JPH04338626A - 位置決めステージ装置 - Google Patents
位置決めステージ装置Info
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- JPH04338626A JPH04338626A JP3138684A JP13868491A JPH04338626A JP H04338626 A JPH04338626 A JP H04338626A JP 3138684 A JP3138684 A JP 3138684A JP 13868491 A JP13868491 A JP 13868491A JP H04338626 A JPH04338626 A JP H04338626A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、水平面内を回転可能で
あるとともにこの回転面に対する垂直方向に上下動可能
な位置決めステージに関するもので特に半導体製造装置
の露光装置の分野でウエハにマスクパタ−ンを露光させ
る際に使用する位置決めステ−ジに関するものである。
あるとともにこの回転面に対する垂直方向に上下動可能
な位置決めステージに関するもので特に半導体製造装置
の露光装置の分野でウエハにマスクパタ−ンを露光させ
る際に使用する位置決めステ−ジに関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体製造装置において、ウエハ上にマ
スクパタ−ンを露光させる場合、水平面内における1方
向(X方向)とこれに直交する他方向(Y方向)に駆動
可能なXYステ−ジ上方の載置台にウエハを載置する。 さらにこのXYステ−ジの上に水平面内における回転方
向(Θ方向)と、この水平面に直交する方向(Z方向)
と、X軸に対する回転(α方向)、Y軸に対する回転(
β方向)に調整移動可能なΘZαβステ−ジを設けてウ
エハの適正位置を保持させて露光作業を行う。
スクパタ−ンを露光させる場合、水平面内における1方
向(X方向)とこれに直交する他方向(Y方向)に駆動
可能なXYステ−ジ上方の載置台にウエハを載置する。 さらにこのXYステ−ジの上に水平面内における回転方
向(Θ方向)と、この水平面に直交する方向(Z方向)
と、X軸に対する回転(α方向)、Y軸に対する回転(
β方向)に調整移動可能なΘZαβステ−ジを設けてウ
エハの適正位置を保持させて露光作業を行う。
【0003】一般に露光装置は、図12に示すようにL
字型ミラ−50とレ−ザ干渉器51とによって位置制御
が行われるXステ−ジ52、Yステ−ジ53の上部中央
にΘZステ−ジ54を設け、レチクルに対してウエハの
位置を適正に位置合わせして露光するようになっている
。この場合、Θ方向の駆動機構は回転成分誤差を除去す
るためのものであり、粗動(分解能10μrad 相当
) と微動(分解能1μrad 相当) 調整すること
により行う。また、Z方向の駆動機構は投影レンズ54
に対する高さ方向の位置合わせをするためのものであり
、やはり粗動(分解能1〜2μm)と微動(分解能0.
01μm)調整することにより行う。なお、露光は反射
鏡56を有する光源56からの光を、コンデンサレンズ
57、レチクル58、投影レンズ54を透過させて行う
。
字型ミラ−50とレ−ザ干渉器51とによって位置制御
が行われるXステ−ジ52、Yステ−ジ53の上部中央
にΘZステ−ジ54を設け、レチクルに対してウエハの
位置を適正に位置合わせして露光するようになっている
。この場合、Θ方向の駆動機構は回転成分誤差を除去す
るためのものであり、粗動(分解能10μrad 相当
) と微動(分解能1μrad 相当) 調整すること
により行う。また、Z方向の駆動機構は投影レンズ54
に対する高さ方向の位置合わせをするためのものであり
、やはり粗動(分解能1〜2μm)と微動(分解能0.
