CN103597572B - 用于处理靶片表面的带电粒子系统 - Google Patents

Abstract

用于处理靶片表面的带电粒子系统。本发明涉及一种利用至少一个带电粒子射束处理靶片表面的带电粒子系统。该系统包括光学柱，该光学柱具有：射束生成器模块，用于产生多个带电粒子射束；射束调制器模块，用于开启和关闭所述多个射束；以及射束投射器模块，用于使射束或者子射束投射到所述靶片表面上。该系统还包括：机架，用于在固定位置支承每个所述模块；以及对准元件，用于使至少一个射束和/或子射束与下游模块元件对准。

Description

用于处理靶片表面的带电粒子系统

技术领域

本发明涉及一种诸如多射束光刻系统的带电粒子系统。正在开发诸如(多)电子射束系统的带电粒子系统用于高产出无掩模光刻系统、(多)电子射束显微学和(多)电子射束引起淀积的装置。

背景技术

这些带电粒子系统中的许多都具有为具体任务布置的复杂模块。为了便于维护这些模块，能够从带电粒子系统卸下故障模块，并且能够利用(新的或者修理过的)起作用模块替换故障模块。

然而，一些带电粒子系统，特别是一些无掩模光刻系统利用大量带电粒子射束处理例如大于10.000的靶片(或者晶片)。如果这些带电粒子射束穿过几个模块，则在替换模块之一后使这些模块互相对准变得困难，因为要求对准的精确。特别是，当带电粒子射束的典型斑点和两个相邻光射束之间的典型距离在微米范围或者低于微米范围时，存在这样的情况。

替换模块后的复杂并且因此耗时的对准过程使系统的停机时间延长得比希望的时间长。

当建立光刻系统或显微学系统时，各种功能模块或元件安装在机架中。尽管使功能元件互相精确对准自身具有挑战性，但是这种对准不能受到功能元件和/或机架的热膨胀或者收缩的影响。因此，以高精度层叠方式布置模块并且其中优选地使功能元件的对准至少实质上与温度变化无关是个问题。

本发明的目的是对上述问题中的至少一个提供至少部分解决方案。

发明内容

根据本发明的第一方面，通过提供一种利用带电粒子射束处理靶片表面的带电粒子系统实现本发明的目的，该系统包括：用于将所述射束投射到该靶片表面上的光学柱，其中，该光学柱包括：

-射束生成模块，包括用于产生多个带电粒子射束的射束生成器，多个带电粒子射束实质上被引导到射束调制器模块；

-所述射束调制器模块包括模块元件，该模块元件包括射束调制器，用于从射束生成器模块接收所述多个射束并且用于开启和关闭所述多个射束或由所述多个射束产生的多个子射束；

-射束投射器模块，包括用于接收所述多个射束或所述多个子射束中的至少一部分并且用于将至少一些接收的射束或子射束投射到所述靶片表面上，射束投射器包括模块元件，该模块元件包括：

投射透镜阵列，用于将所述至少一些接收的射束或子射束投射到靶片表面上；

并且其中该系统还包括：

-机架，用于在固定位置支承每个所述模块；以及

-对准元件，用于使所述多个射束和/或所述多个子射束中的至少一个与下游模块元件对准。

在光刻系统中，例如，在利用带电粒子射束处理靶片表面的带电粒子系统中，靶片表面通常是晶片的表面。光刻系统可以是所谓无掩模光刻系统。

根据本发明，光学柱包括：三个优选地可替换的模块。在这种情况下，仅第一和第三模块需要与另一个模块对准，而仅一个模块，即，第二或中间模块需要与两个模块对准。这样降低了对准过程的复杂性，同时能够单独替换光学柱的主要元件。

对准元件可以与模块相邻设置，设置于模块的内部，或者设置为模块的一部分。它们可以包括机械元件，用于作为一个整体移动(并且因此对准)模块。它们还可以包括电光元件(electro-optical element)，以利用电场在模块内或在模块之间使带电粒子射束或子射束对准。

在根据本发明的带电粒子系统的实施例中，对准元件被布置，以利用相关下游模块元件使全部所述多个射束和/或所述多个子射束对准。

在根据本发明的带电粒子系统的实施例中，对准元件包括致动器，该致动器被布置，以使射束生成器绕着与光学柱的光轴平行的z轴旋转并且/或者使射束生成器在x方向上和/或y方向上移动，x方向垂直于z轴，并且y方向垂直于z轴和x方向两者，其中致动器优选地是射束生成器模块的一部分。

通过使射束生成器相对于下一个模块移动和旋转，该实施例的致动器能够使射束生成器与下一个模块，特别是射束调制器模块对准。

仅利用电光元件能够使射束生成器对准。然而，电光元件可以增加光学柱的总高度。然而，可以限制光学柱的高度，并且增加高度可能增大射束之间的位置误差(射束对射束的误差)。因此，有利的是，提供(机械)致动器，用于使射束生成器相对于射束调制器对准。致动器可以被提供而不增加光学柱的高度。

在根据本发明的带电粒子系统的实施例中，射束生成器包括模块元件，该模块元件包括：

射束源，用于产生带电粒子宏射束；以及

小孔阵列，用于从所述带电粒子宏射束产生多个带电粒子射束。

在根据本发明的带电粒子系统的又一个实施例中，射束生成器的模块元件还包括：

-准直器透镜，用于使由射束源产生的带电粒子宏射束准直；以及

-像差校正器，用于校正所述宏射束中的像差误差。

由于射束源产生的带电粒子宏射束是发散射束，所以准直器被用于获得较小发散射束。然而，准直器可能引入像差误差，利用像差校正器能够校正该像差误差。

像差校正器可以包括两个具有具体形状的电极，用于当对这两个电极施加电压差时产生电场。带电粒子宏射束至少部分地由像差校正器的电场偏转。可以选择电极的形状和电压差，以便使像差误差至少被校正到某种程度。

小孔阵列可以设置于射束生成器中，以便将准直的、像差校正过的带电粒子宏射束分裂为至少一个带电粒子射束。在一些实施例中，带电粒子射束的数量可以在10000-15000的范围内，或者优选地在12000-14000的范围内。

