JP2007200958A - 保持装置およびそれを用いた露光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 被保持部材に発生する歪が低減され、且つ、保持時の良好な位置再現性、歪再現性を有する保持装置を提供する。
【解決手段】 この保持装置１００Ａは、略Ｖ凹形状１２１を有する保持部材１２０に略Ｖ凸形状１１１を有する被保持部材１１０を保持するものである。略Ｖ凸形状１１１は被保持部材１１０の中心Ｏから略１２０°ピッチで配置され、略Ｖ凹形状１２１は略Ｖ凸形状と対向する位置に配置される。略Ｖ凸形状と略Ｖ凹形状の支持平面１１２、１２２および１１４、１２４は対向する平行平面であり、それぞれの平行平面間に転動体１３１を有する。
【選択図】 図１

Description

本発明は、物体をその位置および初期歪を再現性良く保持する保持装置およびそれを用いた露光装置に関する。

物体の保持方法として、広くキネマティックマウントと呼ばれる方法が知られている。キネマティックマウントの利点は、被保持部材に対して保持時に生じる歪が小さいことや保持物体を位置決め精度を失うことなく取り外し、再取り付けが可能であることである。

図９にキネマティックマウントの構成例を示す。図９の保持機構１Ａは保持部材２０Ａと３つの脚部１１を備えた被保持部材１０と３つ脚部１１先端に設けられている球面部材１２ａ、１２ｂ、１２ｃからなる。円錐状凹部２１と球状部材１２ａにより被保持部材１０は冗長性なしに３つの並進自由度が拘束される。また、Ｖ形状凹部２２と球状部材１２ｂにより２つの回転自由度が拘束され、保持部材２０Ａと球状部材１２ｃにより１つの回転自由度が拘束される。よって、被保持部材１０は保持部材２０Ａに対して３次元直交３軸方向の並進自由度と各軸周り方向の３つの回転自由度との独立した６自由度が拘束されることとなる。

図１０にキネマティックマウントの他の構成例を示す。この保持機構１Ｂは、３つのＶ凹形状２２が形成された保持部材２０Ｂと３つの脚部１１を備えた被保持部材１０と脚部１１先端に設けられている球面部材１２からなる。この場合においても被保持部材１０は保持部材２０に対して独立した６自由度が拘束されている。

一般的に保持機構１Ａ、１Ｂは、温度環境変動や外力により保持部材２０に変形が生じても被保持部材１０に生じる歪は小さく、且つ被保持部材１０の取り外し、再取り付けを行う場合も保持部材２０に対して再現よく配置することができるとされている。また、保持機構１Ｂにおいては３つのＶ凹形状が半径方向に構成されているため、保持部材２０や被保持部材１０が温度環境変動により一様に膨張、収縮した場合は保持部材２０と被保持部材１０の中心軸がずれないとされている。

上記のようなキネマティックマウントの特性を生かした技術としては、その一例として特許文献１に開示されている先行技術がある。特許文献１に記載された保持装置は、保持部材に３つのＶ凹形状が、被保持部材に３つのＶ凸形状が設けられ、Ｖ凹形状を形成する２つの平面のそれぞれから突出する球面が設けられている。そして、保持部材に被保持部材を保持させる際には、Ｖ凹形状の２つの平面をＶ凸形状の２つの平面と平行に対向させて、前記球面に接触させる。２つの球面は、保持部材の半径方向に沿う方向のみに移動可能な転がり機構によって構成されることが記載されている。
特開２００４−７８２０９号公報

上述のような保持機構は、例えば、半導体素子、液晶表示装置、撮像素子、薄膜磁気ヘッド等を製造するためのフォトリソグラフィ工程で使用される露光装置において、投影光学系を構成する光学部材を保持する保持装置として用いられる。また、露光装置の光学部材以外にも、目的が達成する範囲において、その他のいずれの光学系、および精度を要求される構造体、被加工物、被測定物の保持に適用することができる。