01μm)調整することにより行う。なお、露光は反射
鏡56を有する光源56からの光を、コンデンサレンズ
57、レチクル58、投影レンズ54を透過させて行う
。
【0004】ウエハを載置した台を水平面内のX、Y、
Θ方向に動作させる場合の動作量は、レチクルとウエハ
のマ−クを用いたアライメント法によって決定される。 また、Z方向及びα, β方向に動作させる場合は、投
影レンズ54とウエハ間の距離をオ−トフォ−カス検出
器によって検出し、検出信号に基づいてフィ−ドバック
し駆動量を調整する。なお、これらの位置決め手段の具
体的構成についての説明は省略する。以上のごとくして
、ウエハを適正位置にセットした後に露光過程に入り、
X方向、Y方向の移動動作を繰り返しながら各チップが
順次焼きつけ露光されるのである。
Θ方向に動作させる場合の動作量は、レチクルとウエハ
のマ−クを用いたアライメント法によって決定される。 また、Z方向及びα, β方向に動作させる場合は、投
影レンズ54とウエハ間の距離をオ−トフォ−カス検出
器によって検出し、検出信号に基づいてフィ−ドバック
し駆動量を調整する。なお、これらの位置決め手段の具
体的構成についての説明は省略する。以上のごとくして
、ウエハを適正位置にセットした後に露光過程に入り、
X方向、Y方向の移動動作を繰り返しながら各チップが
順次焼きつけ露光されるのである。
【0005】図13以降に示したものは、上記位置決め
手段のうちのΘ方向、Z方向に移動調整するための従来
例である。これは、刊行物「自動化技術」(1987,
第19巻第9号)に開示されているものである。図1
3はΘ、Zステ−ジの縦断面図であり、図14は平面図
である。Θ回転板59は円柱状の回転軸60により回転
するようになっており、さらにこの回転軸60は傾きを
防止するために、外周面に対して3方向から摩擦するよ
うに支持する部材が設けられている(接合個所が線状で
ある3線摩擦方式)。 また、その内の1方向からの支持部材は、バネ性を有し
ており、この支持部材に付設されているネジにより、傾
きとラジアル方向のガタが生じないように与圧調整され
ている。また、Θ回転板59の外周部の3個所には、ベ
−ス61との平行面を保持するための平面受けピン62
が設けられているとともに、Θ回転板59の上面はスプ
リング63で押さえてあり浮き上がりを防止するように
なっている。
手段のうちのΘ方向、Z方向に移動調整するための従来
例である。これは、刊行物「自動化技術」(1987,
第19巻第9号)に開示されているものである。図1
3はΘ、Zステ−ジの縦断面図であり、図14は平面図
である。Θ回転板59は円柱状の回転軸60により回転
するようになっており、さらにこの回転軸60は傾きを
防止するために、外周面に対して3方向から摩擦するよ
うに支持する部材が設けられている(接合個所が線状で
ある3線摩擦方式)。 また、その内の1方向からの支持部材は、バネ性を有し
ており、この支持部材に付設されているネジにより、傾
きとラジアル方向のガタが生じないように与圧調整され
ている。また、Θ回転板59の外周部の3個所には、ベ
−ス61との平行面を保持するための平面受けピン62
が設けられているとともに、Θ回転板59の上面はスプ
リング63で押さえてあり浮き上がりを防止するように
なっている。
【0006】Θ回転板59を粗・微動させるには、Θ回
転板59の外周部の一部にレバ−部64を形成し、この
レバ−部64を送りナット65とその移動を受ける微動
用PZT66を介して進退動させながら行う。そして、
粗動はステッピングモ−タ67と高精度リ−ドネジ68
の動作によって行わせ、微動はPZTホルダ69内に設
けられた微動用PZT66の動作によって行わせるよう
になっている。
転板59の外周部の一部にレバ−部64を形成し、この
レバ−部64を送りナット65とその移動を受ける微動
用PZT66を介して進退動させながら行う。そして、
粗動はステッピングモ−タ67と高精度リ−ドネジ68
の動作によって行わせ、微動はPZTホルダ69内に設
けられた微動用PZT66の動作によって行わせるよう
になっている。
【0007】次に、Z方向の粗動はインチワ−ムモ−タ