系统的射束源每当耗尽时就需要更换。这就是提供单独的具有射束源的模块的原因。

在根据本发明的带电粒子系统的实施例中，电压差施加于像差校正器与小孔阵列之间，从而对小孔阵列的每个小孔提供透镜效果，优选地提供负透镜效果。

负透镜效果的优点是，所产生的带电粒子射束像发散射束一样离开射束生成器，这样有助于使射束生成器相对于射束调制器对准，如将在下面所解释的。

在根据本发明的带电粒子系统的实施例中，射束调制器包括模块元件，其中所述模块元件包括：

调制小孔阵列，用于将所述多个射束或所述多个子射束中的一些偏转到射束阑区，以防止这些射束被投射到所述靶片表面上。

可以被布置用于将所述多个子射束中的一些偏转到射束阑区的调制小孔阵列是复杂元件。对于成千的(子)射束和每小时对晶片的处理速度，必须送到调制小孔阵列进行处理的每秒数据量非常大。因此，可以将调制小孔阵列连接到许多数据缆线，例如，光缆。该复杂元件可能要求定期维护。使模块具有调制小孔阵列有容易维护的优点。

此外，与更远离靶片表面设置的光学柱的其他元件相比，用于将(子)射束投射到靶片表面上的投射透镜更容易被二次粒子污染，二次粒子是当(子)射束撞击靶片上时产生的。因此，要求容易替换投射透镜阵列，这说明也应当将投射透镜阵列容纳于单独模块中。

由上看出，根据本发明三个模块被提供，第一模块含有射束源，第二(和中间)模块含有射束调制器，或特别是调制小孔阵列，并且第三模块含有投射透镜阵列。

在根据本发明的带电粒子系统的实施例中，射束调制器模块的模块元件包括带有所述射束阑区的射束阑小孔阵列；或其中射束投射器的模块元件包括带有所述射束阑区的射束阑小孔阵列。

在根据本发明的带电粒子系统的实施例中，对准元件包括偏转器阵列，用于在x方向和/或y方向上，偏转来自小孔阵列的所述多个射束，其中，所述偏转器阵列优选地被布置于小孔阵列与调制小孔阵列之间，并且其中，所述偏转器阵列优选地被布置于射束调制器中。

偏转器阵列可以包括偏转器的阵列，其中每个偏转器被布置，用于偏转该至少一个带电粒子射束中的至少一个。特别是通过校正可能的位置和/或角度误差，偏转器阵列可以有助于使射束生成器相对于射束调制器对准。

在根据本发明的带电粒子系统的实施例中，其中对准元件包括一组两个接续偏转器阵列，其中该组被布置，用于使所述多个射束或所述多个子射束中的至少一部分在x方向上和/或在y方向上相对于射束阑阵列位移，其中，所述组优选地被布置于调制小孔阵列与射束阑小孔阵列之间，并且其中，所述组优选地被布置于射束投射器模块中。在又一个实施例中，所述两个偏转器阵列中的一个被布置，用于在x方向上和/或y方向上，偏转所述多个射束或所述多个子射束中的所述至少一部分。

该组两个接续偏转器阵列可以有助于使多个射束或子射束相对于射束投射器的对准。两个偏转器每个被布置，用于在x方向上和/或y方向上偏转。两个偏转器阵列的组合不仅能够偏转子射束，而且能够位移子射束，而不改变其倾角。

作为电光元件的该组两个接续偏转器阵列可以有助于调制小孔阵列与射束阑小孔阵列之间的光学柱的高度。由于射束校正器阵列已经将子射束中的射束对射束的误差降低到最小，所以可以限制调制小孔阵列与射束阑小孔阵列之间的光学柱的高度对位置射束对射束误差的影响。因此，可以不需要机械对准装置(诸如致动器)。

在根据本发明的带电粒子系统的实施例中，调制小孔阵列还被布置，用于从所述多个射束产生多个子射束。

在根据本发明的带电粒子系统的实施例中，射束调制器的模块元件还包括聚焦透镜阵列，用于使所述多个射束或所述多个子射束聚焦。

射束生成器可以产生或多或少的发散射束，同时可以要求进入射束投射器的(子)射束在射束投射器的射束阑小孔阵列上被聚焦到一定程度。因此，在射束调制器中执行聚焦，能够在将射束分裂为多个子射束之前或之后执行聚焦。

在根据本发明的带电粒子系统的实施例中，射束调制器的模块元件还包括射束校正器阵列，用于校正所述多个射束或所述多个子射束的各个角度误差。在另一个实施例中，聚焦透镜阵列是单透镜(Einzel lens)阵列，包括三个接续电极阵列，其中，射束校正器阵列是所述三个接续电极阵列中的中部电极阵列。

将射束校正器阵列用作中部电极阵列的优点是能够构造小型射束校正器-聚焦透镜组件。

在根据本发明的带电粒子系统的实施例中，射束校正器阵列被布置于小孔阵列与调制小孔阵列之间。然而，在另一个实施例中，射束校正器阵列可以被布置于调制小孔阵列与射束投射器之间。在该实施例中，射束校正器阵列可以被布置，用于校正至少一个子射束的角度误差，特别是由调制小孔阵列从单个带电粒子射束产生的一组子射束的角度误差。

在根据本发明的带电粒子系统的实施例中，射束调制器的模块元件还包括限流小孔阵列，用于屏蔽射束校正器阵列，其中，限流小孔被布置于小孔阵列与射束校正器阵列之间。

限流小孔阵列包括限流小孔的阵列，每个被布置，用于限制射束流或子射束流。

来自射束生成器的射束可以是发散的。在没有限流小孔阵列的情况下，带电粒子可以撞击在射束校正器阵列的电极上和/或聚焦透镜阵列的电极上并且导致破坏。因此，设置屏蔽限流小孔阵列是有利的。

在根据本发明的带电粒子系统的实施例中，所述多个射束或所述多个子射束在调制小孔阵列上和/或在限流小孔阵列上的相应斑点大于所述阵列的相应小孔。

在该实施例中，限流小孔阵列(或调制小孔阵列)将阻挡(即吸收)在射束的径向外部中的一些带电粒子。这样可以有助于使射束相对于射束调制器对准，因为在这种情况下能够允许小的位置误差。这些小的位置误差将只影响在限流小孔阵列(或调制小孔阵列)中阻挡或吸收的带电粒子。通过小孔的带电粒子射束将不受这些小的位置误差的影响。