ところで、被保持部材１０を例えば光学系を構成する光学部材とすると、近年の半導体素子の高度集積化に伴ってパターンがますます微細化しているために、光学系にはさらなる高解像度化が要求されている。良好な光学性能を保つためには、光学部材加工時の面形状を光学部材保持時に正確に再現する必要がある。また、光学部材保持後は、光学面における面変形を極力抑える必要がある。

本発明者は、上記従来技術について鋭意検討の結果、下記の知見を得、本発明に到達した。
すなわち、保持機構１Ａにおいては、球状部材１２ａと円錐状凹部２１、球状部材１２ｂとＶ凹形状部２２、球状部材１２ｃと保持部材２０Ａとの接点、保持機構１Ｂにおいては、球状部材１２とＶ凹形状部２２との接点には摩擦力が作用する。そのため、温度環境変動や保持部材２０Ａ、２０Ｂの外力による変形は接触点における摩擦を介して伝達し、結果、光学部材１０は変形してしまう。この摩擦による影響を極力排除するためには、球状部材や円錐状凹部、Ｖ凹形状の表面を極めて厳密に加工するか、表面を低摩擦材料膜でコーティングするなど接触点の摩擦係数を低減させる対策が必要であり、製造コストが増大するという問題がある。また、被保持部材１０の取り外し、再取り付けの際も同様に球状部材と円錐状凹部、Ｖ凹形状部間には摩擦力が作用する。そのため、３つの球状部材接する順番や速度などの取り付け法に起因する摩擦力が接触点に残留してしまい、被保持部材１０に生じる初期歪の再現性を悪化させる。

特許文献１に記載の保持装置において、Ｖ凹形状内の球面を転がり機構によって構成したとしても、保持部材の半径方向に沿う方向以外の方向への外力または摩擦力に関しては、上記保持機構と同様の問題がある。

本発明の課題は、保持部材の外力もしくは温度環境変動時および被保持部材取り付け時に発生する歪が低減され、また、再取り付けの際には位置の再現性および初期歪の再現性のよい保持装置およびこれを用いた露光装置を提供することにある。

上記の課題を解決するため、本発明の保持装置は、被保持部材を保持部材に保持させるための６つの保持部を備える。そして、各保持部は、前記被保持部材に設けられた第1の平面と、前記保持部材に設けられ前記第１の平面と平行に対向する第2の平面とを有する。さらに、前記第１の平面と第2の平面との間に配置され前記第１の平面を第２の平面と平行に少なくとも２方向に相対移動可能に支持する転動体とを有する。

本発明によれば、保持部材の外力もしくは熱による変形発生時、ならびに被保持部材取り付け時に発生する歪が低減され、且つ、被保持部材の姿勢調整が可能になる。

本発明の好ましい実施の形態に係る保持装置は、被保持部材に構成される第１の平面と、保持部材に構成される第２の平面は互いに対向する平行平面であって、対向する第１の平面と第２の平面と、その隙間に配置された転動体からなる保持部を有する。そして、前記被保持部材は、６つの保持部によって保持される。

上記保持装置において、前記被保持部材に構成される第１の平面は、６つの平行でない平面である。また、これら６つの第１または第２の平面は、被保持部材または保持部材に対して分離可能に設けることもできるし、固定的または一体的に設けることもできる。
また、前記被保持部材に構成された６つの第１の平面においては、独立した２つの平面からなる３組の平面群が定義される。前記保持部材に構成された６つの第１の平面においても、独立した２つの平面からなる３組の平面群が定義される。各平面群は略Ｖ凸形状または略Ｖ凹形状を形成する。各平面群を構成する２つの平面のなす角度は略９０°であることが好ましい。また、前記被保持部材に構成された３組の平面群における各２つの平面の交線は、互いに略１２０°をなすことが好ましい。または、前記交線は、３本の交線のうち１本の交線に対して残りの２本の交線が等しい角度をなしてもよい。前記３本の交線は、その延長線がそれぞれ略１点で交わることが好ましい。