70を用いて行う。図15A、Bはインチワ−ムの概要
図と動作説明図である。このようにインチワ−ムモ−タ
70は、上下2個の円筒部を弾性ヒンジバネで接続した
圧電アクチュエ−タ・ホルダ部71、保持レバ−72、
73でホルダ円筒部に対して押圧保持する可動部74と
、ホルダと保持レバ−を駆動する圧電アクチュエ−タを
有している。 図15Bに示すように、各圧電アクチュエ−タへの電圧
印加を順次切り換えることによって、円筒部を尺取り虫
が動くように上下変位を繰り返させるのである。この場
合、上昇、下降のそれぞれの変位は2.5 μm/ステ
ップとなっている。以上のごとくして、トッププレ−ト
上のウエハ75の適正な位置決めができるのである。
70を用いて行う。図15A、Bはインチワ−ムの概要
図と動作説明図である。このようにインチワ−ムモ−タ
70は、上下2個の円筒部を弾性ヒンジバネで接続した
圧電アクチュエ−タ・ホルダ部71、保持レバ−72、
73でホルダ円筒部に対して押圧保持する可動部74と
、ホルダと保持レバ−を駆動する圧電アクチュエ−タを
有している。 図15Bに示すように、各圧電アクチュエ−タへの電圧
印加を順次切り換えることによって、円筒部を尺取り虫
が動くように上下変位を繰り返させるのである。この場
合、上昇、下降のそれぞれの変位は2.5 μm/ステ
ップとなっている。以上のごとくして、トッププレ−ト
上のウエハ75の適正な位置決めができるのである。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】上記従来例は、Θ回転
板59を微動させる場合に圧電素子(ストロ−ク10μ
m)を用いて行うように構成してあるので、回転軸60
のガタ(傾きとラジアル)及び高精度リ−ドネジ68の
バックラッシュ等スラスト方向のガタ成分をできるだけ
とらなければならず、回転軸60に対する与圧圧力を高
めに設定しなければならない。すると、ステッピングモ
−タ67の回転負荷が大となりステッピングモ−タ67
の発熱原因となってしまう。この発熱は、装置の周辺部
材の膨張を招き、ウエハを数μm 上方に変位させてし
まうこととなり、投影レンズが有している焦点深度を遙
かに超えてしまい適正な露光ができないという不具合が
あった。また、3線摩擦方式により支持された軸の傾き
と、Θ回転板外周部3個所の平面受けピンにより形成さ
れた面の軸に対する傾きが合っていないと、スプリング
あるいは全体の荷重による力で軸部あるいは平面受けピ
ンにかかる力のバランスがくずれ、回転動作中に荷重変
動が発生し、軸の傾き(平面)が変動してしまう。
板59を微動させる場合に圧電素子(ストロ−ク10μ
m)を用いて行うように構成してあるので、回転軸60
のガタ(傾きとラジアル)及び高精度リ−ドネジ68の
バックラッシュ等スラスト方向のガタ成分をできるだけ
とらなければならず、回転軸60に対する与圧圧力を高
めに設定しなければならない。すると、ステッピングモ
−タ67の回転負荷が大となりステッピングモ−タ67
の発熱原因となってしまう。この発熱は、装置の周辺部
材の膨張を招き、ウエハを数μm 上方に変位させてし
まうこととなり、投影レンズが有している焦点深度を遙
かに超えてしまい適正な露光ができないという不具合が
あった。また、3線摩擦方式により支持された軸の傾き
と、Θ回転板外周部3個所の平面受けピンにより形成さ
れた面の軸に対する傾きが合っていないと、スプリング
あるいは全体の荷重による力で軸部あるいは平面受けピ
ンにかかる力のバランスがくずれ、回転動作中に荷重変
動が発生し、軸の傾き(平面)が変動してしまう。
【0009】また、Z方向の移動をさせるための構成に
おけるインチワ−ムモ−タは、圧電アクチュエ−タ・ホ
ルダ部71のPZTホルダ71a と可動部74との3
個所の接触部(3線接触部)において磨耗が生じ、動作
中に滑り現象が起こり一定の変位量を得られないという
不具合があった。さらに、可動部74の保持レバ−72
、73の強度が十分でない時、或いは上下の保持レバ−
の押圧バランスが異なっていると動作中にZ軸が傾いて
しまい、いわゆる首振り現象を生じさせてしまうという
不具合があった。この首振りは、ウエハの位置合わせ精