当射束离开射束生成器时，通过控制射束的发散，可以控制射束在调制小孔阵列上和/或在限流小孔阵列上的斑点。这能够通过控制上面提到的负透镜效果实现。

根据本发明的另一个方面，通过提供一种方法实现上述目的，该方法用于在根据本发明的第一方面的带电粒子系统中，使多个射束和/或多个子射束中的至少一个与相关下游模块元件对准，该方法包括步骤：

a)使射束生成器绕着平行于光学柱的光轴的z轴旋转并且/或者使射束生成器在x方向上和/或y方向上移动，x方向垂直于z轴，并且y方向垂直于z轴和x方向两者。

在根据本发明的方法的实施例中，该方法还包括步骤：

b)在x方向和/或y方向上偏转来自小孔阵列的所述多个带电粒子射束。

在根据本发明的方法的实施例中，该方法还包括步骤：

c)在x方向和/或y方向上偏转所述多个子射束中的所述至少一部分。

在根据本发明的方法的实施例中，该方法还包括步骤：

d)利用一个或多个偏转器阵列，使所述多个射束或所述多个子射束在x方向和/或y方向上相对于射束阑阵列位移。

在根据本发明的方法的实施例中，该方法在步骤a)之前还包括步骤：

0)将一个或多个所述模块布置在所述机架中的固定位置。

根据本发明的方法实施例的效果和优点可以与经过细节的必要修改后的上面对带电粒子系统的实施例描述的效果和优点类似或相同。

根据本发明的第三方面，本发明提供了一种组件，该组件用于在层叠方向上提供两个或更多模块的对准层叠，其中两个或更多模块中的每个都包括三个支承件，其中该组件包括机架，该机架包括三个平面对准表面，该平面对准表面在层叠方向上延伸并且互相相对角度偏移，并且其中两个或更多模块中的每个模块的三个支承件中的每个当被布置在所述机架中时紧靠三个对准表面中的对应的一个对准表面。根据本发明，每个模块由三个支承件支承，这三个支承件对模块提供稳定支承。此外，通过使三个支承件中的每个紧靠相应的平面对准表面，控制每个模块在层叠中的方位。尤其是，因为由相同的三个平面对准表面控制两个或者更多的模块在层叠中的方位，能够将两个或者更多模块以高精度布置在层叠中。

在实施例中，三个平面对准表面中的每个都在相应平面上延伸，其中三个平面对准表面的对应平面交叉在一个交叉线，该交叉线在层叠方向上延伸。由于模块的每个支承件都紧靠它的对应对准表面，所以因为温度变化引起的模块的任何膨胀或者收缩都导致支承件沿着它的对应对准表面位移。交叉线限定层叠的热中心线。该热中心线的位置至少实质上与温度变化无关。因此，被布置在或者被布置在接近热中心线处的功能元件的对准至少实质上与温度变化无关。

在实施例中，所述组件还包括预载件，用于施加力在两个或者更多模块中的至少一个上，从而使两个或者更多模块中的至少一个模块的三个支承件推压着三个对准表面中的对应的一个对准表面。该预载件被布置，以便至少实质上保证支承件紧靠着对应对准表面，并且因此，保证模块在层叠中准确对准。

在实施例中，所述机架还包括被布置在第一平面中用于支承所述两个或者更多模块中的第一模块的支承件的三个支承表面，并且其中该机架包括被布置在第二平面中用于支承所述两个或者更多模块中的第二模块的支承件的三个支承表面，其中该第二平面至少实质上平行于第一平面。支承表面尤其限定模块在层叠方向上的位置。对准表面和支承表面的组合提供模块在层叠中的互相相对准确的位置和方位。

在实施例中，第一和第二平面至少实质上垂直于层叠方向延伸。在该实施例中，三个支承件紧靠三个对准表面确定模块在垂直于层叠方向的平面中的位置和相对于绕着层叠方向旋转的方位。此外，三个支承件紧靠在支承表面上确定模块沿着层叠方向的位置和相对于绕着垂直于层叠方向的轴旋转的方位。

在实施例中，用于支承第一模块的支承件的三个支承表面中的每个都与三个平面对准表面中的一个相邻被布置。这允许相对小的支承件同时紧靠对准表面和相邻的支承表面。

在实施例中，用于支承第二模块的支承件的三个支承表面被布置用于支承第一模块的支承件的三个支承表面的上方。能够将该实施例的每个模块支承于在机架中它自己的高度(level)处。

在实施例中，第二模块的三个支承件至少实质上被布置在由第一模块的三个支承件限定的三角形的外部。至少在层叠方向上，第二模块的支承件的位置不与第一模块的支承件的位置重叠，这样至少实质上防止当定位第一和/或第二模块时防止发生干扰或者妨碍。

在实施例中，两个或者更多模块的所述支承件中的至少一个支承件是球，优选地其中每个支承件是球。

在实施例中，三个平面对准表面中的每个平面对准表面都被布置在至少实质上垂直平面中，其中所述垂直平面沿至少实质上垂直的交叉线交叉，该交叉线限定对准层叠的热中心。

在实施例中，机架设置有位于三个平面对准表面中的两个平面对准表面之间的用于将两个或者更多模块插入组件中的开口。因此，能够通过开口将两个或者更多模块中的每个模块单独地插入机架和从机架卸下，特别是不需要操纵两个或者更多模块中的另一个模块。

在实施例中，组件包括在将模块插入组件期间用于支承和引导两个或者更多模块中的至少一个模块的轨道，其中这些轨道被布置，使得插入的模块脱离所述轨道。当插入模块时，为了操作员方便，并且为了将所述模块引导到层叠中的正确位置，所述模块被轨道支承并且被引导。然而，当模块处于正确位置时，所述模块仅由它的支承件支承在支承表面上并且靠着对准表面，而所述模块脱离轨道。

在实施例中，用于使两个或者更多模块的所述层叠的所有模块在层叠方向上对准的三个平面对准表面中的每个平面对准表面都是连接到机架的单块对准块的侧面，其中单块对准块由诸如钛的硬质材料制成，并且其中该侧面优选地设置有类似金刚石的涂层。

在实施例中，三个平面对准表面中的每个平面对准表面都被布置在脊上。因此该实施例包括三个脊，其中每个所述脊提供模块的对应支承件的阑面。这样的脊能够以比整个对准表面更高的精度被匹配，并且因此，提供模块在层叠中对准的更高准确度。

在实施例中，所述脊是至少实质上直线脊。在实施例中，所述脊在层叠方向上延伸，并且所述脊优选地在层叠方向上互相后退(recede)。

在实施例中，与三个平面对准表面中的一个平面对准表面相邻的支承表面中的每个支承表面都被布置在被连接到机架的单块支承块中，其中单块支承块由诸如钛的硬质材料制成，并且其中支承表面优选地设置有类似金刚石的涂层。