本発明の好ましい実施例において、前記略Ｖ凸形状は被保持部材および保持部材の一方に構成され、前記略Ｖ凹形状は他方に構成される。被保持部材を保持する際、３つの略Ｖ凸形状と３つの略Ｖ凹形状は、略Ｖ凸形状を構成する２つの平面と略Ｖ凹形状を構成する２つの平面が互いに平行に対向し、その対向する平行平面の隙間に前記転動体が配置される。この場合、前記３つの略Ｖ凸形状または略Ｖ凹形状は、それぞれ前記被保持部材または前記保持部材に対して分離可能に設けてもよく、固定的または一体的に設けてもよい。前記３つの略Ｖ凸形状および前記３つの略Ｖ凹形状の断面形状は例えば、略９０°である。また、前記３つの略Ｖ凸形状および前記３つの略Ｖ凹形状の中心線は、互いに略１２０°をなすとよい。または、前記３つの略Ｖ凸形状および前記３つの略Ｖ凹形状の中心線は、それぞれ３本の中心線のうち１本に対して残りの２本が等しい角度をなすようにしてもよい。また、前記３つの略Ｖ凸形状および前記３つの略Ｖ凹形状の中心線は、その延長線がそれぞれ略１点で交わるようにするとよい。
前記転動体は１個または複数個の球である。あるいは、複数個のローラである。

以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明する。但し、本発明はこれらの実施例に限定されるものでなく、本発明の目的が達成される範囲において、各構成が代替的に置換されても良い。例えば、本実施例においては被保持部材を光学系を構成する光学部材としているが、その他の、精度を要求する構造体、被加工物、被測定物等の保持に適用しても良い。

［第１の実施例］
図１に本発明の一実施例に係る保持装置１００Ａを示す。図１（ａ）は保持装置１００Ａの全体構成図である。図１（ｂ）は保持部１０１Ａの拡大図であり、図１（ａ）の矢印Ａ方向から見た矢視図である。

保持装置１００Ａは、被保持部材である光学部材１１０を保持するものである。光学部材１１０は、略Ｖ凸形状１１１部分を有する。略Ｖ凸形状１１１は光学部材１１０の中心Ｏから半径方向に配置され、３個が略１２０°ピッチで配置される。また、保持部材１２０は、略Ｖ凹形状１２１部分を有する。略Ｖ凹形状１２１は略Ｖ凸形状１１１と同様に中心Ｏから半径方向に略１２０°ピッチで配置される。すなわち、略Ｖ凸形状１１１と略Ｖ凹形状１２１は対向する位置に配置される。転動体１３１Ａは略Ｖ凸形状１１１と略Ｖ凹形状１２１の支持平面１１２と１２２の間および１１４と１２４の間に配置される。略Ｖ凸形状１１１は、光学部材１１０に対して分離可能、もしくは固定的に設けられ、略Ｖ凹形状１２１は、保持部材１２０に対して分離可能、もしくは固定的に設けられている。

本実施例における転動体１３１Ａは、図１（ｂ）に示すように、球であり、略Ｖ凸形状１１１および略Ｖ凹形状１２１と点接触し、光学部材１１０を保持する。略Ｖ凸形状１１１は転動体１３１Ａを介して略Ｖ凹形状に対してＸ、Ｚ並進成分の２自由度が拘束され、Ｙ並進、Ｘ、Ｙ、Ｚ軸回転成分は転がり摩擦による拘束となっている。一般的に金属同士の場合、転がり摩擦係数は静止摩擦係数の１００分の１から１０００分の１程度である。Ｙ並進、Ｘ、Ｙ、Ｚ軸回転成分は転がりのため、ころがりのない点接触と比べ大幅に非拘束化されている。すなわち、図９および図１０に示す従来の一般的なキネマティックマウントと比較して、光学部材１１０は摩擦力に代表される他成分の影響が極めて少ない純粋な６自由度拘束を受けている。

このように構成すれば、温度環境変動時に保持部材１２０の熱膨張が生じてもＹ並進方向には転がりにより膨張を許容できるため、光学部材１１０に保持部材１２０の熱膨張による影響が及ぶことは無い。同様に保持部材１２０が外力によりローカルな変形を起こしても、Ｙ並進、Ｘ、Ｙ、Ｚ軸回転方向には転がりにより変形を許容できるため、光学部材１１０に保持部材１２０の変形が影響を及ぼすことはない。