度に極めて大きな影響を与えてしまうのである。
おけるインチワ−ムモ−タは、圧電アクチュエ−タ・ホ
ルダ部71のPZTホルダ71a と可動部74との3
個所の接触部(3線接触部)において磨耗が生じ、動作
中に滑り現象が起こり一定の変位量を得られないという
不具合があった。さらに、可動部74の保持レバ−72
、73の強度が十分でない時、或いは上下の保持レバ−
の押圧バランスが異なっていると動作中にZ軸が傾いて
しまい、いわゆる首振り現象を生じさせてしまうという
不具合があった。この首振りは、ウエハの位置合わせ精
度に極めて大きな影響を与えてしまうのである。
【0010】本発明は、上記不具合を解決すべく提案さ
れるもので、ΘZステ−ジの操作によりウエハをレチク
ルに対して適正な位置決めをし、精度の高い位置合わせ
を実現できる位置決めステージ装置を提供することを目
的としたものである。
れるもので、ΘZステ−ジの操作によりウエハをレチク
ルに対して適正な位置決めをし、精度の高い位置合わせ
を実現できる位置決めステージ装置を提供することを目
的としたものである。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため、水平面内を回転可能であるとともにこの回転
面に対する垂直方向に上下動可能な位置決めステ−ジに
おいて、位置決めステ−ジを支持するステ−ジ支軸の軸
受け部との接合部分を球面形成し、接合する一方向から
ラジアル方向のガタを除去するように予圧をかけながら
軸受け部を球面と3点接合させて、回転動および上下動
および水平面に垂直方向の軸に対するアキシャルふれの
動きを可能とする構成にし、ステ−ジ支軸を中心とする
放射状位置に連結部材を介してステ−ジ支軸に連結する
3個の位置決めステ−ジの平面保持用ピンを配設したこ
とを特徴とする位置決めステージ装置とした。
するため、水平面内を回転可能であるとともにこの回転
面に対する垂直方向に上下動可能な位置決めステ−ジに
おいて、位置決めステ−ジを支持するステ−ジ支軸の軸
受け部との接合部分を球面形成し、接合する一方向から
ラジアル方向のガタを除去するように予圧をかけながら
軸受け部を球面と3点接合させて、回転動および上下動
および水平面に垂直方向の軸に対するアキシャルふれの
動きを可能とする構成にし、ステ−ジ支軸を中心とする
放射状位置に連結部材を介してステ−ジ支軸に連結する
3個の位置決めステ−ジの平面保持用ピンを配設したこ
とを特徴とする位置決めステージ装置とした。
【0012】
【作用】以上のごとく、ステ−ジ支軸は軸受けに球面の
3点で支持されるようになっているので、摩擦面を最小
にしながらラジアル方向の運動のみが抑制され、他の方
向への自由度は確保される。さらに、平面保持用ピン3
点で形成される面によりステ−ジ支軸の傾きが抑制され
る。さらにZ軸粗動は、3個所に設けられたカムとピン
で形成される面を保ちながら上下に移動することができ
る。したがって、ウエハを適正な位置に保持できるよう
になる。
3点で支持されるようになっているので、摩擦面を最小
にしながらラジアル方向の運動のみが抑制され、他の方
向への自由度は確保される。さらに、平面保持用ピン3
点で形成される面によりステ−ジ支軸の傾きが抑制され
る。さらにZ軸粗動は、3個所に設けられたカムとピン
で形成される面を保ちながら上下に移動することができ
る。したがって、ウエハを適正な位置に保持できるよう
になる。
【0013】
【実施例】以下図面を参照しながら、本発明の実施例を
説明していく。図1は、本発明に係る装置の全体概要図
であり、図2以下は各構成部分を示したものである。図
1には示されていないが、図2に示すようにウエハ1は
ウエハチャック2にセットされる。該ウエハチャック2
は、トッププレ−ト3にビス止め等により固定されるよ
うになっている。トッププレ−ト3は、図3の平面図に
示すように抑え部材5によりZ方向(上下方向)に可動
であるが、Θ方向(回転方向)に固定状態に設けられて
いる。そして、Z方向への微動とレベリングは、後述す
るZ微動用PZT6によりなされる。
説明していく。図1は、本発明に係る装置の全体概要図
