JP2010107831A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】最小露光量を極めて小さくできるシャッターユニットを備え、タクトタイムの短縮を図ることができる露光装置を提供することにある。
【解決手段】シャッターユニット44は、独立に回転可能な第1及び第2のシャッター羽根70,71と、第1及び第2のシャッター羽根70,71をそれぞれ回転駆動するための複数のシャッター駆動機構72,73を備える。第1及び第2のシャッター羽根70,71は、互いに同じ方向に回転する。
【選択図】図5
【解決手段】シャッターユニット44は、独立に回転可能な第1及び第2のシャッター羽根70,71と、第1及び第2のシャッター羽根70,71をそれぞれ回転駆動するための複数のシャッター駆動機構72,73を備える。第1及び第2のシャッター羽根70,71は、互いに同じ方向に回転する。
【選択図】図5
Description
本発明は、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの基板上にマスクのマスクパターンを露光する露光装置に関する。
例えば、近接露光では、表面に感光剤を塗布した透光性の基板(被露光材)を基板ステージ上に保持すると共に、基板をマスクステージのマスク保持枠に保持されたマスクに接近させ、両者を所定のギャップを例えば、数10μm〜数100μmにした状態で両者を静止させ、次いで、マスクの基板から離間する側から照明光学系によって露光用の光をマスクに向けて照射することにより、基板上にマスクに描かれた露光パターンを転写するようにしている。
このような露光装置に使用される照明光学系では、光源として一般に使用されている高圧水銀ランプは、性能安定化のために連続点灯で使用されており、基板を露光する際に高圧水銀ランプの前方に配設されたシャッターを開閉することにより基板に照射されるパターン露光用の露光量が制御されている(例えば、特許文献1参照。)。
例えば、従来使用されているシャッターとしては、図9に示すようなものがある。このシャッター100は、回転軸101に対して2枚のシャッター羽根102が180°位相が離れた状態で一体に設けられている。
特開平11−233423号公報
ところで、近年、基板に設けられた感光剤の感度が向上しており、例えば、TFT基板に使用される感光剤を露光する時間の短縮が図られている。例えば、以前では、30mJ程度の最小露光量が必要であったが、高感度の感光剤を使用することにより15mJ程度の最小露光量で精度の良い露光が行なわれる。
これを図9に示すようなシャッター100によって適用する場合、2枚のシャッター羽根102は180°位相で配置されているため、図示しないモータの回転駆動によって2枚のシャッター羽根102を回転駆動することでシャッターの開時間を制御することになる。また、モータを回転駆動するためには、モータの立ち上りトルクが必要になるとともに、開状態でモータを停止する際にもモータの停止トルクが必要となる。具体的に、シャッター羽根を90°回して停止されるためには、モータは立ち上りトルクのために30°位相、シャッター羽根を回転させるのに120°位相、モータを停止するのに30°位相の計180°位相の回転が必要となる。このため、図9に示すシャッターでは、短時間の開制御に対して十分に対応できない場合があった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、その目的は、最小露光量を極めて小さくできるシャッターユニットを備え、タクトタイムの短縮を図ることができる露光装置を提供することにある。
本発明の上記目的は、下記の露光装置により達成される。
(1) 基板を保持可能な基板保持部と、
マスクを保持可能なマスク保持部と、
光源、及び該光源からの光を遮光するシャッターユニットを備える照明光学系と、
を備え、前記照明光学系からの光を前記マスクを介して基板に照射し、前記マスクの露光パターンを前記基板に露光転写する露光装置であって、
前記シャッターユニットは、独立に同軸まわりに回転可能な複数のシャッター羽根を有することを特徴とする露光装置。
(2) 前記シャッターユニットは、前記複数のシャッター羽根をそれぞれ回転駆動するための複数のシャッター駆動機構を備え、
前記複数のシャッター羽根は、互いに同じ方向に回転することを特徴とする(1)に記載の露光装置。
(3) 前記複数のシャッター駆動機構は、前記各シャッター羽根がそれぞれ取り付けられ、それぞれ同心に配置される複数の回転軸を有することを特徴とする(2)に記載の露光装置。
(1) 基板を保持可能な基板保持部と、
マスクを保持可能なマスク保持部と、
光源、及び該光源からの光を遮光するシャッターユニットを備える照明光学系と、
を備え、前記照明光学系からの光を前記マスクを介して基板に照射し、前記マスクの露光パターンを前記基板に露光転写する露光装置であって、
前記シャッターユニットは、独立に同軸まわりに回転可能な複数のシャッター羽根を有することを特徴とする露光装置。
(2) 前記シャッターユニットは、前記複数のシャッター羽根をそれぞれ回転駆動するための複数のシャッター駆動機構を備え、
前記複数のシャッター羽根は、互いに同じ方向に回転することを特徴とする(1)に記載の露光装置。
(3) 前記複数のシャッター駆動機構は、前記各シャッター羽根がそれぞれ取り付けられ、それぞれ同心に配置される複数の回転軸を有することを特徴とする(2)に記載の露光装置。