また同様に、温度環境変動時に光学部材１１０に熱膨張が生じてもＹ並進方向には転がりにより膨張を許容できるため、光学部材１１０には光学性能変化につながる変形や光軸に対する位置ずれは起こらない。
さらに、光学部材１１０を保持する際、転動体１３１Ａは略Ｖ凸形状１１１と略Ｖ凹形状１２１の対向する面間を自由に転動できるため、摩擦力の残留は微小である。このため、保持時の光学部材１１０の取り付け形状（歪分布）の再現性が向上する。

ここで略Ｖ凸形状１１１および略Ｖ凹形状１２１は、光学部材１１０の中心Ｏに対して略１２０°ピッチで形成しているがこの限りでは無く、略Ｖ凸形状と略Ｖ凹形状が対応する位置にあれば１２０°以外の角度でもよい。但し、３つのＶ形状のそれぞれの間の３つの角度のうち２つの角度が等しくなるように構成することが好ましい。また、被保持部材に対して略Ｖ凹形状１２１を、保持部材に対して略Ｖ凸形状１１１を形成しても同様の効果が得られる。

［第２の実施例］
本発明の第２の実施例として、保持装置１００Ａの転動体１３１Ａを複数の球から構成される転動体１３１Ｂに置き換えた保持装置１００Ｂを図２に示す。図２（ａ）は全体構成図、図２（ｂ）は保持部１０１Ｂの拡大図としてのＢ矢視図、図２（ｃ）は転動体１３１Ｂの詳細図である。なお、図２（ａ）、図２（ｂ）では転動体１３１Ｂは略Ｖ凹形状の各々の平面１２２、１２４上に固定されているが、略Ｖ凸形状の各々の平面１１２、１１４上に固定されてもよい。

図２（ｃ）に示すように転動体１３１Ｂは球面上凹部１３２Ｂを有する保持部材１３２、球１３３、複数の球１３４から構成される。球面状凹部１３２Ｂと球面部１３３Ｂとの間には複数の球１３４が配置されており、球１３３は球面状凹部１３２Ｂ内で自由に回転することができる。よって、略Ｖ凸形状１１１は転動体１３１Ｂを介して略Ｖ凹形状に対してＸ、Ｚ並進方向の２自由度が拘束され、他の軸成分は転がり摩擦による拘束となっている。一般的に金属同士の場合、転がり摩擦係数は静止摩擦係数の１００分の１から１０００分の１程度であるため、前述のようにＹ並進、Ｘ、Ｙ、Ｚ軸回転成分は転がりにより大幅に非拘束化されている。

このように構成すれば、保持装置１００Ａと同様に温度環境変動時に保持部材１２０あるいは光学部材１１０に熱膨張が生じても、Ｙ並進方向には転がりにより膨張を許容できる。そのため、光学部材１１０には光学性能変化につながる変形や光軸に対する位置ずれは起こらない。また、光学部材１１０を保持する際の光学部材１１０の初期歪分布の再現性が向上する。

［第３の実施例］
さらに、本発明の第３の実施例として、保持部１０１Ａの転動体１３１Ａを１対の直交するローラ１３５、１３７とそのローラ間に配置された平板１３６から成る転動体１３１Ｃに置き換えた保持装置１００Ｃを図３に示す。図３（ａ）は全体構成図、図３（ｂ）は保持部１０１Ｃの拡大図としてのＣ矢視図である。１対の直交するローラ１３５、１３７は略Ｖ凸形状の各々の平面１１２、１１４、略Ｖ凹形状の各々の平面１２２、１２４および平板１３６と線接触し、光学部材１１０を保持する。このため点接触である保持部１０１Ａ、１０１Ｂに比べて高剛性保持であるという特徴がある。

略Ｖ凸形状１１１は、転動体１３１Ｃを介して略Ｖ凹形状１２１に対して、Ｘ、Ｚ並進成分の２自由度が拘束され、Ｙ並進成分、Ｙ回転成分は転がり摩擦による拘束となっている。Ｘ、Ｚ回転成分は、ローラ１３５と平板１３６、支持平面１１２、１１４またローラ１３７と平板１３６、支持平面１２２、１２４との間の摩擦による拘束が存在する。この摩擦による拘束は図９および１０で示した従来の一般的なキネマティックマウントにおける摩擦による拘束と同等のものである。