であり、図2以下は各構成部分を示したものである。図
1には示されていないが、図2に示すようにウエハ1は
ウエハチャック2にセットされる。該ウエハチャック2
は、トッププレ−ト3にビス止め等により固定されるよ
うになっている。トッププレ−ト3は、図3の平面図に
示すように抑え部材5によりZ方向(上下方向)に可動
であるが、Θ方向(回転方向)に固定状態に設けられて
いる。そして、Z方向への微動とレベリングは、後述す
るZ微動用PZT6によりなされる。
【0014】また、トッププレ−ト3は、図4の平面図
に示すようなほぼ三角形状の本体と三角形の頂点に相当
する個所に脚部を有するZ板7に固定されている。この
Z板7の脚部には、前記のZ微動用PZT6がトッププ
レ−ト3を上下動させることができるように設けられて
いる。Z微動用PZT6は、図5の正面図に示すように
PZT8の内部にPZT9が配設されており、PZT9
に電圧を印加することにより矢印方向に伸縮動するよう
になっている。そして、Z板7の脚部3個所に設けられ
たZ微動用PZT6を各々伸縮動させることにより、前
記トッププレ−ト3をベ−ス4に対して傾き調整するこ
とができるとともに、3個のZ微動用PZT9が同時に
変位することによりトッププレ−ト3は、上下方向に平
行移動できる。
に示すようなほぼ三角形状の本体と三角形の頂点に相当
する個所に脚部を有するZ板7に固定されている。この
Z板7の脚部には、前記のZ微動用PZT6がトッププ
レ−ト3を上下動させることができるように設けられて
いる。Z微動用PZT6は、図5の正面図に示すように
PZT8の内部にPZT9が配設されており、PZT9
に電圧を印加することにより矢印方向に伸縮動するよう
になっている。そして、Z板7の脚部3個所に設けられ
たZ微動用PZT6を各々伸縮動させることにより、前
記トッププレ−ト3をベ−ス4に対して傾き調整するこ
とができるとともに、3個のZ微動用PZT9が同時に
変位することによりトッププレ−ト3は、上下方向に平
行移動できる。
【0015】また、図6Aの軸受け部断面図に示すよう
に、Z板7の中心に軸10がほぼ垂直に配設されている
。 この軸10には、上部軸受け11aと下部軸受け11b
が嵌合されている。軸10の軸受け11との接合個所
には、上部球面部10a と下部球面部10b が形成
されており、それぞれ図6B、図6Cに示すように3点
で接合している。しかも、一つの接合点を形成する押圧
部材11a−1 は、ビス11a−2 を介して他の接
合点に向かってラジアル方向のガタを無くすように予圧
がかけられている。下部球面部10b の周辺において
も同様である。
に、Z板7の中心に軸10がほぼ垂直に配設されている
。 この軸10には、上部軸受け11aと下部軸受け11b
が嵌合されている。軸10の軸受け11との接合個所
には、上部球面部10a と下部球面部10b が形成
されており、それぞれ図6B、図6Cに示すように3点
で接合している。しかも、一つの接合点を形成する押圧
部材11a−1 は、ビス11a−2 を介して他の接
合点に向かってラジアル方向のガタを無くすように予圧
がかけられている。下部球面部10b の周辺において
も同様である。
【0016】また、Θ回転板16の外周部で軸10を中
心とする放射状位置3個所には平面形成ピン13が設け
られている。また、軸10には軸芯に直交する方向に突
起部が設けられており、Θ回転板16と固定されている
ので、平面形成ピン13による上下方向の調整動は軸1
0に伝達されるようになる。したがって、平面形成ピン
13の調整により軸10は傾きを抑制されるので、軸1
0によって支持されているZ板7は水平面を維持できる
こととなる。
心とする放射状位置3個所には平面形成ピン13が設け
られている。また、軸10には軸芯に直交する方向に突
起部が設けられており、Θ回転板16と固定されている
ので、平面形成ピン13による上下方向の調整動は軸1
0に伝達されるようになる。したがって、平面形成ピン
13の調整により軸10は傾きを抑制されるので、軸1
0によって支持されているZ板7は水平面を維持できる
こととなる。
【0017】また、軸10には、Θ回転板16が中央部
