するようになっている。 なお、Θ回転板１６は図１および図１１に示すように、
Θ抑え５に設けられたボ−ル付プランジャ−ネジ４１に
より上下動が規制されるようになっている。
板１６には腕３１が突出形成されており、この腕３１は
図１０の断面図に示すようにＰＺＴ受け３２に設けられ
たボ−ル３３に当接している。ＰＺＴ受け３２は、ＰＺ
Ｔホルダ３４に保持されたＰＺＴ３５を受けており、Ｐ
ＺＴホルダ３４はボ−ルネジのナット３６に固定されて
いる。ナット３６には、バックラッシュが低減されるよ
うにコイルバネ３７が連結されており、またカップリン
グ３８、減速機３９を介してΘ回転駆動モ−タ４０が連
結され駆動するようになっている。 なお、Θ回転板１６は図１および図１１に示すように、
Θ抑え５に設けられたボ−ル付プランジャ−ネジ４１に
より上下動が規制されるようになっている。
【００１９】また、カムリング１９には図１０に示すよ
うに、同軸で回転するセンサ遮光板４２が取りつけられ
ており、このセンサ遮光板４２の扇型開角部にカムリン
グ回転角左回り終点検出用の光電式リミットセンサ４３
が設けられ、カムリング１９の回転情報を前記Ｚ回転駆
動モ−タ４５に供給して制御するようになっている。な
お（図示しない）右回り終点センサについても同様であ
る。
うに、同軸で回転するセンサ遮光板４２が取りつけられ
ており、このセンサ遮光板４２の扇型開角部にカムリン
グ回転角左回り終点検出用の光電式リミットセンサ４３
が設けられ、カムリング１９の回転情報を前記Ｚ回転駆
動モ−タ４５に供給して制御するようになっている。な
お（図示しない）右回り終点センサについても同様であ
る。
【００２０】以上のごとく構成されているので、トップ
プレ−ト３のΘ方向、Ｚ方向の粗動と微動調整は次のよ
うにして行われる。先ず、Θ方向の調整をするには、Θ
回転駆動用モ−タ４０によりΘ回転板１６の腕３１を移
動させて粗動調整をする。また、ＰＺＴ３５の駆動によ
り微動調整をする。次にＺ方向の調整をするには、図１
０に示すようにモ−タ受け４４に保持されたＺ方向駆動
用モ−タ４５とカムリング１９とによって粗動が行われ
る。また、図５に示すようにＺ微動用ＰＺＴ６により直
接トッププレ−ト３を上下方向に微動調整する。さらに
、３個のＰＺＴに印加する電圧それぞれを変えることに
よりレベリングを行う。
プレ−ト３のΘ方向、Ｚ方向の粗動と微動調整は次のよ
うにして行われる。先ず、Θ方向の調整をするには、Θ
回転駆動用モ−タ４０によりΘ回転板１６の腕３１を移
動させて粗動調整をする。また、ＰＺＴ３５の駆動によ
り微動調整をする。次にＺ方向の調整をするには、図１
０に示すようにモ−タ受け４４に保持されたＺ方向駆動
用モ−タ４５とカムリング１９とによって粗動が行われ
る。また、図５に示すようにＺ微動用ＰＺＴ６により直
接トッププレ−ト３を上下方向に微動調整する。さらに
、３個のＰＺＴに印加する電圧それぞれを変えることに
よりレベリングを行う。
【００２１】
【発明の効果】以上のごとく本発明によれば、Θ回転板
に固定した軸を軸受けに３点接触状態にラジアル方向の
ガタを無くすように接合させるとともに、平面形成ピン
により軸の傾きを抑制するようにしているので、Θ方向
の回転負荷が軽減しモ−タの発熱を減少させることがで
きる。また、Ｚ方向の移動においてもガタ無く安定させ
ることができる。
に固定した軸を軸受けに３点接触状態にラジアル方向の
ガタを無くすように接合させるとともに、平面形成ピン
により軸の傾きを抑制するようにしているので、Θ方向
の回転負荷が軽減しモ−タの発熱を減少させることがで
きる。また、Ｚ方向の移動においてもガタ無く安定させ
ることができる。
【図１】装置の全体概要図である。
【図２】ウエアを載置した状態の平面図である。
【図３】トッププレ−トの平面図である。
【図４】Ｚ板の平面図である。
【図５】Ｚ微動用ＰＺＴの正面図である。
【図６】軸受け部近傍の断面図である。
【図７】カムの拡大断面図である。
【図８】カム近傍の断面図である。
【図９】Θ回転板の平面図である。
【図１０】Θ回転駆動用アクチュエ−タ近傍の断面図で
ある。
ある。
【図１１】Θ抑え近傍の断面図である。
【図１２】従来の露光装置の全体斜視図である。
【図１３】ΘＺステ−ジの断面図である。
【図１４】ΘＺステ−ジの平面図である。
【図１５】インチワームの概要図および動作説明図であ