このように構成すれば、温度環境変動時に保持部材１２０の熱膨張が生じてもＹ並進方向には転がりにより膨張を許容できるため、光学部材１１０に保持部材１２０の熱膨張による影響が及ぶことは無い。また、光学部材１１０に熱膨張が生じてもＹ並進方向には転がりにより膨張を許容できるため、光学部材１１０には光学性能変化につながる変形や光軸に対する位置ずれは起こらない。

しかし、保持部材１２０が外力によりローカルな変形が発生した場合は、Ｘ、Ｚ回転成分は摩擦による変形伝達が存在する。一方で、Ｙ並進、Ｙ軸回転方向には転がりにより変形を許容できるため、図９および図１０に示すキネマティックマウントに比べ保持部材１２０の変形の光学部材１１０への伝達が減少する。

また、光学部材１１０を保持する際は、転動体１３１Ｃは略Ｖ凸形状１１１と略Ｖ凹形状１２１の対向する面間においてＺ回転成分を除き転動可能である。ローラ１３５、１３７の転動による摩擦力残留緩和があるため、図９および図１０に示すキネマティックマウントに比べ、保持時の光学部材１１０の初期歪の再現性が向上する。

なお、保持部１０１Ｃは、図４に示すように、図３のものに対し、１対の直交するローラ１３５と１３７との間の平板１３６を取り除いた保持部１０１Ｄでも同様の効果が得られる。

［第４の実施例］
さらに、本発明の第４の実施例として、保持部１０１Ｃを１対の直交するローラ１３５、１３７とそれを支持する複数のローラ１３８から構成される転動体１３１Ｅに置き換えた保持装置１００Ｅを図５に示す。図５（ａ）は全体構成図、図５（ｂ）は保持部１０１Ｅの拡大矢視図、図５（ｃ）は転動体１３１Ｅの断面詳細図である。転動体１３１Ｅは円柱状凹部を有する保持部材１３９、ローラ１３５、１３７、複数のローラ１３８から構成される。円柱状凹部１３９Ｅと球面部１３５Ｅ、１３７Ｅとの間には複数のローラ１３８が配置されており、ローラ１３５、１３７は円柱状凹部内で自由に回転することができる。

図５の保持装置は、図３、図４の保持装置１００Ｃ、１００Ｄと同様に直交するローラ１３５、１３７は略Ｖ凸形状の各々の平面１１２、１１４、略Ｖ凹形状の各々の平面１２２、１２４と線接触し、光学部材１１０を保持する。そのため、点接触である図１、図２の保持装置１００Ａ、１００Ｂに比べて被保持部材の高剛性保持が可能という特徴がある。

保持装置１００Ｅにおいて、略Ｖ凸形状１１１は転動体１３１Ｅ介して略Ｖ凹形状に対してＸ、Ｚ並進成分の２自由度が拘束され、Ｙ並進成分、Ｙ回転成分は転がり摩擦による拘束となる。Ｘ、Ｚ回転成分は、ローラ１３５と支持平面１１２、１１４またローラ１３７と支持平面１２２、１２４との間の摩擦による拘束が存在する。この摩擦による拘束は図９および図１０で示した従来の一般的なキネマティックマウントにおける摩擦による拘束と同等のものである。

このように構成すれば、温度環境変動時に保持部材１２０の熱膨張が生じてもＹ並進方向には転がりにより膨張を許容できるため、光学部材１１０に保持部材１２０の熱膨張による影響が及ぶことは無い。また、光学部材１１０に熱膨張が生じてもＹ並進方向には転がりにより膨張を許容できるため、光学部材１１０には光学性能変化につながる変形や光軸に対する位置ずれは起こらない。

しかし、保持部材１２０において外力によりローカルな変形が発生した場合は、Ｘ、Ｚ回転成分は摩擦による変形伝達が存在する。一方で、Ｙ並進、Ｙ軸回転方向には転がりにより変形を許容できるため、図９および図１０に示すキネマティックマウントに比べ保持部材１２０の変形が光学部材１１０に伝わることは少ない。