に形成されている立ち上がり部17を介してビスにより
固定されている。立ち上がり部17の外周には、玉軸受
け18を介してカムリング19が設けられている。カム
リング19の外周3方には、フランジが等間隔に形成さ
れており、フランジの上面にそれぞれカム20が設けら
れている。 図7は、カム20近傍の拡大断面を示し
たものであり、カム20の上面は傾斜面に形成されてい
る。さらに、カム20の上方には、カム軸板21とZ板
22とを固定ビス23で重ね合わせ、粗調用ボ−ル付ネ
ジ24と微調用ボ−ル付ネジ25とを有する調整体が設
けられている。図8は、カム20周辺の断面図であり、
粗調用ボ−ル付ネジ24の先端に形成されているボ−ル
がカム20の傾斜面に当接しており、カムリング19と
ともにカム20が移動することにより、Z板7が3個所
に設けられたカムとボールの接点によって形成される面
を保持しながら上下動することとなる。つまり、カム2
0の傾斜面の高い部分とボ−ルが当接するとZ板7は上
昇し、傾斜面の低い部分と当接すると下降するようにな
るのである。なお、図4に示すようにカムリングのフラ
ンジの一つには腕部26が突出形成されており、この腕
部26はZ方向アクチュエ−タ27の出力軸に設けられ
たネジ機構にカムリングバネ28を介して圧接されてお
り、Z方向アクチュエ−タ27の駆動によってカム20
を有するカムリング19が前記玉軸受け18の周囲を回
動する。このような回動により前記のようにZ板7の上
下動が可能となるのである。
に形成されている立ち上がり部17を介してビスにより
固定されている。立ち上がり部17の外周には、玉軸受
け18を介してカムリング19が設けられている。カム
リング19の外周3方には、フランジが等間隔に形成さ
れており、フランジの上面にそれぞれカム20が設けら
れている。 図7は、カム20近傍の拡大断面を示し
たものであり、カム20の上面は傾斜面に形成されてい
る。さらに、カム20の上方には、カム軸板21とZ板
22とを固定ビス23で重ね合わせ、粗調用ボ−ル付ネ
ジ24と微調用ボ−ル付ネジ25とを有する調整体が設
けられている。図8は、カム20周辺の断面図であり、
粗調用ボ−ル付ネジ24の先端に形成されているボ−ル
がカム20の傾斜面に当接しており、カムリング19と
ともにカム20が移動することにより、Z板7が3個所
に設けられたカムとボールの接点によって形成される面
を保持しながら上下動することとなる。つまり、カム2
0の傾斜面の高い部分とボ−ルが当接するとZ板7は上
昇し、傾斜面の低い部分と当接すると下降するようにな
るのである。なお、図4に示すようにカムリングのフラ
ンジの一つには腕部26が突出形成されており、この腕
部26はZ方向アクチュエ−タ27の出力軸に設けられ
たネジ機構にカムリングバネ28を介して圧接されてお
り、Z方向アクチュエ−タ27の駆動によってカム20
を有するカムリング19が前記玉軸受け18の周囲を回
動する。このような回動により前記のようにZ板7の上
下動が可能となるのである。
【0018】さらに、図9の平面図に示すようにΘ回転
板16には腕31が突出形成されており、この腕31は
図10の断面図に示すようにPZT受け32に設けられ
たボ−ル33に当接している。PZT受け32は、PZ
Tホルダ34に保持されたPZT35を受けており、P
ZTホルダ34はボ−ルネジのナット36に固定されて
いる。ナット36には、バックラッシュが低減されるよ
うにコイルバネ37が連結されており、またカップリン
グ38、減速機39を介してΘ回転駆動モ−タ40が連
結され駆動するようになっている。 なお、Θ回転板16は図1および図11に示すように、
Θ抑え5に設けられたボ−ル付プランジャ−ネジ41に
より上下動が規制されるようになっている。
板16には腕31が突出形成されており、この腕31は
図10の断面図に示すようにPZT受け32に設けられ
たボ−ル33に当接している。PZT受け32は、PZ
Tホルダ34に保持されたPZT35を受けており、P
ZTホルダ34はボ−ルネジのナット36に固定されて
いる。ナット36には、バックラッシュが低減されるよ
うにコイルバネ37が連結されており、またカップリン
