JP2014526794A - 二つ以上のモジュールの整列スタックを提供するためのアッセンブリーおよびそのようなアッセンブリーを備えているリソグラフィシステムまたは顕微鏡法システム - Google Patents
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Abstract
Description
一つ以上の荷電粒子ビームのための源を備えている第一のモジュールと、
前記一つ以上の荷電粒子ビームのための偏向器を備えている第二のモジュールと、
前記一つ以上の荷電粒子ビームをターゲット上に投影するための投影レンズを備えている第三のモジュールを備えており、
前記第一、第二および第三のモジュールは前記アッセンブリー内に挿入されて前記モジュールの正確整列スタックを提供する。
一つ以上の電子ビームのための源を備えている第一のモジュールと、
前記一つ以上の電子ビームを操作するための電子光学素子を備えている第二のモジュールと、
前記一つ以上の電子ビームをターゲット上に投影するための投影レンズを備えている第三のモジュールを備えており、
前記第一、第二および第三のモジュールは前記アッセンブリー内に挿入されて前記モジュールの正確整列スタックを提供する。
Claims (28)
- 積み重ね方向の二つ以上のモジュールの整列スタックを提供するためのアッセンブリーであり、
前記二つ以上のモジュールのおのおのは三つの支持部材を備えており、
前記アッセンブリーは、前記二つ以上のモジュールのおのおののための三つの平面整列表面を備えているフレームを備えており、それらの平面整列表面は前記積み重ね方向に延び、互いに対して角度オフセットされており、
前記二つ以上のモジュールの各一つの前記三つの支持部材のおのおのは、前記フレーム内に配されたとき、前記三つの整列表面の対応の一つに当接し、
前記フレームには、前記アッセンブリーにモジュールを挿入するために、前記三つの平面整列表面の二つの間に開口が設けられており、前記開口の両側の前記二つの平面整列表面は前記開口に少なくとも部分的に面して配されている、アッセンブリー。 - 前記二つ以上のモジュールの一つについて、前記三つの整列表面の各一つは、一つの対応平面内に延びており、前記三つの平面整列表面の対応平面は一本の交差線で交差しており、その交差線は前記積み重ね方向に延びている、請求項1に記載のアッセンブリー。
- 二つ以上のモジュールについて、すべての整列表面は、対応平面内に延びており、すべての整列表面の前記対応平面は、一本の交差線で少なくとも実質的に交差しており、その交差線は前記積み重ね方向に延びている、請求項1に記載のアッセンブリー。
- 前記開口の同じ側に配された、前記二つ以上のモジュールのための前記整列表面は、単一の整列要素上の表面である、請求項1、2または3に記載のアッセンブリー。
- 前記開口の同じ側に配された、前記二つ以上のモジュールのための前記整列表面は、個々の整列要素の表面である、請求項1、2または3に記載のアッセンブリー。
- 前記二つ以上のモジュールの少なくとも一つの前記三つの支持部材を前記三つの整列表面の対応の一つに押しつけるために、前記二つ以上のモジュールの前記少なくとも一つに力を加えるための予圧部材をさらに備えている、先行請求項のいずれかひとつに記載のアッセンブリー。
- 前記フレームは、前記二つ以上のモジュールの第一のモジュールの前記支持部材を支持するための第一の平面に配された三つの支持表面を備えており、前記フレームは、前記二つ以上のモジュールの第二のモジュールの前記支持部材を支持するための第二の平面に配された三つの支持表面を備えており、前記第二の平面は、前記第一の平面に少なくとも実質的に平行である、先行請求項のいずれかひとつに記載のアッセンブリー。
- 前記第一および第二の平面は、前記積み重ね方向に少なくとも実質的に垂直に延びている、請求項7に記載のアッセンブリー。
- 前記二つ以上のモジュールの第一のモジュールの前記支持部材を支持するための前記三つの支持表面のおのおのは、前記三つの平面整列表面の一つに隣接して配されている、請求項7または8に記載のアッセンブリー。
- 前記二つ以上のモジュールの前記第二のモジュールの支持部材を支持するための前記三つの支持表面は、前記第一のモジュールの前記支持部材を支持するための前記三つの支持表面の上方に配されている、請求項7、8または9に記載のアッセンブリー。
- 前記第二のモジュールの前記三つの支持部材は、前記第一のモジュールの前記支持部材によって定められる三角形の少なくとも実質的に外側に配されている、請求項10に記載のアッセンブリー。