また、同様に光学部材１１０を保持する際は、転動体１３１Ｅは略Ｖ凸形状１１１と略Ｖ凹形状１２１の対向する面間においてＺ回転成分を除き非拘束である。そのため、従来のキネマティックマウントに比べ摩擦力の残留は微小であり、保持時の光学部材１１０の取り付け形状（歪分布）の再現性が向上する。

［露光装置の実施例］
以下、本発明の保持装置が適用される例示的な露光装置を説明する。図６の露光装置は、照明装置５０１、レチクルを搭載したレチクルステージ５０２、投影光学系５０３、ウエハを搭載したウエハステージ５０４を有する。この露光装置は、レチクルに形成された回路パターンをウエハに投影露光するものであり、ステップアンドリピート投影露光方式またはステップアンドスキャン投影露光方式であってもよい。

照明装置５０１は回路パターンが形成されたレチクルを照明し、光源部と照明光学系とを有する。光源部は、例えば、光源としてレーザを使用する。レーザは、波長約193nmのArFエキシマレーザ、波長約248nmのKrFエキシマレーザ、波長約153nmのF2エキシマレーザなどを使用することができる。但し、レーザの種類はエキシマレーザに限定されず、例えば、YAGレーザを使用してもよいし、そのレーザの個数も限定されない。光源にレーザが使用される場合、レーザ光源からの平行光束を所望のビーム形状に整形する光束整形光学系、コヒーレントなレーザ光束をインコヒーレント化するインコヒーレント化光学系を使用することが好ましい。また、光源部に使用可能な光源はレーザに限定されるものではなく、一または複数の水銀ランプやキセノンランプなどのランプも使用可能である。

照明光学系はマスクを照明する光学系であり、レンズ、ミラー、ライトインテグレーター、絞り等を含む。
投影光学系５０３は、複数のレンズ素子のみからなる光学系、複数のレンズ素子を少なくとも一枚の凹面鏡とを有する光学系（カタディオプトリック光学系）を使用することができる。また、複数のレンズ素子と少なくとも一枚のキノフォームなどの回折光学素子とを有する光学系や全ミラー型の光学系等も使用することができる。

レチクルステージ５０２およびウエハステージ５０４は、例えばリニアモータによって移動可能である。ステップアンドスキャン投影露光方式の場合には、それぞれのステージは同期して移動する。また、レチクルのパターンをウエハ上に位置合わせするためにウエハステージおよびレチクルステージの少なくともいずれかに別途アクチュエータを備える。

本発明の保持装置は、上述の投影光学系を保持する際に好適に用いられ得る。投影光学系は、複数のレンズを有する鏡筒を保持するものであってもよく、各レンズまたは各ミラーを保持するものであってもよい。さらに、本発明の保持装置は、投影光学系以外の光学系、あるいはウエハやレチクルまたはそれらを保持する構造体を保持する際にも用いることができる。
このような露光装置は、半導体集積回路等の半導体デバイスや、マイクロマシン、薄膜磁気ヘッド等の微細なパターンが形成されたデバイスの製造に利用され得る。

［デバイス製造の実施例］
次に、図７および図８を参照して、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。図８は、デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造方法を例に説明する。
ステップＳ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップＳ２（マスク製作）では設計した回路パターンに基づいてマスクを製作する。ステップＳ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップＳ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、マスクとウエハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウエハ上に実際の回路を形成する。ステップＳ５（組み立て）は、後工程と呼ばれ、ステップＳ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程である。ステップＳ５は、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。ステップＳ６（検査）では、ステップＳ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、それが出荷（ステップＳ７）される。