在实施例中，光刻系统包括：

第一模块，包括投射透镜，用于将所述一个或多个带电粒子射束投射到靶片上，

第二模块，包括用于所述一个或多个带电粒子射束的偏转器，以及

第三模块，包括一个或多个带电粒子射束的源，

其中第一、第二和第三模块被插入组件中，以提供所述模块的准确对准层叠。

在实施例中，源、偏转器和投射透镜至少实质上被布置在或者布置在接近对准层叠的热中心处。

根据另一个方面，本发明提供了一种包括如上所述组件的显微系统。

只要可能，本说明书中描述和示出的各方面和特征都能被单独地应用。这些单独的方面特别是所附从属权利要求书中描述的方面和特征能够被作为分案专利申请的主题。

附图说明

将根据附图所示的典型实施例描述本发明，其中：

图1示出根据本发明实施例的光学柱的原理全图；

图2示出光刻系统在原理上可能的对准误差；

图3示出根据本发明的带电粒子系统的实施例的原理全图；

图4A和4B示出根据本发明的带电粒子系统的两个其他实施例的原理全图；

图5示出模块的热稳定定位的俯视原理图；

图6示出互相位于顶部的3个模块的底视原理图；

图7示出图6的3个模块的第一实施例的侧视图；

图8示出图6的3个模块的第二实施例的侧视图；

图9示出用于布置如图8的原理图所示的模块的机架的原理图；

图10示出还设置有用于施加力在所述模块上的预加载件的被布置在图9的机架中的模块；

图11原理性示出在将模块插入机架期间用于支承并且引导模块的轨道；

图12A原理性示出插入期间的模块；以及

图12B原理性示出处于层叠中的正确位置并且从轨道脱离的模块。

具体实施例

图1示出根据本发明实施例的光学柱的原理全图。在根据本发明实施例的光刻系统中可以设立这种光学柱。在光学柱中，当宏射束MB被分裂为一个或多个带电粒子射束CPB时，由小孔阵列AA产生带电粒子射束CPB。至少一个带电粒子射束CPB可以由偏转器PBB-DFL偏转。带电粒子射束CPB由限流小孔阵列CLAA接收。限流小孔阵列CLAA可以限制带电粒子射束CPB的带电粒子流。

接着，带电粒子射束可以被元件CL/IBC准直和校正，元件CL/IBC可以包括与单独射束校正器IBC组合的准直透镜CL。

准直带电粒子射束可以撞击在调制小孔阵列MAA上，该调制小孔阵列MAA可以将带电粒子射束CPB分割为许多子射束SB。调制小孔阵列MAA还可以包括用于将子射束单独地偏转到射束阑BS上的熄灭器阵列。当子射束被熄灭器阵列偏转时，该子射束将不通过射束阑，并且不到达靶片TA。当子射束SB不被熄灭器阵列偏转时，该子射束将通过射束阑的开口。

然而，在到达射束阑之前，子射束或者一组子射束可以被第一偏转器POS-DFL-1和/或第二偏转器POS-DFL-2偏转。

在子射束通过射束阑后，利用扫描偏转器MEMS-DFL和投射透镜PL，子射束被扫描在靶片TA上。

如从图1能够被看到的，光学柱中的不同元件对准要求准确。图2示出特别是当限流小孔阵列CLAA相对于小孔阵列AA位移时，小孔阵列AA与限流小孔阵列CLAA不对准的影响。这引起怕有带电粒子射束CPB在CLAA上有位置误差。

通常，位置误差可以指在射束的光轴的x位置、y位置和z位置的误差，或者更特别指在光轴与接收模块的交叉的x位置和y位置的误差。此外，角度误差可以指光轴的方位相对于绕x轴、y轴和或z轴的旋转的误差(分别指Rx误差、Ry误差和Rz误差)，或者更特别是指由光轴与接收模块的交叉限定的角度。

当采用多射束时，当采用多射束时，公差(位置或者角度)是全部或者一组射束呈现的误差。相反，射束对射束误差(位置的或者角度的)是一个射束相对于另一个射束呈现的单独误差。后者可以是由相对于限流小孔的小孔的位置的生产误差导致的。或者它可以是模块的透镜不以相同方式偏转通过它的所有带电粒子的情况。

图3示出根据本发明的带电粒子系统的实施例的原理全图。带电粒子系统CPS包括3个模块：射束生成模块MO3，包括射束生成器BG；射束调制器模块MO2，包括射束调制器BM；以及射束投射模块MO1，包括射束投射器BP。射束生成器BG、射束调制器BM以及射束投射器BP每个可以被分别布置于支承结构S1、S2和S3上。每个模块都由机架FRM支承。该机架FRM可以具有3个台架BA1、BA2和BA3。在每个台架中，可以容纳模块，或者特别是支承结构。可以围绕层叠模块设置3个台架BA1、BA2和BA3，因此，3个台架BA1、BA2和BA3至少部分地包围层叠模块。

在模块与台架之间的界面处，可以设置一个或多个基准球RB，以便以高精度将模块定位于台架中。每个台架都可以设置有三个基准球RB，以便能够相对于其台架精确定位模块。

在下面的文本中，术语“基准球”和术语“支承件”都可以指同一个技术元件。

射束生成器BG包括射束源BSRC，用于产生带电粒子宏射束MB。射束生成器BG相对于另一个模块的高度可以不成比例，因为宏射束MB在z方向上可以较长。通常，带电粒子是电子。射束生成器BG还包括小孔阵列AA，用于从带电粒子宏射束MB产生多个(带电粒子)射束CPB。在图3、4A和4B的例子中，为了简洁的原因，示出了三个射束CPB，但是射束的数量也可以在几百、几千甚或几万的范围内。

带电粒子系统包括对准元件，用于使射束与下游模块元件对准。本说明书中的术语“下游”由带电粒子从源到靶片上的流定义。

例如，该系统可以设置有致动器ACT，布置该致动器ACT，以使射束生成器绕z轴旋转，并且使射束生成器在x方向上和/或y方向上移动。图2示出x方向、y方向和z方向。

射束生成器BG可以包括用于使射束源产生的带电粒子宏射束聚焦的准直器COLL，并且可以包括像差校正器ABC，用于校正所述带电粒子宏射束中的像差误差。

可以在像差校正器ABC与小孔阵列AA之间施加电压差，这样对小孔阵列的每个小孔提供负透镜效果。因此，射束CPB能够是或多或少发散的。然而，还可以提供正透镜效果。

布置射束调制器BM，以接收来自射束生成器BG的带电粒子射束CPB。射束调制器可以包括诸如调制小孔阵列MAA的模块元件，用于从射束CPB产生多个子射束SB1、SB2、SB3，并且用于将一些子射束偏转到射束阑小孔阵列BS的射束阑区BSA。SB2表示这种子射束的例子。因此，调制小孔阵列MAA可以用作熄灭器阵列，该熄灭器阵列与射束阑小孔阵列BS组合防止一些射束或者子射束撞击(或者被投射)到晶片或者靶片TA上，这样，在晶片上产生图形。