本発明の接露光装置によれば、シャッターユニットは、独立に回転可能な複数のシャッター羽根を有するので、高感度の感光剤の適用に応じて、最小露光量を極めて小さくすることができ、タクトタイムの短縮を図ることができる。
以下、本発明が適用される近接露光装置について、図面を参照して詳細に説明する。
図1は、大型の基板上にマスクの露光パターンを分割して近接露光するステップ式近接露光装置PEを示すものであり、露光パターンを有するマスクMをx、y、θ方向に移動可能に保持するマスクステージ10と、被露光材としてのガラス基板Wをx、y、z方向に移動可能に保持する基板ステージ20と、パターン露光用の光をマスクMを介して基板Wに照射する照明光学系40と、とから主に構成されている。
図1は、大型の基板上にマスクの露光パターンを分割して近接露光するステップ式近接露光装置PEを示すものであり、露光パターンを有するマスクMをx、y、θ方向に移動可能に保持するマスクステージ10と、被露光材としてのガラス基板Wをx、y、z方向に移動可能に保持する基板ステージ20と、パターン露光用の光をマスクMを介して基板Wに照射する照明光学系40と、とから主に構成されている。
なお、ガラス基板W(以下、単に「基板W」と称する。)は、マスクMに対向配置されており、このマスクMに描かれた露光パターンを露光転写すべく表面(マスクMの対向面側)に感光剤が塗布されている。
マスクステージ10は、中央部に矩形形状の開口11aが形成されるマスクステージベース11と、マスクステージベース11の開口11aにx軸,y軸,θ方向に移動可能に装着され、マスクMを保持可能なマスク保持部であるマスク保持枠12と、マスクステージベース11の上面に設けられ、マスク保持枠12をx軸,y軸,θ方向に移動させるマスク移動機構であるマスク位置調整機構13とを備える。
マスクステージベース11は、基板ステージ側の装置ベース50上に立設される複数の支柱51に支持されており、マスクステージベース11と支柱51との間に設けられたz軸粗動機構52(図2参照)によりマスクステージベース11は装置ベース50に対して昇降可能である。
マスク保持枠12には、マスクMのマスクパターンが描かれていない周縁部を吸着するための図示しない複数の吸引ノズルが下面に開設されており、図示しない真空吸着機構によってマスクMを着脱自在に保持する。
マスク位置調整機構13は、マスク保持枠12を駆動する各種シリンダ13x、13x、13y等のアクチュエータと、マスクステージベース11とマスク保持枠12との間に設けられた図示しないガイド機構等により、マスク保持枠12をx軸,y軸,θ方向に移動させる。
また、マスクステージ10は、マスクMと基板Wとの対向面間の所定のギャップを測定するギャップ検出手段である複数のギャップセンサ17(本実施形態では、8個)と、マスクM側の図示しないアライメントマークと基板W側の図示しないアライメントマークとを撮像して、マスクMと基板Wとの平面ずれ量を検出する複数のアライメントカメラ18(本実施形態では、4個)と、マスクMを必要に応じて遮蔽するマスキングアパーチャ19と、をさらに備える。なお、ギャップセンサ17とアライメントカメラ18は、マスク保持枠12の辺部に沿って駆動可能に配置されてもよい。また、図では、マスキングアパーチャ19は、開口11aのx方向の両端部のみ示されているが、y方向の両端部にも設けられている。
基板ステージ20は、基板Wを保持可能な基板保持部21と、基板保持部21を装置ベース50に対してx、y、z方向に移動する基板移動機構22と、を備える。
基板保持部21は、上面に基板Wを吸引するための図示しない複数の吸引ノズルが開設されており、図示しない真空吸着機構によって基板Wを着脱自在に保持する。
基板移動機構22は、基板保持部21の下方に、y軸テーブル23、y軸送り機構24、x軸テーブル25、x軸送り機構26、及びz−チルト調整機構27を備える。
y軸送り機構24は、図2に示すように、リニアガイド28と送り駆動機構29とを備えて構成され、y軸テーブル23の裏面に取り付けられたスライダ30が、転動体(図示せず)を介して装置ベース50上に延びる2本の案内レール31に跨架されると共に、モータ32とボールねじ装置33とによってy軸テーブル23を案内レール31に沿って駆動する。
なお、x軸送り機構26もy軸送り機構24と同様の構成を有し、x軸テーブル25をy軸テーブル23に対してx方向に駆動する。また、z−チルト調整機構27は、くさび状の移動体34,35と送り駆動機構36とを組み合わせてなる可動くさび機構をx方向の一端側に1台、他端側に2台配置することで構成される。なお、送り駆動機構29,36は、モータとボールねじ装置とを組み合わせた構成であってもよく、固定子と可動子とを有するリニアモータであってもよい。また、z-チルト調整機構27の設置数は任意である。
これにより、基板移動機構22は、基板保持部21をx方向及びy方向に送り駆動するとともに、マスクMと基板Wとの間のギャップを微調整するように、基板保持部21をz軸方向に微動且つチルト調整する。
基板保持部21のx方向側部とy方向側部にはそれぞれバーミラー61,62が取り付けられ、また、装置ベース50のy方向端部とx方向端部には、計3台のレーザー干渉計63,64,65が設けられている。これにより、レーザー干渉計63,64,65からレーザー光をバーミラー61,62に照射し、バーミラー61,62により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光とバーミラー61,62により反射されたレーザー光との干渉を測定し、基板ステージの位置を検出する。