グ38、減速機39を介してΘ回転駆動モ−タ40が連
結され駆動するようになっている。 なお、Θ回転板16は図1および図11に示すように、
Θ抑え5に設けられたボ−ル付プランジャ−ネジ41に
より上下動が規制されるようになっている。
【0019】また、カムリング19には図10に示すよ
うに、同軸で回転するセンサ遮光板42が取りつけられ
ており、このセンサ遮光板42の扇型開角部にカムリン
グ回転角左回り終点検出用の光電式リミットセンサ43
が設けられ、カムリング19の回転情報を前記Z回転駆
動モ−タ45に供給して制御するようになっている。な
お(図示しない)右回り終点センサについても同様であ
る。
うに、同軸で回転するセンサ遮光板42が取りつけられ
ており、このセンサ遮光板42の扇型開角部にカムリン
グ回転角左回り終点検出用の光電式リミットセンサ43
が設けられ、カムリング19の回転情報を前記Z回転駆
動モ−タ45に供給して制御するようになっている。な
お(図示しない)右回り終点センサについても同様であ
る。
【0020】以上のごとく構成されているので、トップ
プレ−ト3のΘ方向、Z方向の粗動と微動調整は次のよ
うにして行われる。先ず、Θ方向の調整をするには、Θ
回転駆動用モ−タ40によりΘ回転板16の腕31を移
動させて粗動調整をする。また、PZT35の駆動によ
り微動調整をする。次にZ方向の調整をするには、図1
0に示すようにモ−タ受け44に保持されたZ方向駆動
用モ−タ45とカムリング19とによって粗動が行われ
る。また、図5に示すようにZ微動用PZT6により直
接トッププレ−ト3を上下方向に微動調整する。さらに
、3個のPZTに印加する電圧それぞれを変えることに
よりレベリングを行う。
プレ−ト3のΘ方向、Z方向の粗動と微動調整は次のよ
うにして行われる。先ず、Θ方向の調整をするには、Θ
回転駆動用モ−タ40によりΘ回転板16の腕31を移
動させて粗動調整をする。また、PZT35の駆動によ
り微動調整をする。次にZ方向の調整をするには、図1
0に示すようにモ−タ受け44に保持されたZ方向駆動
用モ−タ45とカムリング19とによって粗動が行われ
る。また、図5に示すようにZ微動用PZT6により直
接トッププレ−ト3を上下方向に微動調整する。さらに
、3個のPZTに印加する電圧それぞれを変えることに
よりレベリングを行う。
【0021】
【発明の効果】以上のごとく本発明によれば、Θ回転板
に固定した軸を軸受けに3点接触状態にラジアル方向の
ガタを無くすように接合させるとともに、平面形成ピン
により軸の傾きを抑制するようにしているので、Θ方向
の回転負荷が軽減しモ−タの発熱を減少させることがで
きる。また、Z方向の移動においてもガタ無く安定させ
ることができる。
に固定した軸を軸受けに3点接触状態にラジアル方向の
ガタを無くすように接合させるとともに、平面形成ピン
により軸の傾きを抑制するようにしているので、Θ方向
の回転負荷が軽減しモ−タの発熱を減少させることがで
きる。また、Z方向の移動においてもガタ無く安定させ
ることができる。
【図1】装置の全体概要図である。
【図2】ウエアを載置した状態の平面図である。
【図3】トッププレ−トの平面図である。
【図4】Z板の平面図である。
【図5】Z微動用PZTの正面図である。
【図6】軸受け部近傍の断面図である。
【図7】カムの拡大断面図である。
【図8】カム近傍の断面図である。
【図9】Θ回転板の平面図である。
【図10】Θ回転駆動用アクチュエ−タ近傍の断面図で
ある。
ある。
【図11】Θ抑え近傍の断面図である。
【図12】従来の露光装置の全体斜視図である。
【図13】ΘZステ−ジの断面図である。
【図14】ΘZステ−ジの平面図である。
【図15】インチワームの概要図および動作説明図であ
る。
る。
3 トッププレ−ト
6 Z微動用PZT
7 Z板
10 軸
11 軸受け
13 平面形成ピン
16 Θ回転板
17 カムリング
18 玉軸受け
30 大径玉軸受け
Claims (1)
- 【請求項1】 水平面内を回転可能であるとともにこ
の回転面に対する垂直方向に上下動可能な位置決めステ
−ジにおいて、 位置決めステ−ジを支持するステ−