对准元件还可以包括偏转器阵列PBB-DFL，用于在x方向和/或y方向上偏转来自小孔阵列的至少一个带电粒子射束。在图3的实施例中，偏转器阵列PBB-DFL布置于射束调制器模块MO2中，或者特别是布置于射束调制器BM中，但是也可以布置于另一个模块中，即，射束生成器模块MO3中，或者特别是布置于射束生成器BG中。

射束调制器可以包括：射束校正器阵列IBC，用于校正射束CPB的单独角度误差；以及聚焦透镜阵列CL，用于使射束CPB聚焦。还可以布置或者配置射束校正器阵列IBC，以校正射束CPB之间的位置误差。

聚焦透镜阵列的透镜可以每个是单透镜(Einzel lens)。在这种情况下，聚焦透镜阵列包括三个接续电极阵列。每个电极阵列都包括带有小孔阵列的电极。电压差施加到中部电极阵列与两个外电极阵列之间。施加到中部电极阵列的电压可以实质上是0伏特，或者是系统的地电压。施加到两个外电极阵列的电压可以在-0.5至-2kV的范围内。在图2的实施例中，将射束校正器阵列IBC设置为单透镜的中部电极阵列。

在图3的实施例中，射束校正器阵列IBC布置于小孔阵列AA与调制小孔阵列MAA之间。此外，可以将射束校正器阵列IBC设置或者定位于调制小孔阵列MAA与射束投射器BP之间，如图4A所示。

射束调制器可以设置有限流小孔阵列CLAA。布置限流小孔阵列CLAA，用于对射束校正器阵列IBC屏蔽发散射束CPB。限流小孔阵列CLAA防止带电粒子撞击在射束校正器阵列IBC的电极上。撞击在射束校正器阵列IBC上的带电粒子可以导致破坏射束校正器的电极。

因为需要屏蔽，所以射束在限流小孔阵列上的斑点可以大于阵列的相应小孔。

射束在小孔阵列上的斑点大于其相应小孔的优点是，这样减小了在射束的径向外部通常发现的像差误差。因此，如上所述的负透镜效果也可以对减小像差误差做出贡献。

可以布置射束投射器BP，用于接收来自射束调制器的子射束SB1、SB2、SB3。射束投射器包括带有射束阑区BSA的射束阑小孔阵列BS。在图2中可以看出，偏转到射束阑区BSA的子射束SB3将不通过射束阑小孔阵列，并且将不到达靶片表面。

射束投射器还包括投射透镜PL，用于将子射束投射到晶片TA的表面上。

对准元件可以包括一组两个接续偏转器阵列POS-DFL-1和POS-DFL-2。布置该组，用于使子射束在x方向和/或y方向上相对于射束阑阵列位移。该组布置于调制小孔阵列与射束阑小孔阵列之间。该组可以是射束调制器模块MO2的或者特别是射束调制器BM的一部分(请参见图2)，或者是射束投射器模块MO1的或者特别是射束投射器BP的一部分(请参见图4A)。可以布置偏转器POS-DFL-1，用于在x方向和/或y方向上偏转多个子射束。

该组两个接续偏转器阵列POS-DFL-1和POS-DFL-2有助于射束或者子射束相对于射束阑阵列或者投射透镜阵列的对准。它可以校正(子)射束的位置误差和/或它可以校正(子)射束的角度误差。

射束投射器模块还可以包括一个或多个扫描偏转器阵列，用于在处理所述靶片的同时在靶片上扫描射束(或者子射束)。

图4A示出根据本发明的带电粒子系统的另一个实施例的原理全图。图4A的实施例与图3的实施例的不同之处仅在于射束调制器的布置。在图4A中，射束校正器阵列IBC和聚焦透镜阵列CL设置于调制小孔阵列MAA与射束投射器BP之间，而在图3中，射束校正器阵列IBC和聚焦透镜阵列CL设置于射束生成器BG与调制小孔阵列MAA之间。

当射束校正器IBC设置于调制小孔阵列MAA与射束投射器BP之间时，不需要限流小孔阵列，因为调制小孔阵列MAA可以屏蔽射束校正器IBC。在这种情况下，射束在调制小孔阵列MAA上的斑点大于调制小孔阵列的相应小孔。因为这种布置，所以在图4A中已经省略了限流小孔阵列CLAA。

图4B示出根据本发明的带电粒子系统的又另一个实施例的原理全图。图4B的实施例与图3的实施例的不同之处仅在于，该组两个接续偏转器阵列POS-DFL-1和POS-DFL-2的布置。在图4B的实施例中，该组是射束调制器的一部分，而在图3中，该组是射束投射器的一部分。

图3、4A和4B是根据本发明的带电粒子系统的一些元件的不同布置的例子。应当明白，其他布置也是可行的。

总之，射束与射束调制器的对准可以由下列中的至少之一提供：

(1)移动和/或旋转射束生成器BG

(2)产生发散射束CPB，以及

(3)利用偏转器阵列PBB-DFL偏转射束CPB。

此外，(子)射束与射束投射器BP的对准可以由该组两个接续偏转器阵列POS-DFL-1和POS-DFL-2提供。

如该图所示，两个相邻模块之间的距离应当尽可能小，因为射束(带电粒子射束或者子射束)之间的位置误差随该距离增大。

这还适用于关于模块内部的元件之间的距离：可以将模块元件之间的距离最小化，以将射束之间的位置误差最小化。因此，例如通过利用例如光刻技术在单个衬底上集成元件，互相尽可能靠近地设置这些元件是有利的。

在根据本发明的带电粒子系统的所有实施例中，可以是预校准每个模块这种情况。换句话说，在将模块插入机架的台架中之前校准模块。校准指示模块中的元件被互相对准，并且它们的一起作用已经被检验。将预校准的模块插入机架后，仅必须使该模块本身与其他模块对准。使用预校准模块能够快速替换模块。这样缩短了维修期间带电粒子系统的停机时间。

还可以设置用于冷却一个或多个平面衬底的冷却管CT(或者冷却系统)。冷却系统可以包括与通孔相邻的冷却管CT和用于通过冷却管抽吸冷却液(诸如水)的泵。

上面还描述了如何能够使多个射束和/或多个子射束中的至少一个与如上所述的带电粒子系统中的相关下游模块对准，作为一种方法包括步骤：使射束生成器绕平行于光学柱的光轴的z轴旋转和/或使射束生成器在x方向上和/或y方向上移动，x方向垂直于z轴，而y方向垂直于z轴和x方向两者。