照明光学系40は、図3に示すように、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ41と、この高圧水銀ランプ41から照射された光を集光する凹面鏡42と、光路の向きを変えるための平面ミラー43と、照射光路を開閉制御する露光制御用シャッターユニット44と、露光制御用シャッターユニット44の下流側に配置され、凹面鏡42で集光された光を照射領域においてできるだけ均一な照度分布となるようにして出射するオプティカルインテグレータ45と、高圧水銀ランプ41からの光を平行光として照射するコリメーションミラー47と、該平行光をマスクMに向けて照射する平面ミラー46と、を備える。
そして、露光時にその露光制御用シャッターユニット44が開制御されると、高圧水銀ランプ41から照射された光が、オプティカルインテグレータ45、コリメーションミラー47、平面ミラー46を介して、マスクステージ10に保持されるマスクM、ひいては基板ステージ20に保持される基板Wの表面にパターン露光用の光として照射され、マスクMの露光パターンが基板W上に露光転写される。
ここで、シャッターユニット44は、図4〜図6に示すように、互いに別体に設けられる同軸まわりに回転可能な第1及び第2のシャッター羽根70,71と、第1及び第2のシャッター羽根70,71をそれぞれ回転駆動するための第1及び第2のシャッター駆動機構72,73を備える。第1及び第2のシャッター羽根70,71は、高圧水銀ランプ41から照射された光路L全体を遮光できる大きさをそれぞれ備えている。
また、第1のシャッター駆動機構72は、ハウジング74に対して一対の転がり軸受75,75を介して回転可能な中空軸76を有し、この中空軸76の一端部には、第1のシャッター羽根70が取付可能な取付アーム部77が設けられている。また、この中空部76の中間部には、ローラギヤカム78の複数の従動ローラ79が取り付けられている。
また、第2のシャッター駆動機構73は、中空軸76と同心に配置され、中空軸76に対して一対の転がり軸受80を介して回転可能な中実軸81を有し、この中実軸81の一端部には、第2のシャッター羽根71が取付可能な取付アーム部82が設けられている。また、中実軸81の他端部には、筒状部材83が外嵌固定されており、この筒状部材83にローラギヤカム84の複数の従動ローラ85が取り付けられている。
各ローラギヤカム78、84は、複数の従動ローラ79,85と、各従動ローラ79,85のいずれかが噛合可能な、螺旋状に周設された複数のカム溝90,91をそれぞれ有するカム92,93と、中空軸76及び中実軸81と交差して配置され、カム92,93がそれぞれ取り付けられる駆動軸94,95と、を備える。駆動軸94,95は、それぞれ減速機96,97を介してモータ98,99によって回転駆動される。
これにより、モータ98,99が回転駆動されると、ローラギヤカム78,84を介して、中空軸76及び中実軸81が回転し、第1及び第2のシャッター羽根70,71の位相が回転割り出し可能となる。また、ローラギヤカム78,84は、各従動ローラ79,85とカム溝90,91とが常時接触した状態で噛合しているので、バックラッシュが除去されている。これにより、第1及び第2のシャッター羽根70,71は、各モータ98,99によって所望の方向に独立に回転可能である。
例えば、本実施形態のシャッターユニット44による露光転写は、高圧水銀ランプ41を連続点灯とし、図4に示すように、第1のシャッター羽根70を光路上に位置させて光を遮光すると共に、第2のシャッター羽根71を90°の位相差で配置させる。そして、モータ98,99を回転駆動させ、第1及び第2のシャッター羽根70、71を同じ方向に略等しい速度で回転する。従って、第1のシャッター羽根70が光路上を退避したタイミングから第2のシャッター羽根71が光路上に進出するまでの時間がシャッターユニット44の開制御による露光時間となる。なお、第1及び第2のシャッター羽根70,71の位相差を変更したり、モータ98,99の作動タイミングをずらしたりすることで所望の露光時間を得ることができる。
このため、図9に示した2枚のシャッター羽根102が一体に形成されたものを使用した場合には、図7(a)に示すように、2枚のシャッター羽根102が180°回転することで最小露光量が規定されたが、本実施形態のような独立に駆動可能な第1及び第2のシャッター羽根70,71を用いることで、図7(b)に示すように、最小露光量を極めて小さくすることができ、タクトタイムの短縮を図ることができる。特に、基板に高感度の感光剤が適用されている場合には、感光剤に必要な最小の露光量に応じてシャッターユニット44を駆動制御させればよい。
尚、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。
例えば、シャッター羽根の形状は、上記実施形態のもののほか、図8に示すようなシャッター羽根70,71であってもよい。
例えば、シャッター羽根の形状は、上記実施形態のもののほか、図8に示すようなシャッター羽根70,71であってもよい。