ジ支軸の軸受け部との接合部分を球面形成し、接合する
一方向からラジアル方向のガタを除去するように予圧を
かけながら軸受け部を球面と3点接合させて、回転動お
よび上下動および水平面に垂直方向の軸に対するアキシ
ャルふれの動きを可能とする構成にし、ステ−ジ支軸を
中心とする放射状位置に連結部材を介してステ−ジ支軸
に連結する3個の位置決めステ−ジの水平面保持用ピン
を配設したことを特徴とする位置決めステージ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13868491A JP3086006B2 (ja) | 1991-05-15 | 1991-05-15 | 位置決めステージ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13868491A JP3086006B2 (ja) | 1991-05-15 | 1991-05-15 | 位置決めステージ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04338626A true JPH04338626A (ja) | 1992-11-25 |
JP3086006B2 JP3086006B2 (ja) | 2000-09-11 |
Family
ID=15227693
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13868491A Expired - Fee Related JP3086006B2 (ja) | 1991-05-15 | 1991-05-15 | 位置決めステージ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3086006B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100256085B1 (ko) * | 1997-01-24 | 2000-05-01 | 구자홍 | 미세칩 위치 결정장치 |
WO2009148070A1 (ja) * | 2008-06-03 | 2009-12-10 | 株式会社アルバック | アライメント機能付きステージ及びこのアライメント機能付きステージを備えた処理装置並びに基板アライメント方法 |
CN109533087A (zh) * | 2018-11-14 | 2019-03-29 | 南昌航空大学 | 一种四轮平衡装置 |
JP2023523987A (ja) * | 2020-04-29 | 2023-06-08 | 中国科学院光電技術研究所 | 多機能フォトリソグラフィ装置 |
-
1991
- 1991-05-15 JP JP13868491A patent/JP3086006B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100256085B1 (ko) * | 1997-01-24 | 2000-05-01 | 구자홍 | 미세칩 위치 결정장치 |
WO2009148070A1 (ja) * | 2008-06-03 | 2009-12-10 | 株式会社アルバック | アライメント機能付きステージ及びこのアライメント機能付きステージを備えた処理装置並びに基板アライメント方法 |
CN109533087A (zh) * | 2018-11-14 | 2019-03-29 | 南昌航空大学 | 一种四轮平衡装置 |
CN109533087B (zh) * | 2018-11-14 | 2020-12-25 | 南昌航空大学 | 一种四轮平衡装置 |
JP2023523987A (ja) * | 2020-04-29 | 2023-06-08 | 中国科学院光電技術研究所 | 多機能フォトリソグラフィ装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3086006B2 (ja) | 2000-09-11 |
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