该方法可以包括在x方向和/或y方向上偏转来自小孔阵列的所述多个带电粒子射束，并且在x方向和/或y方向上偏转所述多个子射束中的所述至少一部分子射束。

此外，该方法可以包括利用一个或多个偏转器阵列，使所述多个射束或者所述多个子射束在x方向和/或y方向上相对于射束阑阵列位移，并且可以包括在所述机架中的固定位置布置一个或多个所述模块。

图5示意示出在机架中热稳定定位模块MO1的俯视图。模块设置有三个至少实质上球形的支承件SM1。下面将更详细描述的机架，包括互相相对角度偏移的三个平面对准表面PAS。当布置在机架中时，模块MO1的三个支承件SM1中的每个分别贴着三个对准表面PAS中的对应的一个对准表面PAS并排布置。为了确保支承件SM1与对应对准表面PAS保持接触，力可以被施加到所述模块，以使支承件SM1推压着对准表面PAS。

三个对准表面PAS中的每个对准表面PAS在对应平面PLA中延伸，其中三个平面对准表面PAS的对应平面PLA交叉于一个交叉点INT。该交叉点INT至少实质上布置于模块MO1的中部中。当模块MO1或者机架例如因为温度的变化而经历伸展或者收缩时，球形支承件SM1将沿着对准表面PAS滑动。然而，交叉点INT的位置将不发生变化。因此，交叉点INT提供了热中心。将功能元件布置在或者布置在接近交叉点INT或者热中心处，使得功能元件的对准至少实质上与模块和/或机架的热膨胀或者收缩无关。

根据本发明，将这种相同原理应用于层叠中，如图6所示。图6示出一个组件，用于在实质上沿着视线方向的层叠方向上，提供精确对准的两个或者更多模块MO1、MO2、MO3的层叠。

第三模块MO3可以是射束生成器模块，如上所述。第二模块MO2可以是射束调制器模块，如上所述。第一模块MO1可以是射束投射器模块，如上所述。

在该例子中，三个模块MO1、MO2、MO3中的每个都包括三个支承件SM1、SM2、SM3。当布置于机架中时，模块MO1、MO2、MO3的三个支承件SM1、SM2、SM3的每个都贴着三个对准表面PAS中的对应的一个对准表面PAS并排布置。由于对准表面PAS中的每个对准表面PAS都用作模块MO1、MO2、MO3每个的支承件SM1、SM2、SM3之一的阑面，所以在层叠方向上模块MO1、MO2、MO3每个的热中心TC被准确布置于互相的顶部。

此外，如图6所示，球形支承件SM1、SM2、SM3能够是不同尺寸。特别是，最下面的模块MO1的球形支承件SM1的直径小于布置于最下面模块MO1上方的第二模块MO2的球形支承件SM2的直径，而第二模块MO2的球形支承件SM2的直径小于布置于第二模块MO2上方的第三模块MO3的球形支承件SM3的直径。

在图6中还可以看出，第二模块MO2的三个支承件SM2至少实质上布置于由第一模块MO1的支承件SM1限定的三角形之外，并且第三模块MO3的三个支承件SM3至少实质上布置于由第二模块MO2的支承件SM2限定的三角形之外。

在如图7所示的第一典型实施例中，机架包括3个在层叠方向DI上延伸的平面对准表面PASA。此外，机架包括布置于第一平面SPL中的支承表面，用于支承三个模块MO1、MO2、MO3的支承件SM1、SM2、SM3。尽管该实施例提供了一种组件，用于以高精度层叠方式布置模块MO1、MO2、MO3并且其中当将功能元件布置在或者布置在接近热中心TC时，功能元件的对准至少实质上与温度变化无关，但是图7的侧视原理图示出第二模块MO2到达第一模块MO1之上，而第三模块MO3到达第二模块MO2之上。

实际上，当能够例如实质上沿着图7的视线方向从组件的前侧插入模块MO1、MO2、MO3中的每个时，会是有好处的。鉴于此，请注意，在第一典型实施例中，在能够卸下第二模块MO2之前需要卸下第一模块MO1，并且在能够卸下第三模块MO3之前需要卸下第一模块MO1和第二模块MO2两者。

在如图8所示的第二典型实施例中，包括被布置于脊PASB上的三个平面对准表面的机架在层叠方向DI上延伸，并且在层叠方向DI上，三个平面对准表面互相后退。此外，机架包括布置于不同高度上用于在其对应高度上支承三个模块MO1、MO2、MO3每个的支承件SM1、SM2、SM3的支承表面SPL。特别是，在该实施例中，用于支承模块MO1、MO1、MO3的支承件SM1、SM2、SM3的三个阶梯状支承表面SPL处于其对应高度。如图8所示，这种布置使得能够因此实质上沿着图8的视线方向从组件的前侧插入或者卸下模块MO1、MO2、MO3中的每个。

如图8还示出，用于支承第二模块MO2的支承件SM2的三个支承表面SPL布置于用于支承第一模块MO1的支承件SM1的三个支承表面SPL上方。

图9示出如图8所示的第二典型实施例的机架FRM。机架FRM实质上是U状的，并且设置有用于提供对准表面PAS和支承表面SPL的插件ALIB，SUPB。机架FRM能够由例如铝的易机械加工材料制成。用于使所述层叠的所有模块对准的三个平面对准表面PAS中的每个都是插入机架FRM中的单块对准块ALIB的侧面。单块对准块ALIB由诸如钛的硬质材料制成，并且对准表面PAS优选地设置有类似金刚石的涂层。

作为一种选择，侧面PAS可以设置有脊PASB，如图8所示，其中脊PASB面对球形支承件SM1、SM2、SM3的一侧于是用作平面对准表面。

此外，与三个平面对准表面PAS中的一个相邻的支承表面SPL布置于与机架FRM相连的单块支承块SUPB中。单块支承块SUPB也由诸如钛的硬质材料制成，并且支承表面SPL优选地设置有类似金刚石的涂层。

如图9所示，机架FRM在三个平面对准表面PAS中的两个平面对准表面PAS之间设置有开口，用于沿着插入方向R将模块插入组件中。

图10示出模块MO1在机架FRM中的布置。如图10所示，设置预载件PLM，用于对模块MO1特别是对模块MO1的支承件SM1中的一个施加力F2，以使模块MO1的三个支承件SM1推压着三个对准表面PAS中的对应的一个对准表面PAS。预载件PLM可移动地布置于机架FRM中，并且设置有轮子WHL，该轮子WHL由机架中的阶梯状凹槽SSR引导，从而能够沿着插入方向R自由运动。