- 前記開口の同じ側に配された、前記二つ以上のモジュールのための前記支持表面は、単一の支持要素上の表面である、請求項7ないし11のいずれかひとつに記載のアッセンブリー。
- 前記開口の同じ側に配された、前記二つ以上のモジュールのための前記支持表面は、個々の支持要素の表面である、請求項7ないし11のいずれかひとつに記載のアッセンブリー。
- 前記二つ以上のモジュールの前記支持部材の少なくとも一つはボールであり、好ましくは各支持部材がボールである、先行請求項のいずれかひとつに記載のアッセンブリー。
- 前記三つの平面整列表面のおのおのは、少なくとも実質鉛直平面内に配されており、前記鉛直平面は、一本の少なくとも実質鉛直交差線で交差しており、その交差線は、前記整列スタックの熱的中心を定める、先行請求項のいずれかひとつに記載のアッセンブリー。
- 前記アッセンブリーは、前記アッセンブリー内への挿入のあいだに前記二つまたはモジュールの少なくとも一つを支持し案内するためのレールを備えており、前記レールは、挿入されたモジュールが前記レールから自由であるように配されている、先行請求項のいずれかひとつに記載のアッセンブリー。
- 前記三つの平面整列表面のおのおのは、一つの尾根上に配されている、先行請求項のいずれかひとつに記載のアッセンブリー。
- 前記フレームは、前記アッセンブリーに挿入されるときに前記二つ以上のモジュールの一つを案内するための正面案内路をさらに備えており、前記正面案内路は、前記三つの平面整列表面の二つの間の位置から、前記第三の平面整列表面から遠ざかる方向に延びている、先行請求項のいずれかひとつに記載のアッセンブリー。
- 前記アッセンブリーは予圧部材を備えており、それは、使用時、フレーム内において、特にそれの前記正面案内路において移動可能であり、前記予圧部材は、前記二つ以上のモジュールの前記一つの前記三つの支持部材を前記三つの平面整列表面の対応の一つに対して押しつけるために配されている、請求項18に記載のアッセンブリー。
- 前記予圧部材は、使用時、前記二つ以上のモジュールの前記一つのすべての三つの支持部材を前記三つの平面整列表面の対応の一つに対して押しつけるために、前記二つ以上のモジュールの前記一つの前記三つの支持部材の一つに力を分配するために配されている、請求項19に記載のアッセンブリー。
- 前記フレームには、少なくとも前記正面案内路の挿入開口の閉鎖のための位置に少なくとも実質的に配されたときに、前記与圧部材を前記二つ以上のモジュールの前記一つに向けて押す閉鎖部材が設けられている、請求項19または20に記載のアッセンブリー。
- 前記閉鎖部材はスプリングを備えている、請求項21に記載のアッセンブリー。
- 前記予圧部材には、前記フレーム内において案内されるホイールが設けられており、前記正面案内路に沿った前記予圧部材の実質自由な移動を提供する、請求項19ないし22のいずれかひとつに記載のアッセンブリー。
- 先行請求項のいずれかひとつに記載のアッセンブリーを備えているリソグラフィシステム。
- 請求項24に記載のリソグラフィシステムであり、
一つ以上の荷電粒子ビームのための源を備えている第一のモジュールと、
前記一つ以上の荷電粒子ビームのための偏向器を備えている第二のモジュールと、
前記一つ以上の荷電粒子ビームをターゲット上に投影するための投影レンズを備えている第三のモジュールを備えており、
前記第一、第二および第三のモジュールは前記アッセンブリー内に挿入されて前記モジュールの正確整列スタックを提供する、リソグラフィシステム。 - 前記源と前記偏向器と前記投影レンズは、少なくとも実質的に前記整列スタックの熱的中心またはその近くに配されている、請求項25に記載のリソグラフィシステム。
- 請求項1ないし23のいずれかひとつに記載のアッセンブリーを備えている顕微鏡法システム。
- 請求項27に記載の顕微鏡法システムであり、
一つ以上の電子ビームのための源を備えている第一のモジュールと、
前記一つ以上の荷電粒子ビームを操作するための電子光学素子を備えている第二のモジュールと、
前記一つ以上の荷電粒子ビームをターゲット上に投影するための投影レンズを備えている第三のモジュールを備えており、
前記第一、第二および第三のモジュールは前記アッセンブリー内に挿入されて前記モジュールの正確整列スタックを提供する。
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