本実施形態では、ステップ式近接露光装置について説明したが、ステップを行なわない近接露光装置や倣い露光装置等、任意の露光装置にも適用可能である。
40 照明光学系
41 高圧水銀ランプ(光源)
44 露光制御用シャッターユニット
70,71 シャッター羽根
72,73 シャッター駆動機構
78,84 ローラギヤカム
M マスク
PE 近接露光装置
W 基板
41 高圧水銀ランプ(光源)
44 露光制御用シャッターユニット
70,71 シャッター羽根
72,73 シャッター駆動機構
78,84 ローラギヤカム
M マスク
PE 近接露光装置
W 基板
Claims (3)
- 基板を保持可能な基板保持部と、
マスクを保持可能なマスク保持部と、
光源、及び該光源からの光を遮光するシャッターユニットを備える照明光学系と、
を備え、前記照明光学系からの光を前記マスクを介して基板に照射し、前記マスクの露光パターンを前記基板に露光転写する露光装置であって、
前記シャッターユニットは、独立に同軸まわりに回転可能な複数のシャッター羽根を有することを特徴とする露光装置。 - 前記シャッターユニットは、前記複数のシャッター羽根をそれぞれ回転駆動するための複数のシャッター駆動機構を備え、
前記複数のシャッター羽根は、互いに同じ方向に回転することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記複数のシャッター駆動機構は、前記各シャッター羽根がそれぞれ取り付けられ、それぞれ同心に配置される複数の回転軸を有することを特徴とする請求項2に記載の露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008281242A JP2010107831A (ja) | 2008-10-31 | 2008-10-31 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008281242A JP2010107831A (ja) | 2008-10-31 | 2008-10-31 | 露光装置 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010107831A true JP2010107831A (ja) | 2010-05-13 |
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ID=42297320
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008281242A Pending JP2010107831A (ja) | 2008-10-31 | 2008-10-31 | 露光装置 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108663871A (zh) * | 2017-03-31 | 2018-10-16 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种快门装置 |
JP2020525860A (ja) * | 2017-07-05 | 2020-08-27 | シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント(グループ)カンパニー リミティド | フォトリソグラフィ装置用シャッター羽根装置 |
-
2008
- 2008-10-31 JP JP2008281242A patent/JP2010107831A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR20190132486A (ko) * | 2017-03-31 | 2019-11-27 | 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드 | 셔터 장치 |
JP2020515896A (ja) * | 2017-03-31 | 2020-05-28 | シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント(グループ)カンパニー リミティド | シャッター装置 |
US10928704B2 (en) | 2017-03-31 | 2021-02-23 | Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. | Shutter device |
KR102289586B1 (ko) * | 2017-03-31 | 2021-08-12 | 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드 | 셔터 장치 |
JP2020525860A (ja) * | 2017-07-05 | 2020-08-27 | シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント(グループ)カンパニー リミティド | フォトリソグラフィ装置用シャッター羽根装置 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A711 | Notification of change in applicant |
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