为了在模块MO1上施加力F2，从而它保持在它的位置并且保证在校正方向上施加对模块施加的力F2，预载件PLM设置有负载棒LBAR，该负载棒LBAR通过两个至少实质上在平行于施加的力F2的校正方向的方向上延伸的弯曲部FLX连接到预载件PLM。当对预载板施加法向力时，这样特别设计的具有负载棒LBAR的预载件PLM将校正力F2传递到模块MO1的球形支承件SM1之一上。弹簧SPR提供该法向力F1，该弹簧SPR连接到机架FRM，并且弹簧SPR还封闭机架FRM中的模块插入开口。

布置对准表面PAS的角度偏移和/或支承件SM1的位置，以便仅通过施加力F2到三个支承件SM1中的只一个支承件上，使全部三个支承件SM1紧靠全部三个对准表面PAS。

此外，模块MO1设置有一个或多个诸如投射透镜阵列和扫描偏转器阵列的功能元件FE。模块MO3可以设置有一个或多个诸如射束源和/或操纵装置的功能元件，例如，偏转器和/或透镜，用于当从所述射束源发射射束时操纵射束，而模块MO3可以设置有一个或多个诸如调制小孔阵列和/或熄灭器阵列的功能元件。

以当将模块MO1插入机架FRM中并且将模块MO1的支承件SM1贴着对准表面PAS布置时，所述功能元件FE的中心线和/或光轴CLOA至少实质上与对准层叠的热中心对齐的方式，将功能元件FE布置于模块MO1中和/或模块MO1上。

优选地，每个模块MO1、MO2、MO3当布置于机架FRM中时设置有其自己的预载件。

在如图11所示的又一个典型实施例中，模块MO1设置有滑动脚SLP，并且机架FRM设置有轨道RAI。为了更容易将模块MO1放置于机架FRM中，模块MO1被支承在轨道RAI上，并且能够在插入方向R上沿着轨道RAI滑动，如图12A所示。

布置一对轨道RAI，用于在将一个模块MO1插入组件期间，支承并且引导模块MO1。当模块MO1已经到达要求位置时，因此，当支承件SM1紧靠对准表面PAS并且由支承表面SPL支承时，该模块不再由轨道支承，如图12B所示。在模块MO1的该要求位置，滑动脚SLP布置在轨道RAI的切口CTT上方。

可以理解，如上所述的具有对准元件的光刻系统的任何实施例都还可以设置有根据如该说明书所述的用于在层叠方向上提供两个或者更多模块的对准层叠的组件的任何实施例的模块。

还可以利用下面一个或多个条款描述根据本发明的实施例：

1]组件，用于在层叠方向上提供两个或者更多模块的对准层叠，

其中两个或者更多模块中的每个都包括三个支承件，

其中该组件包括机架，该机架包括三个平面对准表面，该平面对准表面在层叠方向上延伸并且互相相对角度偏移，并且

其中两个或者更多模块中的每个模块的三个支承件中的每个当布置在所述机架中时紧靠三个对准表面中的对应的一个对准表面。

2]根据条款1所述的组件，其中三个对准表面中的每个对准表面在对应平面中延伸，并且其中三个平面对准表面中的对应平面交叉在一个交叉线，该交叉线在层叠方向上延伸。

3]根据条款1或者2所述的组件，还包括预载件，用于对两个或者更多模块中的至少一个施加力，从而使两个或者更多模块中的至少一个模块的三个支承件推压着三个对准表面中的对应的一个对准表面。

4]根据条款1、2或者3所述的组件，其中机架包括布置在第一平面中用于支承所述两个或者更多模块中的第一模块的支承件的三个支承表面，并且其中机架包括布置在第二平面中用于支承所述两个或者更多模块中的第二模块的支承件的三个支承表面，其中第二平面至少实质上平行于第一平面。

5]根据条款4所述的组件，其中第一和第二平面至少实质上垂直于层叠方向延伸。

6]根据条款4或者5所述的组件，其中用于支承第一模块的支承件的三个支承表面中的每个都与三个平面对准表面中的一个平面对准表面相邻布置。

7]根据条款4、5或者6所述的组件，其中用于支承第二模块的支承件的三个支承表面被布置在用于支承第一模块的支承件的三个支承表面的上方。

8]根据条款7所述的组件，其中第二模块的三个支承件至少实质上被布置在由第一模块的支承件限定的三角形的外部。

9]根据上述条款中的任何一个条款所述的组件，其中两个或者更多模块的所述支承件中的至少一个支承件是球，优选地其中每个支承件是球。

10]根据上述条款中的任何一个条款所述的组件，其中三个平面对准表面中的每个平面对准表面都被布置在至少实质上垂直平面中，其中所述垂直平面交叉于至少实质上垂直的交叉线，该交叉线限定对准层叠的热中心。

11]根据上述条款中的任何一个条款所述的组件，其中机架设置有在三个平面对准表面中的两个平面对准表面之间的用于将两个或者更多模块插入组件中的开口。

12]根据条款11所述的组件，其中组件包括用于在将模块插入组件期间支承并且引导两个或者更多模块中的至少一个模块的轨道，其中布置轨道，使得被插入的模块脱离所述轨道。

13]根据上述条款中的任何一个条款所述的组件，其中用于使两个或者更多模块的所述层叠的所有模块在层叠方向上对准的三个平面对准表面中的每个平面对准表面都是被连接到机架的单块对准块的侧面，其中单块对准块由诸如钛的硬质材料制成，并且其中该侧面优选地设置有类似金刚石的涂层。

14]根据上述条款中的任何一个条款所述的组件，其中三个平面对准表面中的每个平面对准表面都布置于脊上。

15]根据上述条款中的任何一个条款所述的组件，当基于条款6时，其中与三个平面对准表面中的一个平面对准表面相邻的支承表面中的每个支承表面都布置于被连接到机架的单块支承块中，其中单块支承块由诸如钛的硬质材料制成，并且其中支承表面优选地设置有类似金刚石的涂层。

16]一种包括根据上述条款中的任何一个条款所述的组件的光刻系统。

17]根据条款16所述的光刻系统，包括：

第一模块，包括一个或多个带电粒子射束的源，

第二模块，包括用于所述一个或多个带电粒子射束的偏转器，以及

第三模块，包括用于将所述一个或多个带电粒子射束投射到靶片上的投射透镜，其中第一、第二和第三模块被插入组件中，以提供所述模块的准确对准层叠。

18]根据条款17所述的光刻系统，其中源、偏转器和投射透镜至少实质上布置在或者布置在接近对准层叠的热中心处。

19]一种包括根据条款1至15中的任何一个条款的组件的显微系统。

应当明白，为了说明优选实施例的操作，上面的描述被包含，并且上面的描述并不意味着限制本发明的范围。从上面的讨论中看出，对于所属技术领域内的技术人员，许多变型显而易见，本发明的实质范围也包含这些变型。