る。
る。
３ トッププレ−ト
６ Ｚ微動用ＰＺＴ
７ Ｚ板
１０ 軸
１１ 軸受け
１３ 平面形成ピン
１６ Θ回転板
１７ カムリング
１８ 玉軸受け
３０ 大径玉軸受け
Claims (1)
- 【請求項１】 水平面内を回転可能であるとともにこ
の回転面に対する垂直方向に上下動可能な位置決めステ
−ジにおいて、 位置決めステ−ジを支持するステ−
ジ支軸の軸受け部との接合部分を球面形成し、接合する
一方向からラジアル方向のガタを除去するように予圧を
かけながら軸受け部を球面と３点接合させて、回転動お
よび上下動および水平面に垂直方向の軸に対するアキシ
ャルふれの動きを可能とする構成にし、ステ−ジ支軸を
中心とする放射状位置に連結部材を介してステ−ジ支軸
に連結する３個の位置決めステ−ジの水平面保持用ピン
を配設したことを特徴とする位置決めステージ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13868491A JP3086006B2 (ja) | 1991-05-15 | 1991-05-15 | 位置決めステージ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13868491A JP3086006B2 (ja) | 1991-05-15 | 1991-05-15 | 位置決めステージ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04338626A true JPH04338626A (ja) | 1992-11-25 |
| JP3086006B2 JP3086006B2 (ja) | 2000-09-11 |
Family
ID=15227693
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13868491A Expired - Fee Related JP3086006B2 (ja) | 1991-05-15 | 1991-05-15 | 位置決めステージ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3086006B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100256085B1 (ko) * | 1997-01-24 | 2000-05-01 | 구자홍 | 미세칩 위치 결정장치 |
| WO2009148070A1 (ja) * | 2008-06-03 | 2009-12-10 | 株式会社アルバック | アライメント機能付きステージ及びこのアライメント機能付きステージを備えた処理装置並びに基板アライメント方法 |
| CN109533087A (zh) * | 2018-11-14 | 2019-03-29 | 南昌航空大学 | 一种四轮平衡装置 |
-
1991
- 1991-05-15 JP JP13868491A patent/JP3086006B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100256085B1 (ko) * | 1997-01-24 | 2000-05-01 | 구자홍 | 미세칩 위치 결정장치 |
| WO2009148070A1 (ja) * | 2008-06-03 | 2009-12-10 | 株式会社アルバック | アライメント機能付きステージ及びこのアライメント機能付きステージを備えた処理装置並びに基板アライメント方法 |
| CN109533087A (zh) * | 2018-11-14 | 2019-03-29 | 南昌航空大学 | 一种四轮平衡装置 |
| CN109533087B (zh) * | 2018-11-14 | 2020-12-25 | 南昌航空大学 | 一种四轮平衡装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3086006B2 (ja) | 2000-09-11 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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