JP2010041047A - 多数の圧電アクチュエータを使用するアクチュエータシステム - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 214
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 72
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 34
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 11
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 11
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 16
- 230000004044 response Effects 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 7
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 6
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 238000009304 pastoral farming Methods 0.000 description 4
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 3
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 210000003128 head Anatomy 0.000 description 3
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 2
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 2
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 2
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000001900 extreme ultraviolet lithography Methods 0.000 description 1
- 239000002783 friction material Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 230000036316 preload Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
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-
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70258—Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Public Health (AREA)
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract
【解決手段】位置決めシステムは、可変ズームレンズシステム等の光学デバイス内の光学素子の位置を調整する。フレームが光学素子を支持し、細長支持構造の細長表面がそのフレームを支持する。フレームは細長支持構造に係合する圧電アクチュエータも支持する。制御部は圧電アクチュエータを駆動する制御信号を供給する。駆動されたアクチュエータモジュールの圧電素子は、細長支持構造の細長表面に第1及び第2の力を組み合わせて作用させ、細長表面に対しフレームを位置決めする。圧電素子により与えられた力の組合せによって、細長支持構造に対し圧電アクチュエータが前進する。
【選択図】図2
Description
本発明の種々の実施例を上に記載したが、それらはあくまでも例示であって、それらに限定されるものではない。本発明の精神と範囲に反することなく種々に変更することができるということは、関連技術の当業者には明らかなことである。本発明の範囲と精神は上述の例示に限定されるものではなく、請求項とその均等物によってのみ定義されるものである。
Claims (23)
- 光学デバイス内部の光学素子を位置決めするシステムであって、
前記光学素子を支持するフレームと、
前記フレームを支持する少なくとも1つの細長表面を各々が備える1つまたは複数の細長支持構造と、
前記フレームにより支持され細長支持構造に係合する1つまたは複数のアクチュエータモジュールと、
各アクチュエータモジュールを駆動する制御信号を供給する制御部と、を備え、
各アクチュエータモジュールは、(i)細長支持構造の少なくとも1つの細長表面に実質的に垂直な方向の第1の力を該細長表面に作用させ、(ii)該細長表面に実質的に平行な方向の第2の力を該細長表面に作用させる少なくとも1つの圧電素子を備え、
駆動されたアクチュエータモジュールの少なくとも1つの圧電素子は前記第1及び第2の力を該細長表面に組み合わせて作用させて前記フレームを該細長表面に沿って位置決めすることを特徴とするシステム。 - 細長支持構造の断面は多角形、円形、または半円形であることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 細長支持構造の断面は三角形であることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 細長支持構造は3つ設けられており、3つの細長支持構造の長手方向軸はいずれも前記光学デバイスの光軸に実質的に平行であることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 駆動されたアクチュエータモジュールの少なくとも1つの圧電素子は、細長支持構造の細長表面に前記第1の力及び前記第2の力を順次作用させることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 駆動されたアクチュエータモジュールの少なくとも1つの圧電素子は、各細長支持構造の細長表面に前記第1及び第2の力の同一の組合せを作用させることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記フレームは、細長支持構造に対する前記フレームの位置を測定するリニアエンコーダを備え、
各アクチュエータモジュールに供給される前記制御信号は、該リニアエンコーダモジュールによる測定結果に基づくことを特徴とする請求項1に記載のシステム。 - 前記細長支持構造に支持されており、別の光学素子を支持する別のフレームと、