Claims (19)

1.一种利用带电粒子射束处理靶片表面的带电粒子系统，该系统包括：用于将所述带电粒子射束投射到该靶片表面上的光学柱，其中在该光学柱中，带电粒子宏射束(MB)通过小孔阵列(AA)被分裂成所述带电粒子射束(CPB)，其中多个子射束从所述带电粒子射束生成，其中该光学柱包括三个可替换的模块，每个模块包括至少一个光学元件，该三个模块是射束生成模块(MO3)、射束调制器模块(MO2)和射束投射器模块(MO1)，

所述射束生成模块(MO3)，包括用于产生带电粒子宏射束(MB)的射束生成器(BG)，所述带电粒子宏射束被引导到所述射束调制器模块(MO2)；

所述射束调制器模块(MO2)包括模块元件，所述模块元件包括射束调制器(BM)，所述射束调制器用于开启和关闭从所述带电粒子射束(CPB)生成的多个子射束(SB1，SB2，SB3)，其中射束调制器(BM)包括调制小孔阵列(MAA)，被布置用于从所述带电粒子射束(CPB)生成所述多个子射束(SB1，SB2，SB3)，所述射束调制器通过把所述多个子射束中的一些(SB1)偏转到射束阑小孔阵列(BS)的射束阑区(BSA)上关闭子射束，以便防止这些子射束被投射到靶片表面上；

所述射束投射器模块(MO1)，包括射束投射器(BP)，用于接收多个子射束以及把所接收的子射束(SB2，SB3)投射到所述靶片表面上，该射束投射器(BP)包括模块元件，该模块元件包括：

投射透镜阵列，用于将至少一些接收的子射束(SB2，SB3)投射到靶片表面上；和

带有所述射束阑区的射束阑小孔阵列，其中所述射束阑小孔阵列被布置在调制小孔阵列(MAA)和投射透镜阵列之间；

并且其中该系统还包括：

-机架(FRM)，用于在固定位置支承每个所述可替换的模块(MO1，MO2，MO3)；以及

-对准元件，用于使所述多个子射束(SB1，SB2，SB3)与射束阑小孔阵列(BS)对准，

其中所述对准元件包括一个或多个偏转器阵列(POS-DFL-1，POS-DFL-2)，其中该一个或多个偏转器阵列是电光元件，以利用电场使所述多个子射束(SB1，SB2，SB3)在可替换的模块之间对准；以及

其中所述一个或多个偏转器阵列被包含在所述射束阑小孔阵列(BS)和所述调制小孔阵列(MAA)之间的所述光学柱中，并且被布置在射束投射器模块(MO1)中或者射束调制器模块(MO2)中。

2.根据权利要求1所述的带电粒子系统，其中所述对准元件包括一组两个接续的偏转器阵列(POS-DFL-1，POS-DFL-2)，其中该组被布置成在x方向和/或y方向上相对于射束阑小孔阵列(BS)位移。

3.根据权利要求2所述的带电粒子系统，其中所述一组两个接续的偏转器阵列(POS-DFL-1，POS-DFL-2)被布置在射束调制器模块(MO2)中。

4.根据权利要求2所述的带电粒子系统，其中所述两个接续的偏转器阵列之一被布置成沿x方向和/或y方向偏转所述多个子射束。

5.根据权利要求1至4中的任何一项所述的带电粒子系统，其中对准元件包括致动器(ACT)，被布置用于使射束生成器绕着与光学柱的光轴平行的z轴旋转。

6.根据权利要求1至4中的任何一项所述的带电粒子系统，其中对准元件包括致动器，被布置用于使射束生成器在x方向和/或y方向上移动，x方向垂直于z轴并且y方向垂直于z轴和x方向两者。

7.根据权利要求5所述的带电粒子系统，其中该致动器是射束生成模块的一部分。

8.根据权利要求6所述的带电粒子系统，其中该致动器是射束生成模块的一部分。

9.根据权利要求1至4中的任何一项所述的带电粒子系统，其中，射束生成器(BG)包括模块元件，该模块元件包含：

小孔阵列(AA)，用于从所述带电粒子宏射束(MB)生成所述带电粒子射束(CPB)。

10.根据权利要求9所述的带电粒子系统，其中射束生成器的模块元件还包括：

准直透镜(COLL)，用于准直由射束源产生的带电粒子宏射束。

11.根据权利要求9所述的带电粒子系统，其中，所述对准元件包括另一个偏转器阵列(PBB-DFL)，用于使所述带电粒子射束从小孔阵列(AA)沿x方向和/或y方向偏转，该另一个偏转器阵列(PBB-DFL)被布置在小孔阵列(AA)和调制小孔阵列(MAA)之间。

12.根据权利要求11所述的带电粒子系统，其中，所述另一个偏转器阵列被布置在射束调制器模块(MO2)中。

13.根据权利要求1至4中的任何一项所述的带电粒子系统，其中，射束调制器(BM)的模块元件还包括聚焦透镜阵列，用于使所述带电粒子射束或者所述多个子射束聚焦。

14.根据权利要求1至4中的任何一项所述的带电粒子系统，其中，射束调制器(BM)的模块元件还包括射束校正器阵列，用于校正所述带电粒子射束或者所述多个子射束的各个角度误差。

15.一种用于在根据权利要求1至14中的任何一项所述的带电粒子系统中，使一个或多个带电粒子射束和/或多个子射束中的至少一个射束与下游模块元件对准的方法，所述方法包括步骤：

利用一个或多个偏转器阵列，使所述一个或多个带电粒子射束或所述多个子射束在x方向和/或y方向上相对于射束阑小孔阵列位移。

16.根据权利要求15所述的方法，还包括步骤：

使射束生成器绕着平行于光学柱的光轴的z轴旋转并且/或者使射束生成器在x方向和/或y方向上移动，

x方向垂直于z轴，并且y方向垂直于z轴和x方向两者。

17.根据权利要求15或16所述的方法，还包括步骤：

在x方向和/或y方向上偏转来自小孔阵列的所述一个或多个带电粒子射束。

18.根据权利要求15所述的方法，还包括步骤：

在x方向和/或y方向上偏转所述多个子射束中的至少一部分。

19.根据权利要求15所述的方法，在其它步骤之前还包括步骤：

将所述射束生成模块(MO3)、所述射束调制器模块(MO2)和所述射束投射器模块(MO1)中的一个或多个布置于所述带电粒子系统的机架中的固定位置。