図８は、ステップ４のウエハプロセスの詳細なフローチャートである。ステップＳ１１（酸化）では、ウエハの表面を酸化させる。ステップＳ１２（ＣＶＤ）では、ウエハの表面に絶縁膜を形成する。ステップＳ１３（電極形成）では、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップＳ１４（イオン打ち込み）では、ウエハにイオンを打ち込む。ステップＳ１５（レジスト処理）では、ウエハに感光剤を塗布する。ステップＳ１６（露光）では、露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに露光する。ステップＳ１７（現像）では、露光したウエハを現像する。ステップＳ１８（エッチング）では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップＳ１９（レジスト剥離）では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことによってウエハ上に多重に回路パターンが形成される。

本発明の第１の実施例に係る保持装置の構成を示す図である。 本発明の第２の実施例に係る保持装置の構成を示す図である。 本発明の第３の実施例に係る保持装置の構成を示す図である。 図３の保持装置の変形例を示す図である。 本発明の第４の実施例に係る保持装置の構成を示す図である。 本発明が適用される露光装置の一例の概略図である。 露光装置を使用したデバイスの製造を説明するためのフローチャートである。 図７に示すフローチャートのステップ４のウエハプロセスの詳細なフローチャートである。 一般的なキネマティックマウント構成例を示す図である。 一般的なキネマティックマウントの他の構成例を示す図である。

符号の説明

１Ａ’，１００Ａ，１００Ｃ：保持装置
１０１Ａ，１０１Ｂ，１０１Ｃ，１０１Ｄ，１０１Ｅ：保持部
１０，１１０：被保持部材
１１，１１１：略Ｖ凸形状
２０，１２０：保持部材
２１，１２１：略Ｖ凹形状
２２，２４，１１２，１１４，１２２，１２４：支持平面
３１：球状部材
１３１Ａ，１３２Ｂ：転動体
１３２：球面状凹部を有する保持部材 １３２Ｂ：球面状凹部
１３３：球
１３３Ｂ：球面部
１３４：複数の球
１３５，１３７：ローラ
１３６：平板
１３８：複数のローラ
１３９：円柱状凹部を有する保持部材
１３９Ｅ：円柱状凹部

Claims (12)

1. 被保持部材を保持部材に保持させるための６つの保持部を備え、
   前記各保持部は、前記被保持部材に設けられた第1の平面と、前記保持部材に設けられ前記第１の平面と平行に対向する第2の平面と、前記第１の平面と第2の平面との間に配置され、前記第１の平面を第２の平面と平行に少なくとも２方向に相対移動可能に支持する転動体とを有することを特徴とする保持装置。
2. 前記被保持部材に設けられた６つの第1の平面は、いずれも互いに平行でないことを特徴とする請求項１に記載の保持装置。
3. 前記被保持部材に設けられた６つの第1の平面は、略Ｖ形状を形成する２つずつ３組の平面群からなることを特徴とする請求項１または２に記載の保持装置。
4. 前記各平面群を構成する２つの平面のなす角度は略９０°であることを特徴とする請求項３に記載の保持装置。
5. 前記３組の平面群における各２つの平面の交線は、互いに略１２０°をなすことを特徴とする請求項３または４に記載の保持装置。
6. 前記３組の平面群における各２つの平面の交線は、３本の交線のうち１本の交線に対して残りの２本の交線が等しい角度をなすことを特徴とする請求項３または４に記載の保持装置。
7. 前記３組の平面群における各２つの平面の交線は、その延長線がそれぞれ略１点で交わることを特徴とする請求項３〜６のいずれか１つに記載の保持装置。
8. 前記被保持部材および保持部材における各６つの平面は、前記被保持部材および保持部材の一方に３つの略Ｖ凸形状を、他方に３つの略Ｖ凹形状を形成し、前記略Ｖ凸形状と前記略Ｖ凹形状の対向する平行平面の隙間に前記転動体が配置されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１つに記載の保持装置。
9. 前記対向する第１の平面と第２の平面との間に配置される転動体は1個または複数個の球であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１つに記載の保持装置。
10. 前記対向する第１の平面と第２の平面との間に配置される転動体は複数個のローラであることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１つに記載の保持装置。
11. 請求項１〜１０のいずれか１つに記載の保持装置を有することを特徴とする露光装置。
12. 請求項１１に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、露光した前記基板を現像する工程とを有することを特徴とするデバイス製造方法。

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