前記別のフレームにより支持され前記細長支持構造に係合する別のアクチュエータと、をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のシステム。 - 前記制御部は、各アクチュエータモジュールに同一の制御信号を供給することを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記光学素子はレンズ素子であり、前記光学デバイスは望遠ズーム光学系であることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 照明系からの放射ビームにパターンを付与するパターニングデバイスを支持する支持構造と、
基板を支持する基板支持部へとパターン付きビームを投影する投影系と、を備えるリソグラフィ装置であって、
前記投影系は光学素子を位置決めするシステムを備え、該システムは、
前記光学素子を支持するフレームと、
前記フレームを支持する少なくとも1つの細長表面を各々が備える1つまたは複数の細長支持構造と、
前記フレームにより支持され細長支持構造に係合する1つまたは複数のアクチュエータモジュールと、
各アクチュエータモジュールを駆動する制御信号を供給する制御部と、を備え、
各アクチュエータモジュールは、(i)細長支持構造の少なくとも1つの細長表面に実質的に垂直な方向の第1の力を該細長表面に作用させ、(ii)該細長表面に実質的に平行な方向の第2の力を該細長表面に作用させる少なくとも1つの圧電素子を備え、
駆動されたアクチュエータモジュールの少なくとも1つの圧電素子は前記第1及び第2の力を該細長表面に組み合わせて作用させて前記フレームを該細長表面に沿って位置決めすることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 細長支持構造の断面は多角形、円形、または半円形であることを特徴とする請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 細長支持構造の断面は三角形であることを特徴とする請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 駆動されたアクチュエータモジュールの少なくとも1つの圧電素子は、細長支持構造の細長表面に前記第1の力及び前記第2の力を順次作用させることを特徴とする請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 駆動されたアクチュエータモジュールの少なくとも1つの圧電素子は、各細長支持構造の細長表面に前記第1及び第2の力の同一の組合せを作用させることを特徴とする請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記フレームは、細長支持構造に対する前記フレームの位置を測定するリニアエンコーダを備え、
各アクチュエータモジュールに供給される前記制御信号は、該リニアエンコーダモジュールによる測定結果に基づくことを特徴とする請求項11に記載のリソグラフィ装置。 - 前記細長支持構造に支持されており、別の光学素子を支持する別のフレームと、
前記別のフレームにより支持され前記細長支持構造に係合する別のアクチュエータと、をさらに備えることを特徴とする請求項11に記載のリソグラフィ装置。 - 前記制御部は、各アクチュエータモジュールに同一の制御信号を供給することを特徴とする請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記光学素子はレンズ素子であり、光学デバイスは望遠ズーム光学系であることを特徴とする請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 光学デバイス内部の光学素子を位置決めする方法であって、
前記光学素子の長手方向位置、前記光学素子の横方向位置、及び前記光学素子の回転の1つまたは複数を測定し、
測定された長手方向位置、横方向位置、及び回転の1つまたは複数に応じて、前記光学デバイスの前記光学素子を支持する複数の細長支持構造の1つにおける少なくとも1つの細長表面に第1及び第2の力を組み合わせて作用させ、
前記第1及び第2の力の組合せを少なくとも使用して、前記光学素子の長手方向位置、横方向位置、及び回転の1つまたは複数を調整することを含むことを特徴とする方法。 - 測定された長手方向位置、横方向位置、及び回転に基づいて制御信号を生成し、
生成された制御信号に少なくとも基づいて少なくとも1つの細長表面に第1及び第2の力を組み合わせて作用させることをさらに含むことを特徴とする請求項20に記載の方法。 - 前記作用させるステップは、
少なくとも1つの細長表面に実質的に垂直な方向に前記第1の力を作用させ、
少なくとも1つの細長表面に実質的に平行な方向に前記第2の力を作用させることを含むことを特徴とする請求項20に記載の方法。 - 前記測定するステップは、
前記光学デバイスの光軸に実質的に平行な方向に前記光学素子の長手方向位置を測定し、
前記光学デバイスの光軸に実質的に垂直な方向に前記光学素子の横方向位置を測定し、
前記光学デバイスの光軸に実質的に垂直な任意の軸まわりの前記光学デバイスの回転を測定することを含むことを特徴とする請求項20に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US8477208P | 2008-07-30 | 2008-07-30 | |
US61/084,772 | 2008-07-30 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010041047A true JP2010041047A (ja) | 2010-02-18 |
JP4981858B2 JP4981858B2 (ja) | 2012-07-25 |
Family
ID=41608004
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009171820A Expired - Fee Related JP4981858B2 (ja) | 2008-07-30 | 2009-07-23 | 多数の圧電アクチュエータを使用するアクチュエータシステム |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8446562B2 (ja) |
JP (1) | JP4981858B2 (ja) |
NL (1) | NL2003141A1 (ja) |
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- 2009-07-23 JP JP2009171820A patent/JP4981858B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-07-24 US US12/508,899 patent/US8446562B2/en active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL2003141A1 (nl) | 2010-02-02 |
US8446562B2 (en) | 2013-05-21 |
US20100026976A1 (en) | 2010-02-04 |
JP4981858B2 (ja) | 2012-07-25 |
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